JPH11167350A

JPH11167350A - プラズマディスプレイパネル用前面フィルターおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH11167350A
Application number: JP9332786A
Authority: JP
Inventors: Tomomi Nakano; 智美中野
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1997-12-03
Filing date: 1997-12-03
Publication date: 1999-06-22

Abstract

(57)【要約】【課題】効率的・経済的に製造でき、かつ、近赤外線
カット性能、電磁波シールド性能、傷付き防止性能およ
び反射防止性能に優れた、ＰＤＰ用前面フィルターを提
供する。【解決手段】透明樹脂フィルムに、導電性物質を蒸着
し、近赤外線吸収剤塗工液、接着剤を順次コーティング
した透明積層フィルムの接着面と、片面に傷付き防止層
を有する透明樹脂基板の他方の面とを貼り合わせて得ら
れた基板の両面に、反射防止層を設けてなるＰＤＰ用前
面フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰ）用フィルターとして必要
な、近赤外線カット性能、電磁波シールド性能、傷付き
防止性能、反射防止性能を備えた、ＰＤＰ用前面フィル
ター及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＰＤＰは、管内に封入されているキセノ
ンガス分子を放電励起させて発生する紫外線により、管
内に塗布されている蛍光体が励起して、可視光領域の光
を発色しているが、キセノンガス分子の放電励起の際、
紫外線とともに近赤外線が発生し、その一部が管外へ放
出される。この近赤外線の波長は、リモートコントロー
ル装置あるいは光通信などで使用される近赤外線波長領
域に近いため、これらの機器や装置を誤作動させるおそ
れがある。

【０００３】さらに、ＰＤＰの駆動に伴い電磁波が発生
し、わずかに外部に漏洩するため、人体や周囲の機器に
悪影響を与えるおそれがある。また、ＰＤＰの表示面は
平面であるため、外光の反射による光が、ＰＤＰからの
発色光と同時に目に入り、画面が見にくくなる場合があ
る。前記の理由から、ＰＤＰの前面に、近赤外線の放出
防止、電磁波漏洩防止、外光の表面反射防止の機能を備
えた、ＰＤＰ用前面フィルターの要求がある。しかし従
来のＰＤＰ用前面フィルターの場合、例えば、近赤外線
カット性能を持たせる為に、近赤外線吸収剤を樹脂に溶
融混練した後、押出し成形して得られたフィルムを使用
したり、電磁波シールド性能を持たせる為に、合成樹脂
のメッシュ織物に高導電率の金属をメッキしたものを使
用したり、概して製造工程が多く煩雑であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、効率
的経済的に製造でき、かつ優れた近赤外線カット性能、
電磁波シールド性能、傷付き防止性能、反射防止性能を
備えたＰＤＰ用前面フィルターを提供する。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、透明樹脂フィ
ルム上に、電磁波遮断層、近赤外線遮断層および接着剤
層を設けた透明積層フィルムと、透明樹脂基板とを貼り
合わせて得られた基板の、両面に反射防止層を設けてな
る、プラズマディスプレイパネル用前面フィルターおよ
びその製造方法に関する。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のＰＤＰ用前面フィルターの製造方法の第一とし
ては、透明樹脂フィルムに導電性物質を蒸着する。透明
樹脂フィルムは、実質的に透明であって、吸収、散乱が
大きくない樹脂フィルムであればよく、特に制限はな
い。透明樹脂フィルムに使用される樹脂の具体的な例と
しては、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エス
テル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸
ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹
脂等をあげることができる。これらの中では、特に非晶
質のポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル樹
脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が
好ましく、非晶質ポリオレフィン系樹脂の中では環状ホ
リオレフィンが、ポリエステル系樹脂の中ではポリエチ
レンテレフタレートが特に好ましい。

【０００７】上記樹脂には、一般的に公知である添加
剤、例えばフェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロ
ゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸
収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができる。透
明樹脂フィルムは、上記樹脂を公知のＴダイ成形、カレ
ンダー成形、圧縮成形などの方法や、有機溶剤に溶解さ
せてキャスティングする方法等を用いて成形される。フ
ィルムの厚みとしては、目的に応じて、１０μｍ〜１ｍ
ｍの範囲が望ましい。該透明樹脂フィルムは、未延伸で
も延伸されていても良い。また、他のプラスチック基材
と積層されていても良い。

【０００８】更に該透明樹脂フィルムは、コロナ放電処
理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化
処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、
プライマー等のコーティングを片面あるいは両面に施し
ても良い。電磁波遮断層としては、導電性繊維のメッシ
ュを貼り合わせる方法が知られているが、この方法で
は、ディスプレイの前面にメッシュがあるため、画面の
視認性が悪くなるという問題点がある。本発明の電磁波
遮断層は、例えば導電性物質を蒸着して得られ、視認性
を悪化させるという問題点はない。

【０００９】透明樹脂フィルムに蒸着される導電性物質
は、ＰＤＰより放出される電磁波を遮蔽する目的で蒸着
され、金属、あるいは金属酸化物などが用いられるが、
４００〜７００ｎｍの可視光線領域を７０％以上透過
し、表面固有抵抗値が５０Ω／□以下であれば、いかな
るものであっても良い。好ましくは、酸化スズ、酸化イ
ンジウムスズ（以下ＩＴＯという。）、酸化アンチモン
スズ（以下ＡＴＯという。）等の金属酸化物、あるいは
金属酸化物と金属を交互に積層させる。金属酸化物と金
属の積層は、表面固有抵抗を低くできるので、より好ま
しい。金属酸化物としては、酸化スズ、ＩＴＯ、ＡＴＯ
であり、金属としては銀あるいは銀−パラジウム合金が
一般的であり、通常金属酸化物層より始まり３乃至１１
層程度積層する。

【００１０】導電性物質を蒸着する方法は、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学
蒸着法、プラズマ化学蒸着法等の通常の方法が採用でき
る。好ましくは、真空蒸着法、スパッタリング法であ
る。蒸着する際の真空度は、真空蒸着法で実施する場合
は、１×１０^-4Ｔｏｒｒ以下、スパッタリング法では１
×１０^-2以下にすることが好ましい。またスパッタリン
グ法で実施する場合、スパッタガスはアルゴンガスある
いは酸素・アルゴン混合ガスを使用する。導電物質の蒸
着の際、低抵抗化のため透明樹脂フィルムを加熱処理す
ることが好ましい。その条件は、用いる透明樹脂フィル
ムの材質により異なるが、熱変形開始温度よりも５乃至
１０℃低い温度を上限にする。

【００１１】導電性物質の膜厚は、要求される物性、用
途などにより異なるが、透明性から１０〜５００ｎｍ、
好ましくは５０〜３００ｎｍが好ましい。膜厚は膜の各
部分が均一であることが望ましい。また、導電性物質を
透明樹脂フィルムに蒸着した際の密着性を向上させるた
め、あらかじめ透明樹脂フィルムの被蒸着面にベースコ
ート剤をコーティングしておくことが望ましい。ベース
コート剤としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、
電子線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。好ま
しくは、熱硬化型樹脂が用いられる。熱硬化型樹脂とし
ては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート
樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエス
テル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、アミ
ノアルキッド樹脂、メラミン／尿素共縮合樹脂、珪素樹
脂、ポリシロキサン樹脂などが用いられ、必要に応じ
て、添加剤として架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合
促進剤、溶剤、粘度調整剤等を添加する。

【００１２】ベースコート剤には、後からコーテイング
する近赤外線吸収剤塗工液に含まれる近赤外線吸収剤の
耐光性を向上させる目的で、紫外線吸収剤を添加しても
良い。用いられる紫外線吸収剤としては、サリチル酸エ
ステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、
ヒドロキシベンゾエート系、シアノアクリレート系など
が挙げられる。また、特開平２−５８５７１号公報にあ
るような、紫外線吸収性能を有する化合物をエポキシ化
合物などの接着性成分と反応させた反応生成物と、イソ
シアネートあるいはアミノ樹脂の少なくとも一つの混合
物なども用いることができる。

【００１３】ベースコート剤は、透明樹脂基材上に公知
のグラビアコート、リバースロールコート、キスロール
コート等の方法でコーティングされる。層厚さは通常
０．５〜１０μｍで、厚みむらがなく表面平坦性が良好
であるものが好ましい。第二にこの導電性物質を蒸着し
た上に、近赤外線遮断層を設ける。本発明において、電
磁波遮断層と近赤外線遮断層の積層順序は任意である。
しかし、近赤外線遮断層の上に、前述の様に蒸着によっ
て電磁波遮断層を形成した場合に、蒸着時に被蒸着面が
高温になるため近赤外線吸収能が低下すること、或いは
比較的低電子量の近赤外線吸収剤を使用した場合、蒸着
時の真空下で被蒸着面の表面に析出するため均一に蒸着
できない、等の問題が起こることが考えられるため注意
が必要である。

【００１４】近赤外線遮断層は、例えば近赤外線吸収剤
塗工液をコーティングすることにより得られる。近赤外
線吸収剤塗工液は、近赤外線吸収剤を有機溶剤に分散あ
るいは溶解させてバインダー樹脂を添加したもの、また
は近赤外線吸収剤を例えば、ポリウレタンアクリレート
やエポキシアクリレート等の単官能または多官能アクリ
レートと、光重合開始剤および有機溶剤を含む、ハード
コート剤；イソシアネート系、ポリウレタン系、ポリエ
ステル系、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエン系ま
たはアルキルチタネート系などの、アンカーコート剤や
接着剤、等に添加したもので、該塗工液を電磁波遮断層
上にコーティングする。

【００１５】用いられる近赤外線吸収剤としては、有機
物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン
系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル
錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシア
ニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム
系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合
物、アントラキノン系化合物、またはアミノ化合物、ア
ミニウム塩系化合物、あるいは無機物であるカーボンブ
ラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、
周期表４Ａ、５Ａまたは６Ａ族に属する金属の酸化物、
もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。こ
れらのうち少なくとも２種類を用いる。さらに少なくと
も１種は、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合
物、あるいはアミニウム塩系化合物から選ばれる近赤外
線吸収剤を用いることが好ましい。より好ましくは、イ
モニウム系化合物、ジイモニウム系化合物及びアミニウ
ム塩系化合物以外の、上記近赤外線吸収剤より選ばれる
少なくとも１種を併用する。イモニウム系化合物、ジイ
モニウム系化合物としては、化１〜化４に示す骨格を有
する化合物が挙げられる。

【００１６】

【化１】

【００１７】

【化２】

【００１８】

【化３】

【００１９】

【化４】

【００２０】アミニウム塩化合物としては、化５で表さ
れる化合物が挙げれる。

【００２１】

【化５】

【００２２】式中のＸの具体例としては、６フッ化アン
チモン酸イオン、過塩素酸イオン、フッ化ホウ酸イオ
ン、６フッ化砒素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、トリフ
ルオロ酢酸イオン、塩素イオンなとが挙げられる。近赤
外線吸収剤塗工液は、バインダー樹脂、ハードコート
剤、アンカーコート剤または接着剤１００重量部に対し
て、近赤外線吸収剤を０．１〜６０重量部の割合で混合
し、有機溶剤等によりコーティングに適した固形分濃度
に調製される。固形分濃度は、好ましくは、５〜５０重
量％の濃度に調整される。

【００２３】近赤外線吸収剤塗工液は、フローコート、
スプレーコート、バーコート、グラビアコート、ロール
コート、リバースコート、ブレードコート、キスロール
コート、スピンコート及びエアーナイフコート等の公知
のコーティング法で電磁波遮断層の上に、コーテングさ
れる。好ましくは、グラビアコート、リバースコートで
ある。クラビアコートでは、グラビアロールの模様が残
らないよう、１８０メッシュ以上のグラビアロールを用
いることが好ましい。コーティング後、溶剤の乾燥を行
う。その条件としては、８０乃至１６０℃が好ましい。
乾燥温度が高すぎると、透明樹脂基材の変形や、近赤外
線吸収剤が熱分解するので好ましくない。

【００２４】ハードコート剤に近赤外線吸収剤を添加し
て塗工液とした場合は、コーティング、溶剤乾燥後、キ
セノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タング
ステンランプ等を用いて、架橋硬化する。乾燥後のコー
ティング厚みとしては、０．３〜５０μｍ、好ましくは
０．５〜１０μｍである。厚みは均一であることが望ま
しい。第３に近赤外線遮断層の上に、接着剤をコーティ
ングする。接着剤としては、イソシアネート系、ポリウ
レタン系、ポリエステル系、ポリエチレンイミン系、ポ
リブタジエン系、アルキルチタネート系等の接着剤や、
粘着剤が用いられる。接着剤は、フローコート、スプレ
ーコート、バーコート、グラビアコート、ロールコー
ト、リバースコート、ブレードコート、キスロールコー
ト、スピンコート及びエアーナイフコート等の公知のコ
ーティング法、あるいは、剥離紙上にコーティングした
後近赤外線吸収剤塗工液のコーティング面に貼り合わせ
転写することにより、コーティングされる。このときの
コーティング厚みとしては、０．５〜４０μｍである。

【００２５】接着剤には、近赤外線吸収剤の耐光性を向
上させるため、紫外線吸収剤を添加し、使用できる。添
加する紫外線吸収剤としては、サリチル酸エステル系、
ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒドロキシ
ベンゾエート系、シアノアクリレート系など、あるいは
特開平２−５８５７１号公報にあるような、紫外線吸収
性能を有する化合物をエポキシ化合物などの接着性成分
と反応させた反応生成物と、イソシアネートあるいはア
ミノ樹脂の少なくとも一つの混合物なども用いることが
できる。紫外線吸収剤の添加量は、０．３〜３０重量
％、好ましくは０．３〜１０重量％である。

【００２６】第４に接着剤面と、透明樹脂基板とを貼り
合わせる。透明樹脂基板とは、実質的に透明であって、
吸収、散乱が大きくない樹脂基板であればよく、特に制
限はない。用いる樹脂の具体的な例としては、ポリオレ
フィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート
系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアク
リレート樹脂、ボリエーテルサルホン樹脂等をあげるこ
とができる。これらの中では、特に非晶質のポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレ
ート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。

【００２７】上記透明樹脂基板用樹脂には、一般的に公
知である添加剤、例えばフェノール系、燐系などの酸化
防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止
剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合すること
ができる。透明樹脂基板は、公知の射出成形、Ｔダイ成
形、カレンダー成形、圧縮成形などの方法を用い、シー
ト（板）状に成形される。シート状の厚みとしては、目
的に応じて、１ｍｍ〜８ｍｍの範囲が望ましい。かかる
透明基板は、他のプラスチック基材と積層されていても
良い。

【００２８】更に該透明樹脂基板は、コロナ放電処理、
火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処
理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、プ
ライマー等のコーティングを片面あるいは両面に施して
も良い。該透明樹脂基板の片面は、傷付き防止のため傷
付き防止層が形成されていても良い。この場合、傷付き
防止層を形成した面の他方の面と、透明積層フィルムの
接着剤層とを貼り合わせる。傷付き防止層は、例えば、
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの単
官能あるいは多官能アクリレートと、光重合開始剤、及
び有機溶剤を主成分とするハードコート剤より形成され
る。また、耐摩耗性向上のため、コロイド状金属酸化
物、有機溶剤を分散媒としたシリカゾルを加えることも
できる。

【００２９】上記ハードコート剤の塗工液をディッピン
グ法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グ
ラビアコート、ロールコート、ブレードコート及びエア
ーナイフコート等の塗工方法で塗工し、溶剤乾燥、活性
エネルギー照射後、１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０
μｍの厚みにする。溶剤乾燥後、塗布したコート剤を架
橋硬化せしめるためには、キセノンランプ、低圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源か
ら発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２０００ｋｅ
Ｖの電子線加速器から取り出される電子線、α線、β
線、γ線等の活性エネルギー線を用いることができる。

【００３０】透明樹脂基板と、透明積層フィルムの接着
剤コーティング面とを貼り合わせる方法としては、圧
着、融着、熱圧着等が採用できる。好ましくは、熱圧着
が密着性、外観の点から採用される。熱圧着の場合、加
熱、及び加圧の条件は、選択される接着剤、透明樹脂フ
ィルム、及び透明樹脂基板により異なるが、好ましく
は、８０〜１３０℃、８０〜１５０ｋｇ／ｃｍ²の条件
で実施される。

【００３１】最後に前記で得られた貼り合わせ基板の両
面に反射防止層を形成する。基板の両面に反射防止層を
設けることにより、ディスプレイ前面に本発明のフィル
ターを設置した場合、ディスプレイ側の反射防止層は、
ディスプレイからの光の透過率を上げ、逆側（人の目の
近い方）の反射防止層は、蛍光灯などの外光の写り込み
を防ぐ効果があり、画像の視認性が向上する。反射防止
層は、比較的低屈折率である酸化ケイ素、酸化ジルコニ
ウム、酸化チタン、フッ化マグネシウム、フッ化カルシ
ウム、酸化アルミニウム、あるいは特開平２−１９８０
１に開示されているような非晶性含フッ素重合体から構
成される。形成方法としては、金属アルコキシドを塗布
後焼成する方法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法、ＣＶＤ法、あるいはロールコート
法、浸漬塗装法等が挙げられる。経済性、ハンドリング
の点より、非晶性含フッ素重合体をフッ素系溶剤に溶解
させた溶液を、浸漬塗装によりコーティングすることが
好ましい。

【００３２】例えば該非晶性含フッ素重合体は、パーフ
ルオロオクタン、ＣＦ₃（ＣＦ₂） _nＣＨ＝ＣＨ
₂（ｎ；５〜１１）、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_mＣＨ₂ＣＨ₃
（ｍ；５〜１１）などの特定のフッ素系溶剤に溶解さ
せ、その溶液を塗工液として、コーティングする。浸漬
塗装では、塗工液密度ρ（ｇ／ｃｍ³）、塗工液粘度μ
（ｐｏｉｓｅ）、塗工液表面張力σ（ｄｙｎｅ／ｃｍ）
の塗工液中より樹脂板をＶw （ｃｍ／ｓｅｃ）の一定速
度で引き上げた場合、理論コーティング膜厚ｈthは式１
のように表される。

【００３３】

【数１】ｈth＝０．９４４（μ・Ｖｗ／σ）^1/6・（μ・Ｖｗ／ρ・ｇ）^1/2 ・・式１

【００３４】コーティング膜厚は、１０〜１０００ｎ
ｍ、好ましくは２０〜５００ｎｍであるので、用いる塗
工液の密度、粘度、表面張力を測定し、式１を参照に引
き上げ速度を設定して行うことができる。本発明のＰＤ
Ｐ用前面フィルターの製造方法により得られたフィルタ
ーは、４００〜７００ｎｍの可視光線透過率が５０％以
上、８００〜１０００ｎｍの近赤外線透過率が１０％以
下、３０〜１００ＭＨｚの電磁波シールド性能が３０ｄ
Ｂ以上の性能を有し、ＰＤＰ用前面フィルターとして好
適なものである。

【００３５】

【実施例】次に、本発明の実施例について更に具体的に
説明するが、この説明が本発明を限定するものではな
い。〔実施例１〕ダイヤホイルヘキスト社製ＰＥＴフィルム
「Ｔ１００Ｅ」（厚み１００μｍ）に、大日本インキ社
製コーティング剤「ＳＦ−４０９」に旭電化社製ベンゾ
トリアゾール系紫外線吸収剤「アデカスタブ１４１３」
を２重量％添加し、膜厚５μｍのベースコート層をコー
ティングし、硬化させた。このベースコート層の上に、
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ膜を成膜し、電磁波シールド層
とした。この際、蒸着材料としてＩｎ₂Ｏ₃−ＳｎＯ₂
（５重量部）焼結体を用い、プラズマガン装置（中外炉
工業製）で、ベース真空度１×１０^-5Ｔｏｒｒ、成膜真
空度５×１０^-4Ｔｏｒｒ、Ａｒ流量３０ｓｃｃｍ、Ｏ₂
流量１００ｓｃｃｍ、成膜速度３ｎｍ／秒、ガン出力５
５Ｖ、１５０Ａ、の条件下で行った。

【００３６】次に三菱レーヨン社製ＰＭＭＡバインダー
「ダイヤナールＢＲ−８０」１００重量部に、日本化薬
社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２（ジイモニウム
系）」４重量部、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イーエ
クスカラーＩＲ−３（フタロシアニン系）」１重量部を
混合し、メチルエチルケトン溶剤で固形分量１０％に希
釈した塗工液を調整した。この塗工液を、電磁波シール
ド層の上にコーティング、乾燥を行い、膜厚５μｍの近
赤外線吸収層を得た。三菱エンプラ社製ポリカーボネー
ト樹脂「ユーピロンＳ−３０００」で成形した厚み４ｍ
ｍのシートの片面に、日本化薬社製「カラヤッドＤＰＨ
Ａ」の４０重量％メチルエチルケトン溶液１００重量部
に、ベンジルジメチルケタール０．２重量部を混合した
ハードコート剤塗工液を塗布し、乾燥後、出力７．５ｋ
ｗ、出力密度１２０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用い、光源
下１０ｃｍの位置でコンベアスピード２ｍ／分の条件で
紫外線を照射し硬化させ、ハードコート層を形成した。
もう一方の面と、ＰＥＴフィルムの近赤外線吸収層の面
を、東洋モートン社製ＢＬＳ−３０８２１００重量
部、硬化剤ＣＡＴ−ＲＴ３００．５重量部に、旭電化
社製ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤「アデカスタブ
１４１３」３重量％添加した接着剤で、貼り合わせ、積
層板を作成した。このときのプレス条件は、１００℃、
１００ｋｇ／ｃｍ²３０分であった。

【００３７】次に、パーフルオロ（ブテニルビニルエー
テル）を単独重合して得られた含フッ素脂肪族環構造を
有する重合体を、パーフルオロオクタンに１．５重量％
で溶解した溶液に、上記積層板を浸漬後、垂直に２００
ｍｍ／分の速度で引き上げ、１２０℃で１０分加熱する
ことにより、積層板の両面に膜厚１００ｎｍ反射防止層
を形成し、ＰＤＰ用前面フィルターを得た。このフィル
ターの４００〜７００ｎｍの可視光線透過率は平均５０
％、８００〜１０００ｎｍの近赤外線カット率は平均５
％、電磁波シールド性能は、５０ＭＨｚで４０ｄＢであ
った。ディスプレイの前面にこのフィルターを設置した
ところ、外光の写り込みが低減し、視認性が向上した。

【００３８】

【発明の効果】本発明は、近赤外線カット性能、電磁波
シールド性能、傷付き防止性能、反射防止性能を備えた
ＰＤＰ用前面フィルターを効率的かつ経済的に製造する
方法を提供する。また、本発明のプラズマディスプレイ
パネル用前面フィルターは、近赤外線カット性能、電磁
波シールド性能、傷付き防止性能、反射防止性能を備
え、近赤外線カット性能の耐光性、画像の視認性も良好
であるので、フィルターとして至適に使用される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０２Ｂ 1/10 Ｇ１２Ｂ 17/02 5/22 Ｈ０１Ｊ 11/02 ＺＧ１２Ｂ 17/02 17/16 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ 17/16 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＨ０５Ｋ 9/00 Ｚ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明樹脂フィルム上に、電磁波遮断層及
び近赤外線遮断層並びに接着剤層を設けた透明積層フィ
ルムと、透明樹脂基板とを貼り合わせて得られた基板
の、両面に反射防止層を設けてなる、プラズマディスプ
レイパネル用前面フィルター。
【請求項２】近赤外線遮断層が、イモニウム化合物、
ジイモニウム化合物およびアミニウム塩系化合物のうち
少なくとも１種の化合物を含有する、請求項１記載のプ
ラズマディスプレイパネル用前面フィルター。
【請求項３】接着剤層が、紫外線吸収剤を含む熱硬化
性樹脂からなる、請求項１記載のプラズマディスプレイ
パネル用前面フィルター。
【請求項４】透明樹脂フィルムと電磁波遮断層の間に
ベースコート層を有する、請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネル用前面フィルター。
【請求項５】透明樹脂基板と反射防止層との間に傷つ
き防止層を有する、請求項１記載のプラズマディスプレ
イパネル用前面フィルター。
【請求項６】透明樹脂フィルムに、電磁波遮断機能を
有する導電性物質の蒸着層、および近赤外線吸収剤塗工
液によるコーティング層を設け、更に接着剤をコーティ
ングした透明積層フィルムの接着剤面と、透明樹脂基板
とを貼り合わせて得られた基板の、両面に反射防止層を
設けてなる、請求項１記載のプラズマディスプレイパネ
ル用前面フィルター。
【請求項７】透明樹脂フィルムに、電磁波遮断機能を
有する導電性物質を蒸着し、次いで近赤外線吸収剤塗工
液、接着剤を順次コーティングした透明積層フィルムの
接着剤面と、透明樹脂基板とを貼り合わせて得られた基
板の、両面に反射防止層を設けてなる、プラズマディス
プレイパネル用前面フィルターの製造方法。
【請求項８】反射防止層を浸漬塗装により形成する、
請求項７記載のプラズマディスプレイパネル用前面フィ
ルターの製造方法。
【請求項９】透明樹脂フィルムにベースコート剤を塗
布した後で、導電性物質を蒸着する、請求項７記載のプ
ラズマディスプレイパネル用前面フィルターの製造方
法。