JPH11174217A - 回折光学素子及びその製造方法 - Google Patents
回折光学素子及びその製造方法Info
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- JPH11174217A JPH11174217A JP9363411A JP36341197A JPH11174217A JP H11174217 A JPH11174217 A JP H11174217A JP 9363411 A JP9363411 A JP 9363411A JP 36341197 A JP36341197 A JP 36341197A JP H11174217 A JPH11174217 A JP H11174217A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 回折効率を向上させて紫外線等の短波長光線
に適用可能な光学的性能を有する回折光学素子を得る。 【解決手段】 予め石英基板２の表面上に、スパッタリ
ング蒸着法を用いてアルミナ薄膜３と石英薄膜４を、交
互に約６２ｎｍずつ計約０．４３μｍの厚みに成膜す
る。λ＝３６５ｎｍのｉ線用のステッパを使用して、ク
ロムマスクのパターンをＢＯ基板上のフォトレジストに
縮小焼付けし、現像したレジストパターンをエッチング
マスクとして、ドライエッチング（ＲＩＥ）法を用いて
石英基板２上の蒸着膜をエッチング加工して、ＢＯレン
ズ１を作成する。
に適用可能な光学的性能を有する回折光学素子を得る。 【解決手段】 予め石英基板２の表面上に、スパッタリ
ング蒸着法を用いてアルミナ薄膜３と石英薄膜４を、交
互に約６２ｎｍずつ計約０．４３μｍの厚みに成膜す
る。λ＝３６５ｎｍのｉ線用のステッパを使用して、ク
ロムマスクのパターンをＢＯ基板上のフォトレジストに
縮小焼付けし、現像したレジストパターンをエッチング
マスクとして、ドライエッチング（ＲＩＥ）法を用いて
石英基板２上の蒸着膜をエッチング加工して、ＢＯレン
ズ１を作成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置、撮影装
置、照明装置等に組み込まれ光学系のレンズとして使用
する回折光学素子及びその製造方法に関するものであ
る。
置、照明装置等に組み込まれ光学系のレンズとして使用
する回折光学素子及びその製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来から、回折格子は分光器の分光素子
として使用されており、その格子断面形状は鋸歯状で所
謂ブレーズドタイプと呼ばれ、回折効率は１００％に達
するものもある。一方、近年回折を利用した光学素子と
して、階段状の格子断面形状を有するバイナリオプティ
ックス（Bionary Optics :ＢＯ）素子が注目されてい
る。所定周期の輪帯状格子が形成されたＢＯ素子はＢＯ
レンズとも呼ばれ、色消し効果や非球面効果が見込まれ
るために、新しい光学系への発展に大きな期待が持たれ
ている。
として使用されており、その格子断面形状は鋸歯状で所
謂ブレーズドタイプと呼ばれ、回折効率は１００％に達
するものもある。一方、近年回折を利用した光学素子と
して、階段状の格子断面形状を有するバイナリオプティ
ックス（Bionary Optics :ＢＯ）素子が注目されてい
る。所定周期の輪帯状格子が形成されたＢＯ素子はＢＯ
レンズとも呼ばれ、色消し効果や非球面効果が見込まれ
るために、新しい光学系への発展に大きな期待が持たれ
ている。
【０００３】ＢＯレンズへの要求仕様は、ブレーズドタ
イプの現在の切削加工限界を大幅に越えているために、
半導体の加工法であるリソグラフィ法によって、高精度
の微細加工が或る程度可能とされている。一般のスチー
ルカメラなどの写真撮影のためのレンズ光学系にＢＯレ
ンズを適用する場合には、金属の型材を用いた型加工に
よるプラスチック及び硝子のモールド法で製造が可能で
あるが、紫外線等の波長の短い光線に適用するために
は、更により微細な加工精度及び高寸法精度が要求され
る。
イプの現在の切削加工限界を大幅に越えているために、
半導体の加工法であるリソグラフィ法によって、高精度
の微細加工が或る程度可能とされている。一般のスチー
ルカメラなどの写真撮影のためのレンズ光学系にＢＯレ
ンズを適用する場合には、金属の型材を用いた型加工に
よるプラスチック及び硝子のモールド法で製造が可能で
あるが、紫外線等の波長の短い光線に適用するために
は、更により微細な加工精度及び高寸法精度が要求され
る。
【０００４】このために、紫外線及び遠紫外線に適用可
能なＢＯレンズは、半導体製造用の紫外線を用いたホト
リソグラフィ技術及びドライエッチング加工技術等によ
り作成している。例えば、ＢＯレンズの基板には石英、
焼付けにはｉ線用ステッパ、ドライエッチングには平行
平板型のＲＩＥ装置を使用して、ホトリソグラフィ技術
により４段及び８段のＢＯレンズを作成した場合には、
この加工したＢＯレンズの輪帯は高周波域では若干回折
効率が低下するが、平均で８４％の回折効率を示してい
る。更に、この回折効率を上げるために、ＢＯ素子の裏
面に反射防止膜（増透膜）を設置することによって、回
折効率を平均８％向上させることができる。
能なＢＯレンズは、半導体製造用の紫外線を用いたホト
リソグラフィ技術及びドライエッチング加工技術等によ
り作成している。例えば、ＢＯレンズの基板には石英、
焼付けにはｉ線用ステッパ、ドライエッチングには平行
平板型のＲＩＥ装置を使用して、ホトリソグラフィ技術
により４段及び８段のＢＯレンズを作成した場合には、
この加工したＢＯレンズの輪帯は高周波域では若干回折
効率が低下するが、平均で８４％の回折効率を示してい
る。更に、この回折効率を上げるために、ＢＯ素子の裏
面に反射防止膜（増透膜）を設置することによって、回
折効率を平均８％向上させることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の従
来例において、より回折効率の向上を目的として、ＢＯ
素子の表面にも反射防止膜を設置すると、回折効率は光
軸近傍であり、階段状周期構造（回折要素）のピッチの
長い領域（低周波域）では多少の向上が見られるが、各
ＢＯ素子単位の壁面に反射防止膜材が覆い被さるため
に、素子周辺であり、階段状周期構造のピッチの短い領
域（高周波域）では逆に回折効率が低下するという問題
が生ずる。
来例において、より回折効率の向上を目的として、ＢＯ
素子の表面にも反射防止膜を設置すると、回折効率は光
軸近傍であり、階段状周期構造（回折要素）のピッチの
長い領域（低周波域）では多少の向上が見られるが、各
ＢＯ素子単位の壁面に反射防止膜材が覆い被さるため
に、素子周辺であり、階段状周期構造のピッチの短い領
域（高周波域）では逆に回折効率が低下するという問題
が生ずる。
【０００６】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
回折効率を向上させて紫外線等の短波長光線に適用可能
な光学的性能を有する回折光学素子を提供することにあ
る。
回折効率を向上させて紫外線等の短波長光線に適用可能
な光学的性能を有する回折光学素子を提供することにあ
る。
【０００７】本発明の他の目的は、上述の性能を有する
回折光学素子の製造方法を提供することにある。
回折光学素子の製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る回折光学素子は、基板に階段形状を形成
した回折光学素子において、前記階段形状を反射防止膜
により構成したことを特徴とする。
の本発明に係る回折光学素子は、基板に階段形状を形成
した回折光学素子において、前記階段形状を反射防止膜
により構成したことを特徴とする。
【０００９】本発明に係る回折光学素子は、基板上に反
射防止膜を形成し、該反射防止膜を所定の断面形状に加
工することによって回折作用を持たせたことを特徴とす
る。
射防止膜を形成し、該反射防止膜を所定の断面形状に加
工することによって回折作用を持たせたことを特徴とす
る。
【００１０】本発明に係る回折光学素子は、基板上に反
射防止膜を形成する際に、該反射防止膜を所定の断面形
状で形成し回折作用を持たせたことを特徴とする。本発
明に係る回折光学素子の製造方法は、基板上に反射防止
膜を形成する段階と、該反射防止膜を回折作用を有する
所定の断面形状に加工する段階とを有することを特徴と
する。
射防止膜を形成する際に、該反射防止膜を所定の断面形
状で形成し回折作用を持たせたことを特徴とする。本発
明に係る回折光学素子の製造方法は、基板上に反射防止
膜を形成する段階と、該反射防止膜を回折作用を有する
所定の断面形状に加工する段階とを有することを特徴と
する。
【００１１】本発明に係る回折光学素子の製造方法は、
基板上に反射防止膜を形成する際に、該反射防止膜を回
折作用を有する所定の断面形状に形成する工程を有する
ことを特徴とする。
基板上に反射防止膜を形成する際に、該反射防止膜を回
折作用を有する所定の断面形状に形成する工程を有する
ことを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明を図示の実施例に基づいて
詳細に説明する。図１は輪帯状に回折要素（格子）が形
成されたＢＯレンズの斜視図、図２は断面図、図３は一
部拡大断面図を示している。設計上、使用波長２４８ｎ
ｍのＫｒＦレーザー光用を想定して、回折要素単位であ
る輪帯の数は約１８００本とし、各輪帯がそれぞれ図３
に示すような８段の階段状のＢＯ構造を有し、全体とし
て直径２０ｍｍの円形のＢＯレンズ１を構成している。
最外殻の輪帯は設計値で各段の幅が０．３５μｍ、高さ
は０．０６２μｍから成り、回折要素単位としては輪帯
の幅は２．８μｍ、高さは０．４３４μｍである。
詳細に説明する。図１は輪帯状に回折要素（格子）が形
成されたＢＯレンズの斜視図、図２は断面図、図３は一
部拡大断面図を示している。設計上、使用波長２４８ｎ
ｍのＫｒＦレーザー光用を想定して、回折要素単位であ
る輪帯の数は約１８００本とし、各輪帯がそれぞれ図３
に示すような８段の階段状のＢＯ構造を有し、全体とし
て直径２０ｍｍの円形のＢＯレンズ１を構成している。
最外殻の輪帯は設計値で各段の幅が０．３５μｍ、高さ
は０．０６２μｍから成り、回折要素単位としては輪帯
の幅は２．８μｍ、高さは０．４３４μｍである。
【００１３】図４は第１の実施例のＢＯレンズを製造す
る前の基板の断面図を示している。本実施例ではＢＯ構
造（階段構造）自体に反射防止機能を持たせるために、
石英基板２上にアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）から成る薄膜３
と石英（ＳｉＯ2 ）から成る薄膜４を階段状に交互に積
層して成膜し、反射防止膜を形成している。
る前の基板の断面図を示している。本実施例ではＢＯ構
造（階段構造）自体に反射防止機能を持たせるために、
石英基板２上にアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）から成る薄膜３
と石英（ＳｉＯ2 ）から成る薄膜４を階段状に交互に積
層して成膜し、反射防止膜を形成している。
【００１４】次に、本実施例のＢＯレンズの製法につい
て説明する。先ず予め、石英基板２の表面上に、スパッ
タリング蒸着法を用いてアルミナ薄膜３と石英薄膜４
を、交互に約６２ｎｍずつ計約０．４３μｍの厚みに成
膜する。続いて、λ＝３６５ｎｍのｉ線用のステッパを
使用して、所定のクロムマスクのパターンをＢＯ基板上
のフォトレジストに縮小焼付けし現像したレジストパタ
ーンをエッチングマスクとして、ドライエッチング（Ｒ
ＩＥ）法を用いて石英基板２上の蒸着膜をエッチング加
工し、ＢＯレンズ１を作成する。
て説明する。先ず予め、石英基板２の表面上に、スパッ
タリング蒸着法を用いてアルミナ薄膜３と石英薄膜４
を、交互に約６２ｎｍずつ計約０．４３μｍの厚みに成
膜する。続いて、λ＝３６５ｎｍのｉ線用のステッパを
使用して、所定のクロムマスクのパターンをＢＯ基板上
のフォトレジストに縮小焼付けし現像したレジストパタ
ーンをエッチングマスクとして、ドライエッチング（Ｒ
ＩＥ）法を用いて石英基板２上の蒸着膜をエッチング加
工し、ＢＯレンズ１を作成する。
【００１５】図５は８段のＢＯレンズ１の断面図を示
し、３枚のマスク５、６、７を用いて上述の工程を３回
繰り返し、ＢＯ基板に８段の階段形状を形成する。この
ときのエッチングガスとしては、ＣＣｌ2 Ｆ2 、ＣＣｌ
4 、ＣＦ4 を主体としたガスが有効である。
し、３枚のマスク５、６、７を用いて上述の工程を３回
繰り返し、ＢＯ基板に８段の階段形状を形成する。この
ときのエッチングガスとしては、ＣＣｌ2 Ｆ2 、ＣＣｌ
4 、ＣＦ4 を主体としたガスが有効である。
【００１６】図６は回折効率のグラフ図を示し、理論値
をＡ、裏面に反射防止膜を施したものをＢ、反射防止膜
のないものをＣ、両面に反射防止膜を施したものをＤで
表している。回折効率を測定して比較検討したところ、
従来の方式で両面に反射防止膜を設置したものＤは、理
論値Ａに比べて特に径の大きい周辺領域、即ち高周波域
において値が低く、これは裏面のみに反射防止膜を設置
した結果Ｂだけでなく、反射防止膜を設置しないものＣ
に比べても劣っている。
をＡ、裏面に反射防止膜を施したものをＢ、反射防止膜
のないものをＣ、両面に反射防止膜を施したものをＤで
表している。回折効率を測定して比較検討したところ、
従来の方式で両面に反射防止膜を設置したものＤは、理
論値Ａに比べて特に径の大きい周辺領域、即ち高周波域
において値が低く、これは裏面のみに反射防止膜を設置
した結果Ｂだけでなく、反射防止膜を設置しないものＣ
に比べても劣っている。
【００１７】図７は反射防止膜を使用して作成したＢＯ
レンズ１の回折効率のグラフ図を示す。このＢＯレンズ
１は石英基板２上にアルミナ薄膜３と石英薄膜４を交互
に積層して８層の階段形状の反射防止膜を形成し、裏面
にも反射防止膜を形成してある。このように、階段形状
の表層膜自体を反射防止膜とすることにより、図７のＥ
に示すように特に高周波域（レンズ周辺領域）において
回折効率の落ち込みが減少し、平均して良好な特性の測
定値が得られる。
レンズ１の回折効率のグラフ図を示す。このＢＯレンズ
１は石英基板２上にアルミナ薄膜３と石英薄膜４を交互
に積層して８層の階段形状の反射防止膜を形成し、裏面
にも反射防止膜を形成してある。このように、階段形状
の表層膜自体を反射防止膜とすることにより、図７のＥ
に示すように特に高周波域（レンズ周辺領域）において
回折効率の落ち込みが減少し、平均して良好な特性の測
定値が得られる。
【００１８】また、第１の実施例では最初の工程で８層
の蒸着膜を成膜した後に、ホトリソグラフィ法とドライ
エッチング法を用いてＢＯレンズ１を形成したが、第１
の実施例の変形例として、エッチング法を使用せずに、
一種のリフトオフ法を適用して反射防止膜を積層するこ
とにより、ＢＯレンズ１を作成してもよい。
の蒸着膜を成膜した後に、ホトリソグラフィ法とドライ
エッチング法を用いてＢＯレンズ１を形成したが、第１
の実施例の変形例として、エッチング法を使用せずに、
一種のリフトオフ法を適用して反射防止膜を積層するこ
とにより、ＢＯレンズ１を作成してもよい。
【００１９】即ち、石英基板２上に第１層目としてアル
ミナ薄膜３を約６２ｎｍの厚みに成膜し、続いてｉ線用
レジストをスピンコートにより０．５μｍの厚さに塗工
する。規定のプリベーク工程、クロムマスク５を使用し
たステッパによるパターン露光、現像、リンス、ポスト
ベークの工程を経て、第２層目の石英薄膜４を約６２ｎ
ｍの厚みに成膜する。次に、リムーバ及びアセトン等で
レジストを除去して第１段目を形成する。同様に、第２
段目をクロムマスク５を使用して行い、アルミナ薄膜３
を６２ｎｍ形成する。更に、同様にしてクロムマスク６
を使用して最上段が石英薄膜４の８段ＢＯレンズ１を作
成する。
ミナ薄膜３を約６２ｎｍの厚みに成膜し、続いてｉ線用
レジストをスピンコートにより０．５μｍの厚さに塗工
する。規定のプリベーク工程、クロムマスク５を使用し
たステッパによるパターン露光、現像、リンス、ポスト
ベークの工程を経て、第２層目の石英薄膜４を約６２ｎ
ｍの厚みに成膜する。次に、リムーバ及びアセトン等で
レジストを除去して第１段目を形成する。同様に、第２
段目をクロムマスク５を使用して行い、アルミナ薄膜３
を６２ｎｍ形成する。更に、同様にしてクロムマスク６
を使用して最上段が石英薄膜４の８段ＢＯレンズ１を作
成する。
【００２０】図８は第２の実施例のＢＯレンズ１の断面
図を示し、第１の実施例の工程を簡略化するために、ア
ルミナ薄膜３と石英薄膜４の２層を１組として４段のＢ
Ｏレンズ１を作成する。３枚のマスク５、６、７を使用
することにより、工程が短縮され良好な仕上がりのＢＯ
レンズ１が得られる。
図を示し、第１の実施例の工程を簡略化するために、ア
ルミナ薄膜３と石英薄膜４の２層を１組として４段のＢ
Ｏレンズ１を作成する。３枚のマスク５、６、７を使用
することにより、工程が短縮され良好な仕上がりのＢＯ
レンズ１が得られる。
【００２１】また、第１の実施例の変形例の工程を簡略
化するために、アルミナ薄膜３と石英薄膜４の２層を１
組として４段のＢＯレンズ１を作成してもよい。３枚の
マスク５、６、７を使用することにより、工程が短縮さ
れ良好な仕上がりのＢＯレンズ１が得られる。
化するために、アルミナ薄膜３と石英薄膜４の２層を１
組として４段のＢＯレンズ１を作成してもよい。３枚の
マスク５、６、７を使用することにより、工程が短縮さ
れ良好な仕上がりのＢＯレンズ１が得られる。
【００２２】更に、第１の実施例においてＢＯ基板２と
して蛍石（ＣａＦ2 ）を使用し、石英薄膜３の代りに酸
化マグネシウム（ＭｇＯ）を使用し、アルミナ薄膜３の
代りに弗化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）を使用してもよ
い。第１の実施例と同様な工程を経て８段のＢＯレンズ
１を作成する。このＢＯレンズ１の回折効率の測定結果
は同様に高周波域まで良好な値を示している。
して蛍石（ＣａＦ2 ）を使用し、石英薄膜３の代りに酸
化マグネシウム（ＭｇＯ）を使用し、アルミナ薄膜３の
代りに弗化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）を使用してもよ
い。第１の実施例と同様な工程を経て８段のＢＯレンズ
１を作成する。このＢＯレンズ１の回折効率の測定結果
は同様に高周波域まで良好な値を示している。
【００２３】また、第２の実施例の変形例として、基板
２に蛍石を使用し、石英薄膜３の代りに酸化マグネシウ
ムを使用し、アルミナ薄膜３の代りに弗化マグネシウム
を使用してもよい。第２の実施例と同様の工程を経て４
段のＢＯレンズ１を作成する。このＢＯレンズ１の回折
効率は同様に良好な値を示している。
２に蛍石を使用し、石英薄膜３の代りに酸化マグネシウ
ムを使用し、アルミナ薄膜３の代りに弗化マグネシウム
を使用してもよい。第２の実施例と同様の工程を経て４
段のＢＯレンズ１を作成する。このＢＯレンズ１の回折
効率は同様に良好な値を示している。
【００２４】図９は露光装置の光学系の構成図を示す。
上からランプやレーザー等の光源１１、この光源１１か
らの光束で均一に照明するための照明光学系１２、この
照明光学系１２により照明されるレチクルＲ、レチクル
Ｒに形成された投影パターンを投影するための投影光学
系１３、この投影光学系１３により投影されるウエハＷ
が順次に配列されている。
上からランプやレーザー等の光源１１、この光源１１か
らの光束で均一に照明するための照明光学系１２、この
照明光学系１２により照明されるレチクルＲ、レチクル
Ｒに形成された投影パターンを投影するための投影光学
系１３、この投影光学系１３により投影されるウエハＷ
が順次に配列されている。
【００２５】この露光装置で使用するＢＯレンズは、第
１の実施例の工程を経て、ステッパの分割露光により８
段の直径２００ｍｍの大きさに作成される。このＢＯレ
ンズは高周波数領域での回折効率が優れた遠紫外用とす
ることができる。このＢＯレンズを照明光学系１２や撮
影光学系１３に組み込み、この光学系を露光装置に装着
することにより、ＫｒＦレーザー光用ステッパを使用し
たシリコン基板上への縮小焼付けと、一連の半導体製造
工程とを行う高性能の半導体製造装置を形成することが
できる。
１の実施例の工程を経て、ステッパの分割露光により８
段の直径２００ｍｍの大きさに作成される。このＢＯレ
ンズは高周波数領域での回折効率が優れた遠紫外用とす
ることができる。このＢＯレンズを照明光学系１２や撮
影光学系１３に組み込み、この光学系を露光装置に装着
することにより、ＫｒＦレーザー光用ステッパを使用し
たシリコン基板上への縮小焼付けと、一連の半導体製造
工程とを行う高性能の半導体製造装置を形成することが
できる。
【００２６】このように、高精度に製造されたＢＯレン
ズを露光装置の光学系に用いることにより、露光装置の
光学性能を全体として向上させることができ、この露光
装置を使って、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体素子、液晶素
子、ＣＣＤ等の撮像素子、磁気ヘッド等の磁気素子、そ
してＢＯＥ等の光学素子を精度良く製造することができ
る。
ズを露光装置の光学系に用いることにより、露光装置の
光学性能を全体として向上させることができ、この露光
装置を使って、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体素子、液晶素
子、ＣＣＤ等の撮像素子、磁気ヘッド等の磁気素子、そ
してＢＯＥ等の光学素子を精度良く製造することができ
る。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る回折光
学素子は、階段形状の表層膜自体を反射防止膜とするこ
とにより、高周波領域の回折効率を改善することがで
き、可視光、赤外線、紫外線領域のみならず遠紫外線、
真空紫外線領域に使用する素子の性能を向上することが
できる。
学素子は、階段形状の表層膜自体を反射防止膜とするこ
とにより、高周波領域の回折効率を改善することがで
き、可視光、赤外線、紫外線領域のみならず遠紫外線、
真空紫外線領域に使用する素子の性能を向上することが
できる。
【００２８】また、本発明に係る回折光学素子の製造方
法は、上述の性能を有する回折光学素子を効率良く製造
できる。
法は、上述の性能を有する回折光学素子を効率良く製造
できる。
【図１】ＢＯレンズの斜視図である。
【図２】断面図である。
【図３】８段ＢＯ素子の断面図である。
【図４】第１の実施例のＢＯ基板の断面図である。
【図５】３枚のマスクと８段ＢＯ素子の断面図である。
【図６】ＢＯレンズの回折効率のグラフ図である。
【図７】ＢＯレンズの回折効率のグラフ図である。
【図８】第２の実施例の４段ＢＯ素子の断面図である。
【図９】露光装置の光学系の構成図である。
１ ＢＯレンズ ２ 石英基板 ３ アルミナ薄膜 ４ 石英薄膜 ５、６、７、 クロムマスク １１ 光源 １２ 照明光学系 １３ 撮影光学系
Claims (11)
- 【請求項１】 基板に階段形状を形成した回折光学素子
において、前記階段形状を反射防止膜により構成したこ
とを特徴とする回折光学素子。 - 【請求項２】 前記反射防止膜は多層膜とした請求項１
に記載の回折光学素子。 - 【請求項３】 前記階段形状の表層膜は、２種類の屈折
率の異なる積層膜を１単位とした段差を有する反射防止
膜とした請求項１に記載の回折光学素子。 - 【請求項４】 請求項１〜３の何れかの請求項に記載の
回折光学素子により構成した光学系。 - 【請求項５】 請求項４に記載の光学系を有する露光焼
付装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載の露光焼付装置を組み込
んだ半導体製造装置。 - 【請求項７】 基板上に反射防止膜を形成し、該反射防
止膜を所定の断面形状に加工することによって回折作用
を持たせたことを特徴とする回折光学素子。 - 【請求項８】 基板上に反射防止膜を形成する際に、該
反射防止膜を所定の断面形状で形成し回折作用を持たせ
たことを特徴とする回折光学素子。 - 【請求項９】 請求項７又は８記載の回折光学素子を有
する光学系。 - 【請求項１０】 基板上に反射防止膜を形成する段階
と、該反射防止膜を回折作用を有する所定の断面形状に
加工する段階とを有することを特徴とする回折光学素子
の製造方法。 - 【請求項１１】 基板上に反射防止膜を形成する際に、
該反射防止膜を回折作用を有する所定の断面形状に形成
する工程を有することを特徴とする回折光学素子の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9363411A JPH11174217A (ja) | 1997-12-16 | 1997-12-16 | 回折光学素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9363411A JPH11174217A (ja) | 1997-12-16 | 1997-12-16 | 回折光学素子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11174217A true JPH11174217A (ja) | 1999-07-02 |
Family
ID=18479241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9363411A Pending JPH11174217A (ja) | 1997-12-16 | 1997-12-16 | 回折光学素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11174217A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107275194A (zh) * | 2017-06-29 | 2017-10-20 | 杭州士兰集成电路有限公司 | 阶梯结构的制造方法 |
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| KR20190019029A (ko) * | 2017-08-16 | 2019-02-26 | 루멘텀 오퍼레이션즈 엘엘씨 | 다중-레벨의 회절 광학 소자 박막 코팅 |
| CN111169056A (zh) * | 2018-11-12 | 2020-05-19 | 苏州维业达触控科技有限公司 | 一种防眩光扩散膜的制作方法 |
| US11543562B2 (en) | 2017-08-16 | 2023-01-03 | Lumentum Operations Llc | Multi-layer thin film stack for diffractive optical elements |
-
1997
- 1997-12-16 JP JP9363411A patent/JPH11174217A/ja active Pending
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| JP2022130387A (ja) * | 2017-08-16 | 2022-09-06 | ルーメンタム オペレーションズ エルエルシー | 多レベル回折光学素子の薄膜コーティング |
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| US11686890B2 (en) | 2017-08-16 | 2023-06-27 | Lumentum Operations Llc | Multi-level diffractive optical element thin film coating |
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