JPH11163236A - インラインキュア炉機構 - Google Patents
インラインキュア炉機構Info
- Publication number
- JPH11163236A JPH11163236A JP33221397A JP33221397A JPH11163236A JP H11163236 A JPH11163236 A JP H11163236A JP 33221397 A JP33221397 A JP 33221397A JP 33221397 A JP33221397 A JP 33221397A JP H11163236 A JPH11163236 A JP H11163236A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cure
- frame
- furnace
- curing
- inline
- Prior art date
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- Granted
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- Furnace Details (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】熱硬化型の接着剤を用いたヒートシンクのボン
ディングおよびキュアの一貫処理装置における、インラ
インキュア炉機構に関する。フレームキュア終了後フレ
ームのキュア炉外への搬送時に生ずるフレーム表面の酸
化を防ぐこと。 【解決手段】インラインキュア炉にキュア後フレームを
キュアヒーターから離すため、キュア位置とフレーム搬
送位置とに切換えを行なう機構を持たせるとともに、キ
ュア後のフレームをフレーム搬送位置にて窒素ガスによ
る冷却ブローを行なうためのブロー管を取付けた。ま
た、キュア炉内の酸素濃度を正確に行うためキュア炉出
入口部にシャッター機構を設置した。 【効果】ヒートシンクボンディングのサイクルタイムを
落とすことなく、フレーム表面の酸化を防ぐキュア炉を
作る事ができる。
ディングおよびキュアの一貫処理装置における、インラ
インキュア炉機構に関する。フレームキュア終了後フレ
ームのキュア炉外への搬送時に生ずるフレーム表面の酸
化を防ぐこと。 【解決手段】インラインキュア炉にキュア後フレームを
キュアヒーターから離すため、キュア位置とフレーム搬
送位置とに切換えを行なう機構を持たせるとともに、キ
ュア後のフレームをフレーム搬送位置にて窒素ガスによ
る冷却ブローを行なうためのブロー管を取付けた。ま
た、キュア炉内の酸素濃度を正確に行うためキュア炉出
入口部にシャッター機構を設置した。 【効果】ヒートシンクボンディングのサイクルタイムを
落とすことなく、フレーム表面の酸化を防ぐキュア炉を
作る事ができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は熱硬化型の接着剤を
用いたヒートシンクのボンディングおよびキュアの一貫
処理装置における、インラインキュア炉機構に関する。
用いたヒートシンクのボンディングおよびキュアの一貫
処理装置における、インラインキュア炉機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のヒートシンクボンディング装置の
インラインキュア炉機構においては、ヒートシンクのボ
ンディングの終了したフレームはキュア炉内にローディ
ングされキュアヒーター上でキュアが行なわれ、キュア
時間が終了するとキュア炉外にアンローディングされ
る。
インラインキュア炉機構においては、ヒートシンクのボ
ンディングの終了したフレームはキュア炉内にローディ
ングされキュアヒーター上でキュアが行なわれ、キュア
時間が終了するとキュア炉外にアンローディングされ
る。
【０００３】キュア炉内はキュア時のフレーム表面の酸
化を防ぐため窒素ガスパージによりキュア炉内酸素濃度
管理が行われている。また、キュアヒーターは次のフレ
ームへのヒートシンクのボンディングが完了する前まで
に、キュア炉内のフレームのキュアが終了するように温
度設定および温度制御がなされている。
化を防ぐため窒素ガスパージによりキュア炉内酸素濃度
管理が行われている。また、キュアヒーターは次のフレ
ームへのヒートシンクのボンディングが完了する前まで
に、キュア炉内のフレームのキュアが終了するように温
度設定および温度制御がなされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のヒートシンクボ
ンディング装置のインラインキュア炉機構においては、
フレームキュア時にはキュア炉内への窒素ガスブローに
よりキュア炉内の酸素濃度管理がなされているためフレ
ーム表面の酸化は起こらないが、キュア終了後のフレー
ムは高温状態のままキュア炉外にアンローディングされ
るためキュア炉外で外気の酸素と反応しフレーム表面の
酸化が生じるという問題点があった。
ンディング装置のインラインキュア炉機構においては、
フレームキュア時にはキュア炉内への窒素ガスブローに
よりキュア炉内の酸素濃度管理がなされているためフレ
ーム表面の酸化は起こらないが、キュア終了後のフレー
ムは高温状態のままキュア炉外にアンローディングされ
るためキュア炉外で外気の酸素と反応しフレーム表面の
酸化が生じるという問題点があった。
【０００５】そこで本発明は、キュア終了後のフレーム
がキュア炉外にアンローディングされた際にフレームの
表面酸化が起こるのを防止するインラインキュア炉機構
を提供することを目的とする。
がキュア炉外にアンローディングされた際にフレームの
表面酸化が起こるのを防止するインラインキュア炉機構
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のインラインキュア炉機構は、キュア炉内にて
キュア終了後のフレームをキュアヒーター上から移動さ
せるためキュア炉内搬送レールを上下させる機構を有す
ることを特徴とする。
に本発明のインラインキュア炉機構は、キュア炉内にて
キュア終了後のフレームをキュアヒーター上から移動さ
せるためキュア炉内搬送レールを上下させる機構を有す
ることを特徴とする。
【０００７】キュア炉において、キュアが終了しキュア
ヒーター上から移動したフレームに冷却用の窒素ガスを
吹き付けるためのブロー管を持つことを特徴とする。
ヒーター上から移動したフレームに冷却用の窒素ガスを
吹き付けるためのブロー管を持つことを特徴とする。
【０００８】冷却用のブローにおいて、純度９９.９９
９％以上で常温の窒素ガスを用いることを特徴とする。
９％以上で常温の窒素ガスを用いることを特徴とする。
【０００９】インラインキュア炉のフレーム出入口にお
いて、開閉シャッター機構を設けフレームのキュア炉へ
の出し入れ時を除きシャッターを閉じる制御を行なうこ
とを特徴とする。
いて、開閉シャッター機構を設けフレームのキュア炉へ
の出し入れ時を除きシャッターを閉じる制御を行なうこ
とを特徴とする。
【００１０】
【作用】上記のようにインラインキュア炉内にてフレー
ムをキュア終了後にキュアヒーター上から移動させるこ
とで、フレームに熱量が与えられなくなるとともに、キ
ュア炉内は高温ではあるもののキュア終了時のフレーム
温度に比べ十分温度は低いため、キュア炉内にあっても
フレーム温度を酸化反応温度以下にまで下げることがで
きる。
ムをキュア終了後にキュアヒーター上から移動させるこ
とで、フレームに熱量が与えられなくなるとともに、キ
ュア炉内は高温ではあるもののキュア終了時のフレーム
温度に比べ十分温度は低いため、キュア炉内にあっても
フレーム温度を酸化反応温度以下にまで下げることがで
きる。
【００１１】また、キュア終了後にキュアヒーターから
離された状態にあるフレームに窒素ガスを直接吹き付け
ることで冷却効果は向上しフレームの冷却待ち時間を大
幅に短縮するため、キュアのサイクルタイムをヒートシ
ンクのボンディングサイクルタイムにまで引き上げるこ
とができる。この時ブローする窒素ガスの温度は常温程
度にあってもキュアサイクルタイムはヒートシンクのボ
ンディングサイクルタイムを上回ることができるため、
ブロー用窒素ガスの温度制御の煩雑さを省きキュア炉内
のキュアヒーターの温度を降下させすぎないためにも、
ブロー用の窒素ガスは常温のまま使用する。
離された状態にあるフレームに窒素ガスを直接吹き付け
ることで冷却効果は向上しフレームの冷却待ち時間を大
幅に短縮するため、キュアのサイクルタイムをヒートシ
ンクのボンディングサイクルタイムにまで引き上げるこ
とができる。この時ブローする窒素ガスの温度は常温程
度にあってもキュアサイクルタイムはヒートシンクのボ
ンディングサイクルタイムを上回ることができるため、
ブロー用窒素ガスの温度制御の煩雑さを省きキュア炉内
のキュアヒーターの温度を降下させすぎないためにも、
ブロー用の窒素ガスは常温のまま使用する。
【００１２】キュア炉のフレーム出入口に開閉シャッタ
ーを設置により、シャッターを閉じた状態ではキュア炉
内をほぼ閉空間にすることができるため、キュア炉内の
酸素濃度管理が正確に行なわれる様になり、キュア炉内
冷却中のフレームの酸化を防止することができる。ま
た、キュア炉内の酸素濃度制御がし易くなるとともにパ
ージ用の窒素ガスの消費量を低減できる。
ーを設置により、シャッターを閉じた状態ではキュア炉
内をほぼ閉空間にすることができるため、キュア炉内の
酸素濃度管理が正確に行なわれる様になり、キュア炉内
冷却中のフレームの酸化を防止することができる。ま
た、キュア炉内の酸素濃度制御がし易くなるとともにパ
ージ用の窒素ガスの消費量を低減できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を図面を参
照にして説明を行う。
照にして説明を行う。
【００１４】図１において、ヒートシンクボンディング
ステーション１でヒートシンク２の貼り付けが終了した
フレーム３は接着材の熱硬化を行なうため搬送アーム４
によりキュア炉５内のキュアヒーター６の直上まで搬送
される。キュア炉５内はパージ管７によりパージされた
窒素ガスで満たされており、酸素濃度を管理された状態
でフレーム３はキュアヒーター６によりキュアされる。
キュアの終了したフレーム３は直ちに搬送アーム４によ
りキュア炉５外に搬送されフレーム収納マガジン８に収
納される。
ステーション１でヒートシンク２の貼り付けが終了した
フレーム３は接着材の熱硬化を行なうため搬送アーム４
によりキュア炉５内のキュアヒーター６の直上まで搬送
される。キュア炉５内はパージ管７によりパージされた
窒素ガスで満たされており、酸素濃度を管理された状態
でフレーム３はキュアヒーター６によりキュアされる。
キュアの終了したフレーム３は直ちに搬送アーム４によ
りキュア炉５外に搬送されフレーム収納マガジン８に収
納される。
【００１５】図２に示される実施例では、キュア炉５内
でのフレーム３の位置をキュアヒーター６直上であるキ
ュア位置とキュア炉５へのフレーム３の搬送を行なうた
めの搬送位置とに切り替えを行なう機構を有したインラ
インキュア炉機構である。キュア炉内搬送レール９はキ
ュア炉５の入口前までの搬送レール１０とは分割されて
おり、位置切換シリンダー１１によりキュア位置とフレ
ーム搬送位置に切換えられる。ヒートシンク２のボンデ
ィングの終了したフレーム３は搬送アーム４によりキュ
ア炉５内のフレーム搬送位置にあるキュア炉内搬送レー
ル９にローディングされ、位置決めピン１２の挿入によ
りキュア炉５内でのフレーム位置を出された後キュア炉
内搬送レール９のキュア位置への移動に伴いキュアヒー
ター６上に降ろされる。キュア位置において、フレーム
３はヒートシンク押さえ棒１３によりキュアヒーター６
に押付けられヒートシンク２の姿勢を固定された状態で
キュアヒーター６によりキュアが行われる。キュアが終
了するとフレーム３はキュア炉内搬送レール９の上昇に
よりキュアヒーター６から離され再びフレーム搬送位置
に戻される。フレーム搬送位置において、フレーム３は
フレーム温度がキュア後の高温状態から酸化反応を起こ
さなくなる温度以下になるまでアンローディングを待
つ。これによりキュア終了後のフレーム３は高温状態の
ままキュア炉５の外に出されることが無くなるため、フ
レーム３がキュア炉５外に出たときのフレーム表面の酸
化は起こらない。フレーム３は冷却終了後に位置決めピ
ン１２が抜かれ、搬送アーム４による次のフレーム３の
キュア炉５へのローディング動作に合わせて、フレーム
収納マガジン８へとアンローディングされる。
でのフレーム３の位置をキュアヒーター６直上であるキ
ュア位置とキュア炉５へのフレーム３の搬送を行なうた
めの搬送位置とに切り替えを行なう機構を有したインラ
インキュア炉機構である。キュア炉内搬送レール９はキ
ュア炉５の入口前までの搬送レール１０とは分割されて
おり、位置切換シリンダー１１によりキュア位置とフレ
ーム搬送位置に切換えられる。ヒートシンク２のボンデ
ィングの終了したフレーム３は搬送アーム４によりキュ
ア炉５内のフレーム搬送位置にあるキュア炉内搬送レー
ル９にローディングされ、位置決めピン１２の挿入によ
りキュア炉５内でのフレーム位置を出された後キュア炉
内搬送レール９のキュア位置への移動に伴いキュアヒー
ター６上に降ろされる。キュア位置において、フレーム
３はヒートシンク押さえ棒１３によりキュアヒーター６
に押付けられヒートシンク２の姿勢を固定された状態で
キュアヒーター６によりキュアが行われる。キュアが終
了するとフレーム３はキュア炉内搬送レール９の上昇に
よりキュアヒーター６から離され再びフレーム搬送位置
に戻される。フレーム搬送位置において、フレーム３は
フレーム温度がキュア後の高温状態から酸化反応を起こ
さなくなる温度以下になるまでアンローディングを待
つ。これによりキュア終了後のフレーム３は高温状態の
ままキュア炉５の外に出されることが無くなるため、フ
レーム３がキュア炉５外に出たときのフレーム表面の酸
化は起こらない。フレーム３は冷却終了後に位置決めピ
ン１２が抜かれ、搬送アーム４による次のフレーム３の
キュア炉５へのローディング動作に合わせて、フレーム
収納マガジン８へとアンローディングされる。
【００１６】図３に示される実施例では、フレーム搬送
位置においてキュア終了後のフレーム３に窒素ガスブロ
ーを行なうためブロー管１４をキュア炉５内に取付けた
ものである。ブロー管１４はキュア炉５内の酸素濃度管
理を行なうパージ用窒素ガスの管路とは別にフレーム３
の冷却を行なうためのブロー用窒素ガスの管路を有して
いる。キュアが終了したフレーム３はフレーム搬送位置
での冷却中にブロー管１４のブロー用管路より冷却用の
窒素ガスをフレーム３に直接吹き付けられることにより
冷却が促進される。冷却用のブローはフレーム３のキュ
ア終了後にフレーム搬送位置に移動された時点から搬送
アーム４によるキュア炉５外へのアンローディング動作
が始まるまでの間行う。冷却用ブローの窒素ガスには、
純度が９９．９９９％以上で常温のものを用いる。これ
により、キュア炉５内の酸素濃度を保ちながらフレーム
３の冷却時間を短縮し、キュアのサイクルタイムをヒー
トシンクボンディングのサイクルタイム以上に引き上げ
ることができる。
位置においてキュア終了後のフレーム３に窒素ガスブロ
ーを行なうためブロー管１４をキュア炉５内に取付けた
ものである。ブロー管１４はキュア炉５内の酸素濃度管
理を行なうパージ用窒素ガスの管路とは別にフレーム３
の冷却を行なうためのブロー用窒素ガスの管路を有して
いる。キュアが終了したフレーム３はフレーム搬送位置
での冷却中にブロー管１４のブロー用管路より冷却用の
窒素ガスをフレーム３に直接吹き付けられることにより
冷却が促進される。冷却用のブローはフレーム３のキュ
ア終了後にフレーム搬送位置に移動された時点から搬送
アーム４によるキュア炉５外へのアンローディング動作
が始まるまでの間行う。冷却用ブローの窒素ガスには、
純度が９９．９９９％以上で常温のものを用いる。これ
により、キュア炉５内の酸素濃度を保ちながらフレーム
３の冷却時間を短縮し、キュアのサイクルタイムをヒー
トシンクボンディングのサイクルタイム以上に引き上げ
ることができる。
【００１７】図４に示される実施例では、キュア炉５の
フレーム搬送入口およびフレーム搬送出口を塞ぐための
シャッター１５を設けたものである。それぞれのシャッ
ター１５は開閉用シリンダー１６により個々に駆動さ
れ、フレーム３のキュア炉５へのローディングおよびア
ンローディングの時を除いてキュア炉５の出入口を塞ぐ
ように開閉動作の制御を行なう。シャッター１５はキュ
ア炉５出入口の開口部全体を覆う形状とし、出入口のシ
ャッター１５がともに閉じた状態においてはキュア炉5
内をほぼ閉空間とすることができる。シャッター１５に
よりキュア炉５外の大気のキュア炉５内への流入を最小
限に押さえることができることから、フレーム３のキュ
ア中のキュア炉５内の酸素濃度をほとんどゼロに制御す
ることができるためフレーム搬送位置で冷却中のフレー
ム３がキュア炉５内での酸化を起こすことを防ぐことが
できる。
フレーム搬送入口およびフレーム搬送出口を塞ぐための
シャッター１５を設けたものである。それぞれのシャッ
ター１５は開閉用シリンダー１６により個々に駆動さ
れ、フレーム３のキュア炉５へのローディングおよびア
ンローディングの時を除いてキュア炉５の出入口を塞ぐ
ように開閉動作の制御を行なう。シャッター１５はキュ
ア炉５出入口の開口部全体を覆う形状とし、出入口のシ
ャッター１５がともに閉じた状態においてはキュア炉5
内をほぼ閉空間とすることができる。シャッター１５に
よりキュア炉５外の大気のキュア炉５内への流入を最小
限に押さえることができることから、フレーム３のキュ
ア中のキュア炉５内の酸素濃度をほとんどゼロに制御す
ることができるためフレーム搬送位置で冷却中のフレー
ム３がキュア炉５内での酸化を起こすことを防ぐことが
できる。
【００１８】
【発明の効果】本発明は以上に説明したようなヒートシ
ンクボンディング装置におけるインラインキュア炉機構
により以下に記されるような効果をもたらす。
ンクボンディング装置におけるインラインキュア炉機構
により以下に記されるような効果をもたらす。
【００１９】キュア炉にフレーム移動機構を構成したの
で、キュア炉内にあってもフレームを酸化反応温度以下
に冷却することができることとなり、従ってフレームを
キュア炉外へ出したときのフレーム表面の酸化を防ぐこ
とができるという効果が得られる。
で、キュア炉内にあってもフレームを酸化反応温度以下
に冷却することができることとなり、従ってフレームを
キュア炉外へ出したときのフレーム表面の酸化を防ぐこ
とができるという効果が得られる。
【００２０】キュア炉内にフレーム冷却用のブロー管を
取付けたことで、フレーム冷却時間が大幅に短縮するこ
とができ、これによりキュアのサイクルタイムをヒート
シンクボンディングのサイクルタイム以上に高めること
ができるため、装置全体のサイクルタイムを落とさずに
すむという効果が得られる。
取付けたことで、フレーム冷却時間が大幅に短縮するこ
とができ、これによりキュアのサイクルタイムをヒート
シンクボンディングのサイクルタイム以上に高めること
ができるため、装置全体のサイクルタイムを落とさずに
すむという効果が得られる。
【００２１】また、キュア炉出入口部にシャッター機構
を設け、フレームの移動を鉛直方向に取ったことによ
り、キュア炉を容積自体の小さい閉空間とすることがで
きるため、キュア炉内の酸素濃度やキュアヒーター温度
の制御が行いやすくなるとともに用力の節約が図れる。
を設け、フレームの移動を鉛直方向に取ったことによ
り、キュア炉を容積自体の小さい閉空間とすることがで
きるため、キュア炉内の酸素濃度やキュアヒーター温度
の制御が行いやすくなるとともに用力の節約が図れる。
【図１】従来のヒートシンクボンディング装置のインラ
インキュア炉機構を示す縦断面図。
インキュア炉機構を示す縦断面図。
【図２】本発明におけるフレーム移動機構を設置したイ
ンラインキュア炉機構を示す縦断面図。
ンラインキュア炉機構を示す縦断面図。
【図３】本発明におけるフレーム冷却用ブロー管を設置
したインラインキュア炉を示す縦断面図。
したインラインキュア炉を示す縦断面図。
【図４】本発明におけるシャッター機構を設置したイン
ラインキュア炉を示す縦断面図。
ラインキュア炉を示す縦断面図。
１ ヒートシンクボンディングステーション ２ ヒートシンク ３ フレーム ４ 搬送アーム ５ キュア炉 ６ キュアヒーター ７ パージ管 ８ フレーム収納マガジン ９ キュア炉内搬送レール １０ 搬送レール １１ 位置切換シリンダー １２ 位置決めピン １３ ヒートシンク押さえ棒 １４ ブロー管 １５ シャッター １６ 開閉用シリンダー
Claims (4)
- 【請求項１】ヒートシンクボンディング装置のインライ
ンキュア炉において、キュア終了後の高温状態にあるフ
レームをキュア炉内でキュアヒーターから離し、フレー
ム温度を下げてからキュア炉からアンローディングする
ことを特徴とするインラインキュア炉機構。 - 【請求項２】ヒートシンクボンディング装置のインライ
ンキュア炉において、キュア終了後のキュアヒーターか
ら離した状態で冷却用のブローを直接フレームに吹きか
けるためのブロー管を取付けたことを特徴とするインラ
インキュア炉機構。 - 【請求項３】インラインキュア炉内でのブローにおい
て、純度９９.９９９％以上で常温の窒素ガスを用いる
ことを特徴とする請求項２に記載のインラインキュア炉
機構。 - 【請求項４】ヒートシンクボンディング装置のインライ
ンキュア炉の出入口において、キュア炉内と外気を遮断
するためフレームのローディングおよびアンローディン
グ時以外は閉状態とする開閉シャッター機構を設置する
ことを特徴とするインラインキュア炉機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33221397A JP3613954B2 (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | キュア方法及びキュア炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33221397A JP3613954B2 (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | キュア方法及びキュア炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11163236A true JPH11163236A (ja) | 1999-06-18 |
| JP3613954B2 JP3613954B2 (ja) | 2005-01-26 |
Family
ID=18252446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33221397A Expired - Fee Related JP3613954B2 (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | キュア方法及びキュア炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3613954B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100395128B1 (ko) * | 2001-08-09 | 2003-08-21 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | Ｂｇａ 패키지 제조용 프리-큐어 시스템 및 그 제어방법 |
| JP2009287085A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Ihi Corp | 熱処理装置および熱処理方法 |
-
1997
- 1997-12-02 JP JP33221397A patent/JP3613954B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100395128B1 (ko) * | 2001-08-09 | 2003-08-21 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | Ｂｇａ 패키지 제조용 프리-큐어 시스템 및 그 제어방법 |
| JP2009287085A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Ihi Corp | 熱処理装置および熱処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3613954B2 (ja) | 2005-01-26 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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