JPH11158046A

JPH11158046A - アニリン化合物を配合する染毛剤組成物

Info

Publication number: JPH11158046A
Application number: JP32812997A
Authority: JP
Inventors: Keizo Kimura; 桂三木村
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1997-11-28
Filing date: 1997-11-28
Publication date: 1999-06-15

Abstract

(57)【要約】【課題】伸展性、塗布性、耐洗浄性に優れた染毛剤組成
物を提供する。【解決手段】一般式（Ｉ）または（II）で表わされる化
合物を少なくとも１種を配合する染毛剤組成物。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は４−アミノ−Ｎ−ア
ルキルアニリン化合物、或は４−アミノ−Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルアニリン化合物を含有する染毛剤組成物に関する
ものであり、特に酸化染毛剤組成物に関し、染毛処理の
際に伸展性、塗布性、均染性、耐洗浄性に優れるもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】染毛剤には、一時的着色剤、半永久染毛
剤、永久染毛剤があり、酸化染毛剤は永久染毛剤の中で
最も広く使用されているものであり、染毛剤中の酸化染
料が毛髪に浸透した後に酸化重合が起こり発色し、結果
として毛髪を化学的に染着するため染着力が強く、色持
ちが良い。この酸化染毛剤は、通常酸化染料を含む第一
剤と、酸化剤を含む第二剤とを使用時に混合した後、毛
髪に塗布して染毛する２剤型が多いが、粉末剤で使用時
に水と混合して用いる１剤型や、３剤以上の多剤型もあ
る。何れの場合も、酸化染毛剤は酸化重合反応によって
化学的に毛髪を染める。従って酸化染毛剤の毛髪への塗
布性が悪いと染色ムラ等を生じやすい。この染色ムラを
防ぐために染毛剤組成物を毛髪に塗布する際に、すばや
く、均一に塗布できるように、酸化染毛剤組成物に各種
溶剤、分散媒等を添加して液の流動性を高くする工夫
や、あるいは特開平９−２０６２８号広報に記載されて
いるように増粘剤の工夫がなされてきたが、更なる改良
が望まれた。また、繰り返しシャンプーしても色落ちし
ない、一層の堅牢性が要求されてきた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、染毛処理の際に伸展性、塗布性、均染性、耐洗浄性
に優れた酸化染毛剤組成物を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題は以下に示す方
法によって達成された。すなわち、下記の一般式
（Ｉ）、（II）で表わされる化合物の少なくとも１種を
配合することを特徴とする染毛剤組成物。

【０００５】

【化２】

【０００６】一般式（Ｉ）において、式中Ｒ₁₁は置換基
を表わし、ｎ₁は０または１〜４の整数を表わす。ｎ₁
が２以上の場合、Ｒ₁₁は同一でも異なっていてもよく、
また互いに環を形成してもよい。Ａ₁は酸根、すなわち
Ａ₁−Ｈは酸を表わし、ｍ₁は０または正の整数を表わ
す。一般式（II）において、Ｒ₂₁は水素原子、アルキル
基、アリール基またはヘテロ環基を表わし、Ｒ₂₂は置換
基を表わし、ｎ₂は０または１〜４の整数を表わす。ｎ
₂が２以上の場合、Ｒ₂₂は同一でも異なっていてもよ
く、また互いに環を形成していても良い。また、Ｒ₂₁と
Ｒ₂₂が互いに環を形成することはない。Ａ₂は酸根、す
なわちＡ₂−Ｈは酸を表わし、ｍ₂は０または正の整数
を表わす。

【０００７】

【発明の実施の形態】次に一般式（Ｉ）または（II）で
表わされる化合物を更に詳細に説明する。本発明にいう
アルキル基とは、直鎖、分岐、環状のアルキル基であ
り、置換基を有していてもよい。一般式（Ｉ）において
Ｒ₁₁は置換基であり、置換基の例としてはハロゲン原
子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、
ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ウレイ
ド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホン
アミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ
ニル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、
アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリ
ル基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホ
スホニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、
メルカプト基である。これらはアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、ヒドロキシル基、ニト
ロ基、シアノ基、ハロゲン原子、メルカプト基またはそ
の他酸素原子、窒素原子、イオウ原子もしくは炭素原子
で形成される置換基で置換されていてもよい。

【０００８】更に詳しくＲ₁₁の例を示す。ハロゲン原子
としては例えば、弗素原子、塩素原子である。アルキル
基としては炭素数１〜２５、好ましくは炭素数１〜１５
の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチ
ル、ヒドロキシメチル、メルカプトメチル、２−ヒドロ
キシエチル、２−メルカプトエチル、３−ヒドロキシプ
ロピル、ベンジル、２−メタンスルホンアミドエチル、
３−メタンスルホンアミドプロピル、２−メタンスルホ
ニルエチル、２−メトキシエチル、シクロペンチル、２
−アセトアミドエチル、ヒドロキシメチル、２−カルボ
キシルエチル、２−カルバモイルエチル、３−カルバモ
イルプロピル、２，３−ジヒドロキシプロピル、２，３
−ジメルカプトプロピル、３，４−ジヒドロキシブチ
ル、メタンスルホンアミドメチル、ｎ−ヘキシル、２−
ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、２−カル
バモイルアミノエチル、３−カルバモイルアミノプロピ
ル、４−カルバモイルアミノブチル、４−カルバモイル
ブチル、２−カルバモイル１−メチルエチル、カルバモ
イルアミノメチル、４−ニトロブチル、２−（２−ヒド
ロキシエトキシ）エチル、２−〔２−（２−ヒドロキシ
エトキシ）エトキシ〕エチル、２−（２−〔２−（２−
ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エトキシ）エチル、２
−〔２−（２−〔２−（２−ヒドロキシエトキシ）エト
キシ〕エトキシ）エトキシ〕エチル、２−（２−（メト
キシエトキシ）エチル、２−〔２−（２−メトキシエト
キシ）エトキシ〕エチル、２−（２−〔２−（２−メト
キシエトキシ）エトキシ〕エトキシ）エチル、２−〔２
−（２−〔２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ〕エ
トキシ）エトキシ〕エチル、２−（２−エトキシエトキ
シ）エチル、２−〔２−（２−ブトキシエトキシ）エト
キシ〕エチルである。

【０００９】アリール基としては炭素数６〜２４のアリ
ール基で例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−メトキシフ
ェニルである。ヘテロ環基としては炭素数１〜５の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含む５員
または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複
数であっても良く、例えば、２−フリル、２−チエニ
ル、２−ピリミジニル、２−ベンゾトリアゾリル、イミ
ダゾリル、ピラゾリルである。アルコキシ基としては炭
素数１〜１６、好ましくは炭素数１〜６のアルコキシ基
で例えば、メトキシ、エトキシ、２−メルカプトエトキ
シ、２−メトキシエトキシ、２−メチルチオエトキシ、
２−メタンスルホニルエトキシである。アリールオキシ
基としては炭素数６〜２４のアリールオキシ基で例え
ば、フェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ、ｍ−（３−
ヒドロキシプロピオンアミド）フェノキシである。アシ
ルアミノ基としては炭素数１〜１６、好ましくは炭素数
１〜６のアシルアミノ基で例えば、アセトアミド、２−
メトキシプロピオンアミド、ｐ−ニトロベンゾイルアミ
ドである。アルキルアミノ基としては炭素数１〜１６、
好ましくは炭素数１〜６のアルキルアミノ基で例えば、
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ビス−（２−メルカ
プトエチル）アミノ、２−ヒドロキシエチルアミノであ
る。アニリノ基としては炭素数６〜２４のアニリノ基で
例えばアニリノ、ｍ−ニトロアニリノ、Ｎ−メチルアニ
リノである。ウレイド基としては炭素数１〜１６、好ま
しくは炭素数１〜６のウレイド基で例えば、ウレイド、
メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジエチルウレイド、２−メタ
ンスルホンアミドエチルウレイドである。

【００１０】スルファモイルアミノ基としては炭素数０
〜１６、好ましくは炭素数０〜６のスルファモイルアミ
ノ基で例えば、ジメチルスルファモイルアミノ、メチル
スルファモイルアミノ、２−メトキシエチルスルファモ
イルアミノである。アルキルチオ基としては炭素数１〜
１６、好ましくは炭素数１〜６のアルキルチオ基で例え
ば、メチルチオ、エチルチオ、２−フェノキシエチルチ
オである。アリールチオ基としては炭素数６〜２４のア
リールチオ基でこれらは例えば、フェニルチオ、２−カ
ルボキシフェニルチオ、４−シアノフェニルチオであ
る。アルコキシカルボニルアミノ基としては炭素数２〜
１６、好ましくは炭素数２〜６のアルコキシカルボニル
アミノ基で例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキ
シカルボニルアミノ、３−メタンスルホニルプロポキシ
カルボニルアミノである。スルホンアミド基としては炭
素数１〜１６、好ましくは炭素数１〜６のスルホンアミ
ド基で例えば、メタンスルホンアミド、ｐ−トルエンス
ルホンアミド、２−メトキシエタンスルホンアミドであ
る。カルバモイル基としては炭素数１〜１６、好ましく
は炭素数１〜６のカルバモイル基で例えば、カルバモイ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバ
モイルである。スルファモイル基としては炭素数０〜１
６、好ましくは炭素数０〜６のスルファモイル基で例え
ば、スルファモイル、ジメチルスルファモイル、エチル
スルファモイルである。スルホニル基としては炭素数１
〜１６、好ましくは炭素数１〜６の脂肪族または芳香族
のスルホニル基で例えば、メタンスルホニル、エタンス
ルホニル、２−クロロエタンスルホニルである。アルコ
キシカルボニル基としては炭素数１〜１６、好ましくは
炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基で例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカ
ルボニルである。ヘテロ環オキシ基としては炭素数１〜
５の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上
含む５員または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環オ
キシ基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元素の
種類は１つでも複数であっても良く例えば、１−フェニ
ルテトラゾリル−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニ
ルオキシ、２−ピリジルオキシである。

【００１１】アゾ基としては炭素数１〜１６、好ましく
は炭素数１〜６のアゾ基で例えば、フェニルアゾ、２−
ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ、４−スル
ホフェニルアゾである。アシルオキシ基としては炭素数
１〜１６、好ましくは炭素数１〜６のアシルオキシ基で
例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、４−ヒドロキ
シブタノイルオキシである。カルバモイルオキシ基とし
ては炭素数１〜１６、好ましくは炭素数１〜６のカルバ
モイルオキシ基で例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ルオキシ、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニ
ルカルバモイルオキシである。シリル基としては炭素数
３〜１６、好ましくは炭素数３〜６のシリル基で例え
ば、トリメチルシリル、イソプロピルジエチルシリル、
ｔ−ブチルジメチルシリルである。シリルオキシ基とし
ては炭素数３〜１６、好ましくは炭素数３〜６のシリル
オキシ基で例えば、トリメチルシリルオキシ、トリエチ
ルシリルオキシ、ジイソプロピルエチルシリルオキシで
ある。アリールオキシカルボニルアミノ基としては炭素
数７〜２４のアリールオキシカルボニルアミノ基で例え
ば、フェノキシカルボニルアミノ、４−シアノフェノキ
シカルボニルアミノ、２，６−ジメトキシフェノキシカ
ルボニルアミノである。イミド基としては炭素数４〜１
６のイミド基で例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタ
ルイミドである。ヘテロ環チオ基としては炭素数１〜５
の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含
む５員または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環チオ
基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類
は１つでも複数であってもよく例えば、２−ベンゾチア
ゾリルチオ、２−ピリジルチオである。

【００１２】スルフィニル基としては炭素数１〜１６、
好ましくは炭素数１〜６のスルフィニル基で例えば、メ
タンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル、エタンスル
フィニルである。ホスホニル基としては炭素数２〜１
６、好ましくは炭素数２〜６のホスホニル基で例えば、
メトキシホスホニル、エトキシホスホニル、フェノキシ
ホスホニルである。アリールオキシカルボニル基として
は炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基で例え
ば、フェノキシカルボニル、２−メチルフェノキシカル
ボニル、４−アセトアミドフェノキシカルボニルであ
る。アシル基としては炭素数１〜１６、好ましくは炭素
数１〜６のアシル基で例えば、アセチル、ベンゾイル、
４−クロロベンゾイルである。

【００１３】Ｒ₁₁として好ましくはハロゲン原子、アル
キル基、ヘテロ環基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カル
ボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アシルオキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、ウレイド基、スルフ
ァモイルアミノ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、ス
ルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル
基、ヘテロ環オキシ基、アゾ基、アシルオキシ基、カル
バモイルオキシ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、スルフ
ィニル基、ホスホニル基、アシル基、メルカプト基であ
り、更に好ましくはハロゲン原子、アルキル基、ヘテロ
環基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルキルアミノ
基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチ
オ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、メルカプト基
であり、また更に好ましくはアルキル基、ヘテロ環基、
アルコキシ基、アルキルアミノ基、ウレイド基、アルキ
ルチオ基、メルカプト基である。

【００１４】Ｒ₁₁の好ましい例としては例えばメチル、
イソプロピル、２−メルカプトエチル、２−チエニル、
ピラゾリル、メトキシ、イソプロポキシ、ジメチルアミ
ノ、ウレイド、メチルチオ、メルカプトである。

【００１５】ｎ₁は０または１〜４の整数を表わし、好
ましいｎ₁は０または１である。

【００１６】Ａ₁は酸根、すなわちＡ₁−Ｈは酸を表わ
し、Ａ₁−Ｈの例として例えば、塩酸、硫酸、燐酸、ｐ
−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ナフタレン
−１，５−ジスルホン酸、アスコルビン酸、シュウ酸等
があげられる。Ａ₁−Ｈとしては好ましくは塩酸、硫
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレン−１，５−ジ
スルホン酸であり、最も好ましいＡ₁−Ｈは硫酸、ナフ
タレン−１，５−ジスルホン酸である。また、ｍ₁は０
または正の整数を表わし、ｍ₁が２以上の場合、Ａ₁−
Ｈは同一でも異なっていてもよい。

【００１７】一般式（II）においてＲ₂₁は水素原子、ア
ルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表わし、これ
らの基は他の置換基で更に置換されてもよく、例えばハ
ロゲン原子または酸素原子、窒素原子、イオウ原子もし
くは炭素原子で形成される置換基（例えばアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ
ル基、ニトロ基、シアノ基）で置換されていてもよい。
但し、Ｒ₂₁がアルキル基である場合、Ｒ₂₁中の炭素原子
のうち、一般式（II）中の窒素原子に直接結合している
炭素原子には、水素原子と炭素原子の２つの元素以外の
元素が結合していることが好ましい。Ｒ₂₁がヘテロ環基
である場合、Ｒ₂₁が結合する一般式（II）中の窒素原子
とは該ヘテロ環基のヘテロ環を構成する炭素原子と連結
していることが好ましい。アルキル基としては炭素数１
〜２５、好ましくは炭素数１〜１５の直鎖、分岐鎖また
は環状のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、２−ヒドロキシエ
チル、３−ヒドロキシプロピル、ベンジル、２−メタン
スルホンアミドエチル、３−メタンスルホンアミドプロ
ピル、２−メタンスルホニルエチル、２−メトキシエチ
ル、シクロペンチル、２−アセトアミドエチル、ヒドロ
キシメチル、２−カルボキシエチル、２−カルバモイル
エチル、３−カルバモイルプロピル、２，３−ジヒドロ
キシプロピル、３，４−ジヒドロキシブチル、２，３，
４−トリヒドロキシブチル、２，３，４，５−テトラヒ
ドロキシペンチル、２，３，４，５，６−ペンタヒドロ
キシヘキシル、メタンスルホンアミドメチル、ｎ−ヘキ
シル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−オクタデシル、
２−エチルヘキシル、２−ヒドロキシプロピル、４−ヒ
ドロキシブチル、２−カルバモイルアミノエチル、３−
カルバモイルアミノプロピル、４−カルバモイルアミノ
ブチル、４−カルバモイルブチル、２−カルバモイル−
１−メチルエチル、カルバモイルアミノメチル、４−ニ
トロブチル、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、
２−〔２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エチ
ル、２−（２−〔２−（２−ヒドロキシエトキシ）エト
キシ〕エトキシ）エチル、２−〔２−（２−〔２−（２
−ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エトキシ）エトキ
シ〕エチル、２−（２−〔２−（２−〔２−（２−ヒド
ロキシエトキシ）エトキシ〕エトキシ）エトキシ〕エト
キシ）エチル、２−〔２−（２−〔２−（２−〔２−
（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エトキシ）エト
キシ〕エトキシ）エトキシ〕エチル、２−（２−〔２−
（２−〔２−（２−〔２−（２−ヒドロキシエトキシ）
エトキシ〕エトキシ）エトキシ〕エトキシ）エトキシ〕
エトキシ）エチル、２−（２−メトキシエトキシ）エチ
ル、２−〔２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ〕エ
チル、２−（２−〔２−（２−メトキシエトキシ）エト
キシ〕エトキシ）エチル、２−〔２−（２−〔２−（２
−メトキシエトキシ）エトキシ〕エトキシ）エトキシ〕
エチル、２−（２−エトキシエトキシ）エチル、２−
〔２−（２−ブトキシエトキシ）エトキシ〕エチルであ
る。

【００１８】アリール基としては、炭素数６〜２４のア
リール基で例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−メトキシ
フェニルである。ヘテロ環基としては炭素数１〜５の酸
素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含む５
員または６員の飽和または不飽和のヘテロ環であって、
環を構成するヘテロ原子の数および元素の種類は１つで
も複数であってもよく、例えば２−フリル、２−チエニ
ル、２−ピリミジニル、２−ベンゾトリアゾリル、イミ
ダゾリル、ピラゾリルである。

【００１９】Ｒ₂₁として好ましくは水素原子、アルキル
基、アリール基であり、更に好ましいのは水素原子、ア
ルキル基である。水素原子以外のＲ₂₁の好ましい例とし
ては例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、ベン
ジル、２−メタンスルホンアミドエチル、２，３−ジヒ
ドロキシプロピル、３，４−ジヒドロキシブチル、２，
３，４−トリヒドロキシブチル、２，３，４，５−テト
ラヒドロキシペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、
ｎ−デシル、ｎ−オクタデシル、２−エチルヘキシル、
２−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、２−
（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、２−〔２−（２−
ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エチル、２−（２−
〔２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エトキ
シ）エチル、２−〔２−（２−〔２−（２−ヒドロキシ
エトキシ）エトキシ〕エトキシ）エトキシ〕エチル、２
−（２−〔２−（２−〔２−（２−ヒドロキシエトキ
シ）エトキシ〕エトキシ）エトキシ〕エトキシ）エチ
ル、２−（２−メトキシエトキシ）エチル、２−〔２−
（２−メトキシエトキシ）エトキシ〕エチル、２−〔２
−（２−ブトキシエトキシ）エトキシ〕エチル、フェニ
ル、ｐ−メトキシフェニルであり、更に好ましくはメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、２−ヒドロキシ
エチル、２，３−ジヒドロキシプロピル、３，４−ジヒ
ドロキシブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ｎ−デ
シル、ｎ−オクタデシル、２−エチルヘキシル、２−
（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、２−〔２−（２−
ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エチル、２−（２−
〔２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エトキ
シ）エチル、２−（２−メトキシエトキシ）エチル、２
−〔２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ〕エチル、
２−〔２−（２−ブトキシエトキシ）エトキシ〕エチ
ル、フェニルである。

【００２０】Ｒ₂₂は置換基であり、置換基とはＲ₁₁にて
示した置換基であり、Ｒ₂₂として好ましくはハロゲン原
子、アルキル基、ヘテロ環基、ニトロ基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アシル
オキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ウレイド基、
スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アルコキシ
カルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカル
ボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、イミド基、ヘテロ環チオ
基、スルフィニル基、ホスホニル基、アシル基、メルカ
プト基であり、更に好ましくはハロゲン原子、アルキル
基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アル
キルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、
アルキルチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スル
ホンアミド基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、メ
ルカプト基であり、また更に好ましくはアルキル基、ヘ
テロ環基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、ウレイド
基、アルキルチオ基、メルカプト基である。

【００２１】Ｒ₂₂の好ましい例としては例えばメチル、
イソプロピル、２−メルカプトエチル、２−チエニル、
ピラゾリル、メトキシ、イソプロポキシ、ジメチルアミ
ノ、ウレイド、メチルチオ、メルカプトである。

【００２２】ｎ₂は０または１〜４の整数を表わし、好
ましいｎ₂は０または１である。

【００２３】Ａ₂は酸根、すなわちＡ₂−Ｈは酸を表わ
し、Ａ₂−Ｈの例としては例えば、塩酸、硫酸、燐酸、
ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ナフタレ
ン−１，５−ジスルホン酸、アスコルビン酸、シュウ酸
等があげられる。Ａ₂−Ｈとして好ましくは塩酸、硫
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレン−１，５−ジ
スルホン酸であり、最も好ましいＡ₂−Ｈは硫酸、ナフ
タレン−１，５−ジスルホン酸である。また、ｍ₂は０
または正の整数を表わし、ｍ₂が２以上の場合、Ａ₂−
Ｈは同一でも異なっていてもよい。

【００２４】次に本発明の一般式（Ｉ）、（II）で示さ
れる化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定さ
れるものではない。ここに示す構造では糖基の立体化学
を特定しないが、糖基の立体化学は可能性があればどの
構造でもよい。

【００２５】

【化３】

【００２６】

【化４】

【００２７】

【化５】

【００２８】

【化６】

【００２９】

【化７】

【００３０】

【化８】

【００３１】

【化９】

【００３２】

【化１０】

【００３３】

【化１１】

【００３４】これらの化合物と、前記一般式（Ｉ）、
（II）の対応関係は以下の通りである。一般式（Ｉ）：Ａ−１〜Ａ−２０一般式（II）：Ａ−２１〜Ａ−４１

【００３５】本発明の化合物である４−アミノ−Ｎ−ア
ルキルアニリン化合物、４−アミノ−Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルアニリン化合物は例えば以下に示す合成法やそれに準
じた方法にて合成することができる。

【００３６】

【化１２】

【００３７】合成は例えば上記の通り、まずアニリンの
アミノ基にアルキル基等の導入を行う。すなわちアルキ
ル基等を有するハロゲン化物、アルキル基等を有するア
ルキル或はアリールスルホネート等との反応によりアル
キル基等をまず導入する。次にアミノ基のパラ位にアゾ
カップリング、またはニトロソ基、ニトロ基の導入を行
ない、これらの生成物を還元（水素接触還元、酸性下で
亜鉛による還元、還元鉄による還元など）した後、酸で
造塩することで目的物が得られる。

【００３８】アルキル化の反応には例えば、アルキル化
剤として対応するアルキルハロゲン化物（クロリド、ブ
ロミド、ヨージド）、アルキルスルホネート（メシレー
ト、トシレート等）、アルキルエステル（アセテート、
ベンゾエート等）等を１つのアルキル化につき１〜５当
量、好ましくは１〜３当量用い、塩基として有機（トリ
エチルアミン、ジアザビシクロウンデセン等）、または
無機（炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）の塩基を
１つのアルキル化につき１〜５当量、好ましくは１〜３
当量用い、無溶媒または溶媒として水、アミド系溶媒
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、１−メチル−２−ピロリドン等）、スルホ
ン系溶媒（スルホラン等）、スルホキシド系溶媒（ジメ
チルスルホキシド等）、ウレイド系溶媒（テトラメチル
ウレア等）、エーテル系溶媒（ジオキサン等）、アルコ
ール系溶媒（イソプロピルアルコール、ブタノール等）
等を用い、無触媒または触媒（ヨウ化ナトリウム等）の
存在下、０〜２００度、好ましくは８０〜１７０度の反
応温度の範囲にて１０分〜７２時間、好ましくは３０分
〜１２時間の反応時間の範囲にて反応を行う。

【００３９】次にアミノ基のパラ位にアゾカップリン
グ、またはニトロソ基、ニトロ基の導入を行う。アゾカ
ップリングは、例えば、置換、無置換のアニリンを酸
（塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、酢酸等有機または無
機の酸）存在下、無溶媒、または水中、または有機溶媒
（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等
のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド、１−メチル−２−ピ
ロリドン等のアミド系溶媒、スルホラン等スルホン系溶
媒、ジメチルスルホキシド等スルホキシド系溶媒、テト
ラメチルウレア等ウレイド系溶媒等）中、−７８〜４０
度、好ましくは−２０〜３０度の反応温度の範囲にて、
５分〜５時間、好ましくは５分〜１時間の反応時間の範
囲にてジアゾニウム塩に変換し、このジアゾニウム塩１
〜５当量、好ましくは１〜２当量を無溶媒、または水
中、または有機溶媒（メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド、
１−メチル−２−ピロリドン等のアミド系溶媒、スルホ
ラン等スルホン系溶媒、ジメチルスルホキシド等スルホ
キシド系溶媒、テトラメチルウレア等ウレイド系溶媒
等）中、−７８〜４０度、好ましくは−２０〜３０度の
反応時間の範囲にて、５分〜５時間、好ましくは５分〜
１時間の反応時間の範囲にてＮ，Ｎ−ジアルキルアニリ
ンとカップリングさせる。カップリング反応系は弱酸性
〜弱塩基性条件が好ましい。ニトロソ化は、例えば、酸
（塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、酢酸等有機または無
機の酸）存在下、有機（亜硝酸イソアミル等）または無
機（亜硝酸ナトリウム等）のニトロソ化剤を１〜５当
量、好ましくは１〜２当量用い、無溶媒、または溶媒と
して水、または無機溶媒（メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミ
ド、１−メチル−２−ピロリドン等のアミド系溶媒、ス
ルホラン等スルホン系溶媒、ジメチルスルホキシド等ス
ルホキシド系溶媒、テトラメチルウレア等ウレイド系溶
媒等）中、−７８〜４０度、好ましくは−２０〜３０度
の反応温度の範囲にて、５分〜５時間、好ましくは５分
〜１時間の反応時間の範囲にて反応を行う。ニトロ化
は、例えば、無溶媒、または水中、または有機溶媒（メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のア
ルコール系溶媒、酢酸等の有機酸、無水酢酸、トリフル
オロ酢酸無水物等の有機酸無水物、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
セトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド、１−メ
チル−２−ピロリドン等のアミド系溶媒、スルホラン等
スルホン系溶媒、ジメチルスルホキシド等スルホキシド
系溶媒、テトラメチルウレア等ウレイド系溶媒等）中、
種々の濃度の硝酸（６０〜９８％）を１〜５当量、好ま
しくは１〜１．５当量用い、単独または硫酸、無水硫
酸、無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等種々の活性化剤
の共存下、−７８〜１００度、好ましくは−２０〜３０
度の反応温度の範囲にて、５分〜５時間、好ましくは５
分〜１時間の反応時間の範囲にて反応を行う。

【００４０】最後にこれらの生成物を還元（水素接触還
元、酸性下で亜鉛による還元、還元鉄による還元など）
することで目的物が得られる。水素接触還元は、例え
ば、触媒（パラジウム−炭素、ラネ−ニッケル等）存在
下、無溶媒、または水中、または有機溶媒（メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルフォルムアミド、１−メチル−２−ピロリドン等
のアミド系溶媒、スルホラン等スルホン系溶媒、ジメチ
ルスルホキシド等スルホキシド系溶媒、テトラメチルウ
レア等ウレイド系溶媒等）中、水素圧１〜５００気圧、
好ましくは１〜２００気圧の範囲にて、０〜１５０度、
好ましくは０〜５０度の反応温度の範囲にて、５分〜７
２時間、好ましくは１〜８時間の反応時間の範囲にて反
応を行う。還元鉄による還元は、例えば、無溶媒、また
は水中、または有機溶媒（メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミ
ド、１−メチル−２−ピロリドン等のアミド系溶媒、ス
ルホラン等スルホン系溶媒、ジメチルスルホキシド等ス
ルホキシド系溶媒、テトラメチルウレア等ウレイド系溶
媒等）中、４〜１０当量、好ましくは４〜６当量の還元
鉄を用い、０．０００１〜１当量、好ましくは０．００
１〜０．１当量の酸（塩酸、硫酸等の無機酸または酢
酸、メタンスルホン酸等の有機酸）または酸塩（塩化ア
ンモニウム、塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム等）を単
独または併用して用い、０〜１５０度、好ましくは５０
〜１００度の反応温度の範囲にて、３０分〜７２時間、
好ましくは１〜８時間の反応時間の範囲にて反応を行
う。酸性下で亜鉛による還元を行うには、例えば、３〜
１０当量、好ましくは３〜６当量の亜鉛末を用い、酸
（酢酸、メタンスルホン酸等の有機酸、塩酸、硫酸等の
無機酸）の存在下、無溶媒、または水中、または有機溶
媒（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等のアルコール系溶媒、酢酸等の有機酸、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド、
１−メチル−２−ピロリドン等のアミド系溶媒、スルホ
ラン等スルホン系溶媒、ジメチルスルホキシド等スルホ
キシド系溶媒、テトラメチルウレア等ウレイド系溶媒、
酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸等の有機酸系溶
媒等）中、０〜１５０度、好ましくは０〜１００度の反
応温度の範囲にて、５分〜７２時間、好ましくは３０分
〜３時間の反応時間の範囲にて反応を行う。

【００４１】これらの反応によって得られる生成物は通
常の有機合成反応の後処理に従って処理したのち、精製
あるいは精製せずに供することができる。すなわち、例
えば、反応系から遊離したものを精製せずに、あるいは
再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製する操作
を単独、あるいは組み合わせて行い、供することができ
る。あるいは反応終了後、反応溶媒を留去して、あるい
は留去せずに水、または氷にあけ中和して、あるいは中
和せずに遊離したものを精製せずに、或いは再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー等にて精製する操作を単独に行
い、あるいは組み合わせて行った後、供することができ
る。またあるいは、反応終了後、反応溶媒を留去して、
あるいは留去せずに水、または氷にあけ中和して、ある
いは中和せずに有機溶媒にて抽出したものを精製せず
に、あるいは晶析、カラムクロマトグラフィーにて精製
する操作を単独あるいは組み合わせて行った後、供する
ことができる。

【００４２】

【化１３】

【００４３】また合成には例えば上記の通り、ハロベン
ゼン化合物に対するアミノ化合物の置換反応を用いるこ
ともできる。

【００４４】置換反応は上に示したとおりＲ₁、Ｒ₂を
有する２級アミン化合物、あるいはＲ₁だけを有する１
級アミン化合物を用いて行うことができる。置換反応は
例えばハロベンゼン化合物などとしてフルオロベンゼン
化合物、クロロベンゼン化合物、ブロモベンゼン化合
物、ヨードベンゼン化合物、ベンゼンアルキルスルホネ
ート化合物に対してアミノ化合物を１〜５当量、好まし
くは１〜３当量用い、塩基の存在しない状態で、あるい
は塩基として有機（トリエチルアミン、ジアザビシクロ
ウンデセン等）、または無機（炭酸水素ナトリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等）の塩基を１〜５当量、好ましくは１〜３
当量用い、無溶媒または溶媒として水、アミド系溶媒
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、１−メチル−２−ピロリドン等）、スルホ
ン系溶媒（スルホラン等）、スルホキシド系溶媒（ジメ
チルスルホキシド等）、ウレイド系溶媒（テトラメチル
ウレア等）、エーテル系溶媒（ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等）、アルコール系溶媒
（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、
ブタノール、エチレングリコール等）等を単独または併
用して用い、無触媒または触媒（沃化銅（Ｉ）、テトラ
キストリフェニルホスフィンパラジウム（Ｏ）、塩化パ
ラジウム等を単独または併用）の存在下、０〜２００
℃、好ましくは２５〜１８０℃の反応温度の範囲にて１
０分〜７２時間、好ましくは３０分〜１２時間の反応時
間の範囲にて行う。この反応ではＹのパラ位にニトロ基
が置換した化合物を用いると最初の置換反応が進行しや
すく、特に一般式（II）のＮ置換基に糖基を有する化合
物の合成に有効である。

【００４５】以下に本発明の化合物の具体的な合成例を
示し、更に詳細に説明する。合成例１下記式に基づき例示化合物（Ａ−４）を合成した。

【００４６】

【化１４】

【００４７】・化合物（３）の合成化合物（１）４０．６ｇ、重曹９８．４ｇ、沃化ナトリ
ウム４５．０ｇとＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２００
mlを３ツ口フラスコに入れ、内温１３０℃にて加熱攪拌
しながらここへ化合物（２）１２８．４ｇを３０分かけ
て滴下したのち、更に４時間内温１３０℃にて加熱攪拌
した。このものを内温２５℃まで冷却し、酢酸エチル７
００ml、水５００mlを加えて抽出した後、得られた酢酸
エチル層を５００mlの水と１００mlの飽和食塩水の混合
水溶液にて５回洗浄した。こうして得られた酢酸エチル
層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、ロータリーエバポ
レーターにて濃縮し、得られた残留物をカラムクロマト
グラフィーにて精製し、目的の化合物（３）７７．４ｇ
を得た（収率６６％）。・化合物（４）の合成化合物（３）７７．４ｇ、メタノール４００mlと塩酸５
６mlを３ツ口フラスコに入れて氷冷下攪拌しながら、こ
こへ亜硝酸ナトリウム１５．７ｇを３０mlの水に溶かし
た水溶液を１０分かけて滴下した。この時内温は８〜９
℃であった。滴下終了後さらにそのまま６時間攪拌を続
けた後、重曹８４ｇを加えて攪拌し、吸引濾過にて得ら
れた濾液をロータリーエバポレーターで濃縮した。得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、目
的の化合物（４）を５３．２ｇ得た（収率８０％）。・例示化合物（Ａ−４）の合成化合物（４）５３．２ｇ、エタノール３００mlとパラジ
ウム／炭素触媒（１０％）６ｇをオートクレーブに入
れ、水素圧１００気圧で室温にて５時間攪拌した。得ら
れた反応混合物を濾過し、濾液にナフタレン−１，５−
ジスルホン酸・４水和物５６．９ｇを１００mlのメタノ
ールに溶解した溶液を加えて攪拌後、溶媒を留去して目
的の例示化合物（Ａ−４）を９３．１ｇ得た（収率９６
％）。

【００４８】合成例２下記式に基づき本発明の例示化合物（Ａ−４１−ａ）を
合成した。

【００４９】

【化１５】

【００５０】・化合物（７）の合成３ツ口フラスコに化合物（５）４２．３ｇ、Ｎ−メチル
−Ｄ−グルカミン（化合物（６））７０．３ｇ、アセト
ニトリル２００ml、水５０mlを入れ、加熱還流下にて攪
拌しながらここへトリエチルアミン５０．２mlを１０分
かけて滴下した。滴下終了後そのまま加熱還流下にて８
時間攪拌した後、７０℃まで冷却し、水１００ml、酢酸
エチル１５０ml、ヘキサン２００mlを加えて抽出操作を
行ない、得られた水層を酢酸エチル１５０ml、ヘキサン
１５０mlからなる混合溶媒にて３回洗浄した。抽出、洗
浄の間、常に内温５０℃以上を保った。こうして得られ
た水溶液に更に３００mlの水を加え、水冷下にて攪拌
し、析出した結晶を吸引濾過したのち、乾燥し、目的の
化合物（７）７３．１ｇを得た（収率：７７％）。

【００５１】・例示化合物（Ａ−４１−ａ）の合成化合物（７）７３．１ｇ、パラジウム−炭素（１０％）
７ｇ、メタノール２２０mlをオートクレーブに入れ、水
素圧１００気圧で室温にて８時間攪拌した。得られた反
応混合物にナフタレン−１，５−ジスルホン酸・４水和
物８３．２ｇを２００mlのメタノールに溶解した溶液を
加えて濾過し、得られた濾液をロータリーエバポレータ
ーにて濃縮した後、真空ポンプを用いて減圧下にて溶媒
を留去し、目的の例示化合物（Ａ−４１−ａ）１２７ｇ
を得た（収率：９６％）。

【００５２】合成例３下記式に基づき本発明の例示化合物（Ａ−３４−ａ）を
合成した。

【００５３】

【化１６】

【００５４】・化合物（１０）の合成３ツ口フラスコに化合物（８）３９．４ｇ、１−デオキ
シ−１−（メチルアミノ）−Ｄ−ガラクチトール（化合
物（９））５９．６ｇ、アセトニトリル１４０ml、水４
０mlを入れ、加熱還流下にて攪拌しながらここへトリエ
チルアミン４２．５mlを１０分かけて滴下した。滴下終
了後そのまま加熱還流下にて８時間攪拌した後、７０℃
まで冷却し、水５０ｍｌ、酢酸エチル１００ml、ヘキサ
ン１００mlを加えて抽出操作を行ない、得られた水層を
酢酸エチル１５０ml、ヘキサン１５０mlからなる混合溶
媒にて３回洗浄した。抽出、洗浄の間、常に内温５０℃
以上を保った。こうして得られた水溶液に更に３００ml
の水を加え、水冷下にて攪拌し、析出した結晶を吸引濾
過したのち、乾燥し、目的の化合物（１０）５８．７ｇ
を得た（収率：７０％）。

【００５５】・例示化合物（Ａ−３４−ａ）の合成化合物（１０）５８．７ｇ、パラジウム−炭素（１０
％）５ｇ、メタノール１５０mlをオートクレーブに入
れ、水素圧１００気圧で室温にて８時間攪拌した。得ら
れた反応混合物にナフタレン−１，５−ジスルホン酸・
４水和物６３．９ｇを１００mlのメタノールに溶解した
溶液を加えて濾過し、得られた濾液をロータリーエバポ
レーターにて濃縮した後、真空ポンプを用いて減圧下に
て溶媒を留去し、目的の例示化合物（Ａ−３４−ａ）１
０５ｇを得た（収率：１００％）。

【００５６】合成例４下記式に従い、本発明の例示化合物（Ａ−３１−ａ）を
合成した。

【００５７】

【化１７】

【００５８】・化合物（１３）の合成３ツ口フラスコに化合物（１１）８１．２ｇ、Ｄ−グル
コース（化合物（１２））、メタノール１．２リットル
を入れ、加熱還流下にて５時間攪拌した後、溶媒を留去
し、水０．８リットル、ヘキサン０．７リットルを入
れ、抽出した。得られた水層に酢酸エチル１リットルを
加えて抽出し、こうして得られた酢酸エチル層を無水硫
酸ナトリウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターで
濃縮して目的の化合物（１３）１１０ｇを粗生成物とし
て得た（６２％）。このものはそのまま次工程に供し
た。・化合物（１４）の合成化合物（１３）１００ｇ、メタノール７００mlを３ツ口
フラスコに入れ、水冷下水素化ホウ素ナトリウム２５．
４ｇを添加し（内温４２℃まで上昇）、そのまま２時間
攪拌した後、加熱還流下にて２時間攪拌した。溶媒を留
去し、水酸化ナトリウム５０ｇを水５００mlに溶解した
水溶液と酢酸エチル７００mlを添加して抽出し、得られ
た酢酸エチル層を水５００mlと飽和食塩水１００mlの混
合液で３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し
た。このものをロータリーエバポレーターで濃縮し、得
られた残留物にヘキサン３００mlを加えて攪拌した後、
結晶を濾過して目的の化合物（１４）７０．０ｇを得た
（収率７０％）。・化合物（１５）の合成化合物（１４）２４ｇ、重曹２０．２ｇ、沃化ナトリウ
ム７．２ｇとＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド７２mlを３
ツ口フラスコに入れ、内温１００℃にて加熱攪拌しなが
らここへ臭化ヘキシル１５．８ｇを１０分かけて滴下し
たのち、更に５時間内温１００℃にて加熱攪拌した。こ
のものを内温２５℃まで冷却し、酢酸エチル３００ml、
水２００mlを加えて抽出した後、得られた酢酸エチル層
を２００mlの水と５０mlの飽和食塩水の混合水溶液にて
４回洗浄した。こうして得られた酢酸エチル層を無水硫
酸ナトリウムにて乾燥し、ロータリーエバポレーターに
て濃縮し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
にて精製し、目的の化合物（１５）１８．０ｇを得た
（収率６０％）。・化合物（１６）の合成３ツ口フラスコに２，５−ジクロロアニリン１０．０
ｇ、水６０mlを入れて氷冷下攪拌しながら、ここへ硫酸
２０．０mlを添加した。更に内温を８度以下に保ちなが
らここへ亜硝酸ナトリウム４．７ｇを１０mlの水に溶解
した水溶液を１０分かけて滴下し、滴下終了後３０分攪
拌を続けた。他の３ツ口フラスコに化合物（１５）１
４．０ｇ、酢酸ナトリウム３６．１ｇ、酢酸２５ml、メ
タノール５０mlを入れて、氷冷下攪拌しながら先に調製
したジアゾニウム塩の溶液を内温を１８度以下に保ちな
がら添加した。途中ＴＬＣにて反応を追跡し、化合物
（１５）が反応系内で消失したところでジアゾニウム塩
の溶液の添加を終了した。添加終了後そのまま３０分攪
拌を続けた後、水７００ml、酢酸エチル１リットルを加
えて攪拌し、炭酸水素ナトリウムで中和した後、抽出し
た。抽出して得られた酢酸エチル層を水６００mlと飽和
食塩水１００mlの混合液で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
にて乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮して、得
られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製して、目的の化合物（１６）１５．８ｇを得た
（収率７８％）。・例示化合物（Ａ−３１−ａ）の合成化合物（１６）１０．０ｇ、パラジウム−炭素（１０
％）２ｇ、メタノール１００mlをオートクレーブに入
れ、水素圧１００気圧で室温にて５時間攪拌した。得ら
れた反応混合物にナフタレン−１，５−ジスルホン酸・
４水和物６．５ｇを１５mlのメタノールに溶解した溶液
を加えて濾過し、得られた濾液をロータリーエバポレー
ターにて濃縮した後、酢酸エチル２００mlと水２００ml
を加えて攪拌して溶解、分液し、得られた水層を更に酢
酸エチル２００mlで３回洗浄した。こうして得られた水
層から溶媒を留去して目的の例示化合物（Ａ−３１−
ａ）１２．０ｇを得た（収率９７％）。

【００５９】本発明における一般式（Ｉ）または（II）
の化合物は、染毛剤組成物全体に対して０．００１重量
％〜４０重量％配合されるのが好ましく、更に好ましく
は０．０１重量％〜３０重量％である。

【００６０】本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、通常カ
プラーと呼ばれるフェノール化合物等とともに髪に浸透
し、酸化剤の働きで色素を形成する結果、染毛する方式
に用いることが好ましい。

【００６１】また、酸化剤としては、例えば、過炭酸ナ
トリウム、過炭酸カリウム、過ホウ酸ナトリウム、過ホ
ウ酸カリウム、過ホウ酸カリウム、過酸化ナトリウム、
過酸化カリウム、過酸化マグネシウム、過酸化バリウ
ム、過酸化カルシウム、過酸化ストロンチウム、硫酸塩
の過酸化水素付加物、リン酸塩の過酸化水素付加物、ピ
ロリン酸塩の過酸化水素付加物、過酸化尿素、過酸化メ
ラミン等であり、好ましくは過炭酸ナトリウム、過炭酸
カリウム、過ホウ酸ナトリウム、過ホウ酸カリウムであ
る。

【００６２】更に、ケラチン繊維特に毛髪のための染色
組成物中に通常使用される化合物、例えばｐ−フェニレ
ンジアミン、ｐ−トルエンジアミン、２−クロロ−ｐ−
フェニレンジアミン、ｐ−アミノフェノール、ｐ−メチ
ルアミノフェーノール、レゾルシン、ｍ−フェニレンジ
アミン、５−アミノ−２−メチルフェノール、４−ニト
ロ−ｏ−フェニレンジアミン、２−ニトロ−ｐ−フェニ
レンジアミン、ピクラミン酸およびそれらの塩から選ば
れる１種または２種以上の染料を添加することにより、
様々な色調が得られると共に、より一層の染毛効果を得
ることができる。これらの染料の配合量は、０．００１
重量％〜３０重量％であり、染毛効果の点から好ましく
は０．０１重量％〜２０重量％である。

【００６３】これらの染毛剤組成物には、上記の染料の
他、２，４−ジアミノフェネトール、１−メトキシ−２
−アミノ−４−（２−ヒドロキシエチル）アミノベンゼ
ン、およびそれらの塩、あるいは「医薬部外品原料規
格」（１９９１年６月発行、薬事日報社）に収載されて
いる染料を配合することができる。

【００６４】本発明の染毛剤組成物は、本発明の効果が
損われない範囲で通常の染毛剤に用いられる他の成分を
配合することができる。例えば油性成分としては、天然
油脂、高級脂肪酸、ステロール類、エステル油、炭化水
素油、高級アルコール等が挙げられ、好ましくは天然油
脂、高級脂肪酸、ステロール類、エステル油である。天
然油脂としては、例えばアボガド油、ツバキ油、マカデ
ミアナッツ油、トウモロコシ油、ミンク油、オリーブ
油、ナタネ油、卵黄油、ゴマ油、小麦胚芽油、ヒマシ
油、アマニ油、サフラワー油、綿実油、大豆油、落花生
油、茶実油、コメヌカ油、ホホバ油、胚芽油、トリグリ
セリン、トリオクタン酸グリセリン、トリイソパルミチ
ン酸グリセリン等の液体油脂が挙げられる。

【００６５】高級脂肪酸としては、例えば、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン（ベヘニン）酸、オレイン酸、１２−ヒドロキシステ
アリン酸、ウンデシレン酸、トール酸、イソステアリン
酸、リノール酸、リノレイン酸、エイコサペンタエン酸
（ＥＰＡ）、ドコサヘキサエン酸（ＤＨＡ）等が挙げら
れる。ステロール類としては、例えば、コレステロー
ル、フィトステロール等が挙げられる。

【００６６】エステル油としては、ミリスチン酸イソプ
ロピル、オクタン酸セチル、ミリスチン酸オクチルドデ
シル、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸ブチ
ル、ラウリン酸ヘキシル、ミリスチン酸ミリスチル、オ
レイン酸デシル、ジメチルオクタン酸ヘキシルデシル、
乳酸セチル、乳酸ミリスチル、酢酸ラノリン、ステアリ
ン酸イソセチル、イソステアリン酸イソセチル、１２−
ヒドロキシステアリン酸コレステリル、ジ−２−エチル
ヘキシル酸エチレングリコール、ジペンタエリスリトー
ル脂肪酸エステル、モノイソステアリン酸Ｎ−アルキル
グリコール、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、リ
ンゴ酸ジイソステアリル、ジ−２−ヘプチルウンデカン
酸グリセリン、トリ−２−エチルヘキシル酸トリメチロ
ールプロパン、トリイソステアリン酸トリメチロールプ
ロパン、テトラ−２−エチルヘキシル酸ペンタエリスリ
トール、トリ−２−エチルヘキシル酸グリセリン、セチ
ル−２−エチルヘキサノエート、エチルヘキシルパルミ
テート等が挙げられる。

【００６７】炭化水素油としては、流動パラフィン、オ
ゾケライト、スクワレン、プリスタン、パラフィン、セ
レシン、ワセリン、マイクロクリスタリンワックス等が
挙げられる。高級アルコールとしては、ラウリルアルコ
ール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘ
ニルアルコール、ミリスチルアルコール、オレイルアル
コール、セトステアリルアルコール等の直鎖高級アルコ
ール、モノステアリルグリセリンエーテル（バチルアル
コール）、２−デシルテトラデシノール、ラノリンアル
コール、ヘキシルドデカノール、イソステアリルアルコ
ール、オクチドデカノール等の分岐鎖高級アルコールが
挙げられる。

【００６８】またグリセリン、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、コ
ンドロイチン硫酸塩、ヒアルロン酸塩、、ジグリセリ
ン、１，３−ブチレングリコール、ピロリドンカルボン
酸塩、ソルビトール、マルチトール、ラクトース、オリ
ゴ糖、小麦ポリペプタイド等の保湿剤、メチルフェニル
ポリシロキサン、ジメチルシロキサン・メチル（ポリオ
キシエチレン）シロキサン共重合体、ゴム状シメチルポ
リシロキサン、アミノ変性ポリシロキサン等のシリコー
ン類を配合することができる。

【００６９】また、チオグリコール塩酸、Ｌ−アスコル
ビン酸塩、亜硫酸水素塩、ハイドロサルファイト塩、硫
酸水素塩等の酸化防止剤及び安定化剤、コラーゲン加水
分解物、ケラチン加水分解物、シルクプロテイン加水分
解物、エラスチン加水分解物、大豆蛋白加水分解物等の
蛋白質加水分解物及びこれらの四級化物を配合すること
も可能である。また、乳化剤として、他の両親媒性物質
や、界面活性剤を用いることも可能である。

【００７０】非イオン性界面活性剤としては、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸
部分エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油誘導体
等のポリオキシエチレン系界面活性剤、オクチルポリグ
リコシド等のアルキルポリグリコシド類、ポリグリセリ
ン脂肪酸エステル、ポリグリセリンアルキルエーテル等
のポリグリセリン系界面活性剤、マルチトールヒドロキ
シアルキルエーテル等の糖アルコールヒドロキシアルキ
ルエーテル類、脂肪酸ジエタールアミド等が挙げられ、
高級脂肪酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、リ
ン酸エステル類、アルキル硫酸塩類、アルキル硫酸エス
テル塩類、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩
類等のアニオン性界面活性剤、アミノ酸類、アルキルト
リメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニ
ウム塩、アルキルジメチルアミンオキサイド等のカチオ
ン性界面活性剤等を適宜併用できる。

【００７１】更に、例えば、エタノール、ブタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール
等の低級アルコール類、２−エチルヘキシルアルコー
ル、２−ヘキシルデシルアルコール、２−デシルテトラ
デシルアルコール、イソステアリルアルコール、セトス
テアリルアルコール、ラウリルアルコール、ステアリル
アルコール、セチルアルコール等の高級アルコール類等
を配合することができる。また、金属イオン封鎖剤及び
防腐剤として、ヒドロキシエタンジホスホン酸塩類、フ
ェナセチン、ＥＤＴＡ及びその塩、パラベン類、スズ酸
塩類等が挙げられ、高分子化合物としては、ポリ（ジメ
チルアリルアンモニウムハライド）型カチオン性高分
子、ポリエチレングリコール、エピクロルヒドリン、プ
ロピレンアミン及び牛脂脂肪酸より得られるタロイルア
ミンの縮合生成物型であるカチオン性高分子、ポリエチ
レングリコール、エピクロルヒドリン、プロピレンアミ
ン及びヤシ油脂肪酸より得られるココイルアミンの縮合
生成物型であるカチオン性高分子、ビニルピロリドン、
ジメチルアミノメタアクリレート共重合体型カチオン性
高分子、第４級窒素含有セルロースエーテル型カチオン
性高分子類等が挙げられる。

【００７２】また、ラウリン酸ジエタノールアミド、カ
ルボキシメチルセルロース、カルボキシビニルポリマ
ー、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピル
セルロース、メチルセルロース、キサンタンガム、カラ
ギーナン、アルギン酸塩、ペクチン、フェーセラン、ア
ラビアガム、ガツチガム、カラヤガム、トラガントガ
ム、カンテン末、ベントナイト、架橋性ポリアクリル酸
塩等の増粘剤を配合することも可能である。

【００７３】更に、本発明においては、塩酸、硫酸、硝
酸、燐酸、ピロリン酸、酢酸、乳酸、クエン酸、コハク
酸、酒石酸、リンゴ酸、レブリン酸、およびこられのナ
トリウム、カリウム、アンモニウム塩等のｐＨ調製剤、
色素、香料等を配合することも好ましく用いられる。

【００７４】本発明の染毛剤組成物は、１剤型、あるい
は酸化染料を含む第１剤と酸化剤を含む第２剤からなる
２剤型、あるいはそれ以上の多剤型のいずれであっても
よく、例えば液状物、クリーム状物、ゲル状物等、ケラ
チン繊維の特にヒトの毛髪の染色を行うのに適する他の
あらゆる状態で供することが可能である。また、保存時
に粉体で使用時に水を加えることにより液状物、クリー
ム状物、ゲル状物等となることも好ましい。また、この
組成物は推進剤の存在下でエアゾル容器中に包装される
ことも好ましい。

【００７５】

【実施例】以下に本発明を実施例により、更に詳細に説
明するが本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７６】実施例１（試料 No.１）重量％硫酸ｐ−トルエンジアミン１０．０ｐ−アミノフェノール３．０５−アミノ−２−メチルフェノール１．０レゾルシン２．０過炭酸ナトリウム４０．０リン酸一水素アンモニウム１５．０塩化ステアリルトリメチルアンモニウム２．０エデト酸二ナトリウム０．２キサンタンガム６．５カルボキシメチルセルロースナトリウム２０．０香料０．３上記試料の硫酸ｐ−トルエンジアミンを等モルの（表−
１）に示した化合物に置き換える以外は、全く同様にし
て試料 No.２〜１２を調製した。

【００７７】

【化１８】

【００７８】（染色性、耐洗浄性試験）１．染色性の評価試料 No.１〜１２について各々２０ｇに水８０mlを加え
て混合し、染毛剤塗布液を調製した。この塗布液を白髪
混じりの人毛毛束に塗布し、室温で３０分間放置した
後、洗浄した。染毛した人毛毛束を肉眼で観察し、染色
性を以下の基準で評価した。 ◎：自然な黒褐色に染まり、白髪をほぼ完全にカバーし
いてる ○：自然な黒褐色に染まるが、白髪が若干見られる △：褐色に染まり、やや白髪が目立つ ×：淡褐色に染まり、白髪が目立つ２．耐洗浄性の評価上記にて染色性評価を行った後、毛束を２等分し、一方
を市販シャンプー液に浸して１０回手もみ洗いした後、
乾燥した。これを１０回繰り返し、シャンプーの前後の
毛束を並べて肉眼で比較し、耐洗浄性を以下の基準で評
価した。 ◎：全く褪色しない ○：かすかに褪色する △：褪色がはっきりわかる ×：褪色が著しい（伸展性・塗布性、均染性試験）試料１〜１２を用いて
１０人のパネラーの頭髪を染毛処理し、染毛時の伸展性
・塗布性及び均染性を以下の基準で評価した。３．伸展性・塗布性 ◎：伸びが極めて良好で塗布しやすい ○：伸びが良好で塗布しやすい △：伸びがあまり良くなく、塗布しにくい ×：伸びが悪く、塗布にムラができる４．均染性 ◎：均一に染まった ○：殆ど均一に染まった △：染まり具合にややムラができた ×：はっきりと染めムラができた

【００７９】

【表１】

【００８０】得られた結果をまとめて（表−１）に示
す。（表−１）より本発明の化合物は染色性が良好で伸
展性・塗布性・均染性に非常にすぐれ、更に耐洗浄性も
良好であることがわかる。これらの結果は本発明者によ
り初めて見出されたことであって、従来の技術からは到
底予想できるものではない。

【００８１】実施例２重量％例示化合物（Ａ−７）２５．０ｐ−アミノフェノール４．０硫酸ｍ−フェニレンジアミン０．５レゾルシン３．０２−ニトロ−ｐ−フェニレンジアミン１．０過ホウ酸ナトリウム３０．０ラウリル硫酸ナトリウム８．０ヒドロキシエチルセルロース・ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリドエーテル２．０エデト酸０．２キサンタンガム６．０ヒドロキシエチルセルロース２０．０香料０．３上記粉末組成物３０ｇに水１００mlを加えて混合し、染
毛剤塗布液を調製した。この塗布液を白髪混じりの人毛
毛束に塗布し、室温で２０分間放置後洗浄した。結果
は、毛束は自然な黒褐色に染まって白髪をほぼ完全にカ
バーし、耐洗浄性も良好であった。また６０℃、２週間
経過後の安定性も良好であった。

【００８２】実施例３実施例２の例示化合物（Ａ−７）を等モルの例示化合物
（Ａ−３）、（Ａ−６）、（Ａ−１８）、（Ａ−２
４）、（Ａ−３３）に置き換える以外は全く同様にして
染毛剤組成物を調製し、実施例２と同様に試験したとこ
ろ、染色性、耐洗浄性が良好であった。

【００８３】実施例４実施例２の例示化合物（Ａ−７）を等モルの例示化合物
（Ａ−２１）、（Ａ−２９）、（Ａ−３１）、（Ａ−３
２）、（Ａ−３４）、（Ａ−３６）に置き換える以外は
全く同様にして染毛剤組成物を調製し、実施例２と同様
に試験したところ、染色性、耐洗浄性が良好で、しかも
頭皮に対して刺激のない安全な染毛剤組成物であった。

【００８４】

【発明の効果】本発明により染色性、が良好で、染毛処
理の際に伸展性・塗布性、均染性に優れ、更に耐洗浄性
の良好な染毛剤組成物を得ることができる。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１０年１月２８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項１

【補正方法】変更

【補正内容】

【化１】一般式（Ｉ）において、式中Ｒ_１１は置換基を表わし、
ｎ_１は０または１〜４の整数を表わす。ｎ_１が２以上の
場合、Ｒ_１１は同一でも異なっていてもよく、また互い
に環を形成してもよい。Ａ_１は酸根、すなわちＡ_１−Ｈ
は酸を表わし、ｍ_１は０または正の整数を表わす。一般
式（ＩＩ）において、Ｒ_２１は水素原子、アルキル基、
アリール基またはヘテロ環基を表わし、Ｒ_２２は置換基
を表わし、ｎ_２は０または１〜４の整数を表わす。ｎ_２
が２以上の場合、Ｒ_２２は同一でも異なっていてもよ
く、また互いに環を形成していても良い。また、Ｒ_２１
とＲ_２２が互いに環を形成することはない。Ａ_２は酸
根、すなわちＡ_２−Ｈは酸を表わし、ｍ_２は０または正
の整数を表わす。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００５

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００５】

【化２】

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３６】

【化１２】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の一般式（Ｉ）または（II）で表わ
される化合物の少なくとも１種を配合することを特徴と
する染毛剤組成物。【化１】一般式（Ｉ）において、式中Ｒ₁₁は置換基を表わし、ｎ
₁は０または１〜４の整数を表わす。ｎ₁が２以上の場
合、Ｒ₁₁は同一でも異なっていてもよく、また互いに環
を形成してもよい。Ａ₁は酸根、すなわちＡ₁−Ｈは酸
を表わし、ｍ₁は０または正の整数を表わす。一般式（I
I）において、Ｒ₂₁は水素原子、アルキル基、アリール
基またはヘテロ環基を表わし、Ｒ₂₂は置換基を表わし、
ｎ₂は０または１〜４の整数を表わす。ｎ₂が２以上の
場合、Ｒ₂₂は同一でも異なっていてもよく、また互いに
環を形成していても良い。また、Ｒ₂₁とＲ₂₂が互いに環
を形成することはない。Ａ₂は酸根、すなわちＡ₂−Ｈ
は酸を表わし、ｍ₂は０または正の整数を表わす。