JPH11183927A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH11183927A JPH11183927A JP9352714A JP35271497A JPH11183927A JP H11183927 A JPH11183927 A JP H11183927A JP 9352714 A JP9352714 A JP 9352714A JP 35271497 A JP35271497 A JP 35271497A JP H11183927 A JPH11183927 A JP H11183927A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 9
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N [Kr]F Chemical compound [Kr]F VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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-
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電極基板の全面に配向膜を形成し、配向膜処
理を行った後、電極基板の外部接続端子上に形成された
配向膜を除去する工程を含む液晶表示装置の製造方法に
おいて、除去される配向膜付近に存在する部材に、光化
学変化等による悪影響を与えず、低コスト、高効率な液
晶表示装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 電極基板１の全面に配向膜４を形成し、
ラビング法による配向処理を行った後、液晶表示パネル
の外部接続端子上に形成された配向膜４を紫外線レーザ
ー光線５を照射することによって除去し、前記外部接続
端子と液晶表示装置を構成する周辺部品の接続端子とを
電気的に接続する。さらに、前記紫外線レーザー光線５
のエネルギー密度を、アッテネータ９により調整して配
向膜４を除去する。さらに、前記紫外線レーザー光線５
のエネルギー密度を、１１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2の範
囲内として配向膜４を除去する。
理を行った後、電極基板の外部接続端子上に形成された
配向膜を除去する工程を含む液晶表示装置の製造方法に
おいて、除去される配向膜付近に存在する部材に、光化
学変化等による悪影響を与えず、低コスト、高効率な液
晶表示装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 電極基板１の全面に配向膜４を形成し、
ラビング法による配向処理を行った後、液晶表示パネル
の外部接続端子上に形成された配向膜４を紫外線レーザ
ー光線５を照射することによって除去し、前記外部接続
端子と液晶表示装置を構成する周辺部品の接続端子とを
電気的に接続する。さらに、前記紫外線レーザー光線５
のエネルギー密度を、アッテネータ９により調整して配
向膜４を除去する。さらに、前記紫外線レーザー光線５
のエネルギー密度を、１１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2の範
囲内として配向膜４を除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の製
造方法に関するもので、特に表示品位に優れ、信頼性の
高い液晶表示装置を得ることができる液晶表示装置の製
造方法に関するものである。
造方法に関するもので、特に表示品位に優れ、信頼性の
高い液晶表示装置を得ることができる液晶表示装置の製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶材料の配向制御を行う配向膜は、電
極基板上の表示領域及びその外側のシール形成領域近傍
までの領域を覆うように形成され、液晶材料の配向制御
を行うという目的を果たしている。したがって、液晶表
示装置を構成する周辺部品の接続端子と電気的に接続す
るための電極基板の外部接続端子上には、配向膜を形成
する必要はない。
極基板上の表示領域及びその外側のシール形成領域近傍
までの領域を覆うように形成され、液晶材料の配向制御
を行うという目的を果たしている。したがって、液晶表
示装置を構成する周辺部品の接続端子と電気的に接続す
るための電極基板の外部接続端子上には、配向膜を形成
する必要はない。
【０００３】しかし、前述したような電極基板にラビン
グ法による配向処理を行う場合、電極基板の外部接続端
子は直接ラビング布による摩擦を受けるため、傷が付き
易く、異物によって汚染され、周辺部品の接続端子と電
気的に接続する際に、導通不良を起こすという問題点が
ある。
グ法による配向処理を行う場合、電極基板の外部接続端
子は直接ラビング布による摩擦を受けるため、傷が付き
易く、異物によって汚染され、周辺部品の接続端子と電
気的に接続する際に、導通不良を起こすという問題点が
ある。
【０００４】さらに、配向膜を形成している領域と形成
していない領域との間には段差が存在しているため、こ
の段差部分でラビング布の毛足が乱れ、この毛足の乱れ
が表示領域の配向膜に転写された場合、ラビングむらが
生じて表示品位を劣化させるという問題点がある。
していない領域との間には段差が存在しているため、こ
の段差部分でラビング布の毛足が乱れ、この毛足の乱れ
が表示領域の配向膜に転写された場合、ラビングむらが
生じて表示品位を劣化させるという問題点がある。
【０００５】これらの問題点を解決する方法として、例
えば特開平５−１１２５０号公報及び特開平７−３０１
７７６号公報に開示されているように、電極基板の外部
接続端子上にも配向膜等の保護膜を形成し、ラビング法
による配向処理を行った後、外部接続端子上の配向膜等
の保護膜をプラズマエッチング等によって除去し、外部
接続端子と周辺部品の接続端子とを電気的に接続して液
晶表示装置を得るという方法が提案されている。
えば特開平５−１１２５０号公報及び特開平７−３０１
７７６号公報に開示されているように、電極基板の外部
接続端子上にも配向膜等の保護膜を形成し、ラビング法
による配向処理を行った後、外部接続端子上の配向膜等
の保護膜をプラズマエッチング等によって除去し、外部
接続端子と周辺部品の接続端子とを電気的に接続して液
晶表示装置を得るという方法が提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た特開平５−１１２５０号公報及び特開平７−３０１７
７６号公報で提案されているような方法では、配向膜等
の保護膜をプラズマエッチング等によって除去するた
め、装置規模が大きくなり、処理能力及び設備投資面で
非常に不利となってコストアップとなる問題点があっ
た。
た特開平５−１１２５０号公報及び特開平７−３０１７
７６号公報で提案されているような方法では、配向膜等
の保護膜をプラズマエッチング等によって除去するた
め、装置規模が大きくなり、処理能力及び設備投資面で
非常に不利となってコストアップとなる問題点があっ
た。
【０００７】一方、最近、水銀ＵＶランプを用いて配向
膜等の保護膜の分子結合を分解昇華させることにより、
配向膜等の保護膜を除去する方法が提案されている。こ
の方法について図４を用いて説明する。
膜等の保護膜の分子結合を分解昇華させることにより、
配向膜等の保護膜を除去する方法が提案されている。こ
の方法について図４を用いて説明する。
【０００８】図４において、１は電極基板、２は透明導
電膜、３は透明絶縁膜であり、４は電極基板１全体を覆
うように形成された配向膜である。また、１５は配向膜
４のうち、電極基板１の接続端子部上に対応する領域に
開口部を有するマスクである。このマスク１５を電極基
板１に対して位置合わせした後、前記マスク１５を介し
て電極基板１に水銀ＵＶランプ１６を照射することによ
って、外部接続端子上の配向膜４を除去する。
電膜、３は透明絶縁膜であり、４は電極基板１全体を覆
うように形成された配向膜である。また、１５は配向膜
４のうち、電極基板１の接続端子部上に対応する領域に
開口部を有するマスクである。このマスク１５を電極基
板１に対して位置合わせした後、前記マスク１５を介し
て電極基板１に水銀ＵＶランプ１６を照射することによ
って、外部接続端子上の配向膜４を除去する。
【０００９】しかしながら、上記提案による配向膜等の
保護膜を除去する方法では、水銀ＵＶランプが指向性の
ない光であるため、照射領域を正確に制御することがで
きず、マスク１５を必要としていた。したがって、マス
ク１５の位置合わせ等の工程が増えるため、生産効率が
下がるという問題点があった。
保護膜を除去する方法では、水銀ＵＶランプが指向性の
ない光であるため、照射領域を正確に制御することがで
きず、マスク１５を必要としていた。したがって、マス
ク１５の位置合わせ等の工程が増えるため、生産効率が
下がるという問題点があった。
【００１０】また、水銀ＵＶランプは、配向膜の分子結
合を分解昇華させる波長領域のみに光強度を集中させる
ことが困難である。このため、除去される配向膜付近に
存在する電極、カラーフィルタ、絶縁膜等の部材に、光
化学変化等により、温度上昇に伴う変形、強度劣化、着
色、透明度低下等の不良現象を伴う悪い影響を与えてし
まうという問題点があった。
合を分解昇華させる波長領域のみに光強度を集中させる
ことが困難である。このため、除去される配向膜付近に
存在する電極、カラーフィルタ、絶縁膜等の部材に、光
化学変化等により、温度上昇に伴う変形、強度劣化、着
色、透明度低下等の不良現象を伴う悪い影響を与えてし
まうという問題点があった。
【００１１】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、表示品位に優れ、信頼性の高
い液晶表示装置を得ることができる液晶表示装置の製造
方法を提供することを目的としている。
みなされたものであって、表示品位に優れ、信頼性の高
い液晶表示装置を得ることができる液晶表示装置の製造
方法を提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
液晶表示素子の製造方法は、電極基板の全面に配向膜を
形成し、ラビング法による配向処理を行った後、電極基
板の外部接続端子上に形成された配向膜を除去し、前記
外部接続端子と液晶表示装置を構成する周辺部品の接続
端子とを電気的に接続する液晶表示装置の製造方法にお
いて、前記外部接続端子上に形成された配向膜を、紫外
線レーザー光線を照射することによって除去することを
特徴としている。
液晶表示素子の製造方法は、電極基板の全面に配向膜を
形成し、ラビング法による配向処理を行った後、電極基
板の外部接続端子上に形成された配向膜を除去し、前記
外部接続端子と液晶表示装置を構成する周辺部品の接続
端子とを電気的に接続する液晶表示装置の製造方法にお
いて、前記外部接続端子上に形成された配向膜を、紫外
線レーザー光線を照射することによって除去することを
特徴としている。
【００１３】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記紫外線レーザー光線のエネルギー密度を、アッテネ
ータにより調整して、配向膜を除去することを特徴とし
ている。
は、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記紫外線レーザー光線のエネルギー密度を、アッテネ
ータにより調整して、配向膜を除去することを特徴とし
ている。
【００１４】請求項３記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記紫外線レーザー光線のエネルギー密度を、１１０〜
２１０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内として、配向膜を除去する
ことを特徴としている。
は、請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記紫外線レーザー光線のエネルギー密度を、１１０〜
２１０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内として、配向膜を除去する
ことを特徴としている。
【００１５】以下、上記構成による作用を説明する。本
発明の液晶表示装置の製造方法によれば、電極基板の全
面に配向膜を形成し、ラビング法による配向処理を行っ
た後、液晶表示パネルの外部接続端子上に形成された配
向膜を除去し、前記外部接続端子と液晶表示装置を構成
する周辺部品の接続端子とを電気的に接続する液晶表示
装置の製造方法において、前記外部接続端子上に形成さ
れた配向膜を、紫外線レーザー光線を照射することによ
って除去することにより、配向膜の除去に必要な光の波
長領域及び光強度のみを前記外部接続端子上に照射する
ことが容易になる。このため、除去される配向膜付近に
存在する電極、カラーフィルタ、絶縁膜等の部材に、光
化学変化による悪影響を与えることなく、配向膜を除去
することができる。
発明の液晶表示装置の製造方法によれば、電極基板の全
面に配向膜を形成し、ラビング法による配向処理を行っ
た後、液晶表示パネルの外部接続端子上に形成された配
向膜を除去し、前記外部接続端子と液晶表示装置を構成
する周辺部品の接続端子とを電気的に接続する液晶表示
装置の製造方法において、前記外部接続端子上に形成さ
れた配向膜を、紫外線レーザー光線を照射することによ
って除去することにより、配向膜の除去に必要な光の波
長領域及び光強度のみを前記外部接続端子上に照射する
ことが容易になる。このため、除去される配向膜付近に
存在する電極、カラーフィルタ、絶縁膜等の部材に、光
化学変化による悪影響を与えることなく、配向膜を除去
することができる。
【００１６】また、紫外線レーザー光線は指向性のある
光であるため、照射領域を正確に制御することが可能に
なり、前記外部接続端子の領域に正確に照射することが
容易になる。このため、マスクの位置合わせ等の工程が
増えることがなく、生産効率を上げることができる。
光であるため、照射領域を正確に制御することが可能に
なり、前記外部接続端子の領域に正確に照射することが
容易になる。このため、マスクの位置合わせ等の工程が
増えることがなく、生産効率を上げることができる。
【００１７】さらに、配向膜を除去する紫外線レーザー
光線のエネルギー密度を、アッテネータによって調整す
ることにより、紫外線レーザー光線のエネルギー密度の
制御が容易になる。このため、配向膜の除去に適したエ
ネルギー密度のみをより正確に照射することが可能にな
る。
光線のエネルギー密度を、アッテネータによって調整す
ることにより、紫外線レーザー光線のエネルギー密度の
制御が容易になる。このため、配向膜の除去に適したエ
ネルギー密度のみをより正確に照射することが可能にな
る。
【００１８】さらに、配向膜を除去する紫外線レーザー
光線のエネルギー密度を、１１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2
の範囲内とすることにより、配向膜の分子結合の分解昇
華を効率的に行わせて配向膜を良好に除去しながら、除
去される配向膜付近に存在する電極、カラーフィルタ、
絶縁膜等の他の部材への光化学変化上の悪影響を与える
ことがない。
光線のエネルギー密度を、１１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2
の範囲内とすることにより、配向膜の分子結合の分解昇
華を効率的に行わせて配向膜を良好に除去しながら、除
去される配向膜付近に存在する電極、カラーフィルタ、
絶縁膜等の他の部材への光化学変化上の悪影響を与える
ことがない。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。図１及び図２を用いて、本発明の実施の形
態について説明する。図１は本発明に係わる液晶表示装
置の製造方法を示す断面工程図である。図２は図１の続
きの液晶表示装置の製造方法を示す断面工程図である。
に説明する。図１及び図２を用いて、本発明の実施の形
態について説明する。図１は本発明に係わる液晶表示装
置の製造方法を示す断面工程図である。図２は図１の続
きの液晶表示装置の製造方法を示す断面工程図である。
【００２０】図１（ａ）に示すように、ガラスまたはプ
ラスチック等からなる電極基板１上にＩＴＯ等からなる
透明導電膜２を形成し、フォトリソグラフィ法等によっ
て表示電極及び外部接続端子を形成する。さらに、表示
領域に透明絶縁膜３を形成し、電極基板１上の全面にポ
リイミドまたは、ポリビニルアルコール等からなる配向
膜４を５０〜８００ｎｍの厚さにオフセット印刷法によ
って形成して、ラビング法によって配向処理を行う。
ラスチック等からなる電極基板１上にＩＴＯ等からなる
透明導電膜２を形成し、フォトリソグラフィ法等によっ
て表示電極及び外部接続端子を形成する。さらに、表示
領域に透明絶縁膜３を形成し、電極基板１上の全面にポ
リイミドまたは、ポリビニルアルコール等からなる配向
膜４を５０〜８００ｎｍの厚さにオフセット印刷法によ
って形成して、ラビング法によって配向処理を行う。
【００２１】このラビング法による配向処理の際には、
電極基板１の表面は配向膜４によって段差のない平坦な
状態となっているため、均一な摩擦ストレスによりラビ
ングをすることができ、ラビング布の毛足が乱れること
が無いと共に、外部接続端子を傷つけることがない。
電極基板１の表面は配向膜４によって段差のない平坦な
状態となっているため、均一な摩擦ストレスによりラビ
ングをすることができ、ラビング布の毛足が乱れること
が無いと共に、外部接続端子を傷つけることがない。
【００２２】次に、図１（ｂ）に示すように、紫外線レ
ーザー光線５を外部接続端子上の配向膜４に照射し、図
１（ｃ）に示すように、外部接続端子上の配向膜４を除
去する。このとき、紫外線レーザー光線５は、指向性を
有しているので、配向膜４の一部をマスク等で覆う必要
がない。
ーザー光線５を外部接続端子上の配向膜４に照射し、図
１（ｃ）に示すように、外部接続端子上の配向膜４を除
去する。このとき、紫外線レーザー光線５は、指向性を
有しているので、配向膜４の一部をマスク等で覆う必要
がない。
【００２３】さらに、図２（ａ）に示すように、シール
６を介して一対の電極基板１を貼り合わせる。このと
き、一対の電極基板１間は空気層７である。そして、外
部接続端子の対向する部分が切断され、図２（ｂ）に示
すように、液晶材料８の注入を行って液晶表示パネルを
得る。
６を介して一対の電極基板１を貼り合わせる。このと
き、一対の電極基板１間は空気層７である。そして、外
部接続端子の対向する部分が切断され、図２（ｂ）に示
すように、液晶材料８の注入を行って液晶表示パネルを
得る。
【００２４】そして、フェノール樹脂または、ポリスル
ホン樹脂等の接着剤中に、ニッケルまたは金等の導電性
粒子を分散させた異方性導電材料を外部接続端子上に塗
布し、この異方性導電材料上に図示しない周辺部品の接
続端子を配設する。そして、熱圧着を行うことにより、
外部接続端子と周辺部品の接続端子とを電気的に接続
し、液晶表示装置を得る。
ホン樹脂等の接着剤中に、ニッケルまたは金等の導電性
粒子を分散させた異方性導電材料を外部接続端子上に塗
布し、この異方性導電材料上に図示しない周辺部品の接
続端子を配設する。そして、熱圧着を行うことにより、
外部接続端子と周辺部品の接続端子とを電気的に接続
し、液晶表示装置を得る。
【００２５】このように、配向膜４を除去するために紫
外線レーザー光線５を用いるので、配向膜４の分子結合
を分解昇華させる波長領域に光強度を集中させることが
でき、除去される配向膜付近に存在する電極、カラーフ
ィルタ、絶縁膜等の部材に、光化学変化による悪影響を
抑えることができる。
外線レーザー光線５を用いるので、配向膜４の分子結合
を分解昇華させる波長領域に光強度を集中させることが
でき、除去される配向膜付近に存在する電極、カラーフ
ィルタ、絶縁膜等の部材に、光化学変化による悪影響を
抑えることができる。
【００２６】図３に、紫外線レーザー光線５の照射装置
の概略図を示す。本実施形態では、紫外線レーザー光線
５として、紫外線レーザー発振装置１３より発生する、
フッ化クリプトンパージ励起にて波長２４８ｎｍ、出力
６００ｍＪ、エネルギープロファイルは台形、ビームサ
イズ２４×１０ｍｍのエキシマレーザーを用いた。
の概略図を示す。本実施形態では、紫外線レーザー光線
５として、紫外線レーザー発振装置１３より発生する、
フッ化クリプトンパージ励起にて波長２４８ｎｍ、出力
６００ｍＪ、エネルギープロファイルは台形、ビームサ
イズ２４×１０ｍｍのエキシマレーザーを用いた。
【００２７】紫外線レーザー光線５のエネルギー照射量
を制御するため、紫外線レーザー光線５は、１／１０秒
にて複数回照射され、照射回数によってレーザー発光時
間の制御を行う。
を制御するため、紫外線レーザー光線５は、１／１０秒
にて複数回照射され、照射回数によってレーザー発光時
間の制御を行う。
【００２８】さらに、図３に示すように、紫外線レーザ
ー発振装置１３と被照射体１４との間に、アッテネータ
９をセットし、このアッテネータ９の入射角度設定によ
り、紫外線レーザー光線５のエネルギー密度の制御を行
う。アッテネータは光の入射角度設定により、ほぼ線形
的にエネルギー密度の制御を行うことができるため、エ
ネルギー密度の制御が容易になる。
ー発振装置１３と被照射体１４との間に、アッテネータ
９をセットし、このアッテネータ９の入射角度設定によ
り、紫外線レーザー光線５のエネルギー密度の制御を行
う。アッテネータは光の入射角度設定により、ほぼ線形
的にエネルギー密度の制御を行うことができるため、エ
ネルギー密度の制御が容易になる。
【００２９】一方、偏光フィルタや着色フィルタを用い
てレーザー光線のエネルギー密度の制御を行うことも考
えられる。しかし、これらの場合は、一部の光をフィル
タが吸収して残りの光を透過することにより、エネルギ
ー密度の制御が行われるため、フィルタが熱を吸収して
しまう。
てレーザー光線のエネルギー密度の制御を行うことも考
えられる。しかし、これらの場合は、一部の光をフィル
タが吸収して残りの光を透過することにより、エネルギ
ー密度の制御が行われるため、フィルタが熱を吸収して
しまう。
【００３０】これに対して、アッテネータは、一部の光
の方向を変え、残りの光を透過することでエネルギー密
度の制御を行う。このため、アッテネータ自体は、エネ
ルギー密度の制御によっても熱を吸収しないことから、
長時間の使用に耐えることができる。したがって、液晶
表示パネルの外部接続端子のように、比較的、面積の広
い領域に長時間に渡ってレーザー照射する必要がある場
合でも、問題なくレーザー照射を行うことが可能にな
る。
の方向を変え、残りの光を透過することでエネルギー密
度の制御を行う。このため、アッテネータ自体は、エネ
ルギー密度の制御によっても熱を吸収しないことから、
長時間の使用に耐えることができる。したがって、液晶
表示パネルの外部接続端子のように、比較的、面積の広
い領域に長時間に渡ってレーザー照射する必要がある場
合でも、問題なくレーザー照射を行うことが可能にな
る。
【００３１】また、紫外線レーザー光線５の照射領域を
制御するため、図３に示すように、シリンドリカルレン
ズ１０、スリット１１、ミラー１２を有する光学系を用
いた。シリンドリカルレンズ１０はレーザー光線を収束
させ、スリット１１はレーザー光線の断面形状を制御
し、ミラー１２は紫外線レーザー光線５の方向を制御さ
せる。これらにより、外部接続端子の位置及び大きさに
合わせて、紫外線レーザー光線５の照射領域を制御する
ことができる。また、照射領域の面積に対して、外部接
続端子の面積が大きく上回るときは、被照射体を移動さ
せ、照射を複数回行うことにより対応することもでき
る。
制御するため、図３に示すように、シリンドリカルレン
ズ１０、スリット１１、ミラー１２を有する光学系を用
いた。シリンドリカルレンズ１０はレーザー光線を収束
させ、スリット１１はレーザー光線の断面形状を制御
し、ミラー１２は紫外線レーザー光線５の方向を制御さ
せる。これらにより、外部接続端子の位置及び大きさに
合わせて、紫外線レーザー光線５の照射領域を制御する
ことができる。また、照射領域の面積に対して、外部接
続端子の面積が大きく上回るときは、被照射体を移動さ
せ、照射を複数回行うことにより対応することもでき
る。
【００３２】表１に、上述の方法に従って、紫外線レー
ザー光線５の発光時間とエネルギー密度を制御した場合
に、各照射エネルギー条件における、透明電極（ＩＴ
Ｏ）と配向膜（ＰＩ）のダメージの度合いについてのデ
ータを示す。このデータによれば、エネルギー密度が１
１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であれば、照射回数
を適当に制御することにより、良好（○印）に配向膜を
除去することができる。
ザー光線５の発光時間とエネルギー密度を制御した場合
に、各照射エネルギー条件における、透明電極（ＩＴ
Ｏ）と配向膜（ＰＩ）のダメージの度合いについてのデ
ータを示す。このデータによれば、エネルギー密度が１
１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であれば、照射回数
を適当に制御することにより、良好（○印）に配向膜を
除去することができる。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置の製造方法によれば、電極基板の全面に配向膜を形
成し、ラビング法による配向処理を行った後、電極基板
の外部接続端子上に形成された配向膜を除去し、前記外
部接続端子と液晶表示装置を構成する周辺部品の接続端
子とを電気的に接続する液晶表示装置の製造方法におい
て、前記外部端子上に形成された配向膜を、紫外線レー
ザー光線を照射することによって除去することにより、
配向膜の分子結合を分解昇華させる波長領域のみに光強
度を集中させることが可能になり、このため、除去され
る配向膜付近に存在する電極、カラーフィルタ、絶縁膜
等の部材に、光化学変化上、悪い影響を与えることがな
く、配向膜の除去に必要な波長領域及び、光量のみを照
射することが容易になるという効果を奏する。
装置の製造方法によれば、電極基板の全面に配向膜を形
成し、ラビング法による配向処理を行った後、電極基板
の外部接続端子上に形成された配向膜を除去し、前記外
部接続端子と液晶表示装置を構成する周辺部品の接続端
子とを電気的に接続する液晶表示装置の製造方法におい
て、前記外部端子上に形成された配向膜を、紫外線レー
ザー光線を照射することによって除去することにより、
配向膜の分子結合を分解昇華させる波長領域のみに光強
度を集中させることが可能になり、このため、除去され
る配向膜付近に存在する電極、カラーフィルタ、絶縁膜
等の部材に、光化学変化上、悪い影響を与えることがな
く、配向膜の除去に必要な波長領域及び、光量のみを照
射することが容易になるという効果を奏する。
【００３５】また、紫外線レーザー光線は指向性のある
光であるため、照射領域を正確に制御することが可能に
なる。このため、マスクの位置合わせ等の工程が増える
ことがなく、生産効率を上げるという効果を奏する。
光であるため、照射領域を正確に制御することが可能に
なる。このため、マスクの位置合わせ等の工程が増える
ことがなく、生産効率を上げるという効果を奏する。
【００３６】さらに、配向膜を除去する紫外線レーザー
光線のエネルギー密度を、アッテネータによって調整す
ることにより、紫外線レーザー光線のエネルギー密度の
制御が容易になる。このため、配向膜の除去に適したエ
ネルギー密度のみをより正確に照射することが可能にな
るという効果を奏する。
光線のエネルギー密度を、アッテネータによって調整す
ることにより、紫外線レーザー光線のエネルギー密度の
制御が容易になる。このため、配向膜の除去に適したエ
ネルギー密度のみをより正確に照射することが可能にな
るという効果を奏する。
【００３７】さらに、配向膜を除去する紫外線レーザー
光線のエネルギー密度を、１１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2
の範囲内とすることにより、配向膜の分子結合の分解昇
華を効率的に行わせて配向膜の除去を行いながら、除去
される配向膜付近に存在する電極、カラーフィルタ、絶
縁膜等の他の部材への光化学変化上の悪影響を抑えると
いう効果を奏する。
光線のエネルギー密度を、１１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2
の範囲内とすることにより、配向膜の分子結合の分解昇
華を効率的に行わせて配向膜の除去を行いながら、除去
される配向膜付近に存在する電極、カラーフィルタ、絶
縁膜等の他の部材への光化学変化上の悪影響を抑えると
いう効果を奏する。
【図１】（ａ）〜（ｃ）は本発明に係わる液晶表示装置
の製造方法を示す断面工程図である。
の製造方法を示す断面工程図である。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は図１の続きの液晶表示装置
の製造方法を示す断面工程図である。
の製造方法を示す断面工程図である。
【図３】紫外線レーザー光線の照射装置の概略図であ
る。
る。
【図４】従来の配向膜除去の方法を説明する図である。
１ 電極基板 ２ 透明導電膜 ３ 透明絶縁膜 ４ 配向膜 ５ 紫外線レーザー光線 ６ シール ７ 空気層 ８ 液晶材料 ９ アッテネータ １０ シリンドリカルレンズ １１ スリット １２ ミラー １３ 紫外線レーザー発振装置 １４ 被照射体 １５ マスク １６ 水銀ＵＶランプ光
Claims (3)
- 【請求項１】 電極基板の全面に配向膜を形成し、ラビ
ング法による配向膜処理を行った後、前記電極基板の外
部接続端子上に形成された配向膜を除去し、前記外部接
続端子と液晶表示装置を構成する周辺部品の接続端子と
を電気的に接続する液晶表示装置の製造方法において、 前記外部接続端子上に形成された配向膜を、紫外線レー
ザー光を照射することによって除去することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】 前記紫外線レーザー光を照射する際に、
アッテネータによりエネルギー密度を調整して、配向膜
を除去することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装
置の製造方法。 - 【請求項３】 前記紫外線レーザー光のエネルギー密度
は、１１０〜２１０ｍＪ／ｃｍ2であることを特徴とす
る請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9352714A JPH11183927A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
| US09/215,731 US6327012B1 (en) | 1997-12-22 | 1998-12-18 | Method for manufacturing liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9352714A JPH11183927A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11183927A true JPH11183927A (ja) | 1999-07-09 |
Family
ID=18425935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9352714A Pending JPH11183927A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6327012B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11183927A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6468599B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-10-22 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation |
| JP2007114361A (ja) * | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Nakan Corp | 配向膜のパターニング方法 |
| KR101023730B1 (ko) * | 2004-09-08 | 2011-03-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향막 형성방법 및 그를 이용한 액정표시소자 제조방법 |
| KR20150002116A (ko) * | 2013-06-28 | 2015-01-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향막 형성 방법 및 이를 이용한 액정표시장치 제조 방법 |
| DE102016218084B3 (de) | 2016-09-21 | 2018-05-09 | Magna Mirrors Holding Gmbh | Fahrzeugspiegel mit Beschriftung |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000013059A1 (fr) * | 1998-08-31 | 2000-03-09 | Seiko Epson Corporation | Panneau a cristaux liquides et procede de fabrication de celui-ci |
| KR20060097195A (ko) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치의 배향막 제조 방법 및 이에 사용되는 배향막식각 장치 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0511250A (ja) | 1991-07-03 | 1993-01-19 | Fujitsu Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
| DE69427202T2 (de) * | 1993-01-29 | 2001-10-18 | Sharp Kk | Flüssigkristall Anzeigevorrichtung, Verfahren zu ihrer Herstellung, und ein Substrat |
| US5689322A (en) * | 1993-07-30 | 1997-11-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device having regions with different twist angles |
| JPH07301776A (ja) | 1994-05-02 | 1995-11-14 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
| US5854803A (en) * | 1995-01-12 | 1998-12-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser illumination system |
| JP3599815B2 (ja) * | 1995-03-15 | 2004-12-08 | アルプス電気株式会社 | 紫外線架橋化合物、液晶表示素子用配向膜及び液晶表示素子 |
| US6099786A (en) * | 1996-02-23 | 2000-08-08 | Prime View International Co. | Method of making accurate dimension alignment film for LCD |
| US5807498A (en) * | 1996-03-29 | 1998-09-15 | Alliant Techsystems Inc. | Process and materials for aligning liquid crystals and liquid crystal optical elements |
| US5817743A (en) * | 1996-03-29 | 1998-10-06 | Alliant Techsystems Inc. | Process and materials for inducing pre-tilt in liquid crystals and liquid crystal displays |
| US5770826A (en) * | 1996-05-10 | 1998-06-23 | International Business Machines Corporation | Atomic beam alignment of liquid crystals |
| JP3299893B2 (ja) | 1996-09-30 | 2002-07-08 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
-
1997
- 1997-12-22 JP JP9352714A patent/JPH11183927A/ja active Pending
-
1998
- 1998-12-18 US US09/215,731 patent/US6327012B1/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| US6468599B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-10-22 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation |
| US6756087B2 (en) | 1998-12-25 | 2004-06-29 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation and apparatus therefor |
| KR101023730B1 (ko) * | 2004-09-08 | 2011-03-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향막 형성방법 및 그를 이용한 액정표시소자 제조방법 |
| JP2007114361A (ja) * | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Nakan Corp | 配向膜のパターニング方法 |
| KR20150002116A (ko) * | 2013-06-28 | 2015-01-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향막 형성 방법 및 이를 이용한 액정표시장치 제조 방법 |
| DE102016218084B3 (de) | 2016-09-21 | 2018-05-09 | Magna Mirrors Holding Gmbh | Fahrzeugspiegel mit Beschriftung |
| US10303028B2 (en) | 2016-09-21 | 2019-05-28 | Magna Mirrors Holding Gmbh | Vehicle mirror having inscription |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6327012B1 (en) | 2001-12-04 |
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