JPH11177238A - ガラスセラミックス多層基板の製造方法 - Google Patents
ガラスセラミックス多層基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH11177238A JPH11177238A JP9338515A JP33851597A JPH11177238A JP H11177238 A JPH11177238 A JP H11177238A JP 9338515 A JP9338515 A JP 9338515A JP 33851597 A JP33851597 A JP 33851597A JP H11177238 A JPH11177238 A JP H11177238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- green sheet
- glass ceramic
- cavity
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
数を低減し、生産性を向上することができるガラスセラ
ミックス多層基板の製造方法を提供する。 【解決手段】 ガラスセラミックスのグリーンシート積
層体1のキャビティ部2の内部にAl2 O3 粉末を主と
して含有するペーストを充填し乾燥させ充填層3を形成
する工程と、グリーンシート積層体1の上下両面にAl
2 O3 粉末を主として含有するAl2 O3 グリーンシー
ト4および5を配置する工程と、グリーンシート積層体
1の上下両面にAl2 O3 グリーンシート4および5を
配置した後、グリーンシート積層体1の上下面に圧力を
負荷しながら焼成を行なう工程とを含んでいる。このた
め、キャビティ部2の内部に充填するAl2 O3 粉末を
含有するペーストの固形分比率をコントロールすること
により、焼成時にキャビティ部を含むガラスセラミック
ス積層体の全面において、均一な加圧力の負荷が可能と
なる。
Description
ス多層基板の製造方法に関し、特にエレクトロニクス用
セラミックパッケージおよび回路基板として用いられる
ガラスセラミックス多層基板の製造方法に関する。
Iチップ等の半導体素子は、基板に設けられた半導体素
子搭載部に実装されて実用に供されている。アルミナ等
のセラミックスは耐熱性、耐久性、熱伝導性等に優れる
ため、この基板の材料として適しており、セラミック製
の半導体基板は現在盛んに使用されている。
が比較的大きいため伝送信号の遅延を生じさせ、また熱
膨張係数がシリコンに比べて大きいため、部品を搭載し
たときの温度変化に対する信頼性を確保するのが困難で
あるという問題があった。さらに、アルミナの焼成温度
は約1600℃と高いため、内層の配線として融点が高
くかつ電気抵抗率の大きいWまたはMoを使用する必要
があり、配線を微細にした場合、配線の電気抵抗値が大
きくなるという問題があった。
と同時焼成を行うことができる低温焼成セラミックス基
板の開発が進められており、その中でも比誘電率が比較
的小さいので伝送損失が小さく、かつ熱膨張率がシリコ
ンに近いため、フリップチップ方式による搭載が可能な
ガラスを含有するガラスセラミックス基板が注目されて
いる。このガラスセラミックス基板に用いられるガラス
材料としては、ホウ珪酸系ガラス、MgO−Al2 O3
−SiO2 系ガラス、CaO−Al2 O3 −SiO2 系
ガラス等が挙げられ、通常、これらのガラス粉末に骨材
を添加した原料を用いてガラスセラミックス基板が製造
される。
は、基板サイズを縮小し、搭載ボードへの搭載密度を向
上させ、さらに電気特性を向上させるため、一般に複数
枚のガラスセラミックスのグリーンシートを積層および
焼成してガラスセラミックス多層基板が製造される。さ
て、LSI等が高速になり、高密度になるにしたがい、
セラミックス基板に搭載されるLSI等とセラミックス
基板に形成された配線とのボンディング法は、従来のワ
イヤボンディング法からマルチチップ化や高密度な搭載
に適したTAB(Tape Automated Bonding) 方式または
フリップチップ方式が採用されるようになってきてい
る。したがって、ガラスセラミックス多層基板に対する
要求も基板自身の物性のみでなく、高密度な搭載に対応
することができるように基板の寸法や形状等についても
精密な制御技術が必要となってきている。
寸法等の制御を行う方法として、特表平5―50349
8号公報には、ガラスセラミックスグリーンシートの積
層体の表裏両面にセラミックスからなる剥離層を配置
し、表裏両面から加圧しながら焼成した後、剥離層を除
去する方法が開示されている。前記公報においては、焼
結にともなう平面収縮が低減できることが記載されてい
る。
5―503498号公報に開示される方法では、ガラス
セラミックスグリーンシートの積層体にキャビティ部が
形成されている場合、積層体両面に重ねるセラミックス
の剥離層を介して加圧するとき、キャビティ部の空隙に
より圧力が伝達されないため、キャビティ部周辺が焼成
時に変形を起こし、回路基板として実用不可能なものと
なる恐れがあった。
おいては、キャビティ部を有するガラスセラミックス積
層体の焼結方法が開示されている。この方法では、キャ
ビティ部内にガラスセラミックス積層体よりも焼結温度
の高い無機成分からなる成形体層を形成し、その直上部
分にキャビティ部と同一体積のガラスセラミックス成形
体を配置することにより、キャビティ部とキャビティ部
以外の部分とを同じ体積比の積層構造にすることで、ガ
ラスセラミックスグリーンシート全体の焼成時の収縮挙
動を均一にしている。
積層体には複数のキャビティ部が形成されており、この
キャビティ部内に正確に無機成分からなる成形体を形成
し、さらにこのキャビティ部直上の正しい位置にガラス
セラミックス成形層を配置するのは複雑な工程である。
このため、特開平8―245268号公報に開示される
方法では、製造工数が増大し、生産性が低下するという
問題があった。
になされたものであり、キャビティ部を有するガラスセ
ラミックス積層体の焼結時にキャビティ部周辺の変形を
防ぎ、かつ製造工数を低減し、生産性を向上することが
できるガラスセラミックス多層基板の製造方法を提供す
ることを目的とする。
ガラスセラミックス多層基板の製造方法によると、ガラ
スセラミックスのグリーンシート積層体のキャビティ部
内部にガラスセラミックスよりも焼結温度の高い無機成
分を主として含有するペーストを充填する工程と、グリ
ーンシート積層体の上下両面にガラスセラミックスより
も焼結温度の高い無機成分を主として含有する成形体を
配置する工程と、グリーンシート積層体の上下両面にこ
の成形体を配置した後、グリーンシート積層体の上下面
に圧力を負荷しながら焼成を行なう工程とを含む。
の製造方法においては、ガラスセラミックスの原料とな
るガラス粉末や骨材となるセラミックス粉末をボールミ
ルに投入し、さらに粉砕用のボールと共に湿式媒を添加
し、適当な粒径になるように湿式混合粉砕を行うことに
より、ガラスセラミックスの原料粉末が得られる。この
後、前記の湿式媒を除去し、得られた原料粉末にバイン
ダ、分散剤、可塑剤、有機溶媒等を添加して湿式混合を
行い、スラリーを調製する。次に、このスラリーを用い
てドクターブレード法等によりガラスセラミックスグリ
ーンシートを作製する。その後、必要によりビアホール
等を形成し、前記のガラスセラミックスグリーンシート
に配線用の導体ペーストを印刷し、ビアホール部分に導
体ペーストを充填する。これらの工程により作製された
種々のガラスセラミックスグリーンシートを積層してグ
リーンシート積層体を形成することができる。
記のガラスセラミックスの原料粉末、有機溶媒、可塑剤
およびバインダ等から構成される。ガラスセラミックス
の原料粉末は、ホウ珪酸系ガラス、MgO−Al2 O3
−SiO2 系ガラス、CaO−Al2 O3 −SiO2 系
ガラス等の粉末とAl2 O3 等の骨材の粉末を混合した
ものであり、有機溶媒としては、例えばトルエン、キシ
レン、アルコール類等が挙げられ、可塑剤としては、例
えばジブチルフタレート、ジオキシルフタレート等が挙
げられ、バインダとしては、例えばアクリル樹脂、ブチ
ラール樹脂等が挙げられる。これらの混合割合は、ガラ
スセラミックスの原料粉末100重量部に対し、有機溶
媒が20〜80重量部、可塑剤が1〜5重量部、バイン
ダが5〜20重量部が好ましい。ガラスセラミックスグ
リーンシート上に導体含有層を形成する場合、Ag、C
u、Au、Ag−Pd等が導体材料として用いられる。
に充填するガラスセラミックスの焼結温度では焼結しな
い無機成分(以下、「ガラスセラミックスの焼結温度で
は焼結しない無機成分」を難焼結性無機成分という)を
主成分とするペーストは、例えば通常の印刷工程によ
り、任意のキャビティの位置に容易に充填することがで
きる。前記のペーストは、難焼結性無機成分の粉末、有
機溶媒、バインダ等から構成される。
O3 、AlN、MgO、ZrO2 、TiO2 、BeO、
BN、3Al2 O3 2SiO2 等が挙げられる。有機溶
媒としては、例えばトルエン、キシレン、アルコール類
等が挙げられ、バインダとしては、例えばエチルセルロ
ース樹脂、ニトロセルロース樹脂等が挙げられる。これ
らの混合割合は、難焼結性無機成分の粉末100重量部
に対し、有機溶媒が20〜80重量部、バインダが5〜
20重量部が好ましい。
体の上下両面に難焼結性無機成分を主成分とする成形体
を配置して、加圧しながら焼成することにより、グリー
ンシート積層体の平面方向にほとんど収縮しない、寸法
精度の良い焼結体が得られる。このとき、キャビティ部
内部に充填するペーストの難焼結性無機成分の固形分比
率をガラスセラミックス積層体の厚み方向の収縮率に適
合するように成分設計することにより、キャビティ部と
キャビティ部以外の部分との焼成後における厚みがほぼ
同一となるように制御することができる。
ルすることにより、焼成時にキャビティ部を含むガラス
セラミックス積層体の全面において、均一な加圧力の負
荷が可能となるため、難焼結性無機粉末層によるガラス
セラミックス積層体の表面に対する拘束作用がキャビテ
ィ内部にも働き、ガラスセラミックス積層体全体におい
て、均一な焼結反応が進行すると考えられる。
ビティ部底部のクラックの発生を防止することができ、
焼結状態および形状の安定したキャビティ部を有する良
好な回路基板を得ることができる。さらに、簡便な工程
により寸法精度のよい回路基板を製造することができる
ので、製造工数を低減し、生産性を向上することができ
る。
焼結性無機粉末は、例えば、微細なガラス粉末を用いる
一般のショットブラスト処理により、簡便に除去可能で
ある。キャビティ部に充填されている難焼結性無機粉末
のショットブラストによる除去性能を上げるためには、
難焼結性無機粉末の粒径をガラスセラミックスの原料粉
末の平均粒径の1/10以上の大きさであることが望ま
しい。
面に基づいて説明する。 (第1実施例)本発明をCaO−Al2 O3 −SiO2
系ガラスを用いたガラスセラミックス多層基板に適用し
た第1実施例について説明する。
ト積層体の作製方法について述べる。ここで、ガラスセ
ラミックスの原料粉末は、CaO−Al2 O3 −SiO
2 −B2 O3 系のガラス粉末60wt%とAl2 O3 粉
末40wt%とを混合した粉体状のセラミックスであ
り、平均粒径は約3.5μmである。 ガラスセラミックス粉体にジオキシルフタレートの
可塑剤と、アクリル樹脂のバインダと、例えばトルエ
ン、キシレン、アルコール類等の溶剤とを加え、十分に
混練して粘度2000〜40000cpsのスラリーを
作製し、ドクターブレード法によって0.3mm厚の4
枚のガラスセラミックスグリーンシートを形成する。
用いて、ガラスセラミックスグリーンシートを所望の形
状に加工し、また、複数の所定位置に例えば0.3mm
φのビアホールを打ち抜き形成し、各ビアホールにAg
系導体材料を充填する。また、ガラスセラミックスグリ
ーンシートの表面あるいは裏面に内部配線用のAg、A
g−Pd、Ag−Pt、Ag−Pd−Pt、Cu等の導
体ペーストをスクリーン印刷する。
ンシートを積層して得られたガラスセラミックスのグリ
ーンシート積層体を110℃、100kg/cm2 の条
件で熱圧着して一体化する。 上記の〜により、図2に示すガラスセラミックスの
グリーンシート積層体1が得られる。図2において、グ
リーンシート積層体1はガラスセラミックスグリーンシ
ート1aの積層体であり、キャビティ部2を有してい
る。グリーンシート積層体1の外形寸法は100×15
0mm角、キャビティ部2の寸法はL1 =5mmの5×
5mm角であり、グリーンシート積層体1は30個のキ
ャビティ部2を有している。
シート積層体1の焼結方法について説明する。 平均粒径が約0.3μmのAl2 O3 粉末にエチル
セルロース樹脂をアルコール類で溶解したビヒクルを加
え、Al2 O3 粉末の固形分比率が69%となるAl2
O3 粉末を含有するペーストを作製する。ここで、固形
分比率が69%となるAl2 O3 粉末を含有するペース
トは、特許請求の範囲に記載された「ガラスセラミック
スよりも焼結温度の高い無機成分を主として含有するペ
ースト」に相当する。
部2にAl2 O3 粉末を含有するペーストをスクリーン
印刷法等により充填し、乾燥させ、図3に示すように、
充填層3を形成する。 予め、Al2 O3 粉末に有機溶媒、アクリルバイン
ダ、可塑剤、分散剤を添加し、ボールミルにて混合して
スラリーとし、このスラリーを用いてドクターブレード
法によりAl2 O3 グリーンシートを形成しておき、図
1に示すように、グリーンシート積層体1の上下両面に
Al2 O3 グリーンシート4および5を配置する。ここ
で、Al2 O3 グリーンシート4および5は、特許請求
の範囲に記載された「ガラスセラミックスよりも焼結温
度の高い無機成分を主として含有する成形体」に相当す
る。
層体1の上下両面にAl2 O3 グリーンシート4および
5を配置した後、グリーンシート積層体1の上下面に5
kg/cm2 の圧力を負荷しながらグリーンシート積層
体1、充填層3、ならびにAl2 O3 グリーンシート4
および5を電気式連続ベルト炉を使用して、空気中で9
00℃、20分の保持条件で焼成する。なお、導体ペー
ストがCuの場合は還元または中性雰囲気で焼成する。
キャビティ部および表面のAl2 O 3 粉末をガラスビー
ズのブラスト処理等により除去する。第1実施例におい
ては、ガラスセラミックスのグリーンシート積層体1の
キャビティ部2の内部に難焼結性のAl2 O3 粉末を主
として含有するペーストを充填し乾燥させ充填層3を形
成する工程と、グリーンシート積層体1の上下両面に難
焼結性のAl2 O3 粉末を主として含有するAl2 O3
グリーンシート4および5を配置する工程と、グリーン
シート積層体1の上下両面にAl2 O3 グリーンシート
4および5を配置した後、グリーンシート積層体1の上
下面に圧力を負荷しながら焼成を行なう工程とを含んで
いる。このため、キャビティ部2の内部に充填するAl
2 O3 粉末を含有するペーストの固形分比率をコントロ
ールすることにより、焼成時にキャビティ部を含むガラ
スセラミックス積層体の全面において、均一な加圧力の
負荷が可能となる。したがって、均一な焼結反応が進行
し、Al2 O3 粉末除去後のキャビティ部周辺の変形、
割れを抑制することができ、キャビティ部底部は十分に
平坦となり、焼結時の水平方向の収縮を抑制することが
でき、良好な回路基板を得ることができる。さらに、簡
便な工程により寸法精度のよい回路基板を製造すること
ができるので、製造工数を低減し、生産性を向上するこ
とができる。
ティ部2が一段である場合を示したが、何らこれに限定
されるものではなく、変形例では、図4に示すように、
キャビティ部2が複数段形成されている場合であって
も、第1実施例と同様に焼結させることができる。図4
には、第1実施例と実質的に同一構成部分に同一符号を
付す。ここで、キャビティ部2の寸法はL2 =7mmの
7×7mm角、およびL3 =5mmの5×5mm角であ
り、グリーンシート積層体1は30個の二段のキャビテ
ィ部2を有している。
ガラスセラミックス多層基板の製造方法について説明す
る。第2実施例では、第1実施例と同一構成のCaO−
Al2 O3 −SiO2 系ガラスを用いたガラスセラミッ
クス多層基板に本発明を適用し、第1実施例のの工程
で作製した固形分比率が69%となるAl2 O3 粉末を
含有するペーストには、平均粒径が約1.0μmのAl
2 O3 粉末を用いた。その他の工程は、第1実施例の
〜の工程、および第1実施例の〜の工程と同様で
ある。
クス積層体のキャビティ部のAl2O3 粉末をガラスビ
ーズのブラスト処理により除去する工程において、第1
実施例と同一のブラスト条件で、第1実施例の1/2倍
以下の時間で処理することができる。第2実施例におい
ては、ガラスセラミックスのグリーンシート積層体のキ
ャビティ部内部に充填する難焼結性のAl2 O3 粉末の
粒径がガラスセラミックスの原料粉末の平均粒径の1/
10以上の大きさである。このため、焼成後、キャビテ
ィ部に充填されているAl2 O3 粉末は、微細なガラス
粉末を用いる一般のショットブラスト処理により、簡便
に短時間で除去可能である。したがって、寸法精度のよ
い回路基板をさらに簡便に短時間で製造することができ
るので、製造工数をさらに低減し、生産性をさらに向上
することができる。
ス多層基板の製造方法を図5を用いて説明する。第1実
施例と実質的に同一構成部分には同一符号を付す。第1
実施例で用いたのと同一のCaO−Al2 O3 −SiO
2 系ガラスを用いたガラスセラミックスのグリーンシー
ト1aによりキャビティ部2を有するグリーンシート積
層体1を作製した。グリーンシート積層体1の上下面に
は、難焼結性のAl2 O3 粉末を主として含有するAl
2 O3 グリーンシート4および5を配置し、キャビティ
部2に難焼結性のAl2 O3 粉末を主として含有するペ
ーストを充填することなく、後は第1実施例と同一の焼
成方法、条件で焼成した後、第1実施例と同一の方法で
表面のAl2 O3 粉末を除去した。その結果得られたガ
ラスセラミックスの焼結体は、キャビティ部底部に割れ
が生じており、実用不可能な焼結体となっていた。
ミックス多層基板の製造方法によれば、ガラスセラミッ
クスのグリーンシート積層体のキャビティ部内部に難焼
結性無機成分を主として含有するペーストを充填する工
程と、グリーンシート積層体の上下両面に難焼結性無機
成分を主として含有する成形体を配置する工程と、グリ
ーンシート積層体の上下両面にこの成形体を配置した
後、グリーンシート積層体の上下面に圧力を負荷しなが
ら焼成を行なう工程とを含んでいる。このため、ペース
トの固形分比率をコントロールすることにより、焼成時
にキャビティ部を含むガラスセラミックス積層体の全面
において、均一な加圧力の負荷が可能となり、キャビテ
ィ部底部の平坦性、ならびにキャビティ部周辺の変形お
よび割れを抑制し、焼結中の水平方向の収縮を抑制する
ことができるので、緻密に焼結させることができる。し
たがって、焼結状態および形状の安定したキャビティ部
を有する良好な回路基板を得ることができる。さらに、
簡便な工程により寸法精度のよい回路基板を製造するこ
とができるので、製造工数を低減し、生産性を向上する
ことができる。さらにまた、キャビティ部内部に充填す
る難焼結性無機成分を主として含有するペーストの難焼
結性無機粉末の粒径をガラスセラミックスの原料粉末の
平均粒径の1/10以上の大きさとすることにより、焼
成後、キャビティ部に充填されている難焼結性無機粉末
は、微細なガラス粉末を用いる一般のショットブラスト
処理により、簡便に短時間で除去可能である。したがっ
て、寸法精度のよい回路基板をさらに簡便に短時間で製
造することができるので、製造工数をさらに低減し、生
産性をさらに向上することができる。
多層基板の製造方法を説明するための模式的断面図であ
る。
多層基板の製造方法を説明するための模式的断面図であ
る。
多層基板の製造方法を説明するための模式的断面図であ
る。
基板の製造方法を説明するための模式的断面図である。
造方法を説明するための模式的断面図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 ガラスセラミックスのグリーンシートを
積層して低温焼成工程によって製造されるキャビティ部
を有するガラスセラミックス多層基板を製造する方法で
あって、 前記ガラスセラミックスのグリーンシート積層体のキャ
ビティ部内部に前記ガラスセラミックスよりも焼結温度
の高い無機成分を主として含有するペーストを充填する
工程と、 前記グリーンシート積層体の上下両面に前記ガラスセラ
ミックスよりも焼結温度の高い無機成分を主として含有
する成形体を配置する工程と、 前記グリーンシート積層体の上下両面に前記成形体を配
置した後、前記グリーンシート積層体の上下面に圧力を
負荷しながら焼成を行なう工程と、 を含むことを特徴とするガラスセラミックス多層基板の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33851597A JP4059406B2 (ja) | 1997-12-09 | 1997-12-09 | ガラスセラミックス多層基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33851597A JP4059406B2 (ja) | 1997-12-09 | 1997-12-09 | ガラスセラミックス多層基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11177238A true JPH11177238A (ja) | 1999-07-02 |
JP4059406B2 JP4059406B2 (ja) | 2008-03-12 |
Family
ID=18318895
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33851597A Expired - Lifetime JP4059406B2 (ja) | 1997-12-09 | 1997-12-09 | ガラスセラミックス多層基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4059406B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2359780A (en) * | 2000-02-21 | 2001-09-05 | Murata Manufacturing Co | Manufacturing multilayer ceramic devices |
JP2002121078A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-23 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | 焼結体の製造方法 |
JP2003008217A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-10 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | キャビティ付きの低温焼成セラミック基板の製造方法 |
JP2003192456A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-09 | Kyocera Corp | ガラスセラミック基板の製造方法 |
US6673180B2 (en) | 2001-03-28 | 2004-01-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayered ceramic substrate production method |
US6811635B2 (en) | 2000-09-07 | 2004-11-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic substrate, method for manufacturing the same, and electronic device |
JP2009141366A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Samsung Electro Mech Co Ltd | セラミック積層基板の製造方法及びその製造方法によって製造されたセラミック積層基板 |
JP2010272751A (ja) * | 2009-05-22 | 2010-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | セラミック構造体の製造方法 |
CN113727528A (zh) * | 2021-09-03 | 2021-11-30 | 中国振华集团云科电子有限公司 | 一种薄壁连襟多级台阶腔体htcc电路板及其制备方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3761506A4 (en) * | 2018-03-02 | 2021-12-01 | Kyocera Corporation | COMPOSITE SUBSTRATE AND PIEZOELECTRIC ELEMENT |
-
1997
- 1997-12-09 JP JP33851597A patent/JP4059406B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2359780A (en) * | 2000-02-21 | 2001-09-05 | Murata Manufacturing Co | Manufacturing multilayer ceramic devices |
GB2359780B (en) * | 2000-02-21 | 2002-02-27 | Murata Manufacturing Co | Manufacturing method for multilayer ceramic device |
US6811635B2 (en) | 2000-09-07 | 2004-11-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic substrate, method for manufacturing the same, and electronic device |
JP2002121078A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-23 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | 焼結体の製造方法 |
US6673180B2 (en) | 2001-03-28 | 2004-01-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayered ceramic substrate production method |
JP2003008217A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-10 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | キャビティ付きの低温焼成セラミック基板の製造方法 |
JP2003192456A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-09 | Kyocera Corp | ガラスセラミック基板の製造方法 |
JP2009141366A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Samsung Electro Mech Co Ltd | セラミック積層基板の製造方法及びその製造方法によって製造されたセラミック積層基板 |
JP2010272751A (ja) * | 2009-05-22 | 2010-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | セラミック構造体の製造方法 |
CN113727528A (zh) * | 2021-09-03 | 2021-11-30 | 中国振华集团云科电子有限公司 | 一种薄壁连襟多级台阶腔体htcc电路板及其制备方法 |
CN113727528B (zh) * | 2021-09-03 | 2022-10-25 | 中国振华集团云科电子有限公司 | 一种薄壁连襟多级台阶腔体htcc电路板及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4059406B2 (ja) | 2008-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100200902B1 (ko) | 다층세라믹 소결체 및 그 제조방법 | |
KR100862537B1 (ko) | 세라믹 기판의 제조방법 및 비소성 세라믹 기판 | |
JP2001358247A (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
US5876536A (en) | Method for the reduction of lateral shrinkage in multilayer circuit boards on a substrate | |
JP4059406B2 (ja) | ガラスセラミックス多層基板の製造方法 | |
JP2973820B2 (ja) | セラミックス基板の製造方法 | |
JP3797008B2 (ja) | ガラスセラミックス多層基板の製造方法 | |
JP3089973B2 (ja) | ガラスセラミックス積層体の焼結方法 | |
JP2001185824A (ja) | セラミック配線基板及びその製造方法 | |
JP3275326B2 (ja) | 多層セラミック焼結体の製造方法 | |
JP4619026B2 (ja) | ガラスセラミック基板およびその製造方法 | |
JPS62206861A (ja) | セラミツクス多層回路板及び半導体実装構造 | |
JP4595199B2 (ja) | 多層セラミック基板の製造方法 | |
JP2001085839A (ja) | 多層セラミック基板の製造方法 | |
JPH1084056A (ja) | セラミック基板の製造方法 | |
US6709749B1 (en) | Method for the reduction of lateral shrinkage in multilayer circuit boards on a substrate | |
JP4308791B2 (ja) | ガラスセラミック基板の製造方法および電子部品実装基板の製造方法 | |
JP4028810B2 (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
JP4089356B2 (ja) | 多層セラミック基板の製造方法 | |
JPH11233674A (ja) | セラミックス基板の製造方法 | |
JP2002050869A (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
JP2001072473A (ja) | セラミック基板の製造方法 | |
JPH05163072A (ja) | 多層セラミック焼結体の製造方法 | |
JP2001342073A (ja) | ガラスセラミック基板の製造方法 | |
JP3872440B2 (ja) | ガラスセラミック回路基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20031224 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040316 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040629 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040810 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041012 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041105 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20041122 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20041217 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071214 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111228 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111228 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121228 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131228 Year of fee payment: 6 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |