JPH1119454A - 脱臭装置 - Google Patents
脱臭装置Info
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- JPH1119454A JPH1119454A JP9174672A JP17467297A JPH1119454A JP H1119454 A JPH1119454 A JP H1119454A JP 9174672 A JP9174672 A JP 9174672A JP 17467297 A JP17467297 A JP 17467297A JP H1119454 A JPH1119454 A JP H1119454A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 吸着剤の劣化を防止する。
【解決手段】 吸気口及び排気口を形成すると共に内部
に吸着剤及びファンを収納し、外部のガス体を吸気口か
ら吸入し吸着剤を介して排気口から排出することによ
り、ガス体中の臭気物質を吸着剤に吸着可能な本体と、
この本体に装着され、吸着剤にマイクロ波を照射するこ
とにより吸着剤を加熱再生可能なマグネトロンと、少な
くとも排気口近傍に設置された臭気センサとからなり、
この臭気センサが予め設定された値以上の臭気を検出す
ると前記マグネトロンに作動を指令するよう構成されて
なる脱臭装置。
に吸着剤及びファンを収納し、外部のガス体を吸気口か
ら吸入し吸着剤を介して排気口から排出することによ
り、ガス体中の臭気物質を吸着剤に吸着可能な本体と、
この本体に装着され、吸着剤にマイクロ波を照射するこ
とにより吸着剤を加熱再生可能なマグネトロンと、少な
くとも排気口近傍に設置された臭気センサとからなり、
この臭気センサが予め設定された値以上の臭気を検出す
ると前記マグネトロンに作動を指令するよう構成されて
なる脱臭装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は脱臭装置に関し、
更に詳しくはガス体中の臭気物質を吸着できると共に、
マイクロ波の照射を受けると加熱再生できる吸着剤を内
蔵した脱臭装置に関する。
更に詳しくはガス体中の臭気物質を吸着できると共に、
マイクロ波の照射を受けると加熱再生できる吸着剤を内
蔵した脱臭装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】産業の発達に伴って、環境汚染防止対策
の必要性が叫ばれるようになって久しいが、近年はより
快適な住環境への要求が強まりつつあり、適用性に優れ
た高度な環境浄化技術が必要になりつつある。この環境
浄化技術において、特に脱臭技術は重要な位置を占めて
いる。
の必要性が叫ばれるようになって久しいが、近年はより
快適な住環境への要求が強まりつつあり、適用性に優れ
た高度な環境浄化技術が必要になりつつある。この環境
浄化技術において、特に脱臭技術は重要な位置を占めて
いる。
【０００３】脱臭技術に使用される脱臭装置としては、
例えば活性炭のような吸着剤、オゾン及び臭気分解触媒
（鉄錯体、金等）を使用した装置が知られている。活性
炭を使用した装置では、例えばハニカム状に成形された
活性炭の表面の微細孔に臭気を拡散又は循環させること
により臭気と活性炭を接触させ、臭気物質を微細孔に物
理吸着させて脱臭が行われている。
例えば活性炭のような吸着剤、オゾン及び臭気分解触媒
（鉄錯体、金等）を使用した装置が知られている。活性
炭を使用した装置では、例えばハニカム状に成形された
活性炭の表面の微細孔に臭気を拡散又は循環させること
により臭気と活性炭を接触させ、臭気物質を微細孔に物
理吸着させて脱臭が行われている。
【０００４】また、オゾンを使用した装置では、オゾン
の酸化能力により臭気物質を分解させて脱臭を行い、オ
ゾンで分解されなかった残りの臭気物質を酸化マンガン
等で吸着することにより脱臭が行われている。
の酸化能力により臭気物質を分解させて脱臭を行い、オ
ゾンで分解されなかった残りの臭気物質を酸化マンガン
等で吸着することにより脱臭が行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記の内、活性炭は臭
気物質を吸着することにより脱臭を行うため、使用時間
が経過するに従って吸着量が増加し、最終的に吸着飽和
となり脱臭効果がなくなり、交換する必要がある。また
交換せずに放置すると、この活性炭が逆に臭気発生源と
なる。
気物質を吸着することにより脱臭を行うため、使用時間
が経過するに従って吸着量が増加し、最終的に吸着飽和
となり脱臭効果がなくなり、交換する必要がある。また
交換せずに放置すると、この活性炭が逆に臭気発生源と
なる。
【０００６】臭気分解触媒は常温での分解速度は極めて
遅く、その脱臭効果はほとんどが吸着によるものであ
り、上記活性炭と同様に脱臭効果が低下する。一方、オ
ゾンを使用した装置は、その装置自体の構造が複雑であ
り、コストが高くなるという問題があった。このような
問題を解決するために、特開平７−２２７４２０号公報
には、マイクロ波を照射することにより吸着剤の吸着能
力を回復させることが記載されている。しかしながら、
この公報では、吸着能力が低下した吸着剤を一旦取り出
した後、電子レンジ等でマイクロ波を照射する必要があ
るため、その操作が煩雑であるという問題があった。
遅く、その脱臭効果はほとんどが吸着によるものであ
り、上記活性炭と同様に脱臭効果が低下する。一方、オ
ゾンを使用した装置は、その装置自体の構造が複雑であ
り、コストが高くなるという問題があった。このような
問題を解決するために、特開平７−２２７４２０号公報
には、マイクロ波を照射することにより吸着剤の吸着能
力を回復させることが記載されている。しかしながら、
この公報では、吸着能力が低下した吸着剤を一旦取り出
した後、電子レンジ等でマイクロ波を照射する必要があ
るため、その操作が煩雑であるという問題があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、吸気口及び
排気口を形成すると共に内部に吸着剤及びファンを収納
し、外部のガス体を吸気口から吸入し吸着剤を介して排
気口から排出することにより、ガス体中の臭気物質を吸
着剤に吸着可能な本体と、この本体に装着され、吸着剤
にマイクロ波を照射することにより吸着剤を加熱再生可
能なマグネトロンと、少なくとも排気口近傍に設置され
た臭気センサとからなり、この臭気センサが予め設定さ
れた値以上の臭気を検出すると前記マグネトロンに作動
を指令するよう構成されてなる脱臭装置を提供する。
排気口を形成すると共に内部に吸着剤及びファンを収納
し、外部のガス体を吸気口から吸入し吸着剤を介して排
気口から排出することにより、ガス体中の臭気物質を吸
着剤に吸着可能な本体と、この本体に装着され、吸着剤
にマイクロ波を照射することにより吸着剤を加熱再生可
能なマグネトロンと、少なくとも排気口近傍に設置され
た臭気センサとからなり、この臭気センサが予め設定さ
れた値以上の臭気を検出すると前記マグネトロンに作動
を指令するよう構成されてなる脱臭装置を提供する。
【０００８】すなわちこの発明は、本体にマグネトロン
を組み込むことによって吸着剤の加熱再生操作を簡便に
すると共に、少なくとも排気口近傍に臭気センサを設置
し、吸着剤の吸着性能（又は脱臭性能）の低下を検知し
たときのみにマグネトロンを作動させるよう構成するこ
とによって、実質的に吸着性能が低下したときのみ吸着
剤の加熱再生を行い、それによって吸着剤の劣化防止を
図ろうとするものである。
を組み込むことによって吸着剤の加熱再生操作を簡便に
すると共に、少なくとも排気口近傍に臭気センサを設置
し、吸着剤の吸着性能（又は脱臭性能）の低下を検知し
たときのみにマグネトロンを作動させるよう構成するこ
とによって、実質的に吸着性能が低下したときのみ吸着
剤の加熱再生を行い、それによって吸着剤の劣化防止を
図ろうとするものである。
【０００９】この発明に使用できる吸着剤は、マイクロ
波吸収能力を有するものに限定されず、当該分野で公知
のものを適宜使用することができる。特に、マイクロ波
吸収能力を有するものがより好ましい。具体的には、臭
気物質（例えばＨ2Ｓ、ＮＨ3など）の吸着能力の比較的
高いゼオライト、金属酸化物、炭素物質等が挙げられ
る。また、この発明においては、ゼオライト、金属酸化
物、炭素物質の内、いずれか１種が含まれた吸着剤を使
用することが好ましい。
波吸収能力を有するものに限定されず、当該分野で公知
のものを適宜使用することができる。特に、マイクロ波
吸収能力を有するものがより好ましい。具体的には、臭
気物質（例えばＨ2Ｓ、ＮＨ3など）の吸着能力の比較的
高いゼオライト、金属酸化物、炭素物質等が挙げられ
る。また、この発明においては、ゼオライト、金属酸化
物、炭素物質の内、いずれか１種が含まれた吸着剤を使
用することが好ましい。
【００１０】ゼオライトとしては、ＺＳＭ−５、Ｃｕ−
ＺＳＭ−５、Ｐｔ−ＺＳＭ−５、β−ゼオライト、モレ
キュラーシーブ３Ｓ，４Ａ及び１３Ｘ、モルデナイト等
が挙げられる。特に、好ましいゼオライトは、ＺＳＭ−
５、β−ゼオライトである。次に、金属酸化物として
は、亜鉛、銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄、ス
ズ、チタン、珪素等の酸化物、これら酸化物の混合物、
前記金属の複合酸化物（例えば、ペロブスカイト型）等
が挙げられる。この内、マンガン酸化物が好ましく、具
体的には、ＭｎＯ、ＭｎＯ2 及びＭｎ2 Ｏ3 の酸化マン
ガン単体、酸化銅，酸化鉄並びに酸化ニッケルから少な
くとも１種選択される金属酸化物と酸化マンガンとの複
合酸化物である。なお、酸化銅（酸化鉄及び酸化ニッケ
ルも同様）は、酸化第１銅及び第２銅のどちらでもよ
い。
ＺＳＭ−５、Ｐｔ−ＺＳＭ−５、β−ゼオライト、モレ
キュラーシーブ３Ｓ，４Ａ及び１３Ｘ、モルデナイト等
が挙げられる。特に、好ましいゼオライトは、ＺＳＭ−
５、β−ゼオライトである。次に、金属酸化物として
は、亜鉛、銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄、ス
ズ、チタン、珪素等の酸化物、これら酸化物の混合物、
前記金属の複合酸化物（例えば、ペロブスカイト型）等
が挙げられる。この内、マンガン酸化物が好ましく、具
体的には、ＭｎＯ、ＭｎＯ2 及びＭｎ2 Ｏ3 の酸化マン
ガン単体、酸化銅，酸化鉄並びに酸化ニッケルから少な
くとも１種選択される金属酸化物と酸化マンガンとの複
合酸化物である。なお、酸化銅（酸化鉄及び酸化ニッケ
ルも同様）は、酸化第１銅及び第２銅のどちらでもよ
い。
【００１１】次に、炭素物質としては、グラファイト、
活性炭、カーボンブラック等が挙げられる。上記ゼオラ
イト、金属酸化物及び炭素物質は、単独でも組み合わせ
て使用してもよい。上記吸着剤の内、特に好ましい組み
合わせは、ゼオライトと酸化マンガンである。ゼオライ
トと酸化マンガンの混合比（重量比）は、１〜５：１が
好ましく、２〜３：１が特に好ましい。
活性炭、カーボンブラック等が挙げられる。上記ゼオラ
イト、金属酸化物及び炭素物質は、単独でも組み合わせ
て使用してもよい。上記吸着剤の内、特に好ましい組み
合わせは、ゼオライトと酸化マンガンである。ゼオライ
トと酸化マンガンの混合比（重量比）は、１〜５：１が
好ましく、２〜３：１が特に好ましい。
【００１２】上記吸着剤は、極性の高い臭気物質の除去
に特に有用であり、例えばトリメチルアミン、エチルメ
ルカプタンのような窒素原子及び硫黄原子を含む臭気物
質に対して有用である。このような極性の高い物質は、
吸着が効率よくなされるが、これは上記物質がマイクロ
波を吸収して活性化することにより分解されると考えら
れる。
に特に有用であり、例えばトリメチルアミン、エチルメ
ルカプタンのような窒素原子及び硫黄原子を含む臭気物
質に対して有用である。このような極性の高い物質は、
吸着が効率よくなされるが、これは上記物質がマイクロ
波を吸収して活性化することにより分解されると考えら
れる。
【００１３】なお、吸着剤は、使用目的に応じて、粒
状、粉末状や、ペレット状、タブレット状、ハニカム状
に成型して使用してもよく、更に多数の通孔（丸孔、ス
リット状の孔等）を形成した板、多数の細長い板片を組
み合わせるか又は一体成型した格子状体又は棚状体とし
て使用してもよい。また粒状、粉末状、ペレット状、タ
ブレット状の吸着剤を使用する場合、空気が流通可能な
容器に保持させるのがよい。
状、粉末状や、ペレット状、タブレット状、ハニカム状
に成型して使用してもよく、更に多数の通孔（丸孔、ス
リット状の孔等）を形成した板、多数の細長い板片を組
み合わせるか又は一体成型した格子状体又は棚状体とし
て使用してもよい。また粒状、粉末状、ペレット状、タ
ブレット状の吸着剤を使用する場合、空気が流通可能な
容器に保持させるのがよい。
【００１４】吸着剤にマイクロ波を照射し吸着剤を加熱
再生する際、マイクロ波は吸着剤の温度が５００℃以下
となるように照射することが好ましい。これ以上の温度
となると、吸着剤自体が変質、燃焼等してしまい吸着能
力が低下するからである。また、吸着剤が、炭素を含む
場合、３５０℃以下となるようにマイクロ波を照射する
ことが好ましい。特に好ましい、照射時の吸着剤の温度
は、５０〜３００℃である。
再生する際、マイクロ波は吸着剤の温度が５００℃以下
となるように照射することが好ましい。これ以上の温度
となると、吸着剤自体が変質、燃焼等してしまい吸着能
力が低下するからである。また、吸着剤が、炭素を含む
場合、３５０℃以下となるようにマイクロ波を照射する
ことが好ましい。特に好ましい、照射時の吸着剤の温度
は、５０〜３００℃である。
【００１５】マイクロ波は、例えば周波数１〜１０ＧＨ
ｚ、出力１００〜１０００Ｗのマイクロ波を使用するこ
とができ、一般的には、２．４５ＧＨｚが使用される。
マイクロ波が、吸着剤全体に均一に照射されるようマグ
ネトロンを配置することが好ましい。マイクロ波の照射
時間は、吸着剤の種類、臭気物質の量、マイクロ波の周
波数及び出力等により相違するが、連続的に照射する場
合は、例えば１〜２０分間の照射時間が好適である。
ｚ、出力１００〜１０００Ｗのマイクロ波を使用するこ
とができ、一般的には、２．４５ＧＨｚが使用される。
マイクロ波が、吸着剤全体に均一に照射されるようマグ
ネトロンを配置することが好ましい。マイクロ波の照射
時間は、吸着剤の種類、臭気物質の量、マイクロ波の周
波数及び出力等により相違するが、連続的に照射する場
合は、例えば１〜２０分間の照射時間が好適である。
【００１６】この発明の脱臭装置は、空気清浄器、冷蔵
庫等の家庭用や、畜産業、食品加工業等の業務用の排気
または給気に適用することができる。この発明において
使用できる臭気センサは具体的には焼結エージング処理
を施した金属酸化物（例えばＳｎＯ2）からなるｎ型半
導体の焼結体内部に、１対の白金属合金線（Ｐｄ−Ｉ
ｒ）コイルを内蔵した半導体センサが挙げられる。な
お、この半導体センサは１つのコイルに電圧を加えてヒ
ータ兼用とし、更にセンサ電流（ジュール熱）により約
３５０℃に加熱して使用される。そして臭気に触れると
表面の酸素と反応して酸素をうばい、表面酸素イオン濃
度が減少し電子の通路が広くなって電流が流れやすくす
る。
庫等の家庭用や、畜産業、食品加工業等の業務用の排気
または給気に適用することができる。この発明において
使用できる臭気センサは具体的には焼結エージング処理
を施した金属酸化物（例えばＳｎＯ2）からなるｎ型半
導体の焼結体内部に、１対の白金属合金線（Ｐｄ−Ｉ
ｒ）コイルを内蔵した半導体センサが挙げられる。な
お、この半導体センサは１つのコイルに電圧を加えてヒ
ータ兼用とし、更にセンサ電流（ジュール熱）により約
３５０℃に加熱して使用される。そして臭気に触れると
表面の酸素と反応して酸素をうばい、表面酸素イオン濃
度が減少し電子の通路が広くなって電流が流れやすくす
る。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図に示す実施の形態に基づ
いてこの発明を詳述する。なお、これによってこの発明
が限定されるものではない。図１はこの発明に係る脱臭
装置の１つの実施の形態を示す構成説明図、図２はその
臭気センサの拡大構成説明図、図３はその脱臭装置の回
路構成を示す概略図、図４及び５はフローチャートであ
る。
いてこの発明を詳述する。なお、これによってこの発明
が限定されるものではない。図１はこの発明に係る脱臭
装置の１つの実施の形態を示す構成説明図、図２はその
臭気センサの拡大構成説明図、図３はその脱臭装置の回
路構成を示す概略図、図４及び５はフローチャートであ
る。
【００１８】まず図１において、脱臭装置１は、吸気口
２及び排気口３を形成すると共に内部に吸着剤４及びフ
ァン５を収納した本体６と、この本体に装着されたマグ
ネトロン７と、吸気口２近傍に設置された第１センサと
しての臭気センサＡ（８）と、排気口３近傍に設置され
た第２センサとしての臭気センサＢ（９）と、制御回路
１０とから主としてなる。
２及び排気口３を形成すると共に内部に吸着剤４及びフ
ァン５を収納した本体６と、この本体に装着されたマグ
ネトロン７と、吸気口２近傍に設置された第１センサと
しての臭気センサＡ（８）と、排気口３近傍に設置され
た第２センサとしての臭気センサＢ（９）と、制御回路
１０とから主としてなる。
【００１９】なお、１１はキー入力部、１２は除塵フィ
ルタ、１３はセラミック製ホルダである。制御回路１０
は、主として図３においてセンサＡ（８）とセンサＢ
（９）からの出力信号を受け入れる入力ポート１４と、
マグネトロン７、ファン（モータ）５及び図示省略した
ターンテーブル（モータ）に作動を指令する出力ポート
１５とを備えたマイクロコンピュータ１６からなる。
ルタ、１３はセラミック製ホルダである。制御回路１０
は、主として図３においてセンサＡ（８）とセンサＢ
（９）からの出力信号を受け入れる入力ポート１４と、
マグネトロン７、ファン（モータ）５及び図示省略した
ターンテーブル（モータ）に作動を指令する出力ポート
１５とを備えたマイクロコンピュータ１６からなる。
【００２０】ここでセンサＡ（８）は、その基本構成と
しては特に図２において長期の焼結エージング処理工程
を施した金属酸化物（ＳｎＯ2）からなるｎ型半導体の
焼結体１７内部に、１対の白金属合金線（ＰＡ−Ｉｒ）
コイル１８・１９を内蔵した半導体式センサであり、そ
のうち１つのコイル１９に電圧を加えヒータ兼用とし、
更にセンサ電流（ジュール熱）により約３５０℃に加熱
して使用する。
しては特に図２において長期の焼結エージング処理工程
を施した金属酸化物（ＳｎＯ2）からなるｎ型半導体の
焼結体１７内部に、１対の白金属合金線（ＰＡ−Ｉｒ）
コイル１８・１９を内蔵した半導体式センサであり、そ
のうち１つのコイル１９に電圧を加えヒータ兼用とし、
更にセンサ電流（ジュール熱）により約３５０℃に加熱
して使用する。
【００２１】次に、以上の構成を備えた脱臭装置１の作
動を図１〜５、特に図１及び図５を参照しつつ説明す
る。まず脱臭装置１のファン５を作動させると、外部の
ガス体（例えば屋内空気）が吸気口２から給入され、吸
着剤（脱臭触媒）４を介して排気口３から排出され、ガ
ス体中の臭気物質（例えばＨ2Ｓ，ＮＨ3など）が吸着剤
４に吸着される。そしてこの脱臭運転が続いて吸着剤４
の吸着性能が低下し、臭気センサＡ（８）の出力電圧値
（ＶA）と臭気センサＢ（９）のそれ（ＶB）との差が予
め設定された値（ＶL，しきい値）より小さくなると、
ファン５が停止され脱臭運転が終了する（図４参照）。
動を図１〜５、特に図１及び図５を参照しつつ説明す
る。まず脱臭装置１のファン５を作動させると、外部の
ガス体（例えば屋内空気）が吸気口２から給入され、吸
着剤（脱臭触媒）４を介して排気口３から排出され、ガ
ス体中の臭気物質（例えばＨ2Ｓ，ＮＨ3など）が吸着剤
４に吸着される。そしてこの脱臭運転が続いて吸着剤４
の吸着性能が低下し、臭気センサＡ（８）の出力電圧値
（ＶA）と臭気センサＢ（９）のそれ（ＶB）との差が予
め設定された値（ＶL，しきい値）より小さくなると、
ファン５が停止され脱臭運転が終了する（図４参照）。
【００２２】次いで、特に図１及び図５においてマグネ
トロン７とファン５とを作動させると、吸着剤４がマグ
ネトロン７によるマイクロ波の照射を受けて加熱再生さ
れる。そして臭気センサＡ（８）と臭気センサＢ（９）
との出力電圧差が予め設定された電圧値（ＶR，吸着剤
の脱臭触媒が加熱再生されたと判断するためのしきい
値）を越えると、マグネトロン７とファン５が停止さ
れ、吸着剤の再生運転が終了する。
トロン７とファン５とを作動させると、吸着剤４がマグ
ネトロン７によるマイクロ波の照射を受けて加熱再生さ
れる。そして臭気センサＡ（８）と臭気センサＢ（９）
との出力電圧差が予め設定された電圧値（ＶR，吸着剤
の脱臭触媒が加熱再生されたと判断するためのしきい
値）を越えると、マグネトロン７とファン５が停止さ
れ、吸着剤の再生運転が終了する。
【００２３】以上の実施の形態とは異なり、吸着剤を粒
状とし、攪拌できるようにすることもできる。図６は他
の実施の形態を示す図１相当図である。図６において吸
着剤４は粒状で（例えば６mm径，６mm長さのペレッ
ト）、これらの吸着剤を収納する容器２２と、この容器
を回転させる駆動モータ軸２４とからなり、容器２２は
透明な耐熱ガラス製カラム２５と多数の通孔を有する円
板２６とからなる。なお、２７はセンサＡ，２８はセン
サＢ，３１・３２はシール用摺動材、２３はファンケー
スである。
状とし、攪拌できるようにすることもできる。図６は他
の実施の形態を示す図１相当図である。図６において吸
着剤４は粒状で（例えば６mm径，６mm長さのペレッ
ト）、これらの吸着剤を収納する容器２２と、この容器
を回転させる駆動モータ軸２４とからなり、容器２２は
透明な耐熱ガラス製カラム２５と多数の通孔を有する円
板２６とからなる。なお、２７はセンサＡ，２８はセン
サＢ，３１・３２はシール用摺動材、２３はファンケー
スである。
【００２４】かくしてセンサＡ２７及びセンサＢ２８か
らの出力電圧値がしきい値ＶLより小さくなると、図１
〜５に示した実施の形態と同様、ファン２９が停止され
脱臭運転が終了する。そしてマグネトロン３０とファン
２９とを作動させると、粒状の吸着剤４が回転により攪
拌されながらマグネトロン３０によるマイクロ波の照射
を受けて均一に加熱再生される。
らの出力電圧値がしきい値ＶLより小さくなると、図１
〜５に示した実施の形態と同様、ファン２９が停止され
脱臭運転が終了する。そしてマグネトロン３０とファン
２９とを作動させると、粒状の吸着剤４が回転により攪
拌されながらマグネトロン３０によるマイクロ波の照射
を受けて均一に加熱再生される。
【００２５】なお、ファンケース２３は、合成樹脂製材
料の弾性による係合を解除することにより、本体３３よ
り取りはずすことができる。またファン２９も駆動モー
タ軸３４と羽根部３５と、軸受３６とからなり、これら
の各部品も各ねじ結合を解除することにより分解でき、
汚れを簡単に洗浄できる。また３７はプレフィルタであ
り、係合部３８の弾性係合を解除することにより取りは
ずすことができ、それによって内部の吸着剤の状態を確
認できる。
料の弾性による係合を解除することにより、本体３３よ
り取りはずすことができる。またファン２９も駆動モー
タ軸３４と羽根部３５と、軸受３６とからなり、これら
の各部品も各ねじ結合を解除することにより分解でき、
汚れを簡単に洗浄できる。また３７はプレフィルタであ
り、係合部３８の弾性係合を解除することにより取りは
ずすことができ、それによって内部の吸着剤の状態を確
認できる。
【００２６】図６のその他の構成及び作動は図１〜５の
ものと同様につき、説明を省略する。更に以上の実施例
とは異なり、粒状の吸着剤の攪拌を攪拌スクリューで行
うことができる。図７はもう１つの他の実施の形態を示
す図１相当図である。
ものと同様につき、説明を省略する。更に以上の実施例
とは異なり、粒状の吸着剤の攪拌を攪拌スクリューで行
うことができる。図７はもう１つの他の実施の形態を示
す図１相当図である。
【００２７】図７において、吸着剤４０は粒状で、これ
らの吸着剤を収納する容器４２と、この容器のうち、底
部の多孔板４１に回転可能に軸支された金属製攪拌スク
リュー４３及びその回転駆動モータ軸４４とからなる。
かくして粒状の吸着剤４０は、マイクロ波照射による加
熱再生時に攪拌スクリュー４３の回転により攪拌され、
加熱ムラを防止し均一に加熱再生される。特に攪拌スク
リュー４３が金属製であるので、マイクロ波を反射させ
ることができ、それによって効率よく吸着剤を加熱でき
る。
らの吸着剤を収納する容器４２と、この容器のうち、底
部の多孔板４１に回転可能に軸支された金属製攪拌スク
リュー４３及びその回転駆動モータ軸４４とからなる。
かくして粒状の吸着剤４０は、マイクロ波照射による加
熱再生時に攪拌スクリュー４３の回転により攪拌され、
加熱ムラを防止し均一に加熱再生される。特に攪拌スク
リュー４３が金属製であるので、マイクロ波を反射させ
ることができ、それによって効率よく吸着剤を加熱でき
る。
【００２８】
【発明の効果】この発明によれば、少なくとも排気口近
傍に臭気センサを設置することによって、吸着剤の吸着
性能（又は脱臭性能）の低下を検知したときにマグネト
ロンに作動を指令し、それによって実質的に吸着性能が
低下したときのみ吸着剤の加熱再生を行い、しかも吸着
剤の劣化防止を図ることができる。
傍に臭気センサを設置することによって、吸着剤の吸着
性能（又は脱臭性能）の低下を検知したときにマグネト
ロンに作動を指令し、それによって実質的に吸着性能が
低下したときのみ吸着剤の加熱再生を行い、しかも吸着
剤の劣化防止を図ることができる。
【図１】この発明に係る脱臭装置の１つの実施の形態を
示す構成説明図である。
示す構成説明図である。
【図２】その脱臭装置の臭気センサの拡大構成説明図で
ある。
ある。
【図３】その脱臭装置の回路構成を示す概略図である。
【図４】その脱臭装置の脱臭運転のフローチャートであ
る。
る。
【図５】同じく再生運転のフローチャートである。
【図６】他の実施の形態を示す図１相当図である。
【図７】もう１つの他の実施の形態を示す図１相当図で
ある。
ある。
１ 脱臭装置 ２ 吸気口 ３ 排気口 ４ 吸着剤 ５ ファン ６ 本体 ７ マグネトロン ８ センサＡ ９ センサＢ
Claims (8)
- 【請求項１】 吸気口及び排気口を形成すると共に内部
に吸着剤及びファンを収納し、外部のガス体を吸気口か
ら吸入し吸着剤を介して排気口から排出することによ
り、ガス体中の臭気物質を吸着剤に吸着可能な本体と、
この本体に装着され、吸着剤にマイクロ波を照射するこ
とにより吸着剤を加熱再生可能なマグネトロンと、少な
くとも排気口近傍に設置された臭気センサとからなり、
この臭気センサが予め設定された値以上の臭気を検出す
ると前記マグネトロンに作動を指令するよう構成されて
なる脱臭装置。 - 【請求項２】 臭気センサが、排気口近傍に設置された
第１センサと、吸気口近傍に設置された第２センサとか
らなり、第１センサ検出値の、第２センサの検出値との
相対的な差異に基づいてマグネトロンに作動を指令する
請求項１の脱臭装置。 - 【請求項３】 更にマグネトロンの最大連続作動時間を
規制するタイマを備えてなる請求項１又は２の脱臭装
置。 - 【請求項４】 臭気センサが、焼結エージング処理を施
した金属酸化物からなるｎ型半導体の焼結体内部に、１
対の白金属合金線コイルを内蔵した半導体センサである
請求項１又は２の脱臭装置。 - 【請求項５】 吸着剤が粒状で、更に吸着剤を収納する
容器と、この容器又はその容器の一部を回転又は揺動さ
せることにより吸着剤を攪拌する攪拌手段とを更に具備
してなる請求項１又は２の脱臭装置。 - 【請求項６】 吸着部が粒状で、更にその吸着剤を収納
する容器と、この容器に設けられ回転により吸着剤を攪
拌可能な攪拌スクリュー及びその駆動手段とを具備して
なる請求項１又は２の脱臭装置。 - 【請求項７】 攪拌スクリューが、マイクロ波を反射す
る金属で形成されてなる請求項６の脱臭装置。 - 【請求項８】 更に本体の吸気口にフィルタを具備し、
このフィルタ及びファンを着脱可能に構成してなる請求
項１又は２の脱臭装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9174672A JPH1119454A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 脱臭装置 |
| PCT/JP1998/002948 WO1999000175A1 (fr) | 1997-06-30 | 1998-06-29 | Dispositif adsorbant, procede de desodorisation utilisant ce dispositif, et procede d'apport d'oxygene a haute concentration |
| US09/445,422 US6379435B1 (en) | 1997-06-30 | 1998-06-29 | Adsorbing device, method of deodorizing therewith, and method of supplying high concentration oxygen |
| EP98929771A EP1018358A4 (en) | 1997-06-30 | 1998-06-29 | ADSORPTION DEVICE, METHOD FOR DEODOSING THEREFOR, AND METHOD FOR PRODUCING HIGH CONCENTRATED OXYGEN |
| CA002294477A CA2294477A1 (en) | 1997-06-30 | 1998-06-29 | Adsorbing device, deodorizing method and method of supplying high-concentration oxygen using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9174672A JPH1119454A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 脱臭装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1119454A true JPH1119454A (ja) | 1999-01-26 |
Family
ID=15982684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9174672A Pending JPH1119454A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 脱臭装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1119454A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6575013B2 (en) * | 2001-02-26 | 2003-06-10 | Lucent Technologies Inc. | Electronic odor sensor |
-
1997
- 1997-06-30 JP JP9174672A patent/JPH1119454A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6575013B2 (en) * | 2001-02-26 | 2003-06-10 | Lucent Technologies Inc. | Electronic odor sensor |
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