JPH11163236A - インラインキュア炉機構 - Google Patents

インラインキュア炉機構

Info

Publication number
JPH11163236A
JPH11163236A JP33221397A JP33221397A JPH11163236A JP H11163236 A JPH11163236 A JP H11163236A JP 33221397 A JP33221397 A JP 33221397A JP 33221397 A JP33221397 A JP 33221397A JP H11163236 A JPH11163236 A JP H11163236A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cure
frame
furnace
curing
inline
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP33221397A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3613954B2 (ja
Inventor
Daisuke Maruyama
大介 丸山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP33221397A priority Critical patent/JP3613954B2/ja
Publication of JPH11163236A publication Critical patent/JPH11163236A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3613954B2 publication Critical patent/JP3613954B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Furnace Details (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】熱硬化型の接着剤を用いたヒートシンクのボン
ディングおよびキュアの一貫処理装置における、インラ
インキュア炉機構に関する。フレームキュア終了後フレ
ームのキュア炉外への搬送時に生ずるフレーム表面の酸
化を防ぐこと。 【解決手段】インラインキュア炉にキュア後フレームを
キュアヒーターから離すため、キュア位置とフレーム搬
送位置とに切換えを行なう機構を持たせるとともに、キ
ュア後のフレームをフレーム搬送位置にて窒素ガスによ
る冷却ブローを行なうためのブロー管を取付けた。ま
た、キュア炉内の酸素濃度を正確に行うためキュア炉出
入口部にシャッター機構を設置した。 【効果】ヒートシンクボンディングのサイクルタイムを
落とすことなく、フレーム表面の酸化を防ぐキュア炉を
作る事ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱硬化型の接着剤を
用いたヒートシンクのボンディングおよびキュアの一貫
処理装置における、インラインキュア炉機構に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のヒートシンクボンディング装置の
インラインキュア炉機構においては、ヒートシンクのボ
ンディングの終了したフレームはキュア炉内にローディ
ングされキュアヒーター上でキュアが行なわれ、キュア
時間が終了するとキュア炉外にアンローディングされ
る。
【0003】キュア炉内はキュア時のフレーム表面の酸
化を防ぐため窒素ガスパージによりキュア炉内酸素濃度
管理が行われている。また、キュアヒーターは次のフレ
ームへのヒートシンクのボンディングが完了する前まで
に、キュア炉内のフレームのキュアが終了するように温
度設定および温度制御がなされている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のヒートシンクボ
ンディング装置のインラインキュア炉機構においては、
フレームキュア時にはキュア炉内への窒素ガスブローに
よりキュア炉内の酸素濃度管理がなされているためフレ
ーム表面の酸化は起こらないが、キュア終了後のフレー
ムは高温状態のままキュア炉外にアンローディングされ
るためキュア炉外で外気の酸素と反応しフレーム表面の
酸化が生じるという問題点があった。
【0005】そこで本発明は、キュア終了後のフレーム
がキュア炉外にアンローディングされた際にフレームの
表面酸化が起こるのを防止するインラインキュア炉機構
を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のインラインキュア炉機構は、キュア炉内にて
キュア終了後のフレームをキュアヒーター上から移動さ
せるためキュア炉内搬送レールを上下させる機構を有す
ることを特徴とする。
【0007】キュア炉において、キュアが終了しキュア
ヒーター上から移動したフレームに冷却用の窒素ガスを
吹き付けるためのブロー管を持つことを特徴とする。
【0008】冷却用のブローにおいて、純度99.99
9%以上で常温の窒素ガスを用いることを特徴とする。
【0009】インラインキュア炉のフレーム出入口にお
いて、開閉シャッター機構を設けフレームのキュア炉へ
の出し入れ時を除きシャッターを閉じる制御を行なうこ
とを特徴とする。
【0010】
【作用】上記のようにインラインキュア炉内にてフレー
ムをキュア終了後にキュアヒーター上から移動させるこ
とで、フレームに熱量が与えられなくなるとともに、キ
ュア炉内は高温ではあるもののキュア終了時のフレーム
温度に比べ十分温度は低いため、キュア炉内にあっても
フレーム温度を酸化反応温度以下にまで下げることがで
きる。
【0011】また、キュア終了後にキュアヒーターから
離された状態にあるフレームに窒素ガスを直接吹き付け
ることで冷却効果は向上しフレームの冷却待ち時間を大
幅に短縮するため、キュアのサイクルタイムをヒートシ
ンクのボンディングサイクルタイムにまで引き上げるこ
とができる。この時ブローする窒素ガスの温度は常温程
度にあってもキュアサイクルタイムはヒートシンクのボ
ンディングサイクルタイムを上回ることができるため、
ブロー用窒素ガスの温度制御の煩雑さを省きキュア炉内
のキュアヒーターの温度を降下させすぎないためにも、
ブロー用の窒素ガスは常温のまま使用する。
【0012】キュア炉のフレーム出入口に開閉シャッタ
ーを設置により、シャッターを閉じた状態ではキュア炉
内をほぼ閉空間にすることができるため、キュア炉内の
酸素濃度管理が正確に行なわれる様になり、キュア炉内
冷却中のフレームの酸化を防止することができる。ま
た、キュア炉内の酸素濃度制御がし易くなるとともにパ
ージ用の窒素ガスの消費量を低減できる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を図面を参
照にして説明を行う。
【0014】図1において、ヒートシンクボンディング
ステーション1でヒートシンク2の貼り付けが終了した
フレーム3は接着材の熱硬化を行なうため搬送アーム4
によりキュア炉5内のキュアヒーター6の直上まで搬送
される。キュア炉5内はパージ管7によりパージされた
窒素ガスで満たされており、酸素濃度を管理された状態
でフレーム3はキュアヒーター6によりキュアされる。
キュアの終了したフレーム3は直ちに搬送アーム4によ
りキュア炉5外に搬送されフレーム収納マガジン8に収
納される。
【0015】図2に示される実施例では、キュア炉5内
でのフレーム3の位置をキュアヒーター6直上であるキ
ュア位置とキュア炉5へのフレーム3の搬送を行なうた
めの搬送位置とに切り替えを行なう機構を有したインラ
インキュア炉機構である。キュア炉内搬送レール9はキ
ュア炉5の入口前までの搬送レール10とは分割されて
おり、位置切換シリンダー11によりキュア位置とフレ
ーム搬送位置に切換えられる。ヒートシンク2のボンデ
ィングの終了したフレーム3は搬送アーム4によりキュ
ア炉5内のフレーム搬送位置にあるキュア炉内搬送レー
ル9にローディングされ、位置決めピン12の挿入によ
りキュア炉5内でのフレーム位置を出された後キュア炉
内搬送レール9のキュア位置への移動に伴いキュアヒー
ター6上に降ろされる。キュア位置において、フレーム
3はヒートシンク押さえ棒13によりキュアヒーター6
に押付けられヒートシンク2の姿勢を固定された状態で
キュアヒーター6によりキュアが行われる。キュアが終
了するとフレーム3はキュア炉内搬送レール9の上昇に
よりキュアヒーター6から離され再びフレーム搬送位置
に戻される。フレーム搬送位置において、フレーム3は
フレーム温度がキュア後の高温状態から酸化反応を起こ
さなくなる温度以下になるまでアンローディングを待
つ。これによりキュア終了後のフレーム3は高温状態の
ままキュア炉5の外に出されることが無くなるため、フ
レーム3がキュア炉5外に出たときのフレーム表面の酸
化は起こらない。フレーム3は冷却終了後に位置決めピ
ン12が抜かれ、搬送アーム4による次のフレーム3の
キュア炉5へのローディング動作に合わせて、フレーム
収納マガジン8へとアンローディングされる。
【0016】図3に示される実施例では、フレーム搬送
位置においてキュア終了後のフレーム3に窒素ガスブロ
ーを行なうためブロー管14をキュア炉5内に取付けた
ものである。ブロー管14はキュア炉5内の酸素濃度管
理を行なうパージ用窒素ガスの管路とは別にフレーム3
の冷却を行なうためのブロー用窒素ガスの管路を有して
いる。キュアが終了したフレーム3はフレーム搬送位置
での冷却中にブロー管14のブロー用管路より冷却用の
窒素ガスをフレーム3に直接吹き付けられることにより
冷却が促進される。冷却用のブローはフレーム3のキュ
ア終了後にフレーム搬送位置に移動された時点から搬送
アーム4によるキュア炉5外へのアンローディング動作
が始まるまでの間行う。冷却用ブローの窒素ガスには、
純度が99.999%以上で常温のものを用いる。これ
により、キュア炉5内の酸素濃度を保ちながらフレーム
3の冷却時間を短縮し、キュアのサイクルタイムをヒー
トシンクボンディングのサイクルタイム以上に引き上げ
ることができる。
【0017】図4に示される実施例では、キュア炉5の
フレーム搬送入口およびフレーム搬送出口を塞ぐための
シャッター15を設けたものである。それぞれのシャッ
ター15は開閉用シリンダー16により個々に駆動さ
れ、フレーム3のキュア炉5へのローディングおよびア
ンローディングの時を除いてキュア炉5の出入口を塞ぐ
ように開閉動作の制御を行なう。シャッター15はキュ
ア炉5出入口の開口部全体を覆う形状とし、出入口のシ
ャッター15がともに閉じた状態においてはキュア炉5
内をほぼ閉空間とすることができる。シャッター15に
よりキュア炉5外の大気のキュア炉5内への流入を最小
限に押さえることができることから、フレーム3のキュ
ア中のキュア炉5内の酸素濃度をほとんどゼロに制御す
ることができるためフレーム搬送位置で冷却中のフレー
ム3がキュア炉5内での酸化を起こすことを防ぐことが
できる。
【0018】
【発明の効果】本発明は以上に説明したようなヒートシ
ンクボンディング装置におけるインラインキュア炉機構
により以下に記されるような効果をもたらす。
【0019】キュア炉にフレーム移動機構を構成したの
で、キュア炉内にあってもフレームを酸化反応温度以下
に冷却することができることとなり、従ってフレームを
キュア炉外へ出したときのフレーム表面の酸化を防ぐこ
とができるという効果が得られる。
【0020】キュア炉内にフレーム冷却用のブロー管を
取付けたことで、フレーム冷却時間が大幅に短縮するこ
とができ、これによりキュアのサイクルタイムをヒート
シンクボンディングのサイクルタイム以上に高めること
ができるため、装置全体のサイクルタイムを落とさずに
すむという効果が得られる。
【0021】また、キュア炉出入口部にシャッター機構
を設け、フレームの移動を鉛直方向に取ったことによ
り、キュア炉を容積自体の小さい閉空間とすることがで
きるため、キュア炉内の酸素濃度やキュアヒーター温度
の制御が行いやすくなるとともに用力の節約が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のヒートシンクボンディング装置のインラ
インキュア炉機構を示す縦断面図。
【図2】本発明におけるフレーム移動機構を設置したイ
ンラインキュア炉機構を示す縦断面図。
【図3】本発明におけるフレーム冷却用ブロー管を設置
したインラインキュア炉を示す縦断面図。
【図4】本発明におけるシャッター機構を設置したイン
ラインキュア炉を示す縦断面図。
【符号の説明】
1 ヒートシンクボンディングステーション 2 ヒートシンク 3 フレーム 4 搬送アーム 5 キュア炉 6 キュアヒーター 7 パージ管 8 フレーム収納マガジン 9 キュア炉内搬送レール 10 搬送レール 11 位置切換シリンダー 12 位置決めピン 13 ヒートシンク押さえ棒 14 ブロー管 15 シャッター 16 開閉用シリンダー

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ヒートシンクボンディング装置のインライ
    ンキュア炉において、キュア終了後の高温状態にあるフ
    レームをキュア炉内でキュアヒーターから離し、フレー
    ム温度を下げてからキュア炉からアンローディングする
    ことを特徴とするインラインキュア炉機構。
  2. 【請求項2】ヒートシンクボンディング装置のインライ
    ンキュア炉において、キュア終了後のキュアヒーターか
    ら離した状態で冷却用のブローを直接フレームに吹きか
    けるためのブロー管を取付けたことを特徴とするインラ
    インキュア炉機構。
  3. 【請求項3】インラインキュア炉内でのブローにおい
    て、純度99.999%以上で常温の窒素ガスを用いる
    ことを特徴とする請求項2に記載のインラインキュア炉
    機構。
  4. 【請求項4】ヒートシンクボンディング装置のインライ
    ンキュア炉の出入口において、キュア炉内と外気を遮断
    するためフレームのローディングおよびアンローディン
    グ時以外は閉状態とする開閉シャッター機構を設置する
    ことを特徴とするインラインキュア炉機構。
JP33221397A 1997-12-02 1997-12-02 キュア方法及びキュア炉 Expired - Fee Related JP3613954B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33221397A JP3613954B2 (ja) 1997-12-02 1997-12-02 キュア方法及びキュア炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33221397A JP3613954B2 (ja) 1997-12-02 1997-12-02 キュア方法及びキュア炉

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11163236A true JPH11163236A (ja) 1999-06-18
JP3613954B2 JP3613954B2 (ja) 2005-01-26

Family

ID=18252446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33221397A Expired - Fee Related JP3613954B2 (ja) 1997-12-02 1997-12-02 キュア方法及びキュア炉

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3613954B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100395128B1 (ko) * 2001-08-09 2003-08-21 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 Bga 패키지 제조용 프리-큐어 시스템 및 그 제어방법
JP2009287085A (ja) * 2008-05-29 2009-12-10 Ihi Corp 熱処理装置および熱処理方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100395128B1 (ko) * 2001-08-09 2003-08-21 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 Bga 패키지 제조용 프리-큐어 시스템 및 그 제어방법
JP2009287085A (ja) * 2008-05-29 2009-12-10 Ihi Corp 熱処理装置および熱処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3613954B2 (ja) 2005-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7797855B2 (en) Heating apparatus, and coating and developing apparatus
JP4854427B2 (ja) 基板移載装置,基板処理装置,基板移載用アーム
US7935188B2 (en) Vertical thermal processing apparatus and method of using the same
CN109290321A (zh) 装载埠的吹净装置及其吹净方法
JP5036172B2 (ja) 基板処理装置、基板処理方法および半導体装置の製造方法
JPH11163236A (ja) インラインキュア炉機構
KR20080071929A (ko) 가열 장치, 가열 방법 및 기억 매체
JPS634343B2 (ja)
JP4519036B2 (ja) 加熱装置、塗布、現像装置及び加熱方法
US11990347B2 (en) Method of manufacturing semiconductor device
WO2002051221A1 (fr) Dispositif de soudage par refusion et procede de soudage par refusion
JP2007198626A (ja) 焼成炉
TWI774560B (zh) 線材捲線用之裝載治具及使用其之線材捲線之熱處理方法
JPH118175A (ja) ベーキング装置
CN113903681A (zh) 加热装置、基片处理系统和加热方法
JPH0525642A (ja) 熱処理装置
JP2002270484A (ja) 冷却処理装置及び冷却処理方法
JPH0770495B2 (ja) 熱処理装置
JP2000040698A (ja) 基板熱処理方法およびその装置
KR101111376B1 (ko) 기판처리장치
JP2002057133A (ja) 基板処理装置
WO2001028304A1 (fr) Four de refusion
JP3632506B2 (ja) 半導体用熱処理装置及び半導体製造方法
KR102265285B1 (ko) 열처리 유닛, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP4561107B2 (ja) 加熱装置および加熱方法

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041012

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041025

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081112

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091112

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091112

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101112

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101112

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 7

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111112

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 7

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111112

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 8

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121112

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121112

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees