JPH11161953A

JPH11161953A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH11161953A
Application number: JP32284297A
Authority: JP
Inventors: Osamu Yoshida; 修吉田; Katsumi Endo; 克巳遠藤; Takeshi Miyamura; 猛史宮村
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1997-11-25
Filing date: 1997-11-25
Publication date: 1999-06-18

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】磁性層の表面状態が良好で、周波数特性に優
れた金属薄膜型の磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】電子ビームによりルツボ中の蒸着金属材
料を蒸発し、蒸発した蒸着金属材料を、最小入射角を規
制する第１の遮蔽板と最大入射角を規制する第２の遮蔽
板とからなる２つの可動遮蔽板により、最小入射角と最
大入射角とを規制し蒸着領域を限定しつつ、冷却キャン
ロールにより搬送する支持体上に蒸着し、１層以上の磁
性層を形成し、冷却キャンロールの中心から水平面に下
ろした垂線から蒸着領域方向に４５度回転した直線の冷
却キャンロールへ向かう方向をａ方向とし、第１の遮蔽
板と第２の遮蔽板とのなす角度の１／２の角度をなし、
冷却キャンロールへ向かう方向をｂ方向とし、ａ方向を
法線とする支持体表面の投影面の面積Ａと、ｂ方向を法
線とする支持体表面の投影面の面積Ｂとが、Ａ／Ｂ＜
５、を満足する蒸着を行う磁気記録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
方法に関し、詳しくは、磁性層の表面状態が良好で、周
波数特性に優れた金属薄膜型の磁気記録媒体の製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】電子ビ
ーム加熱により金属薄膜を支持体上に成膜されてなる蒸
着型の磁気記録媒体は、磁性体充填率が高いため塗布型
の磁気記録媒体等と比べて薄膜で飽和磁化や保磁力が大
きく、高密度記録に適したものとして種々の応用分野で
利用されている。

【０００３】このような、磁気記録媒体においては、磁
性層の表面状態を良好にし、また周波数特性を向上させ
ることが必要である。

【０００４】ところで、この金属薄膜型の磁気記録媒体
においては、蒸着金属材料を支持体上に成膜して磁性層
を形成する際の支持体の受ける熱的ダメージが問題とな
る。この熱的ダメージはルツボの輝点以外に、チャンバ
壁面が反射してくる放射熱もある。このような熱的ダメ
ージを好適に抑制できれば、磁気記録媒体の特性、例え
ば磁性層の表面状態が良好となり、また周波数特性も改
善されることが予測される。

【０００５】従って、本発明の目的は、磁性層の表面状
態が良好で、周波数特性に優れた金属薄膜型の磁気記録
媒体の製造方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、冷却キャンロールによって搬送される支持体の
一定方向から見た時の面積と他方向から見た時の面積と
の比が、特定値以下にある時に、上記目的が達成される
ことを知見した。

【０００７】本発明は上記知見に基づきなされたもの
で、電子銃からの電子ビームによってルツボ中の蒸着金
属材料を蒸発させ、該蒸発させた蒸着金属材料を、最小
入射角を規制する第１の遮蔽板と最大入射角を規制する
第２の遮蔽板とからなる２つの可動する遮蔽板によっ
て、該最小入射角と該最大入射角とを規制して蒸着領域
を限定しつつ、冷却キャンロールにより搬送されている
支持体上に蒸着し、少なくとも１層以上の磁性層を形成
する金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法であって、上記
冷却キャンロールの中心から水平面に垂線を下ろし、該
垂線から上記蒸着領域方向に４５度回転させた直線の該
冷却キャンロールへ向かう方向をａ方向とし、上記第１
の遮蔽板と上記第２の遮蔽板とのなす角度の１／２の角
度をなし、該冷却キャンロールへ向かう方向をｂ方向と
したときに、上記ａ方向を法線とする上記支持体表面の
投影面の下記面積Ａと、上記ｂ方向を法線とする上記支
持体表面の投影面の下記面積Ｂとが、下記式［１］を満
足するように蒸着することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法を提供するものである。Ａ／Ｂ＜５［１］（但し、面積Ａは、上記２つの遮蔽板それぞれの先端か
らａ方向とそれぞれ平行な直線間の距離（ｌ）と、上記
冷却キャンロール上に成膜される幅との積で表され、面
積Ｂは、上記ルツボ中心及び上記第１の遮蔽板先端を通
る直線と上記冷却キャンロールとの交点をｂ₁とし、該
交点ｂ₁からｂ方向を示す直線に下ろした垂線と上記ル
ツボ中心及び上記第２の遮蔽板先端を通る直線との交点
をｂ₂としたときの該交点ｂ₁、ｂ₂間の距離（ｍ）
と、上記冷却キャンロール上に成膜される幅との積で表
される）

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の製
造方法の好ましい実施形態を、図面を参照して説明す
る。本発明の磁気記録媒体の製造方法において、磁性層
は真空蒸着法によって形成される。ここで用いられる蒸
着装置は特に制限はなく、従来公知の装置を用いること
ができるが、好ましくは、図１に示すような、斜め蒸着
手段を有する連続真空蒸着装置によって製造される。

【０００９】図１に示す装置において、真空に引かれる
チャンバ１内で、巻き出しロール２から巻き取りロール
３へと支持体４が冷却キャンロール５を介して搬送され
る。冷却キャンロール５の下方にはルツボ６が配設さ
れ、内部に収容される蒸着金属材料に対して電子銃７か
ら電子ビームεが照射されて蒸着金属材料を蒸発させ、
冷却キャンロール１５上で支持体４上に蒸着金属膜が堆
積されるようになっている。このようして支持体上に少
なくとも１層以上の磁性層が形成される。

【００１０】ここにおいて、蒸着金属材料の蒸気の被着
領域を限定するために、第１の遮蔽板８ａと第２の遮蔽
板８ｂが設けられている。図２に示されるように、第２
の遮蔽板８ｂは被着領域の始まりにおける入射角（最大
入射角）を、第１の遮蔽板８ａは被着領域の終わりにお
ける入射角度（最小入射角）をそれぞれ規定する。そし
て、遮蔽板８ａ，８ｂは、上下、左右に可動することに
よって被着領域を限定し、支持体４上への蒸着金属膜の
堆積位置を限定する。なお、９で示されるものは、蒸着
に際して酸化性ガスを供給するためのノズルであり、酸
素等の酸化性ガスを導入することによって、保磁力を上
げると共に、Ｃ／Ｎ特性を向上させる。また、ルツボ６
内の蒸着金属材料に対する電子銃７から電子ビームεの
照射は、蒸発される蒸着金属材料粒子のエネルギーのガ
ウス分布の中央領域付近が被着領域にあるように調節さ
れる。

【００１１】次に、本発明の製造方法を図３に基づいて
より詳細に説明する。図３は、図１の冷却キャンロール
及びルツボ部分の部分拡大説明図である。

【００１２】図３において、ａ方向とは、冷却キャンロ
ール５の中心から水平面に垂線を下ろし、該垂線から蒸
着領域方向に４５度回転させた直線の冷却キャンロール
方向をいう。ここで水平面とは、ルツボの位置に水を入
れたビーカーを置いた時、その面に平行な面のことであ
る。また、ｂ方向とは、上記第１の遮蔽板８ａと上記第
２の遮蔽板８ｂとのなす角度（θ）の１／２の角度をな
し、冷却キャンロール５へ向かう方向をいう。

【００１３】本発明では、上記ａ方向を法線とする上記
支持体の投影面の面積Ａと、ｂ方向を法線とする上記支
持体の投影面の面積ＢとがＡ／Ｂ＜５となるように、蒸
着金属材料を成膜することが必要である。

【００１４】ここで、上記ａ方向を法線とする上記支持
体の投影面の面積Ａは、次のように定義される。即ち、
上記面積Ａは、上記２つの遮蔽板それぞれの先端からａ
方向とそれぞれ平行な直線間の距離（ｌ：ａ₁〜ａ₂）
と、上記冷却キャンロール５上に成膜される幅との積で
ある。また、上記ｂ方向を法線とする上記支持体の投影
面の面積Ｂは、次のように定義される。即ち、上記面積
Ｂは、上記ルツボ６中心及び上記第１の遮蔽板８ａ先端
を通る直線と上記冷却キャンロール５との交点をｂ₁と
し、該交点ｂ₁からｂ方向を示す直線に下ろした垂線と
上記ルツボ６中心及び上記第２の遮蔽板８ｂ先端を通る
直線との交点をｂ₂としたときの該交点ｂ₁、ｂ₂間の
距離（ｍ）と、上記冷却キャンロール５上に成膜される
幅との積で表されるなお、ここでルツボ６中心とは、溶
融している面が円の場合はその中心、楕円であれば短軸
と長軸の交点、四角形であれば対角線の交点を意味す
る。

【００１５】本発明では、上記のように、Ａ／Ｂは５未
満であり、好ましくは０〜５未満であり、更に好ましく
は０〜３である。上記Ａ／Ｂが５以上の場合には、表面
状態が良好な磁性層が得られず、また周波数特性にも劣
る。このように、Ａ／Ｂを制御することによって、磁性
層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を２．５以下にコント
ロールでき、しかも周波数特性（λ〜５λ）を良好にす
ることが可能となる。

【００１６】このＡ／Ｂの値は、上記遮蔽板８ａ，８ｂ
を図３において上下及び／又は左右に移動させることに
よって制御が可能である。実際には、第１の遮蔽板８ａ
を最小入射角を変化させないで斜め上方に移動させ、第
２の遮蔽板８ｂを最大入射角を変化させないで斜め下方
に移動させることによって、Ａ／Ｂを小さくすることが
できる。また、これと反対方向に上記遮蔽板８ａ，８ｂ
を移動させることによって、Ａ／Ｂを大きくすることが
できる。

【００１７】上記支持体を構成する非磁性材料として
は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチ
レンビスフェノキシカルボキシレート等のポリエステル
類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類；セルロースアセテートブチレート、セルロースアセ
テートプロピオネート等のセルロース誘導体；ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂；ポリア
ミド、ポリカーボネート等のプラスチック材料が挙げら
れる。これらの中でもポリエチレンテレフタレートが特
に好ましく用いられる。形態は、フィルム、テープ、シ
ート、ディスク、ドラム等の何れでもよい。これらの材
料から構成される上記支持体には、必要に応じて一軸ま
たは二軸の延伸処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、
易接着処理、熱処理、除塵処理及びボンバート処理等が
施されていてもよい。上記支持体の好ましい厚さは、１
〜３００μｍである。

【００１８】上記のようにして形成される磁性層は１層
以上からなるものであれば、層の数に特に制限はない。
上記磁性層を形成する蒸着金属膜の材料としては、例え
ばＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、
Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金等が用いられる。また、Ｆｅ−Ｎ、Ｆｅ−Ｎ−Ｏ、Ｆ
ｅ−Ｃ、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ等も用いられる。なお、上記蒸着
金属膜の形成時に酸化性ガスを供して、上記蒸着金属膜
の表面に、酸化膜からなる保護層を形成することが好ま
しい。尚、酸化性ガスとしては例えば、酸素、空気等が
用いられるが、好ましくは酸素である。

【００１９】上記磁性層が複数層の場合、各蒸着金属膜
を構成する材料は、同一であってもよく又は異なってい
てもよい。好ましくは、上記各蒸着金属膜を形成する材
料は同一である。

【００２０】また、上記磁性層全体の厚さは、０．１〜
０．５μｍであることが好ましく、０．１２〜０．３μ
ｍであることが更に好ましい。該厚さが０．１μｍに満
たないと磁性層の耐久性が十分でない場合があり、０．
５μｍを越えると自己減磁が増加する場合があるので、
上記範囲内とすることが好ましい。

【００２１】なお、上記磁性層の形成に先立ち、上記支
持体の表面に上記磁性層の密着性を向上させる為のアン
ダーコート層が設けてもよい。かかるアンダーコート層
は、例えばＳｉＯ₂等の粒子を含有させた厚さが０．０
５〜０．５μｍの塗膜からなる。かかるアンダーコート
層を用いることにより、上記支持体表面を適度に粗し、
例えば斜め蒸着法により形成される磁性層の密着性を向
上させると共に、上記磁性層の表面粗さを適度なものと
して走行性を改善することができる。

【００２２】上述の通り、本発明の製造方法によって得
られる磁気記録媒体は、上記支持体と、その上に設けら
れた１層以上の蒸着金属膜から成る磁性層とを有する。
即ち、本発明の磁気記録媒体は、上記支持体上に直接磁
性層が設けられていてもよく、或いは、上記支持体と上
記磁性層との間に任意の層（例えば、上述のアンダーコ
ート層）が介在していてもよい。更には、本発明の磁気
記録媒体においては、上記磁性層上に、該磁性層を保護
するための保護層を設けたり、該保護層上に耐久性を高
めるための潤滑剤層を設けてもよい。以下、かかる保護
層及び潤滑剤層について以下に説明する。

【００２３】上記保護層は上記磁性層上に、一般に真空
中で、炭素或いは炭化物、窒化物、特にダイヤモンドラ
イクカーボン、ダイヤモンド、炭化ホウ素、炭化ケイ
素、窒化ホウ素、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化アルミ
ニウム等を成膜することにより形成される。上記保護層
の形成法としては、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）及び
ＰＶＤ法の何れでもよい。ＣＶＤ法では特にマイクロ波
を用いたＥＣＲ（Electron Cyclotron Resonance) 法
や、高周波（ＲＦ）を用いた方法が有効である。ＣＶＤ
法により上記保護層を形成する場合、原料はガス状、液
状及び固体状の何れのものを用いてもよい。

【００２４】上記保護層は、ダイヤモンドライクカーボ
ンからなることが好ましい。この場合、ガス状の原料を
用いてダイヤモンドライクカーボンからなる保護層を形
成する場合は、上記ガス状の原料としてメタンとアルゴ
ンとの混合ガス、エタンと水素との混合ガス、又はメタ
ンと水素との混合ガスを用いることが好ましい。また、
液状の原料を用いてダイヤモンドライクカーボンからな
る保護層を形成する場合は、上記液状の原料としてアル
コールや不飽和炭化水素を用いることが好ましい。更に
固体状の原料を用いてダイヤモンドライクカーボンから
なる保護層を形成する場合は、上記固体状の原料として
ナフタリンや高級パラフィンを用いることが好ましい。
なお、この場合に、固体を加熱したり超音波をかけても
よい。

【００２５】また、ＰＶＤ法としては、熱蒸発法、スパ
ッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられるが、何
れを用いることもできる。これらの方法のうち、特にス
パッタ法が有効である。スパッタ法によりダイヤモンド
ライクカーボンからなる保護層を形成する場合は、グラ
ファイトのターゲットを用いてメタンとアルゴンとの混
合ガス又はメタンと水素との混合ガス中でスパッタする
ことが好ましい。また、スパッタ法により窒化ケイ素か
らなる保護層を形成する場合は、ケイ素のターゲットを
用いてアルゴンと窒素との混合ガス、アルゴンとアンモ
ニアとの混合ガス、窒素ガス、アンモニアガス、又はア
ンモニアとモノシラン（ＳｉＨ₄）との混合ガス中でス
パッタすることが好ましい。また、スパッタ法により酸
化アルミニウムからなる保護層を形成する場合は、アル
ミニウムのターゲットを用いてアルゴンと酸素との混合
ガス中でスパッタすることが好ましい。

【００２６】上記保護層形成の際の真空度は、ＣＶＤ法
の場合、１０^-1〜１０^-5Ｔｏｒｒ程度であることが好ま
しく、ＰＶＤ法の場合、１０^-4〜１０^-7Ｔｏｒｒ程度が
好ましい。また、上記保護層の厚さは特に限定しない
が、１〜３０ｎｍであることが好ましく、更に好ましく
は３〜１５ｎｍである。

【００２７】次に、上記潤滑剤層について説明する。上
記潤滑剤層は、超音波発振器を備えた噴霧器（以下、
「超音波噴霧器」という）を用い、潤滑剤を上記磁性層
上（上記磁性層上に上記保護層が形成されている場合に
は、上記保護層上）に噴霧して形成することが好まし
い。より詳細には、上記超音波噴霧器は、上記潤滑剤の
供給手段と、該供給手段から供給された上記潤滑剤に超
音波を印加して霧化する手段（超音波発振器）と、霧化
された上記潤滑剤を噴霧するノズルとからなる。また、
ノズルタイプの噴霧装置を用いてもよい。ノズルタイプ
の噴霧装置は、一般に一流体ノズルと呼ばれる装置が使
用できる。

【００２８】超音波噴霧器を使用して潤滑剤を微細な粒
子として噴霧することができるので、高温（２００℃以
上）に弱く蒸気圧が低いため、従来空気中での塗布によ
ってのみ潤滑剤層を形成することができたパーフルオロ
ポリエーテル等のフッ素系潤滑剤の真空中での噴霧が可
能となる。なお、従来方法のように、大気中において、
グラビア方式、リバース方式又はダイ塗工方式を用いて
上記潤滑剤を塗布しても良い。

【００２９】上記パーフルオロポリエーテルとしては、
分子量２０００〜５０００のものが好適であり、例えば
「FOMBLIN Z DIAC」〔カルボキシル基変性、アウジモン
ト（株）製〕、「FOMBLIN Z DOL 」〔アルコール変性、
アウジモント（株）製〕の商品名で市販されているもの
が使用できる。これらは末端に水酸基又はカルボキシル
基を有するため、潤滑剤と磁性層との結着を高め得るの
で、好適に用いられる。

【００３０】なお、上記潤滑剤以外にも、ベンゼン環、
二重結合、分岐鎖等を含むフッ素系の潤滑剤、脂肪酸系
の潤滑剤、その他の潤滑剤を使用することもできる。こ
れらのうち、上記フッ素系潤滑剤は、脂肪酸系潤滑剤と
比べ耐久性だけでなく耐食性も向上させるため、好適に
用いられる。

【００３１】また、上記潤滑剤の噴霧にあたっては、上
記潤滑剤をフッ素系不活性溶媒（例えば住友スリーエム
（株）製「フロリナート」等のパーフルオロカーボン、
アウジモント（株）製「ガルデン」等のパーフルオロポ
リエーテル）、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ア
ルコール系溶媒、ケトン系溶媒等の適当な溶媒に溶解さ
せた０．００１〜１０重量％程度、特に０．０２〜２．
０重量％の溶液として用いることが好ましい。上記潤滑
剤としてパーフルオロポリエーテルを用いる場合、溶媒
としてはパーフルオロカーボンが使用でき、その場合の
濃度は０．００１〜１．０重量％程度、特に０．０５〜
０．２重量％が好ましい。また、上記潤滑剤の噴霧量
は、磁気記録媒体の用途や潤滑剤の種類等を考慮して適
宜決定すればよいが、形成された潤滑剤層の厚さは０．
５〜２０ｎｍ程度となるように調節するのが好ましい。

【００３２】更にまた、本発明の磁気記録媒体において
は、支持体の磁性層が形成される面とは反対の面にバッ
クコート層を形成してもよい。該バックコート層は、カ
ーボンブラック等を適当な溶剤に分散させた液を塗布し
て形成してもよいし、金属又は半金属を物理的蒸着法
（ＰＶＤ）、特に熱蒸発法、スパッタリング法により蒸
着させて形成させてもよい。

【００３３】上記バックコート層を塗布により形成する
場合は、粒径１０〜１００ｎｍのカーボンブラックを、
塩化ビニル系、ウレタン系又は硝化綿系等のバインダー
中に分散させ、グラビア方式、リバース方式又はダイ塗
工方式等で、乾燥後の厚さが好ましくは０．４〜１．０
μｍになるように塗布する。

【００３４】上記バックコート層を蒸着により形成する
場合は、上記金属又は半金属材料としてアルミニウムや
シリコンを用いることが好ましい。また、この場合の上
記バックコート層の厚さは好ましくは０．０５〜１．０
μｍである。

【００３５】なお、上記バックコート層の上には、走行
性や耐久性等を一層向上せしめることを目的として、ト
ップコート層を設けてもよい。

【００３６】このような構成からなる本発明の製造方法
により得られる磁気記録媒体の構造を示す模式図を図４
に示す。図４に示す磁気記録媒体１１は、非磁性支持体
１２と、該支持体１２の一面側に設けられた磁性層１３
と、該支持体１２の他面側に任意に設けられるバックコ
ート層１６とを具備している。そして、上記磁性層１３
上に保護層１４及び潤滑剤層１５が任意に設けられる。
この図４においては、磁性層１３は１層構造となってい
るが、１層構造でも、２層構造以上でもよい。

【００３７】本発明により得られる磁気記録媒体は、テ
ープ、ディスク、ドラム、シート及びその他の形態で使
用されるが、特に磁気テープの形態で使用されることが
好ましく、就中、リングヘッドによる記録・再生に好適
に使用される。

【００３８】

【実施例】以下、本発明の磁気記録媒体を実施例によっ
て更に詳細に説明する。なお、かかる実施例は本発明の
範囲を何ら限定するものではない。

【００３９】〔実施例１〕図１〜３に示す真空蒸着装置
によって磁性層を形成した。即ち、真空チャンバ１を２
×１０^-5Ｔｏｒｒまで排気し、Ｃｏを蒸着金属材料とし
てルツボ６の中に投入した。第１及び第２の遮蔽板８
ａ，８ｂをそれぞれ所定位置とした後、電子銃７から出
力８０ｋＷで電子ビームを照射して蒸着雰囲気とした。
厚さ６．３μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム４を巻き出しロール２から巻き取りロール
３へと４０ｍ／ｍｉｎで走行させた。また、それと同時
に酸素ノズル９から酸素ガスを２７０ＳＣＣＭ導入し
て、磁性層が１７０ｎｍとなるように成膜した。この時
のＡ／Ｂは表１に示されるように０．５であった。ま
た、最小入射角度は６０゜、最大入射角度は９０゜であ
った。

【００４０】その後、ＥＣＲ−ＣＶＤ装置を用いて原料
ガスにベンゼンを使用して磁性層上に、１０ｎｍの保護
層（ＤＬＣ膜）を形成し、更にＰＥＴフィルムの裏面に
一般的な結合剤にカーボンブラックを混合させたバック
コート塗料を乾燥厚さが０．５μｍになるように塗布
（グラビアコート）・乾燥してバックコート層を形成し
た。次いで、保護層（ＤＬＣ膜）上に、フッ素系潤滑剤
を２ｎｍの厚さに塗布し、潤滑剤層を形成した。

【００４１】次に、ＰＥＴフィルムをスリットして、磁
気テープを得、得られた磁気テープをＤＶＣカセットケ
ースに装填してＤＶＣカセットとした。

【００４２】〔実施例２〜５及び比較例１〜３〕第１及
び第２の遮蔽板８ａ，８ｂの位置を上下に移動し、上記
したＡ／Ｂが、表１に示すように、１．５（実施例
２）、２．５（実施例３）、３．５（実施例４）、４．
５（実施例５）、５．５（比較例１）、７．０（比較例
２）、９．５（比較例３）となるようにした以外は、実
施例１と同様にして磁気テープを得、さらにはＤＶＣカ
セットとした。また、いずれも最小入射角度は６０゜、
最大入射角度は９０゜であった。

【００４３】＜特性評価＞実施例１〜５及び比較例１〜
３によって得られた磁気テープについて、磁性層の中心
線平均表面粗さ（Ｒａ）と周波数特性を下記の方法に準
拠して測定し、その結果を表１に示す。

【００４４】（中心線平均表面粗さ：Ｒａ）ランクテー
ラーボブソン社製タリステップにより（１ＮのＨＣｌ液
でエッチングにより断差を作った）断差を３回平均にて
測定した。

【００４５】（周波数特性）ＳＯＮＹ製ＤＶＣカメラデ
ッキを改造して波長０．２０μｍ、０．５０μｍ、０．
７５μｍ、１．０μｍについて測定し、比較例１をそれ
ぞれ０ｄＢとした相対値で示した。

【００４６】

【表１】

【００４７】表１の結果から明らかな通り、実施例１〜
５で得られた磁気テープは、比較例１〜３で得られた磁
気テープよりも、磁性層の表面性が良好で、しかも周波
数特性に優れていることが判る。

【００４８】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の製造方法
によって、磁性層の表面状態が良好で、周波数特性に優
れた金属薄膜型の磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法に用いられる連続真空蒸着装
置を示す図である。

【図２】図１における蒸着装置の蒸着金属材料の最大入
射角と最小入射角を示す図。

【図３】図１の冷却キャンロール及びルツボ部分の拡大
説明図。

【図４】本発明の製造方法により得られる磁気記録媒体
の構造の一例を示す模式図。

【符号の説明】

１チャンバ２巻き出しロール３巻き取りロール４支持体５冷却キャンロール６ルツボ７電子銃８ａ第１の遮蔽板８ｂ第２の遮蔽板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子銃からの電子ビームによってルツボ
中の蒸着金属材料を蒸発させ、該蒸発させた蒸着金属材
料を、最小入射角を規制する第１の遮蔽板と最大入射角
を規制する第２の遮蔽板とからなる２つの可動する遮蔽
板によって、該最小入射角と該最大入射角とを規制して
蒸着領域を限定しつつ、冷却キャンロールにより搬送さ
れている支持体上に蒸着し、少なくとも１層以上の磁性
層を形成する金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法であっ
て、上記冷却キャンロールの中心から水平面に垂線を下ろ
し、該垂線から上記蒸着領域方向に４５度回転させた直
線の該冷却キャンロールへ向かう方向をａ方向とし、上
記第１の遮蔽板と上記第２の遮蔽板とのなす角度の１／
２の角度をなし、該冷却キャンロールへ向かう方向をｂ
方向としたときに、上記ａ方向を法線とする上記支持体
表面の投影面の下記面積Ａと、上記ｂ方向を法線とする
上記支持体表面の投影面の下記面積Ｂとが、下記式
［１］を満足するように蒸着することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。Ａ／Ｂ＜５［１］（但し、面積Ａは、上記２つの遮蔽板それぞれの先端か
らａ方向とそれぞれ平行な直線間の距離（ｌ）と、上記
冷却キャンロール上に成膜される幅との積で表され、面積Ｂは、上記ルツボ中心及び上記第１の遮蔽板先端を
通る直線と上記冷却キャンロールとの交点をｂ₁とし、
該交点ｂ₁からｂ方向を示す直線に下ろした垂線と上記
ルツボ中心及び上記第２の遮蔽板先端を通る直線との交
点をｂ₂としたときの該交点ｂ₁、ｂ₂間の距離（ｍ）
と、上記冷却キャンロール上に成膜される幅との積で表
される）
【請求項２】上記Ａ／Ｂが０〜３である請求項１に記
載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】上記２つの遮蔽板が上下及び／又は左右
に可動する請求項１又は２に記載の磁気記録媒体の製造
方法。