JPH1115116A - ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびこれを用いた画像形成方法 - Google Patents
ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびこれを用いた画像形成方法Info
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- JPH1115116A JPH1115116A JP16313097A JP16313097A JPH1115116A JP H1115116 A JPH1115116 A JP H1115116A JP 16313097 A JP16313097 A JP 16313097A JP 16313097 A JP16313097 A JP 16313097A JP H1115116 A JPH1115116 A JP H1115116A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】経時で劣化してしまう現像主薬を含まない単純
なアルカリ液で処理でき、高温高湿下、もしくは光照射
下での感光材料の長期保存によるステインが低減され、
更には色像堅牢性に優れた感光材料を提供する。 【解決手段】支持体上の写真構成層のいずれかに、カル
バモイルヒドラジン系発色用還元剤と色素形成カプラー
を高沸点有機溶媒中に溶解した疎水性微粒子が分散した
分散物を含有し、且つ該疎水性微粒子の分散物外に、前
記の発色用還元剤の酸化体と反応して無色の化合物を生
成するカプラーであって、且つそのカップリング活性位
に一つの置換基が置換したカプラーを含有する。
なアルカリ液で処理でき、高温高湿下、もしくは光照射
下での感光材料の長期保存によるステインが低減され、
更には色像堅牢性に優れた感光材料を提供する。 【解決手段】支持体上の写真構成層のいずれかに、カル
バモイルヒドラジン系発色用還元剤と色素形成カプラー
を高沸点有機溶媒中に溶解した疎水性微粒子が分散した
分散物を含有し、且つ該疎水性微粒子の分散物外に、前
記の発色用還元剤の酸化体と反応して無色の化合物を生
成するカプラーであって、且つそのカップリング活性位
に一つの置換基が置換したカプラーを含有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラー写真技術に関
し、特に環境保全、簡易迅速処理に対応でき、更に発色
性、保存安定性や色相の良好なハロゲン化銀カラー写真
感光材料及びカラー画像形成法に関する。
し、特に環境保全、簡易迅速処理に対応でき、更に発色
性、保存安定性や色相の良好なハロゲン化銀カラー写真
感光材料及びカラー画像形成法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、カラー写真感光材料は、露光
後、発色現像することにより、酸化されたｐ−フェニレ
ンジアミン誘導体とカプラーが反応し画像が形成され
る。この方式においては減色法による色再現法が用いら
れ、青、緑、及び赤を再現する為にはそれぞれの補色の
関係にあるイエロー、マゼンタ及びシアンの色画像が形
成される。発色現像は、露光されたカラー写真感光材料
をｐ−フェニレンジアミン誘導体含有アルカリ水溶液
（発色現像液）中に浸漬することで達成される。しか
し、アルカリ水溶液としたｐ−フェニレンジアミン誘導
体は不安定で経時劣化を起こしやすいため、処理量が多
く頻繁に補充液が補充される場合には問題はないが、処
理量が少なく、補充液の補充が少ない場合、発色現像液
は長時間の使用には耐えられず、交換する必要があると
いう問題がある。また、処理量が多い場合には、ｐ−フ
ェニレンジアミン誘導体を含んだ使用済み発色現像液が
大量に排出される。この使用済みの発色現像液は廃棄処
理が頻繁であり、大量に排出される使用済み発色現像液
の処理は大きな問題となっている。
後、発色現像することにより、酸化されたｐ−フェニレ
ンジアミン誘導体とカプラーが反応し画像が形成され
る。この方式においては減色法による色再現法が用いら
れ、青、緑、及び赤を再現する為にはそれぞれの補色の
関係にあるイエロー、マゼンタ及びシアンの色画像が形
成される。発色現像は、露光されたカラー写真感光材料
をｐ−フェニレンジアミン誘導体含有アルカリ水溶液
（発色現像液）中に浸漬することで達成される。しか
し、アルカリ水溶液としたｐ−フェニレンジアミン誘導
体は不安定で経時劣化を起こしやすいため、処理量が多
く頻繁に補充液が補充される場合には問題はないが、処
理量が少なく、補充液の補充が少ない場合、発色現像液
は長時間の使用には耐えられず、交換する必要があると
いう問題がある。また、処理量が多い場合には、ｐ−フ
ェニレンジアミン誘導体を含んだ使用済み発色現像液が
大量に排出される。この使用済みの発色現像液は廃棄処
理が頻繁であり、大量に排出される使用済み発色現像液
の処理は大きな問題となっている。
【０００３】発色現像液中のｐ−フェニレンジアミン誘
導体を処理液中から除去すれば、発色現像液のこのよう
な経時劣化、煩雑な廃液処理の問題は解決することがで
きる。しかしながら、ｐ−フェニレンジアミンを処理液
から除去した場合には当然発色は起こらない。ｐ−フェ
ニレンジアミン誘導体を除去したアルカリ液で発色を行
うためには、感光材料中にｐ−フェニレンジアミンもし
くはそれと同様の働きをする化合物を感光材料中に含有
させればよく、例えば、芳香族第一級アミンまたはその
前駆体を感光材料中に内蔵する方法があり、内蔵可能な
芳香族第一級アミン現像主薬またはその前駆体として
は、米国特許第２，５０７，１１４号、同３，７６４，
３２８号、同４，０６０，４１８号、特開昭５６−６２
３５号、同５８−１９２０３１号等に記載の化合物が挙
げられる。しかし、これらの芳香族第一級アミン及びそ
の前駆体は不安定なため、未処理の感光材料の長期保存
または発色現像時にステインが発生するという欠点を有
している。いま一つの有効な手段は、例えば、欧州特許
０，５４５，４９１Ａ１号、同５６５，１６５Ａ１号、
特開平８−２８６３４０号、同８−２９２５２９号、同
８−２９７３５４号、同８−３２０５４２号、同８−２
９２５３１号等に記載のヒドラジン化合物を親水性コロ
イド層中に内蔵する方法が挙げられる。しかしここで挙
げられているヒドラジン型化合物でも、処理して作成さ
れたカラー写真の長期保存による高温高湿条件下で生じ
るステインは未だに実用上十分少ないレベルであるとい
えない。さらには、ヒドラジン型発色用還元剤を親水性
コロイド層中に内蔵した場合に光照射によるステインも
観測され、これも実用上無視しがたいレベルであった。
上記の問題に対して、光、または熱に対する保存安定性
を上げる技術の開発が望まれていた。
導体を処理液中から除去すれば、発色現像液のこのよう
な経時劣化、煩雑な廃液処理の問題は解決することがで
きる。しかしながら、ｐ−フェニレンジアミンを処理液
から除去した場合には当然発色は起こらない。ｐ−フェ
ニレンジアミン誘導体を除去したアルカリ液で発色を行
うためには、感光材料中にｐ−フェニレンジアミンもし
くはそれと同様の働きをする化合物を感光材料中に含有
させればよく、例えば、芳香族第一級アミンまたはその
前駆体を感光材料中に内蔵する方法があり、内蔵可能な
芳香族第一級アミン現像主薬またはその前駆体として
は、米国特許第２，５０７，１１４号、同３，７６４，
３２８号、同４，０６０，４１８号、特開昭５６−６２
３５号、同５８−１９２０３１号等に記載の化合物が挙
げられる。しかし、これらの芳香族第一級アミン及びそ
の前駆体は不安定なため、未処理の感光材料の長期保存
または発色現像時にステインが発生するという欠点を有
している。いま一つの有効な手段は、例えば、欧州特許
０，５４５，４９１Ａ１号、同５６５，１６５Ａ１号、
特開平８−２８６３４０号、同８−２９２５２９号、同
８−２９７３５４号、同８−３２０５４２号、同８−２
９２５３１号等に記載のヒドラジン化合物を親水性コロ
イド層中に内蔵する方法が挙げられる。しかしここで挙
げられているヒドラジン型化合物でも、処理して作成さ
れたカラー写真の長期保存による高温高湿条件下で生じ
るステインは未だに実用上十分少ないレベルであるとい
えない。さらには、ヒドラジン型発色用還元剤を親水性
コロイド層中に内蔵した場合に光照射によるステインも
観測され、これも実用上無視しがたいレベルであった。
上記の問題に対して、光、または熱に対する保存安定性
を上げる技術の開発が望まれていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、経時
で劣化してしまう現像主薬を含まない単純なアルカリ液
で処理でき、高温高湿下、もしくは光照射下での感光材
料の長期保存によるステインが低減され、更には色像堅
牢性に優れた感光材料を提供することにある。
で劣化してしまう現像主薬を含まない単純なアルカリ液
で処理でき、高温高湿下、もしくは光照射下での感光材
料の長期保存によるステインが低減され、更には色像堅
牢性に優れた感光材料を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の方
法により達成されることを見出した。 （１）支持体上に少なくとも一層の写真構成層を有する
ハロゲン化銀カラー写真感光材料において、ひとつ又は
複数の写真構成層のいずれかに、少なくとも一種の下記
一般式（Ｉ）で表される発色用還元剤と少なくとも一種
の色素形成カプラーを少なくとも一種の高沸点有機溶媒
中に溶解した疎水性微粒子が分散した分散物を含有し、
且つ、該疎水性微粒子の分散物外に一般式（Ｉ）で表さ
れる発色用還元剤の酸化体と反応して無色の化合物を生
成するカプラーであって、且つそのカップリング活性位
に一つの置換基が置換した少なくとも一つのカプラーを
含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光
材料。
法により達成されることを見出した。 （１）支持体上に少なくとも一層の写真構成層を有する
ハロゲン化銀カラー写真感光材料において、ひとつ又は
複数の写真構成層のいずれかに、少なくとも一種の下記
一般式（Ｉ）で表される発色用還元剤と少なくとも一種
の色素形成カプラーを少なくとも一種の高沸点有機溶媒
中に溶解した疎水性微粒子が分散した分散物を含有し、
且つ、該疎水性微粒子の分散物外に一般式（Ｉ）で表さ
れる発色用還元剤の酸化体と反応して無色の化合物を生
成するカプラーであって、且つそのカップリング活性位
に一つの置換基が置換した少なくとも一つのカプラーを
含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光
材料。
【０００６】
【化２】
【０００７】式中、Ｃαは炭素原子を表す。Ｒは置換ま
たは無置換のアルキル基、アリール基、または複素環基
を表し、ＱはＣαとともに不飽和の環を形成する原子群
を表す。 （２）該一般式（Ｉ）で表される発色用還元剤の酸化体
と反応して無色の化合物を生成するカプラーであって、
且つカップリング活性位に一つの置換基が置換したカプ
ラーが、ポリマーカプラーラテックスであることを特徴
とする前項（１）に記載のハロゲン化銀カラー写真感光
材料。 （３）ポリマーカプラーラテックスの活性位の置換基が
活性位に炭素原子、硫黄原子もしくは窒素原子で連結し
ているポリマーカプラーラテックスであることを特徴と
する前項（２）に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材
料。 （４）全ての塗布層の銀量を合計した塗布銀量が銀換算
で０．００３〜０．３ｇ／m2のハロゲン化銀を含有する
ことを特徴とする前項（１）、（２）または（３）に記
載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 （５）１画素当たりの露光時間が１０-8〜１０-4秒でか
つ隣接するラスター間の重なりがある走査露光で露光す
るのに適した前項（１）、（２）、（３）または（４）
に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 （６）実質的に発色用現像主薬を含まないアルカリ性処
理液で前項（１）、（２）、（３）、（４）または
（５）に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料を処理
することを特徴とする画像形成方法。
たは無置換のアルキル基、アリール基、または複素環基
を表し、ＱはＣαとともに不飽和の環を形成する原子群
を表す。 （２）該一般式（Ｉ）で表される発色用還元剤の酸化体
と反応して無色の化合物を生成するカプラーであって、
且つカップリング活性位に一つの置換基が置換したカプ
ラーが、ポリマーカプラーラテックスであることを特徴
とする前項（１）に記載のハロゲン化銀カラー写真感光
材料。 （３）ポリマーカプラーラテックスの活性位の置換基が
活性位に炭素原子、硫黄原子もしくは窒素原子で連結し
ているポリマーカプラーラテックスであることを特徴と
する前項（２）に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材
料。 （４）全ての塗布層の銀量を合計した塗布銀量が銀換算
で０．００３〜０．３ｇ／m2のハロゲン化銀を含有する
ことを特徴とする前項（１）、（２）または（３）に記
載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 （５）１画素当たりの露光時間が１０-8〜１０-4秒でか
つ隣接するラスター間の重なりがある走査露光で露光す
るのに適した前項（１）、（２）、（３）または（４）
に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 （６）実質的に発色用現像主薬を含まないアルカリ性処
理液で前項（１）、（２）、（３）、（４）または
（５）に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料を処理
することを特徴とする画像形成方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。以下に本発明で用いられる発色用還
元剤について詳しく説明する。本発明に用いられる一般
式（Ｉ）で表わされる発色用還元剤は、アルカリ溶液
中、露光されたハロゲン化銀によって酸化される化合
物、または酸化された補助現像主薬と酸化還元反応し、
酸化される化合物であり、その酸化体はさらに色素形成
カプラーと反応し、色素を形成することを特徴とする化
合物である。
て詳細に説明する。以下に本発明で用いられる発色用還
元剤について詳しく説明する。本発明に用いられる一般
式（Ｉ）で表わされる発色用還元剤は、アルカリ溶液
中、露光されたハロゲン化銀によって酸化される化合
物、または酸化された補助現像主薬と酸化還元反応し、
酸化される化合物であり、その酸化体はさらに色素形成
カプラーと反応し、色素を形成することを特徴とする化
合物である。
【０００９】次に本発明で使用する一般式（Ｉ）で表わ
される化合物について詳しく述べる。一般式（Ｉ）にお
いてＲはアルキル基、アリール基、複素環基を表す。Ｒ
で表される基の炭素数の好ましい範囲は１〜５０であ
り、より好ましくは１〜４０である。具体的な例として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、sec-ブチル
基、ｎ−オクチル基、シクロヘキシル基、tert−ブチル
基、ドデシル基、３−ドデシルオキシプロピル基、オク
タデシル基、３−（２，４−tert−ペンチルフェノキ
シ）プロピル基、２−ヘキシルデシル基、フェニル基、
４−ドデシルオキシフェニル基、２−クロロ−５−ドデ
シルオキシカルボニルフェニル基、ナフチル基、３−ピ
リジル基、３，５−ビス−オクチルオキシカルボニルフ
ェニル基、３，５−ビス−テトラデシルオキシフェニル
基、２，５−ジオキソ−１−ピロリジニル基が挙げられ
る。
される化合物について詳しく述べる。一般式（Ｉ）にお
いてＲはアルキル基、アリール基、複素環基を表す。Ｒ
で表される基の炭素数の好ましい範囲は１〜５０であ
り、より好ましくは１〜４０である。具体的な例として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、sec-ブチル
基、ｎ−オクチル基、シクロヘキシル基、tert−ブチル
基、ドデシル基、３−ドデシルオキシプロピル基、オク
タデシル基、３−（２，４−tert−ペンチルフェノキ
シ）プロピル基、２−ヘキシルデシル基、フェニル基、
４−ドデシルオキシフェニル基、２−クロロ−５−ドデ
シルオキシカルボニルフェニル基、ナフチル基、３−ピ
リジル基、３，５−ビス−オクチルオキシカルボニルフ
ェニル基、３，５−ビス−テトラデシルオキシフェニル
基、２，５−ジオキソ−１−ピロリジニル基が挙げられ
る。
【００１０】ＱはＣαとともに不飽和の環を形成する原
子群を表わすが、形成される不飽和の環は３〜８員環が
好ましく、より好ましくは５〜６員環である。この例と
してはベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジ
ン環、ピリダジン環、１，２，４−トリアジン環、１，
３，５−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、
ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，
４−トリアゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チ
アジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，
２，５−チアジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾ
ール環、１，２，４−オキサジアゾール環、１，２，５
−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール
環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェ
ン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合し
た縮合環も好ましく用いられる。さらにこれらの環は置
換基を有していてもよく、その置換基の例としては、炭
素数１〜５０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアル
キル基（例えば、トリフルオロメチル、メチル、エチ
ル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、
ドデシル等）、炭素数２〜５０の直鎖または分岐、鎖状
または環状のアルケニル基（例えばビニル、１−メチル
ビニル、シクロヘキセン−１−イル等）、総炭素数２〜
５０のアルキニル基（例えば、エチニル、１−プロピニ
ル等）、炭素数６〜５０のアリール基（例えば、フェニ
ル、ナフチル、アントリル等）、炭素数１〜５０のアシ
ルオキシ基（例えば、
子群を表わすが、形成される不飽和の環は３〜８員環が
好ましく、より好ましくは５〜６員環である。この例と
してはベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジ
ン環、ピリダジン環、１，２，４−トリアジン環、１，
３，５−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、
ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，
４−トリアゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チ
アジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，
２，５−チアジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾ
ール環、１，２，４−オキサジアゾール環、１，２，５
−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール
環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェ
ン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合し
た縮合環も好ましく用いられる。さらにこれらの環は置
換基を有していてもよく、その置換基の例としては、炭
素数１〜５０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアル
キル基（例えば、トリフルオロメチル、メチル、エチ
ル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、
ドデシル等）、炭素数２〜５０の直鎖または分岐、鎖状
または環状のアルケニル基（例えばビニル、１−メチル
ビニル、シクロヘキセン−１−イル等）、総炭素数２〜
５０のアルキニル基（例えば、エチニル、１−プロピニ
ル等）、炭素数６〜５０のアリール基（例えば、フェニ
ル、ナフチル、アントリル等）、炭素数１〜５０のアシ
ルオキシ基（例えば、
【００１１】アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベ
ンゾイルオキシ等）、炭素数１〜５０のカルバモイルオ
キシ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
等）、炭素数１〜５０のカルボンアミド基（例えば、ホ
ルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、
Ｎ−メチルホルムアミド、ベンツアミド等）、炭素数１
〜５０のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンア
ミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、ｐ−トルエンスルホンアミド等）、炭素数１〜５０
のカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、
Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メシルカルバモイ
ル等）、炭素数０〜５０のスルファモイル基（例えば、
Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファ
モイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）ス
ルファモイル等）、炭素数１〜５０のアルコキシ基（例
えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチ
ルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、２−
（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ
等）、炭素数６〜５０のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、４−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等）、
炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基（例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
等）、
ンゾイルオキシ等）、炭素数１〜５０のカルバモイルオ
キシ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ
等）、炭素数１〜５０のカルボンアミド基（例えば、ホ
ルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、
Ｎ−メチルホルムアミド、ベンツアミド等）、炭素数１
〜５０のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンア
ミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、ｐ−トルエンスルホンアミド等）、炭素数１〜５０
のカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、
Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メシルカルバモイ
ル等）、炭素数０〜５０のスルファモイル基（例えば、
Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファ
モイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）ス
ルファモイル等）、炭素数１〜５０のアルコキシ基（例
えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチ
ルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、２−
（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ
等）、炭素数６〜５０のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、４−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等）、
炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基（例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
等）、
【００１２】炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル基
（例えば、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニ
ル等）、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基
（例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル、Ｎ−
ベンゾイルスルファモイル等）、炭素数１〜５０のアル
キルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチ
ルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘ
キシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリー
ルスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−ト
ルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル
アミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ等）、炭
素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基（例
えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボ
ニルアミノ等）、炭素数０〜５０のアミノ基（例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピル
アミノ、アニリノ、モルホリノ等）、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカ
プト基、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基（例
えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル
等）、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基（例え
ば、ベンゼンスルフィニル、４−クロロフェニルスルフ
ィニル、ｐ−トルエンスルフィニル等）、炭素数１〜５
０のアルキルチオ基（例えば、
（例えば、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニ
ル等）、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基
（例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル、Ｎ−
ベンゾイルスルファモイル等）、炭素数１〜５０のアル
キルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチ
ルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘ
キシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリー
ルスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−ト
ルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル
アミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ等）、炭
素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基（例
えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボ
ニルアミノ等）、炭素数０〜５０のアミノ基（例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピル
アミノ、アニリノ、モルホリノ等）、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカ
プト基、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基（例
えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル
等）、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基（例え
ば、ベンゼンスルフィニル、４−クロロフェニルスルフ
ィニル、ｐ−トルエンスルフィニル等）、炭素数１〜５
０のアルキルチオ基（例えば、
【００１３】メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシ
ルチオ等）、炭素数６〜５０のアリールチオ基（例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等）、炭素数１〜５０
のウレイド基（例えば、３−メチルウレイド、３，３−
ジメチルウレイド、１，３−ジフェニルウレイド等）、
炭素数２〜５０のヘテロ環基（ヘテロ原子としては例え
ば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含
み、３ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−
フリル、２−ピラニル、２−ピリジル、２−チエニル、
２−イミダゾリル、モルホリノ、２−キノリル、２−ベ
ンツイミダゾリル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾ
オキサゾリル等）、炭素数１〜５０のアシル基（例え
ば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル
等）、炭素数０〜５０のスルファモイルアミノ基（例え
ば、Ｎ−ブチルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニルス
ルファモイルアミノ等）、炭素数３〜５０のシリル基
（例えば、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシ
リル、トリフェニルシリル等）、ハロゲン原子（例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）が挙げられ
る。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、
その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。
ルチオ等）、炭素数６〜５０のアリールチオ基（例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等）、炭素数１〜５０
のウレイド基（例えば、３−メチルウレイド、３，３−
ジメチルウレイド、１，３−ジフェニルウレイド等）、
炭素数２〜５０のヘテロ環基（ヘテロ原子としては例え
ば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含
み、３ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−
フリル、２−ピラニル、２−ピリジル、２−チエニル、
２−イミダゾリル、モルホリノ、２−キノリル、２−ベ
ンツイミダゾリル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾ
オキサゾリル等）、炭素数１〜５０のアシル基（例え
ば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル
等）、炭素数０〜５０のスルファモイルアミノ基（例え
ば、Ｎ−ブチルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニルス
ルファモイルアミノ等）、炭素数３〜５０のシリル基
（例えば、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシ
リル、トリフェニルシリル等）、ハロゲン原子（例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）が挙げられ
る。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、
その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。
【００１４】置換基の炭素数に関しては５０以下が好ま
しく、より好ましくは４２以下である。また、ＱとＣα
で形成される不飽和の環およびその置換基の炭素原子の
総数は３０以下が好ましく、２４以下がより好ましく、
１８以下が最も好ましい。以上のＱとＣαで形成される
環の置換基はその環が炭素原子のみで形成される場合
（例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環な
ど）にはすべての置換基についてハメットの置換基定数
σ値（Ｃαに対して１，２、１，４、…の関係にある時
にはσｐ値を、Ｃαに対して１，３、１，５、…の関係
にある時はσｍを用いる。）の総和は０．８以上であ
り、より好ましくは１．２以上であり、最も好ましくは
１．５以上である。この上限に特に制限はないが、化合
物の入手の点から３．８以下が好ましい。なお、ハメッ
トの置換基定数σｐ、σｍについては、例えば稲本直樹
著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、「新実験
化学講座１４・有機化合物の合成は反応Ｖ」２６０５頁
（日本化学会編、丸善）、仲矢忠雄著「理論有機化学解
説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル・レビュー
（９１巻）、１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書
に詳しく解説されている。つぎに一般式（Ｉ）で表わさ
れる発色用還元剤を具体的に示すが、本発明の範囲はこ
れら具体例に限定されるものではない。
しく、より好ましくは４２以下である。また、ＱとＣα
で形成される不飽和の環およびその置換基の炭素原子の
総数は３０以下が好ましく、２４以下がより好ましく、
１８以下が最も好ましい。以上のＱとＣαで形成される
環の置換基はその環が炭素原子のみで形成される場合
（例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環な
ど）にはすべての置換基についてハメットの置換基定数
σ値（Ｃαに対して１，２、１，４、…の関係にある時
にはσｐ値を、Ｃαに対して１，３、１，５、…の関係
にある時はσｍを用いる。）の総和は０．８以上であ
り、より好ましくは１．２以上であり、最も好ましくは
１．５以上である。この上限に特に制限はないが、化合
物の入手の点から３．８以下が好ましい。なお、ハメッ
トの置換基定数σｐ、σｍについては、例えば稲本直樹
著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、「新実験
化学講座１４・有機化合物の合成は反応Ｖ」２６０５頁
（日本化学会編、丸善）、仲矢忠雄著「理論有機化学解
説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル・レビュー
（９１巻）、１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書
に詳しく解説されている。つぎに一般式（Ｉ）で表わさ
れる発色用還元剤を具体的に示すが、本発明の範囲はこ
れら具体例に限定されるものではない。
【００１５】
【化３】
【００１６】
【化４】
【００１７】
【化５】
【００１８】
【化６】
【００１９】
【化７】
【００２０】
【化８】
【００２１】
【化９】
【００２２】
【化１０】
【００２３】
【化１１】
【００２４】
【化１２】
【００２５】
【化１３】
【００２６】
【化１４】
【００２７】
【化１５】
【００２８】本発明の構造を有するカルバモイルヒドラ
ジン型の発色用還元剤は特定の離脱基を持つカプラーと
良好に反応する。発色反応し得るカプラーとしてはカプ
ラーの活性位部分に酸素原子を介して１つの置換基が連
結している、もしくはハロゲン原子が置換しているカプ
ラーが好ましい。活性位に置換している基としては、ア
リールオキシ基（例えば、フェノキシ基、１−ナフトキ
シ基等）、ヘテロ環オキシ基（例えば、ピリジルオキシ
基、ピラゾリルオキシ基等）、アシルオキシ基（例え
ば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等）、アルコキシ
（例えば、メトキシ、ドデシルオキシ等）、カルバモイ
ルオキシ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオ
キシ、モルホリノカルボニルオキシ等）、アリールオキ
シカルボニルオキシ（例えば、フェノキシカルボニルオ
キシ等）、アルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メ
トキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ
等）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンス
ルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例え
ばベンゼンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキ
シ等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等）等が挙げられる。
ジン型の発色用還元剤は特定の離脱基を持つカプラーと
良好に反応する。発色反応し得るカプラーとしてはカプ
ラーの活性位部分に酸素原子を介して１つの置換基が連
結している、もしくはハロゲン原子が置換しているカプ
ラーが好ましい。活性位に置換している基としては、ア
リールオキシ基（例えば、フェノキシ基、１−ナフトキ
シ基等）、ヘテロ環オキシ基（例えば、ピリジルオキシ
基、ピラゾリルオキシ基等）、アシルオキシ基（例え
ば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等）、アルコキシ
（例えば、メトキシ、ドデシルオキシ等）、カルバモイ
ルオキシ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオ
キシ、モルホリノカルボニルオキシ等）、アリールオキ
シカルボニルオキシ（例えば、フェノキシカルボニルオ
キシ等）、アルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メ
トキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ
等）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンス
ルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例え
ばベンゼンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキ
シ等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等）等が挙げられる。
【００２９】活性位に置換している基は、更に置換基に
より置換されていても良く、置換基の例としては、炭素
数１〜５０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキ
ル基（例えば、トリフルオロメチル、メチル、エチル、
プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブ
チル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシ
ル等）、炭素数２〜５０の直鎖または分岐、鎖状または
環状のアルケニル基（例えばビニル、１−メチルビニ
ル、シクロヘキセン−１−イル等）、総炭素数２〜５０
のアルキニル基（例えば、エチニル、１−プロピニル
等）、炭素数６〜５０のアリール基（例えば、フェニ
ル、ナフチル、アントリル等）、
より置換されていても良く、置換基の例としては、炭素
数１〜５０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキ
ル基（例えば、トリフルオロメチル、メチル、エチル、
プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブ
チル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシ
ル等）、炭素数２〜５０の直鎖または分岐、鎖状または
環状のアルケニル基（例えばビニル、１−メチルビニ
ル、シクロヘキセン−１−イル等）、総炭素数２〜５０
のアルキニル基（例えば、エチニル、１−プロピニル
等）、炭素数６〜５０のアリール基（例えば、フェニ
ル、ナフチル、アントリル等）、
【００３０】炭素数１〜５０のアシルオキシ基（例え
ば、アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベンゾイル
オキシ等）、炭素数１〜５０のカルバモイルオキシ基
（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ等）、
炭素数１〜５０のカルボンアミド基（例えば、ホルムア
ミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、Ｎ−メ
チルホルムアミド、ベンツアミド等）、炭素数１〜５０
のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、
ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ｐ
−トルエンスルホンアミド等）、炭素数１〜５０のカル
バモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ
−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メシルカルバモイル
等）、炭素数０〜５０のスルファモイル基（例えば、Ｎ
−ブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモ
イル、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）スル
ファモイル等）、炭素数１〜５０のアルコキシ基（例え
ば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチル
オキシ、ｔ−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、２−
（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ
等）、炭素数６〜５０のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、４−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等）、
炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基（例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
等）、
ば、アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベンゾイル
オキシ等）、炭素数１〜５０のカルバモイルオキシ基
（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ等）、
炭素数１〜５０のカルボンアミド基（例えば、ホルムア
ミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、Ｎ−メ
チルホルムアミド、ベンツアミド等）、炭素数１〜５０
のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、
ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ｐ
−トルエンスルホンアミド等）、炭素数１〜５０のカル
バモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ
−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メシルカルバモイル
等）、炭素数０〜５０のスルファモイル基（例えば、Ｎ
−ブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモ
イル、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）スル
ファモイル等）、炭素数１〜５０のアルコキシ基（例え
ば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチル
オキシ、ｔ−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、２−
（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ
等）、炭素数６〜５０のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、４−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等）、
炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基（例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
等）、
【００３１】炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル基
（例えば、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニ
ル等）、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基
（例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル、Ｎ−
ベンゾイルスルファモイル等）、炭素数１〜５０のアル
キルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチ
ルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘ
キシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリー
ルスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−ト
ルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル
アミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ等）、炭
素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基（例
えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボ
ニルアミノ等）、炭素数０〜５０のアミノ基（例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピル
アミノ、アニリノ、モルホリノ等）、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカ
プト基等）、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基
（例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル
等）、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基（例え
ば、ベンゼンスルフィニル、４−クロロフェニルスルフ
ィニル、ｐ−トルエンスルフィニル等）、
（例えば、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニ
ル等）、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基
（例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル、Ｎ−
ベンゾイルスルファモイル等）、炭素数１〜５０のアル
キルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチ
ルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘ
キシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリー
ルスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−ト
ルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル
アミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ等）、炭
素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基（例
えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボ
ニルアミノ等）、炭素数０〜５０のアミノ基（例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピル
アミノ、アニリノ、モルホリノ等）、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカ
プト基等）、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基
（例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル
等）、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基（例え
ば、ベンゼンスルフィニル、４−クロロフェニルスルフ
ィニル、ｐ−トルエンスルフィニル等）、
【００３２】炭素数１〜５０のアルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ
等）、炭素数６〜５０のアリールチオ基（例えば、フェ
ニルチオ、ナフチルチオ等）、炭素数１〜５０のウレイ
ド基（例えば、３−メチルウレイド、３，３−ジメチル
ウレイド、１，３−ジフェニルウレイド等）、炭素数２
〜５０のヘテロ環基（ヘテロ原子としては例えば、窒
素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含み、３
ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−フリ
ル、２−ピラニル、２−ピリジル、２−チエニル、２−
イミダゾリル、モルホリノ、２−キノリル、２−ベンツ
イミダゾリル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキ
サゾリル等）、炭素数１〜５０のアシル基（例えば、ア
セチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル等）、炭素
数０〜５０のスルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ−ブ
チルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニルスルファモイ
ルアミノ等）、炭素数３〜５０のシリル基（例えば、ト
リメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、トリフ
ェニルシリル等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等）が挙げられる。上記の置換
基はさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例
としてはここで挙げた置換基が挙げられる。
ば、メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ
等）、炭素数６〜５０のアリールチオ基（例えば、フェ
ニルチオ、ナフチルチオ等）、炭素数１〜５０のウレイ
ド基（例えば、３−メチルウレイド、３，３−ジメチル
ウレイド、１，３−ジフェニルウレイド等）、炭素数２
〜５０のヘテロ環基（ヘテロ原子としては例えば、窒
素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含み、３
ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−フリ
ル、２−ピラニル、２−ピリジル、２−チエニル、２−
イミダゾリル、モルホリノ、２−キノリル、２−ベンツ
イミダゾリル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキ
サゾリル等）、炭素数１〜５０のアシル基（例えば、ア
セチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル等）、炭素
数０〜５０のスルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ−ブ
チルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニルスルファモイ
ルアミノ等）、炭素数３〜５０のシリル基（例えば、ト
リメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、トリフ
ェニルシリル等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等）が挙げられる。上記の置換
基はさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例
としてはここで挙げた置換基が挙げられる。
【００３３】置換基の炭素数に関しては５０以下が好ま
しいが、より好ましくは４２以下であり、最も好ましく
は３４以下である。また、１以上が好ましい。
しいが、より好ましくは４２以下であり、最も好ましく
は３４以下である。また、１以上が好ましい。
【００３４】本発明に好ましく使用される色素形成用カ
プラーとしては、以下の一般式（１）〜（１２）に記載
するような構造の化合物がある。これらはそれぞれ一般
に活性メチレン、ピラゾロン、ピラゾロアゾール、フェ
ノール、ナフトール、ピロロトリアゾールと総称される
化合物であり、当該分野で公知の化合物である。
プラーとしては、以下の一般式（１）〜（１２）に記載
するような構造の化合物がある。これらはそれぞれ一般
に活性メチレン、ピラゾロン、ピラゾロアゾール、フェ
ノール、ナフトール、ピロロトリアゾールと総称される
化合物であり、当該分野で公知の化合物である。
【００３５】
【化１６】
【００３６】
【化１７】
【００３７】
【化１８】
【００３８】一般式（１）〜（４）は活性メチレン系カ
プラーと称されるカプラーを表し、式中Ｒ14は置換基を
有しても良いアシル基、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、ヘテロ環残基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基であ
る。
プラーと称されるカプラーを表し、式中Ｒ14は置換基を
有しても良いアシル基、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、ヘテロ環残基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基であ
る。
【００３９】一般式（１）〜（３）において、Ｒ15は置
換基を有しても良いアルキル基、アリール基またはヘテ
ロ環残基である。一般式（４）においてＲ16は置換基を
有しても良いアリール基またはヘテロ環残基である。Ｒ
14、Ｒ15、Ｒ16が有しても良い置換基としては、前述の
離脱基の置換基の例として述べたものが挙げられる。
換基を有しても良いアルキル基、アリール基またはヘテ
ロ環残基である。一般式（４）においてＲ16は置換基を
有しても良いアリール基またはヘテロ環残基である。Ｒ
14、Ｒ15、Ｒ16が有しても良い置換基としては、前述の
離脱基の置換基の例として述べたものが挙げられる。
【００４０】一般式（１）〜（４）において、Ｙは活性
位に置換した基であり、その具体的内容は、上述した活
性位に置換した基（離脱基）の説明で述べたものと同じ
である。
位に置換した基であり、その具体的内容は、上述した活
性位に置換した基（離脱基）の説明で述べたものと同じ
である。
【００４１】一般式（５）は５−ピラゾロン系カプラー
と称されるカプラーを表し、式中Ｒ 17はアルキル基、ア
リール基、アシル基またはカルバモイル基を表す。Ｒ18
はフェニル基または１個以上のハロゲン原子、アルキル
基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基
またはアシルアミノ基が置換したフェニル基を表す。
と称されるカプラーを表し、式中Ｒ 17はアルキル基、ア
リール基、アシル基またはカルバモイル基を表す。Ｒ18
はフェニル基または１個以上のハロゲン原子、アルキル
基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基
またはアシルアミノ基が置換したフェニル基を表す。
【００４２】一般式（５）で表される５−ピラゾロン系
カプラーの中でもＲ17がアリール基またはアシル基、Ｒ
18が１個以上のハロゲン原子が置換したフェニル基のも
のが好ましい。これらの好ましい基について詳しく述べ
ると、Ｒ17はフェニル基、２−クロロフェニル基、２−
メトキシフェニル基、２−クロロ−５−テトラデカンア
ミドフェニル基、２−クロロ−５−（３−オクタデセニ
ル−１−スクシンイミド）フェニル基、２−クロロ−５
−オクタデシルスルホンアミドフェニル基または２−ク
ロロ−５−〔２−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフ
ェノキシ）テトラデカンアミド〕フェニル基等のアリー
ル基またはアセチル基、２−（２，４−ジ−ｔ−ペンチ
ルフェノキシ）ブタノイル基、ベンゾイル基、３−
（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシアセトアミド）ベ
ンゾイル基等のアシル基であり、これらの基はさらに置
換基を有しても良く、それらは炭素原子、酸素原子、窒
素原子またはイオウ原子で連結する有機置換基またはハ
ロゲン原子である。Ｙについては前述したものと同じ意
味である。Ｒ18は２，４，６−トリクロロフェニル基、
２，５−ジクロロフェニル基、２−クロロフェニル基等
の置換フェニル基が好ましい。
カプラーの中でもＲ17がアリール基またはアシル基、Ｒ
18が１個以上のハロゲン原子が置換したフェニル基のも
のが好ましい。これらの好ましい基について詳しく述べ
ると、Ｒ17はフェニル基、２−クロロフェニル基、２−
メトキシフェニル基、２−クロロ−５−テトラデカンア
ミドフェニル基、２−クロロ−５−（３−オクタデセニ
ル−１−スクシンイミド）フェニル基、２−クロロ−５
−オクタデシルスルホンアミドフェニル基または２−ク
ロロ−５−〔２−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフ
ェノキシ）テトラデカンアミド〕フェニル基等のアリー
ル基またはアセチル基、２−（２，４−ジ−ｔ−ペンチ
ルフェノキシ）ブタノイル基、ベンゾイル基、３−
（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシアセトアミド）ベ
ンゾイル基等のアシル基であり、これらの基はさらに置
換基を有しても良く、それらは炭素原子、酸素原子、窒
素原子またはイオウ原子で連結する有機置換基またはハ
ロゲン原子である。Ｙについては前述したものと同じ意
味である。Ｒ18は２，４，６−トリクロロフェニル基、
２，５−ジクロロフェニル基、２−クロロフェニル基等
の置換フェニル基が好ましい。
【００４３】一般式（６）はピラゾロアゾール系カプラ
ーと称されるカプラーを表し、式中、Ｒ19は水素原子ま
たは置換基を表す。Ｑ3 は窒素原子を２〜４個含む５員
のアゾール環を形成するのに必要な非金属原子群を表
し、該アゾール環は置換基（縮合環を含む）を有しても
良い。一般式（６）で表されるピラゾロアゾール系カプ
ラーの中でも、発色色素の分光吸収特性の点で、米国特
許第４，５００，６３０号に記載のイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピラゾール類、米国特許第４，５００，６５４号に
記載のピラゾロ〔１，５−ｂ〕−１，２，４−トリアゾ
ール類、米国特許第３，７２５，０６７号に記載のピラ
ゾロ〔５，１−ｃ〕−１，２，４−トリアゾール類が好
ましい。
ーと称されるカプラーを表し、式中、Ｒ19は水素原子ま
たは置換基を表す。Ｑ3 は窒素原子を２〜４個含む５員
のアゾール環を形成するのに必要な非金属原子群を表
し、該アゾール環は置換基（縮合環を含む）を有しても
良い。一般式（６）で表されるピラゾロアゾール系カプ
ラーの中でも、発色色素の分光吸収特性の点で、米国特
許第４，５００，６３０号に記載のイミダゾ〔１，２−
ｂ〕ピラゾール類、米国特許第４，５００，６５４号に
記載のピラゾロ〔１，５−ｂ〕−１，２，４−トリアゾ
ール類、米国特許第３，７２５，０６７号に記載のピラ
ゾロ〔５，１−ｃ〕−１，２，４−トリアゾール類が好
ましい。
【００４４】置換基Ｒ19、Ｑ3 で表されるアゾール環の
置換基の詳細については、例えば、米国特許第４，５４
０，６５４号明細書中の第２カラム第４１行〜第８カラ
ム第２７行に記載されている。好ましくは特開昭６１−
６５２４５号に記載されているような分岐アルキル基が
ピラゾロトリアゾール基の２、３または６位に直結した
ピラゾロアゾールカプラー、特開昭６１−６５２４５号
に記載されている分子内にスルホンアミド基を含んだピ
ラゾロアゾールカプラー、特開昭６１−１４７２５４号
に記載されているアルコキシフェニルスルホンアミドバ
ラスト基を持つピラゾロアゾールカプラー、特開昭６２
−２０９４５７号もしくは同６３−３０７４５３号に記
載されている６位にアルコキシ基やアリールオキシ基を
持つピラゾロトリアゾールカプラー、および特開平２−
２０１４４３号に記載されている分子内にカルボンアミ
ド基を持つピラゾロトリアゾールカプラーである。Ｙに
関しては前述したものと同じ意味を表す。
置換基の詳細については、例えば、米国特許第４，５４
０，６５４号明細書中の第２カラム第４１行〜第８カラ
ム第２７行に記載されている。好ましくは特開昭６１−
６５２４５号に記載されているような分岐アルキル基が
ピラゾロトリアゾール基の２、３または６位に直結した
ピラゾロアゾールカプラー、特開昭６１−６５２４５号
に記載されている分子内にスルホンアミド基を含んだピ
ラゾロアゾールカプラー、特開昭６１−１４７２５４号
に記載されているアルコキシフェニルスルホンアミドバ
ラスト基を持つピラゾロアゾールカプラー、特開昭６２
−２０９４５７号もしくは同６３−３０７４５３号に記
載されている６位にアルコキシ基やアリールオキシ基を
持つピラゾロトリアゾールカプラー、および特開平２−
２０１４４３号に記載されている分子内にカルボンアミ
ド基を持つピラゾロトリアゾールカプラーである。Ｙに
関しては前述したものと同じ意味を表す。
【００４５】一般式（７）、（８）はそれぞれフェノー
ル系カプラー、ナフトール系カプラーと称されるカプラ
ーであり、式中、Ｒ20は水素原子または−ＣＯＮＲ22Ｒ
23、−ＳＯ2 ＮＲ22Ｒ23、−ＮＨＣＯＲ22、−ＮＨＣＯ
ＮＲ22Ｒ23、−ＮＨＳＯ2 ＮＲ22Ｒ23から選ばれる基を
表す。Ｒ22、Ｒ23は水素原子または置換基を表す。一般
式（７）、（８）において、Ｒ21は置換基を表し、ｌは
０〜２から選ばれる整数、ｍは０〜４から選ばれる整数
を表す。ｌ、ｍが２以上の時にはＲ21はそれぞれ異なっ
ていても良い。Ｒ21〜Ｒ23の置換基としては、「色素形
成カプラーの活性位に置換している基の置換している
基」の例として記載したものが挙げられる。Ｙに関して
は前述のものと同じ意味を表す。
ル系カプラー、ナフトール系カプラーと称されるカプラ
ーであり、式中、Ｒ20は水素原子または−ＣＯＮＲ22Ｒ
23、−ＳＯ2 ＮＲ22Ｒ23、−ＮＨＣＯＲ22、−ＮＨＣＯ
ＮＲ22Ｒ23、−ＮＨＳＯ2 ＮＲ22Ｒ23から選ばれる基を
表す。Ｒ22、Ｒ23は水素原子または置換基を表す。一般
式（７）、（８）において、Ｒ21は置換基を表し、ｌは
０〜２から選ばれる整数、ｍは０〜４から選ばれる整数
を表す。ｌ、ｍが２以上の時にはＲ21はそれぞれ異なっ
ていても良い。Ｒ21〜Ｒ23の置換基としては、「色素形
成カプラーの活性位に置換している基の置換している
基」の例として記載したものが挙げられる。Ｙに関して
は前述のものと同じ意味を表す。
【００４６】一般式（７）で表されるフェノール系カプ
ラーの好ましい例としては、米国特許第２，３６９，９
２９号、同第２，８０１，１７１号、同第２，７７２，
１６２号、同第２，８９５，８２６号、同第３，７７
２，００２号等に記載の２−アシルアミノ−５−アルキ
ルフェノール系、米国特許第２，７７２，１６２号、同
第３，７５８，３０８号、同第４，１２６，３９６号、
同第４，３３４，０１１号、同第４，３２７，１７３
号、西独特許公開第３，３２９，７２９号、特開昭５９
−１６６９５６号等に記載の２，５−ジアシルアミノフ
ェノール系、米国特許第３，４４６，６２２号、同第
４，３３３，９９９号、同第４，４５１，５５９号、同
第４，４２７，７６７号等に記載の２−フェニルウレイ
ド−５−アシルアミノフェノール系を挙げることができ
る。Ｙに関しては前述したものと同じである。
ラーの好ましい例としては、米国特許第２，３６９，９
２９号、同第２，８０１，１７１号、同第２，７７２，
１６２号、同第２，８９５，８２６号、同第３，７７
２，００２号等に記載の２−アシルアミノ−５−アルキ
ルフェノール系、米国特許第２，７７２，１６２号、同
第３，７５８，３０８号、同第４，１２６，３９６号、
同第４，３３４，０１１号、同第４，３２７，１７３
号、西独特許公開第３，３２９，７２９号、特開昭５９
−１６６９５６号等に記載の２，５−ジアシルアミノフ
ェノール系、米国特許第３，４４６，６２２号、同第
４，３３３，９９９号、同第４，４５１，５５９号、同
第４，４２７，７６７号等に記載の２−フェニルウレイ
ド−５−アシルアミノフェノール系を挙げることができ
る。Ｙに関しては前述したものと同じである。
【００４７】一般式（８）で表されるナフトールカプラ
ーの好ましい例としては、米国特許第２，４７４，２９
３号、同第４，０５２，２１２号、同第４，１４６，３
９６号、同第４，２８２，２３３号、同第４，２９６，
２００号等に記載の２−カルバモイル−１−ナフトール
系および米国特許第４，６９０，８８９号等に記載の２
−カルバモイル−５−アミド−１−ナフトール系等を挙
げることができる。Ｙに関しては前述したものと同じで
ある。
ーの好ましい例としては、米国特許第２，４７４，２９
３号、同第４，０５２，２１２号、同第４，１４６，３
９６号、同第４，２８２，２３３号、同第４，２９６，
２００号等に記載の２−カルバモイル−１−ナフトール
系および米国特許第４，６９０，８８９号等に記載の２
−カルバモイル−５−アミド−１−ナフトール系等を挙
げることができる。Ｙに関しては前述したものと同じで
ある。
【００４８】一般式（９）〜（１２）はピロロトリアゾ
ールと称されるカプラーであり、Ｒ 32、Ｒ33、Ｒ34は水
素原子または置換基を表す。Ｙについては前述したとお
りである。Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34の置換基としては、「色素
形成カプラーの活性位に置換している基の置換している
基」の例として記載したものが挙げられる。
ールと称されるカプラーであり、Ｒ 32、Ｒ33、Ｒ34は水
素原子または置換基を表す。Ｙについては前述したとお
りである。Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34の置換基としては、「色素
形成カプラーの活性位に置換している基の置換している
基」の例として記載したものが挙げられる。
【００４９】一般式（９）〜（１２）で表されるピロロ
トリアゾール系カプラーの好ましい例としては、欧州特
許第４８８，２４８Ａ１号、同第４９１，１９７Ａ１
号、同第５４５，３００号に記載のＲ32、Ｒ33の少なく
とも一方が電子吸引性基であるカプラーが挙げられる。
Ｙに関しては前述したものと同じである。
トリアゾール系カプラーの好ましい例としては、欧州特
許第４８８，２４８Ａ１号、同第４９１，１９７Ａ１
号、同第５４５，３００号に記載のＲ32、Ｒ33の少なく
とも一方が電子吸引性基であるカプラーが挙げられる。
Ｙに関しては前述したものと同じである。
【００５０】その他、縮環フェノール、イミダゾール、
ピロール、３−ヒドロキシピリジン、前記以外の活性メ
チレン、活性メチン、５，５−縮環複素環、５，６−縮
環複素環といった構造を有するカプラーが使用できる。
縮環フェノール系カプラーとしては米国特許第４，３２
７，１７３号、同第４，５６４，５８６号、同第４，９
０４，５７５号等に記載のカプラーを使用できる。イミ
ダゾール系カプラーとしては、米国特許第４，８１８，
６７２号、同第５，０５１，３４７号等に記載のカプラ
ーが使用できる。３−ヒドロキシピリジン系カプラーと
しては特開平１−３１５７３６号等に記載のカプラーが
使用できる。
ピロール、３−ヒドロキシピリジン、前記以外の活性メ
チレン、活性メチン、５，５−縮環複素環、５，６−縮
環複素環といった構造を有するカプラーが使用できる。
縮環フェノール系カプラーとしては米国特許第４，３２
７，１７３号、同第４，５６４，５８６号、同第４，９
０４，５７５号等に記載のカプラーを使用できる。イミ
ダゾール系カプラーとしては、米国特許第４，８１８，
６７２号、同第５，０５１，３４７号等に記載のカプラ
ーが使用できる。３−ヒドロキシピリジン系カプラーと
しては特開平１−３１５７３６号等に記載のカプラーが
使用できる。
【００５１】活性メチレン、活性メチン系カプラーとし
ては米国特許第５，１０４，７８３号、同第５，１６
２，１９６号等に記載のカプラーが使用できる。５，５
−縮環複素環系カプラーとしては、米国特許第５，１６
４，２８９号に記載のピロロピラゾール系カプラー、特
開平４−１７４４２９号に記載のピロロイミダゾール系
カプラー等が使用できる。５，６−縮環複素環系カプラ
ーとしては、米国特許第４，９５０，５８５号に記載の
ピラゾロピリミジン系カプラー、特開平４−２０４７３
０号に記載のピロロトリアジン系カプラー、欧州特許第
５５６，７００号に記載のカプラー等が使用できる。
ては米国特許第５，１０４，７８３号、同第５，１６
２，１９６号等に記載のカプラーが使用できる。５，５
−縮環複素環系カプラーとしては、米国特許第５，１６
４，２８９号に記載のピロロピラゾール系カプラー、特
開平４−１７４４２９号に記載のピロロイミダゾール系
カプラー等が使用できる。５，６−縮環複素環系カプラ
ーとしては、米国特許第４，９５０，５８５号に記載の
ピラゾロピリミジン系カプラー、特開平４−２０４７３
０号に記載のピロロトリアジン系カプラー、欧州特許第
５５６，７００号に記載のカプラー等が使用できる。
【００５２】本発明には前述のカプラー以外に、西独特
許第３，８１９，０５１Ａ号、同第３，８２３，０４９
号、米国特許第４，８４０，８８３号、同第５，０２
４，９３０号、同第５，０５１，３４７号、同第４，４
８１，２６８号、欧州特許第３０４，８５６Ａ２号、同
第３２９，０３６号、同第３５４，５４９Ａ２号、同第
３７４，７８１Ａ２号、同第３７９，１１０Ａ２号、同
第３８６，９３０Ａ１号、特開昭６３−１４１０５５
号、同６４−３２２６０号、同６４−３２２６１号、特
開平２−２９７５４７号、同２−４４３４０号、同２−
１１０５５５号、同３−７９３８号、同３−１６０４４
０号、同３−１７２８３９号、同４−１７２４４７号、
同４−１７９９４９号、同４−１８２６４５号、同４−
１８４４３７号、同４−１８８１３８号、同４−１８８
１３９号、同４−１９４８４７号、同４−２０４５３２
号、同４−２０４７３１号、同４−２０４７３２号等に
記載されているカプラーも使用できる。
許第３，８１９，０５１Ａ号、同第３，８２３，０４９
号、米国特許第４，８４０，８８３号、同第５，０２
４，９３０号、同第５，０５１，３４７号、同第４，４
８１，２６８号、欧州特許第３０４，８５６Ａ２号、同
第３２９，０３６号、同第３５４，５４９Ａ２号、同第
３７４，７８１Ａ２号、同第３７９，１１０Ａ２号、同
第３８６，９３０Ａ１号、特開昭６３−１４１０５５
号、同６４−３２２６０号、同６４−３２２６１号、特
開平２−２９７５４７号、同２−４４３４０号、同２−
１１０５５５号、同３−７９３８号、同３−１６０４４
０号、同３−１７２８３９号、同４−１７２４４７号、
同４−１７９９４９号、同４−１８２６４５号、同４−
１８４４３７号、同４−１８８１３８号、同４−１８８
１３９号、同４−１９４８４７号、同４−２０４５３２
号、同４−２０４７３１号、同４−２０４７３２号等に
記載されているカプラーも使用できる。
【００５３】本発明に使用できるカプラーの具体例を以
下に示すが、本発明はもちろんこれによって限定される
わけではない。
下に示すが、本発明はもちろんこれによって限定される
わけではない。
【００５４】
【化１９】
【００５５】
【化２０】
【００５６】
【化２１】
【００５７】
【化２２】
【００５８】
【化２３】
【００５９】
【化２４】
【００６０】
【化２５】
【００６１】
【化２６】
【００６２】
【化２７】
【００６３】
【化２８】
【００６４】
【化２９】
【００６５】
【化３０】
【００６６】
【化３１】
【００６７】
【化３２】
【００６８】
【化３３】
【００６９】
【化３４】
【００７０】
【化３５】
【００７１】本発明の発色用還元剤は十分な発色濃度を
得るために、発色層１層当たり０．０１〜１０mmol／m2
使用することが好ましい。更に好ましい使用量は０．０
５〜５mmol／m2であり特に好ましい使用量は０．１〜１
mmol／m2である。この範囲であるとステインが少なく、
しかも十分な発色濃度が得られる点で好ましい。本発明
の発色用還元剤が使用される発色層のカプラーの好まし
い使用量は発色用還元剤に対してモル換算で０．０５〜
２０倍で、更に好ましくは０．１〜１０倍、特に好まし
くは０．２〜５倍である。この範囲であるとステインが
少なく、しかも十分な発色濃度が得られる点で好まし
い。
得るために、発色層１層当たり０．０１〜１０mmol／m2
使用することが好ましい。更に好ましい使用量は０．０
５〜５mmol／m2であり特に好ましい使用量は０．１〜１
mmol／m2である。この範囲であるとステインが少なく、
しかも十分な発色濃度が得られる点で好ましい。本発明
の発色用還元剤が使用される発色層のカプラーの好まし
い使用量は発色用還元剤に対してモル換算で０．０５〜
２０倍で、更に好ましくは０．１〜１０倍、特に好まし
くは０．２〜５倍である。この範囲であるとステインが
少なく、しかも十分な発色濃度が得られる点で好まし
い。
【００７２】本発明の発色用還元剤及びカプラーは高沸
点有機溶媒（必要に応じて低沸点有機溶媒を併用）に溶
解し、ゼラチン水溶液に乳化分散してハロゲン化銀乳剤
に添加することができる。本発明に用い得る高沸点有機
溶媒は、融点が１００℃以下、沸点が１４０℃以上の水
と非混和性の化合物で、発色用還元剤、及びカプラーの
良溶媒であれば使用できる。高沸点有機溶媒の融点は好
ましくは８０℃以下である。高沸点有機溶媒の沸点は、
好ましくは１６０℃以上であり、より好ましくは１７０
℃以上である。これらの高沸点有機溶媒の詳細について
は、特開昭６２−２１５２７２号公開明細書の第１３７
頁右下欄〜１４４頁右上欄に記載されている。本発明に
おいて、高沸点有機溶媒を使用する際に高沸点有機溶媒
の使用量はいかなる量であっても良いが、好ましくは発
色用還元剤に対して、重量比で高沸点有機溶媒／発色用
還元剤比が２０以下が好ましく、０．０２〜５が更に好
ましく、０．２〜４が特に好ましい。前記の発色用還元
剤とカプラーを共乳化する際には、水不溶性かつ有機溶
媒可溶性ポリマーによる分散法を適用できる。水不溶性
かつ有機溶媒可溶性ポリマーによる分散法については例
えばＰＣＴ国際公開番号ＷＯ８８／００７２３号明細書
に記載されている。
点有機溶媒（必要に応じて低沸点有機溶媒を併用）に溶
解し、ゼラチン水溶液に乳化分散してハロゲン化銀乳剤
に添加することができる。本発明に用い得る高沸点有機
溶媒は、融点が１００℃以下、沸点が１４０℃以上の水
と非混和性の化合物で、発色用還元剤、及びカプラーの
良溶媒であれば使用できる。高沸点有機溶媒の融点は好
ましくは８０℃以下である。高沸点有機溶媒の沸点は、
好ましくは１６０℃以上であり、より好ましくは１７０
℃以上である。これらの高沸点有機溶媒の詳細について
は、特開昭６２−２１５２７２号公開明細書の第１３７
頁右下欄〜１４４頁右上欄に記載されている。本発明に
おいて、高沸点有機溶媒を使用する際に高沸点有機溶媒
の使用量はいかなる量であっても良いが、好ましくは発
色用還元剤に対して、重量比で高沸点有機溶媒／発色用
還元剤比が２０以下が好ましく、０．０２〜５が更に好
ましく、０．２〜４が特に好ましい。前記の発色用還元
剤とカプラーを共乳化する際には、水不溶性かつ有機溶
媒可溶性ポリマーによる分散法を適用できる。水不溶性
かつ有機溶媒可溶性ポリマーによる分散法については例
えばＰＣＴ国際公開番号ＷＯ８８／００７２３号明細書
に記載されている。
【００７３】本発明の発色用還元剤を含有する親油性微
粒子の平均粒子サイズはいかなる粒子サイズであっても
よい。発色性の観点で０．０５〜０．３μｍにすること
が好ましい。また０．０５μｍ〜０．２μｍが更に好ま
しい。一般的に親油性微粒子の平均粒子サイズを小さく
するためには、界面活性剤の種類の選択、界面活性剤の
使用量を増やすこと、親水性コロイド溶液の粘度を上げ
ること、親油性有機層の粘度を低沸点有機溶媒の併用な
どで低下させること、あるいは乳化装置の攪拌羽根の回
転を上げる等の剪断力を強くしたり、乳化時間を長くす
ること等によって達成される。親油性微粒子の粒子サイ
ズは例えば英国コールター社製ナノサイザー等の装置に
よって測定できる。
粒子の平均粒子サイズはいかなる粒子サイズであっても
よい。発色性の観点で０．０５〜０．３μｍにすること
が好ましい。また０．０５μｍ〜０．２μｍが更に好ま
しい。一般的に親油性微粒子の平均粒子サイズを小さく
するためには、界面活性剤の種類の選択、界面活性剤の
使用量を増やすこと、親水性コロイド溶液の粘度を上げ
ること、親油性有機層の粘度を低沸点有機溶媒の併用な
どで低下させること、あるいは乳化装置の攪拌羽根の回
転を上げる等の剪断力を強くしたり、乳化時間を長くす
ること等によって達成される。親油性微粒子の粒子サイ
ズは例えば英国コールター社製ナノサイザー等の装置に
よって測定できる。
【００７４】以下に本発明で用いられる発色用還元剤の
酸化体と反応して実質的に無色の化合物を生成するカプ
ラー（以下、無呈色カプラーと称する）について詳しく
述べる。本発明の構造を有するカルバモイルヒドラジン
型発色用還元剤はカプラーの種類によって反応速度が異
なり、離脱基がカプラーの活性位と酸素原子で連結して
いるカプラーもしくは離脱基がハロゲン原子であるカプ
ラーと良好に発色反応する。しかしながら、その他のカ
プラーとは反応が遅く、従って、所謂コンベンショナル
ハロゲン化銀カラー写真感光材料で通常用いられている
カプラーでも無呈色カプラーとして用いることができ
る。ここで述べている「実質的に無色」とは離脱基の離
脱が遅く、感光材料の被膜ｐＨが中性に近い保存条件下
では、空気酸化によって生成した発色用還元剤の酸化体
とカップリングしたとしても発色まで至らないことを言
う。また、本発明の無呈色カプラーはアルカリ処理条件
下では共存する色素形成用カプラーに比べ、発色用還元
剤の酸化体との反応が遅いことを特徴とする。その為に
色素形成用カプラーの発色濃度の低下が少ない。
酸化体と反応して実質的に無色の化合物を生成するカプ
ラー（以下、無呈色カプラーと称する）について詳しく
述べる。本発明の構造を有するカルバモイルヒドラジン
型発色用還元剤はカプラーの種類によって反応速度が異
なり、離脱基がカプラーの活性位と酸素原子で連結して
いるカプラーもしくは離脱基がハロゲン原子であるカプ
ラーと良好に発色反応する。しかしながら、その他のカ
プラーとは反応が遅く、従って、所謂コンベンショナル
ハロゲン化銀カラー写真感光材料で通常用いられている
カプラーでも無呈色カプラーとして用いることができ
る。ここで述べている「実質的に無色」とは離脱基の離
脱が遅く、感光材料の被膜ｐＨが中性に近い保存条件下
では、空気酸化によって生成した発色用還元剤の酸化体
とカップリングしたとしても発色まで至らないことを言
う。また、本発明の無呈色カプラーはアルカリ処理条件
下では共存する色素形成用カプラーに比べ、発色用還元
剤の酸化体との反応が遅いことを特徴とする。その為に
色素形成用カプラーの発色濃度の低下が少ない。
【００７５】無呈色カプラーとしてはカプラーの活性位
部分に炭素原子、硫黄原子、もしくは窒素原子を介して
１つの置換基が結合しているカプラーが好ましい。実質
的に無色の化合物を生成するカプラーの活性位に置換し
ている基としては、ヘテロ環基、カルボンアミド基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル
スルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキル
基、アリール基が挙げられる。無呈色カプラーの活性位
に置換している基は更に置換基をされていても良く、活
性位に置換している基を更に置換する基の例としては色
素形成カプラーの離脱基で述べたものが挙げられる。
部分に炭素原子、硫黄原子、もしくは窒素原子を介して
１つの置換基が結合しているカプラーが好ましい。実質
的に無色の化合物を生成するカプラーの活性位に置換し
ている基としては、ヘテロ環基、カルボンアミド基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル
スルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキル
基、アリール基が挙げられる。無呈色カプラーの活性位
に置換している基は更に置換基をされていても良く、活
性位に置換している基を更に置換する基の例としては色
素形成カプラーの離脱基で述べたものが挙げられる。
【００７６】無呈色カプラーの活性位に置換している基
の具体例は、ヘテロ環基（ヘテロ原子としては、窒素、
酸素、イオウ等を少なくとも一個含み、飽和または不飽
和の５〜７員環の単環もしくは縮合環であり、例として
は、スクシンイミド、マレインイミド、フタルイミド、
ジグリコールイミド、ピロール、ピラゾール、イミダゾ
ール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、イン
ドール、ベンゾピラゾール、ベンツイミダゾール、ジン
ゾトリアゾール、イミダゾリン−２，４−ジオン、オキ
サゾリジン−２，４−ジオン、チアゾリジン−２，４−
ジオン、イミダゾリジン−２−オン、オキサゾリン−２
−オン、チアゾリン−２−オン、ベンツイミダゾリン−
２−オン、ベンゾオキサゾリン−２−オン、ベンゾチア
ゾリンー２−オン、２−ピロイン−５−オン、２−イミ
ダゾリン−５−オン、インドリン−２，３−ジオン、
２，６−ジオキシプリン、パラバン酸、１，２，４−ト
リアゾリジン−３，５−ジオン、２−ピリドン、４−ピ
リドン、２−ピリミドン、６−ピリダゾン、２−ピラゾ
ン、２−アミノ−１，３，４−チアゾリジン、２−イミ
ノ−１，３，４−チアゾリジン−４−オン等）、
の具体例は、ヘテロ環基（ヘテロ原子としては、窒素、
酸素、イオウ等を少なくとも一個含み、飽和または不飽
和の５〜７員環の単環もしくは縮合環であり、例として
は、スクシンイミド、マレインイミド、フタルイミド、
ジグリコールイミド、ピロール、ピラゾール、イミダゾ
ール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、イン
ドール、ベンゾピラゾール、ベンツイミダゾール、ジン
ゾトリアゾール、イミダゾリン−２，４−ジオン、オキ
サゾリジン−２，４−ジオン、チアゾリジン−２，４−
ジオン、イミダゾリジン−２−オン、オキサゾリン−２
−オン、チアゾリン−２−オン、ベンツイミダゾリン−
２−オン、ベンゾオキサゾリン−２−オン、ベンゾチア
ゾリンー２−オン、２−ピロイン−５−オン、２−イミ
ダゾリン−５−オン、インドリン−２，３−ジオン、
２，６−ジオキシプリン、パラバン酸、１，２，４−ト
リアゾリジン−３，５−ジオン、２−ピリドン、４−ピ
リドン、２−ピリミドン、６−ピリダゾン、２−ピラゾ
ン、２−アミノ−１，３，４−チアゾリジン、２−イミ
ノ−１，３，４−チアゾリジン−４−オン等）、
【００７７】アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、
ナフチルチオ等）、ヘテロ環チオ基（例えば、テトラゾ
リルチオ、１，３，４−チアジアゾリルチオ、１，３，
４−オキサジアオゾリルチオ、ベンツイミダゾリルチオ
等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチル
チオ、ヘキサデシルチオ等）、アルキルスルホニルオキ
シ基（例えば、メタンスルホニルオキシ等）、アリール
スルホニルオキシ基（例えば、ベンゼンスルホニルオキ
シ、トルエンスルホニルオキシ等）、カルボンアミド基
（例えば、アセタリド、トリオフルオロアセタミド
等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミ
ド、ベンゼンスルホンアミド等）、アルキルスルホニル
基（例えば、メタンスルホニル等）、アリールスルホニ
ル基（例えば、ベンゼンスルホニル等）、アルキルスル
フィニル基（例えば、メタンスルフィニル等）、アリー
ルスルフィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル
等）、アリールアゾ基（例えば、フェニルアゾ、ナフチ
ルアゾ等）、カルバノイルアミノ基（例えば、Ｎ−メチ
ルカルバモイルアミノ等）、アルキル基（例えば、メチ
ル、メトキシエチル等）、アリール基（例えば、フェニ
ル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、ベン
ゾイル等）、カルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルカルバモイル等）、アルキルカルボニル基（例えば、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリー
ルオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル
等）などである。この中でもアルキル基、アリール基な
ど活性位に炭素原子で結合している基が特に好ましい。
無呈色カプラーの活性位に置換している基以外の構造は
色素形成カプラーで述べたものが適用できる。以下に本
発明に使用できる無呈色カプラーの具体例を示すが、本
発明はこれに限定されるわけではない。
ナフチルチオ等）、ヘテロ環チオ基（例えば、テトラゾ
リルチオ、１，３，４−チアジアゾリルチオ、１，３，
４−オキサジアオゾリルチオ、ベンツイミダゾリルチオ
等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチル
チオ、ヘキサデシルチオ等）、アルキルスルホニルオキ
シ基（例えば、メタンスルホニルオキシ等）、アリール
スルホニルオキシ基（例えば、ベンゼンスルホニルオキ
シ、トルエンスルホニルオキシ等）、カルボンアミド基
（例えば、アセタリド、トリオフルオロアセタミド
等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミ
ド、ベンゼンスルホンアミド等）、アルキルスルホニル
基（例えば、メタンスルホニル等）、アリールスルホニ
ル基（例えば、ベンゼンスルホニル等）、アルキルスル
フィニル基（例えば、メタンスルフィニル等）、アリー
ルスルフィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル
等）、アリールアゾ基（例えば、フェニルアゾ、ナフチ
ルアゾ等）、カルバノイルアミノ基（例えば、Ｎ−メチ
ルカルバモイルアミノ等）、アルキル基（例えば、メチ
ル、メトキシエチル等）、アリール基（例えば、フェニ
ル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、ベン
ゾイル等）、カルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルカルバモイル等）、アルキルカルボニル基（例えば、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリー
ルオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル
等）などである。この中でもアルキル基、アリール基な
ど活性位に炭素原子で結合している基が特に好ましい。
無呈色カプラーの活性位に置換している基以外の構造は
色素形成カプラーで述べたものが適用できる。以下に本
発明に使用できる無呈色カプラーの具体例を示すが、本
発明はこれに限定されるわけではない。
【００７８】
【化３６】
【００７９】
【化３７】
【００８０】本発明で用いられる無呈色カプラーはポリ
マーカプラーラテックスとして感光材料中に含有させる
ことが、本発明の添加方法を行うために容易であり、ま
た、本発明の効果を発揮させるためにも好ましい。以下
に本発明で用いられるポリマーカプラーラテックスにつ
いて詳細に述べる。本発明で用いられるポリマーカプラ
ーラテックスはポリマーラテックスを構成する単量体の
中の少なくとも一種が一般式（Ｉ）で表される発色用還
元剤の酸化体とカップリングして実質的に無色の化合物
を生成するカプラーであるポリマーラテックスである。
上記のような、本発明のポリマーカプラーラテックスを
構成するカプラー単量体の活性位には一つの置換基が置
換される。
マーカプラーラテックスとして感光材料中に含有させる
ことが、本発明の添加方法を行うために容易であり、ま
た、本発明の効果を発揮させるためにも好ましい。以下
に本発明で用いられるポリマーカプラーラテックスにつ
いて詳細に述べる。本発明で用いられるポリマーカプラ
ーラテックスはポリマーラテックスを構成する単量体の
中の少なくとも一種が一般式（Ｉ）で表される発色用還
元剤の酸化体とカップリングして実質的に無色の化合物
を生成するカプラーであるポリマーラテックスである。
上記のような、本発明のポリマーカプラーラテックスを
構成するカプラー単量体の活性位には一つの置換基が置
換される。
【００８１】本発明のポリマーカプラーラテックスが本
発明の効力を発揮するためには、本発明のポリマーカプ
ラーラテックスを構成するカプラー単量体のｐＫａは１
０以下が好ましく、９以下が更に好ましい。ここで言う
ｐＫａとはテトラヒドロフラン３０mlと水２０mlの混合
溶媒にカプラー５×１０-5モルを溶解させ、０．２Ｎ塩
酸０．２５mlを加えた後、０．２Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液を滴下し、その際のｐＨ変化から決定した値であ
る。本発明のポリマーカプラーラテックスを構成するカ
プラー単量体は下記一般式（II）で表されるカプラー単
量体が好ましく、ポリマーカプラーラテックスとして
は、前記カプラー単量体の単独重合体、もしくは前記カ
プラー単量体と少なくとも１個のエチレン基を有し、発
色用還元体の酸化体と反応する能力を持たない単量体１
種以上との共重合体であるポリマーカプラーラテックス
が好ましい。 一般式（II）
発明の効力を発揮するためには、本発明のポリマーカプ
ラーラテックスを構成するカプラー単量体のｐＫａは１
０以下が好ましく、９以下が更に好ましい。ここで言う
ｐＫａとはテトラヒドロフラン３０mlと水２０mlの混合
溶媒にカプラー５×１０-5モルを溶解させ、０．２Ｎ塩
酸０．２５mlを加えた後、０．２Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液を滴下し、その際のｐＨ変化から決定した値であ
る。本発明のポリマーカプラーラテックスを構成するカ
プラー単量体は下記一般式（II）で表されるカプラー単
量体が好ましく、ポリマーカプラーラテックスとして
は、前記カプラー単量体の単独重合体、もしくは前記カ
プラー単量体と少なくとも１個のエチレン基を有し、発
色用還元体の酸化体と反応する能力を持たない単量体１
種以上との共重合体であるポリマーカプラーラテックス
が好ましい。 一般式（II）
【００８２】
【化３８】
【００８３】式中、Ｒ1 は水素原子、塩素原子、アルキ
ル基またはアリール基を表し、Ｌ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ
（Ｒ2)−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ2)Ｃ（＝Ｏ）
−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、下記一般式(III) 、一般式(IV)
または一般式（Ｖ）を表す。Ｒ2は水素原子、アルキル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｌ2 はＬ1 と
Ｑを結ぶ２価の連結基を表し、ｉは０または１を表す。
ｊは０または１を表し、Ｑは一般式（Ｉ）の現像主薬の
酸化体とカップリングして実質的に無色の化合物を形成
しうるカプラー残基を表す。
ル基またはアリール基を表し、Ｌ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ
（Ｒ2)−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ2)Ｃ（＝Ｏ）
−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、下記一般式(III) 、一般式(IV)
または一般式（Ｖ）を表す。Ｒ2は水素原子、アルキル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｌ2 はＬ1 と
Ｑを結ぶ２価の連結基を表し、ｉは０または１を表す。
ｊは０または１を表し、Ｑは一般式（Ｉ）の現像主薬の
酸化体とカップリングして実質的に無色の化合物を形成
しうるカプラー残基を表す。
【００８４】
【化３９】
【００８５】
【化４０】
【００８６】
【化４１】
【００８７】式中、Ｒ2 は連結基を表わし、Ｒ3 は置換
基を表し、ｋは０から４の整数を表す。一般式（II）で
表されるカプラーモノマーを更に詳しく説明する。一般
式（II）のＲ1 は水素原子、塩素原子、アルキル基また
はアリール基を表し、アルキル基は置換または無置換の
直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基を表す。置換アル
キル基の置換基はハロゲン原子（例えば、フッ素、塩
素、臭素）、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル
基、アリール基（炭素数６〜１８。例えば、フェニル、
ナフチル）、アルコキシ基（炭素数１〜２４。例えば、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ドデシル
オキシ、ヘキサデシルオキシ、メトキシエトキシ、イソ
プロポキシ）、アリールオキシ基（炭素数６〜１８。例
えば、フェノキシ、４−クロロフェノキシ、２−メトキ
シフェノキシ）、ヘテロ環オキシ基（炭素数２〜１２。
例えば、５−ピラゾリルオキシ、２−ピリジルオキ
シ）、アルキルチオ基（炭素数１〜１８。例えば、メチ
ルチオ、エチルチオ、ブチルチオ、オクチルチオ、ドデ
シルチオ、２−エチルヘキシルチオ）、アリールチオ基
（炭素数６〜１８。例えば、フェニルチオ、ナフチルチ
オ）、アルコキシカルボニル基（炭素数２〜２４。例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロピ
ルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル）、ア
リールオキシカルボニル基（炭素数７〜１６。例えば、
フェノキシカルボニル、４−エトキシフェノキシカルボ
ニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシカルボニ
ル）、カルボニルオキシ基（炭素数２〜２４。例えば、
メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プ
ロピルカルボニルオキシ、ヘプタカルボニルオキシ）、
アシルアミノ基（炭素数２〜１８。例えば、アセチルア
ミノ、ブタンアミド、ベンズアミド、ピバリン酸アミ
ド）、カルバモイル基（炭素数１〜１８。例えば、カル
バモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバ
モイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−フェニル
カルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル）、ス
ルホンアミド基（炭素数１〜１８。例えば、メタンスル
ホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンア
ミド、ヘキサデカンスルホンアミド）、スルファモイル
基（炭素数１〜１８。例えば、Ｎ−メチルスルファモイ
ル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シク
ロヘキシルスルファモイル）、アルコキシカルボニルア
ミノ基（炭素数２〜２４。例えば、メトキシカルボニル
アミノ、エトキシカルボニルアミノ）、カルバモイルア
ミノ基（炭素数２〜１８。例えば、Ｎ−メチルカルバモ
イルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルアミノ、Ｎ
−フェニルカルバモイルアミノ）、アシル基（炭素数２
〜１８。例えば、アセチル、ベンゾイル、ピバロイ
ル）、イミド基（炭素数３〜２１。例えば、コハク酸イ
ミド、フタル酸イミド、ヒダントイン−１−イル）、ス
ルホニル基（炭素数１〜２４。例えば、メチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル）等が挙げ
られる。
基を表し、ｋは０から４の整数を表す。一般式（II）で
表されるカプラーモノマーを更に詳しく説明する。一般
式（II）のＲ1 は水素原子、塩素原子、アルキル基また
はアリール基を表し、アルキル基は置換または無置換の
直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基を表す。置換アル
キル基の置換基はハロゲン原子（例えば、フッ素、塩
素、臭素）、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル
基、アリール基（炭素数６〜１８。例えば、フェニル、
ナフチル）、アルコキシ基（炭素数１〜２４。例えば、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ドデシル
オキシ、ヘキサデシルオキシ、メトキシエトキシ、イソ
プロポキシ）、アリールオキシ基（炭素数６〜１８。例
えば、フェノキシ、４−クロロフェノキシ、２−メトキ
シフェノキシ）、ヘテロ環オキシ基（炭素数２〜１２。
例えば、５−ピラゾリルオキシ、２−ピリジルオキ
シ）、アルキルチオ基（炭素数１〜１８。例えば、メチ
ルチオ、エチルチオ、ブチルチオ、オクチルチオ、ドデ
シルチオ、２−エチルヘキシルチオ）、アリールチオ基
（炭素数６〜１８。例えば、フェニルチオ、ナフチルチ
オ）、アルコキシカルボニル基（炭素数２〜２４。例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロピ
ルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル）、ア
リールオキシカルボニル基（炭素数７〜１６。例えば、
フェノキシカルボニル、４−エトキシフェノキシカルボ
ニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシカルボニ
ル）、カルボニルオキシ基（炭素数２〜２４。例えば、
メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プ
ロピルカルボニルオキシ、ヘプタカルボニルオキシ）、
アシルアミノ基（炭素数２〜１８。例えば、アセチルア
ミノ、ブタンアミド、ベンズアミド、ピバリン酸アミ
ド）、カルバモイル基（炭素数１〜１８。例えば、カル
バモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバ
モイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−フェニル
カルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル）、ス
ルホンアミド基（炭素数１〜１８。例えば、メタンスル
ホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンア
ミド、ヘキサデカンスルホンアミド）、スルファモイル
基（炭素数１〜１８。例えば、Ｎ−メチルスルファモイ
ル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シク
ロヘキシルスルファモイル）、アルコキシカルボニルア
ミノ基（炭素数２〜２４。例えば、メトキシカルボニル
アミノ、エトキシカルボニルアミノ）、カルバモイルア
ミノ基（炭素数２〜１８。例えば、Ｎ−メチルカルバモ
イルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルアミノ、Ｎ
−フェニルカルバモイルアミノ）、アシル基（炭素数２
〜１８。例えば、アセチル、ベンゾイル、ピバロイ
ル）、イミド基（炭素数３〜２１。例えば、コハク酸イ
ミド、フタル酸イミド、ヒダントイン−１−イル）、ス
ルホニル基（炭素数１〜２４。例えば、メチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル）等が挙げ
られる。
【００８８】アリール基は置換または無置換のアリール
基を表し、置換アリール基の置換基は前記の置換アルキ
ル基の置換基として説明した置換基またはアルキル基を
表す。Ｒ1 は水素原子またはアルキル基が好ましく、水
素原子または無置換の炭素数１〜４のアルキル基がさら
に好ましい。最も好ましくは水素原子またはメチル基で
ある。
基を表し、置換アリール基の置換基は前記の置換アルキ
ル基の置換基として説明した置換基またはアルキル基を
表す。Ｒ1 は水素原子またはアルキル基が好ましく、水
素原子または無置換の炭素数１〜４のアルキル基がさら
に好ましい。最も好ましくは水素原子またはメチル基で
ある。
【００８９】Ｒ2 、前記一般式(III）、一般式（IV）お
よび一般式（Ｖ）をさらに詳しく説明する。Ｒ2 は水素
原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基
は置換または無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキ
ル基を表し、アリール基は置換または無置換のアリール
基を表す。置換アルキル基の置換基は前記Ｒ1 の置換ア
ルキル基の置換基で説明した置換基と同義である。アリ
ール基は置換または無置換のアリール基を表し、置換ア
リール基の置換基は前記Ｒ1 の置換アルキル基の置換基
で説明した置換基またはアルキル基を表す。Ｒ2 は水素
原子、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が
好ましく、水素原子または無置換のアルキル基がさらに
好ましい。最も好ましくは水素原子である。
よび一般式（Ｖ）をさらに詳しく説明する。Ｒ2 は水素
原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基
は置換または無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキ
ル基を表し、アリール基は置換または無置換のアリール
基を表す。置換アルキル基の置換基は前記Ｒ1 の置換ア
ルキル基の置換基で説明した置換基と同義である。アリ
ール基は置換または無置換のアリール基を表し、置換ア
リール基の置換基は前記Ｒ1 の置換アルキル基の置換基
で説明した置換基またはアルキル基を表す。Ｒ2 は水素
原子、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が
好ましく、水素原子または無置換のアルキル基がさらに
好ましい。最も好ましくは水素原子である。
【００９０】一般式(III）、一般式（IV）および一般式
（Ｖ）のＲ3 は置換基を表し、ｋは０〜４の整数を表
す。Ｒ3 の置換基はハロゲン原子（例えば、フッ素、塩
素、臭素）、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル
基、スルホキシ基、ニトロ基、アルキル基（炭素数１〜
３６。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘ
キシル、オクチル、ヘキサデシル）、アリール基（炭素
数６〜１８。例えば、フェニル、ナフチル）、アルコキ
シ基（炭素数１〜２４。例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、ブトキシ、ドデシルオキシ、ヘキサデシル
オキシ、メトキシエトキシ、イソプロポキシ）、アリー
ルオキシ基（炭素数６〜１８。例えば、フェノキシ、４
−クロロフェノキシ、２−メトキシフェノキシ）、ヘテ
ロ環オキシ基（炭素数２〜１２。例えば、５−ピラゾリ
ルオキシ、２−ピリジルオキシ）、アルキルチオ基（炭
素数１〜１８。例えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチ
ルチオ、オクチルチオ、ドデシルチオ、２−エチルヘキ
シルチオ）、アリールチオ基（炭素数６〜１８。例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ）、アルコキシカルボ
ニル基（炭素数２〜２４。例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、
オクチルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニ
ル基（炭素数７〜１６。例えば、フェノキシカルボニ
ル、４−エトキシフェノキシカルボニル、２，４−ジ−
ｔ−アミルフェノキシカルボニル）、カルボニルオキシ
基（炭素数２〜２４。例えば、メチルカルボニルオキ
シ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキ
シ、ヘプタカルボニルオキシ）、アシルアミノ基（炭素
数２〜１８。例えば、アセチルアミノ、ブタンアミド、
ベンズアミド、ピバリン酸アミド）、カルバモイル基
（炭素数１〜１８。例えば、カルバモイル、Ｎ−メチル
カルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイル）、スルホンアミド基（炭素
数１〜１８。例えば、メタンスルホンアミド、エタンス
ルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサデカンス
ルホンアミド）、スルファモイル基（炭素数１〜１８。
例えば、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−エチルスルフ
ァモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フ
ェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモ
イル）、アルコキシカルボニルアミノ基（炭素数２〜２
４。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカル
ボニルアミノ）、カルバモイルアミノ基（炭素数２〜１
８。例えば、Ｎ−メチルカルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−
ジエチルカルバモイルアミノ、Ｎ−フェニルカルバモイ
ルアミノ）、アシル基（炭素数２〜１８。例えば、アセ
チル、ベンゾイル、ピバロイル、シクロヘキサノイ
ル）、イミド基（炭素数３〜２１。例えば、コハク酸イ
ミド、フタル酸イミド、３−ヘキサデセニルコハク酸イ
ミド、ヒダントイン−１−イル）、スルホニル基（炭素
数１〜２４。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホ
ニル、フェニルスルホニル）、ヘテロ環基（炭素数１〜
２４。ヘテロ原子として例えば、窒素原子、酸素原子ま
たは硫黄原子を少なくとも１個以上有し３〜１２、好ま
しくは５もしくは６員環の単環もしくは縮合環。例え
ば、２−ピリジル、１−ピロリル、モルホリノ、１−ピ
ラゾリル、１−イミダゾリル）等が挙げられる。これら
の基はさらに置換基を有していてもよい。
（Ｖ）のＲ3 は置換基を表し、ｋは０〜４の整数を表
す。Ｒ3 の置換基はハロゲン原子（例えば、フッ素、塩
素、臭素）、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル
基、スルホキシ基、ニトロ基、アルキル基（炭素数１〜
３６。例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘ
キシル、オクチル、ヘキサデシル）、アリール基（炭素
数６〜１８。例えば、フェニル、ナフチル）、アルコキ
シ基（炭素数１〜２４。例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、ブトキシ、ドデシルオキシ、ヘキサデシル
オキシ、メトキシエトキシ、イソプロポキシ）、アリー
ルオキシ基（炭素数６〜１８。例えば、フェノキシ、４
−クロロフェノキシ、２−メトキシフェノキシ）、ヘテ
ロ環オキシ基（炭素数２〜１２。例えば、５−ピラゾリ
ルオキシ、２−ピリジルオキシ）、アルキルチオ基（炭
素数１〜１８。例えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチ
ルチオ、オクチルチオ、ドデシルチオ、２−エチルヘキ
シルチオ）、アリールチオ基（炭素数６〜１８。例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ）、アルコキシカルボ
ニル基（炭素数２〜２４。例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、
オクチルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニ
ル基（炭素数７〜１６。例えば、フェノキシカルボニ
ル、４−エトキシフェノキシカルボニル、２，４−ジ−
ｔ−アミルフェノキシカルボニル）、カルボニルオキシ
基（炭素数２〜２４。例えば、メチルカルボニルオキ
シ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキ
シ、ヘプタカルボニルオキシ）、アシルアミノ基（炭素
数２〜１８。例えば、アセチルアミノ、ブタンアミド、
ベンズアミド、ピバリン酸アミド）、カルバモイル基
（炭素数１〜１８。例えば、カルバモイル、Ｎ−メチル
カルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイル）、スルホンアミド基（炭素
数１〜１８。例えば、メタンスルホンアミド、エタンス
ルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサデカンス
ルホンアミド）、スルファモイル基（炭素数１〜１８。
例えば、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−エチルスルフ
ァモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フ
ェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモ
イル）、アルコキシカルボニルアミノ基（炭素数２〜２
４。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカル
ボニルアミノ）、カルバモイルアミノ基（炭素数２〜１
８。例えば、Ｎ−メチルカルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−
ジエチルカルバモイルアミノ、Ｎ−フェニルカルバモイ
ルアミノ）、アシル基（炭素数２〜１８。例えば、アセ
チル、ベンゾイル、ピバロイル、シクロヘキサノイ
ル）、イミド基（炭素数３〜２１。例えば、コハク酸イ
ミド、フタル酸イミド、３−ヘキサデセニルコハク酸イ
ミド、ヒダントイン−１−イル）、スルホニル基（炭素
数１〜２４。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホ
ニル、フェニルスルホニル）、ヘテロ環基（炭素数１〜
２４。ヘテロ原子として例えば、窒素原子、酸素原子ま
たは硫黄原子を少なくとも１個以上有し３〜１２、好ま
しくは５もしくは６員環の単環もしくは縮合環。例え
ば、２−ピリジル、１−ピロリル、モルホリノ、１−ピ
ラゾリル、１−イミダゾリル）等が挙げられる。これら
の基はさらに置換基を有していてもよい。
【００９１】Ｒ3 はハロゲン原子、ヒドロキシ基、シア
ノ基、カルボキシル基、アルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルコキシカルボニル基、カルボニルオキシ
基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、アルコキシカルボニルアミノ
基、カルバモイルアミノ基、スルホニル基が好ましく、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、カ
ルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基が
さらに好ましい。最も好ましくはハロゲン原子、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基である。
ノ基、カルボキシル基、アルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルコキシカルボニル基、カルボニルオキシ
基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、アルコキシカルボニルアミノ
基、カルバモイルアミノ基、スルホニル基が好ましく、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、カ
ルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基が
さらに好ましい。最も好ましくはハロゲン原子、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基である。
【００９２】ｋは０〜４の整数を表し、ｋが２〜４の時
にはＲ3 は同一であっても異なっていてもよい。ｋは
０、１または２が好ましく、０または１がさらに好まし
い。最も好ましくは０である。
にはＲ3 は同一であっても異なっていてもよい。ｋは
０、１または２が好ましく、０または１がさらに好まし
い。最も好ましくは０である。
【００９３】一般式（II）のＬ2 は連結基を表し、具体
的には下記一般式（VI) で表される。
的には下記一般式（VI) で表される。
【００９４】
【化４２】
【００９５】式中、Ｊ1 、Ｊ2 、Ｊ3 は同じであっても
異なっていても良く、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ
−、−ＳＯ2 −、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ4)−、−ＳＯ2 Ｎ
（Ｒ 4)−、−Ｎ（Ｒ4)−Ｒ5 −、−Ｎ（Ｒ4)−Ｒ5 −Ｎ
（Ｒ6)−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ4)−Ｃ（＝Ｏ）−
Ｎ（Ｒ6)−、−Ｎ（Ｒ4)−ＳＯ2 −、−Ｎ（Ｒ4)−ＳＯ
2 −Ｎ（Ｒ6)−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ6)−、−Ｎ（Ｒ4)−Ｃ（＝Ｏ）
Ｏ−、−Ｎ（Ｒ4)−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。Ｒ4 は水素原
子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ5 はアルキ
レン基、アラルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ
6 は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ａ
1 、Ａ2 、Ａ3 は同じであっても異なっていてもよく、
アルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を表
し、ｑ、ｒおよびｓはそれぞれに０または１を表す。
異なっていても良く、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ
−、−ＳＯ2 −、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ4)−、−ＳＯ2 Ｎ
（Ｒ 4)−、−Ｎ（Ｒ4)−Ｒ5 −、−Ｎ（Ｒ4)−Ｒ5 −Ｎ
（Ｒ6)−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ4)−Ｃ（＝Ｏ）−
Ｎ（Ｒ6)−、−Ｎ（Ｒ4)−ＳＯ2 −、−Ｎ（Ｒ4)−ＳＯ
2 −Ｎ（Ｒ6)−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ6)−、−Ｎ（Ｒ4)−Ｃ（＝Ｏ）
Ｏ−、−Ｎ（Ｒ4)−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。Ｒ4 は水素原
子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ5 はアルキ
レン基、アラルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ
6 は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ａ
1 、Ａ2 、Ａ3 は同じであっても異なっていてもよく、
アルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を表
し、ｑ、ｒおよびｓはそれぞれに０または１を表す。
【００９６】Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ａ1 、Ａ2 およびＡ3
をさらに詳しく説明する。Ｒ4 およびＲ6 はそれぞれに
水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ4 お
よびＲ6 のアルキル基は置換または無置換の直鎖、分岐
鎖または環状のアルキル基を表し、置換アルキル基の置
換基は前記Ｒ1 の置換アルキル基の置換基で説明した置
換基と同義である。アリール基は置換または無置換のア
リール基を表し、置換アリール基の置換基は前記Ｒ3 で
説明した置換基と同義である。Ｒ4およびＲ6 は同一で
あっても異なっていてもよい。Ｒ4 およびＲ6 は水素原
子またはアルキル基が好ましく、水素原子または無置換
のアルキル基がさらに好ましい。最も好ましくは水素原
子または炭素数１〜１８の直鎖または分岐鎖の無置換ア
ルキル基である。
をさらに詳しく説明する。Ｒ4 およびＲ6 はそれぞれに
水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ4 お
よびＲ6 のアルキル基は置換または無置換の直鎖、分岐
鎖または環状のアルキル基を表し、置換アルキル基の置
換基は前記Ｒ1 の置換アルキル基の置換基で説明した置
換基と同義である。アリール基は置換または無置換のア
リール基を表し、置換アリール基の置換基は前記Ｒ3 で
説明した置換基と同義である。Ｒ4およびＲ6 は同一で
あっても異なっていてもよい。Ｒ4 およびＲ6 は水素原
子またはアルキル基が好ましく、水素原子または無置換
のアルキル基がさらに好ましい。最も好ましくは水素原
子または炭素数１〜１８の直鎖または分岐鎖の無置換ア
ルキル基である。
【００９７】Ｒ5 はアルキレン基、アラルキレン基また
はアリーレン基を表し、アルキレン基とは置換または無
置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキレン基を表す。
置換アルキレン基の置換基は前記Ｒ3 で説明した置換基
と同義である。アラルキレン基は置換または無置換のア
ラルキレン基を表し、置換アラルキレン基の置換基は前
記Ｒ3 で説明した置換基と同義である。アリーレン基は
置換または無置換のアリーレン基を表し、置換アリーレ
ン基の置換基は前記Ｒ3 で説明した置換基と同義であ
る。
はアリーレン基を表し、アルキレン基とは置換または無
置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキレン基を表す。
置換アルキレン基の置換基は前記Ｒ3 で説明した置換基
と同義である。アラルキレン基は置換または無置換のア
ラルキレン基を表し、置換アラルキレン基の置換基は前
記Ｒ3 で説明した置換基と同義である。アリーレン基は
置換または無置換のアリーレン基を表し、置換アリーレ
ン基の置換基は前記Ｒ3 で説明した置換基と同義であ
る。
【００９８】Ａ1 、Ａ2 、Ａ3 は同じであっても異なっ
ていてもよく、アルキレン基、アリーレン基、またはア
ラルキレン基を表し、アルキレン基は置換または無置換
の直鎖、分岐鎖または環状のアルキレン基を表す。アリ
ーレン基は置換または無置換のアリーレン基を表し、ア
ラルキレン基は置換または無置換のアラルキレン基を表
す。置換アルキレン基、置換アリーレン基および置換ア
ラルキレン基の置換基は前記Ｒ3 で説明した置換基と同
義である。ｑ、ｒおよびｓはそれぞれに０または１を表
す。
ていてもよく、アルキレン基、アリーレン基、またはア
ラルキレン基を表し、アルキレン基は置換または無置換
の直鎖、分岐鎖または環状のアルキレン基を表す。アリ
ーレン基は置換または無置換のアリーレン基を表し、ア
ラルキレン基は置換または無置換のアラルキレン基を表
す。置換アルキレン基、置換アリーレン基および置換ア
ラルキレン基の置換基は前記Ｒ3 で説明した置換基と同
義である。ｑ、ｒおよびｓはそれぞれに０または１を表
す。
【００９９】Ｑは無呈色カプラー残基を表し、例えば、
ピバロイルアセトアニライド型、ベンゾイルアセトアニ
ライド型、マロン酸ジエステル型、マロン酸ジアミド
型、ジベンゾイルメタン型、ベンゾチアゾリルアセトア
ミド型、マロン酸エステルモノアミド型（例えば、特開
平５−３１３３２３号）、ベンゾオキサゾリルアセトア
ミド型、ベンゾイミダゾリルアセトアミド型、またはシ
クロアルカノイルアセトアミド型（例えば、特開平４−
２１８０４２号）、等のカプラー残基、米国特許第５，
０２１，３３２号、同５，０２１，３３０号、同５，２
１３，９５８号、欧州特許第４２１，２２１Ａ号、同４
８２，５５２号等に記載のカプラー残基、５−ピラゾロ
ン型、ピラゾロベンツイミダゾール型、ピラゾロトリロ
アゾール型、ピラゾロイミダゾール型、イミダゾトリア
ゾール型、またはシアノアセトフェノン型のカプラー残
基、フェノール型、ナフトール型、５−アミドナフトー
ル型（例えば、特開昭６１−１５３６４０号）、米国特
許第４，７４６，６０２号、同５，２５６，５２６号、
同５，２７０，１５３号、欧州特許第２４９，４５３号
および特開平７−２９４７１４号に記載のカプラー残基
が挙げられる。Ｑで表されるカプラー残基は、活性位に
一般式（Ｉ）で表される発色用還元剤の酸化体とカップ
リングした後でも実質的に離脱しない置換基を有する。
ピバロイルアセトアニライド型、ベンゾイルアセトアニ
ライド型、マロン酸ジエステル型、マロン酸ジアミド
型、ジベンゾイルメタン型、ベンゾチアゾリルアセトア
ミド型、マロン酸エステルモノアミド型（例えば、特開
平５−３１３３２３号）、ベンゾオキサゾリルアセトア
ミド型、ベンゾイミダゾリルアセトアミド型、またはシ
クロアルカノイルアセトアミド型（例えば、特開平４−
２１８０４２号）、等のカプラー残基、米国特許第５，
０２１，３３２号、同５，０２１，３３０号、同５，２
１３，９５８号、欧州特許第４２１，２２１Ａ号、同４
８２，５５２号等に記載のカプラー残基、５−ピラゾロ
ン型、ピラゾロベンツイミダゾール型、ピラゾロトリロ
アゾール型、ピラゾロイミダゾール型、イミダゾトリア
ゾール型、またはシアノアセトフェノン型のカプラー残
基、フェノール型、ナフトール型、５−アミドナフトー
ル型（例えば、特開昭６１−１５３６４０号）、米国特
許第４，７４６，６０２号、同５，２５６，５２６号、
同５，２７０，１５３号、欧州特許第２４９，４５３号
および特開平７−２９４７１４号に記載のカプラー残基
が挙げられる。Ｑで表されるカプラー残基は、活性位に
一般式（Ｉ）で表される発色用還元剤の酸化体とカップ
リングした後でも実質的に離脱しない置換基を有する。
【０１００】一般式（II）で表されるカプラー単量体に
おいて、好ましくはＲ1 は水素原子またはアルキル基で
ある。Ｌ1 は−Ｎ（Ｒ2)Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）
−、前記一般式(III) 、一般式（IV）または一般式
（Ｖ）で、ｉは０または１であり、Ｒ2 が水素原子、無
置換のアルキル基または無置換のアリール基で、Ｒ3 が
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル
基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキ
シカルボニル基、カルボニルオキシ基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイルア
ミノ基、またはスルホニルであり、ｋは０、１または２
で、Ｌ2 は二価の連結基（アルキレン基、アリーレン基
またはアラルキレン基）であり、ｊは０または１であ
る。
おいて、好ましくはＲ1 は水素原子またはアルキル基で
ある。Ｌ1 は−Ｎ（Ｒ2)Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）
−、前記一般式(III) 、一般式（IV）または一般式
（Ｖ）で、ｉは０または１であり、Ｒ2 が水素原子、無
置換のアルキル基または無置換のアリール基で、Ｒ3 が
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル
基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキ
シカルボニル基、カルボニルオキシ基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイルア
ミノ基、またはスルホニルであり、ｋは０、１または２
で、Ｌ2 は二価の連結基（アルキレン基、アリーレン基
またはアラルキレン基）であり、ｊは０または１であ
る。
【０１０１】さらに好ましくは、Ｒ1 は水素原子または
無置換のアルキル基である。Ｌ1 は−Ｎ（Ｒ2)Ｃ（＝
Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、前記一般式(III) 、一般式
（IV）または一般式（Ｖ）で、ｉは１であり、Ｒ2 が水
素原子、無置換のアルキル基または無置換のアリール基
で、Ｒ3 がハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、またはスルホニル基であり、ｋは０または１で、
Ｌ2 は二価の連結基（アルキレン基、アリーレン基また
はアラルキレン基）であり、ｊは０または１である。
無置換のアルキル基である。Ｌ1 は−Ｎ（Ｒ2)Ｃ（＝
Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、前記一般式(III) 、一般式
（IV）または一般式（Ｖ）で、ｉは１であり、Ｒ2 が水
素原子、無置換のアルキル基または無置換のアリール基
で、Ｒ3 がハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、またはスルホニル基であり、ｋは０または１で、
Ｌ2 は二価の連結基（アルキレン基、アリーレン基また
はアラルキレン基）であり、ｊは０または１である。
【０１０２】最も好ましくは、Ｒ1 は水素原子または炭
素数１〜４の無置換アルキル基で、Ｌ1 は−Ｎ（Ｒ2)Ｃ
（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、前記一般式(III) 、一
般式（IV）または一般式（Ｖ）で、ｉは１で表され、Ｒ
2 が水素原子で、ｋは０で、Ｌ2 は二価の連結基（アル
キレン基、アリーレン基またはアラルキレン基）であ
り、ｊは０または１である。
素数１〜４の無置換アルキル基で、Ｌ1 は−Ｎ（Ｒ2)Ｃ
（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、前記一般式(III) 、一
般式（IV）または一般式（Ｖ）で、ｉは１で表され、Ｒ
2 が水素原子で、ｋは０で、Ｌ2 は二価の連結基（アル
キレン基、アリーレン基またはアラルキレン基）であ
り、ｊは０または１である。
【０１０３】次に、一般式（Ｉ）の還元剤の酸化体とカ
ップリングしない非発色性エチレン様単量体としては、
アクリル酸、α−クロロアクリル酸、α−アルキルアク
リル酸（例えば、アクリル酸、メタアクリル酸）、およ
びそれらのアクリル酸から誘導されるエステル類あるい
はアミド類（例えば、アクリルアミド、メタアクリルア
ミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、２−アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ｎ−
プロピルアクリレート、ｉｓｏ−プロピルアクリレー
ト、ｎ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルア
クリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−オクチル
アクリレート、ラウリルアクリレート、アセトアセトキ
シエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
およびメチレンビスアクリルアミド）、ビニルエステル
（例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、
およびビニルラウレート）、アクリロニトリル、メタア
クリロニトリル、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレ
ンおよびその誘導体（例えば、スチレンスルフィン酸カ
リウム、スチレンスルホン酸ナトリウム等）、ビニリデ
ンクロライド、ビニルアルキルエーテル（例えば、ビニ
ルエチルエーテル）、マレイン酸エステル、Ｎ−ビニル
−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピリジンおよび２−およ
び４−ビニルピリジン等が挙げられる。特にアクリル酸
エステル類、メタアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタアクリルアミド類、スチレンおよびその誘導
体類が好ましい。
ップリングしない非発色性エチレン様単量体としては、
アクリル酸、α−クロロアクリル酸、α−アルキルアク
リル酸（例えば、アクリル酸、メタアクリル酸）、およ
びそれらのアクリル酸から誘導されるエステル類あるい
はアミド類（例えば、アクリルアミド、メタアクリルア
ミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、２−アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ｎ−
プロピルアクリレート、ｉｓｏ−プロピルアクリレー
ト、ｎ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルア
クリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−オクチル
アクリレート、ラウリルアクリレート、アセトアセトキ
シエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
およびメチレンビスアクリルアミド）、ビニルエステル
（例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、
およびビニルラウレート）、アクリロニトリル、メタア
クリロニトリル、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレ
ンおよびその誘導体（例えば、スチレンスルフィン酸カ
リウム、スチレンスルホン酸ナトリウム等）、ビニリデ
ンクロライド、ビニルアルキルエーテル（例えば、ビニ
ルエチルエーテル）、マレイン酸エステル、Ｎ−ビニル
−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピリジンおよび２−およ
び４−ビニルピリジン等が挙げられる。特にアクリル酸
エステル類、メタアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタアクリルアミド類、スチレンおよびその誘導
体類が好ましい。
【０１０４】ポリマーカプラー中に占めるカプラー部分
の割合は５〜８０重量％が好ましく、より好ましくは５
〜６０重量％である。この場合の当分子量（１モルのカ
プラー単量体を含むポリマーのグラム数）は約２５０〜
４０００であるがこれらに限定するものではない。
の割合は５〜８０重量％が好ましく、より好ましくは５
〜６０重量％である。この場合の当分子量（１モルのカ
プラー単量体を含むポリマーのグラム数）は約２５０〜
４０００であるがこれらに限定するものではない。
【０１０５】ポリマーカプラーラテックスの合成法に
は、大きく分けて、ｉ）乳化重合法、ii）シード重合法
があり、それぞれｉ）ポリマーカプラーラテックス、i
i）層構造ポリマーカプラーラテックスが得られる。そ
れらの重合体の製法および乳剤への添加方法は、それぞ
れにｉ）米国特許第４，０８０，２１１号、ii）特開昭
５８−４２０４４号に記載されている。
は、大きく分けて、ｉ）乳化重合法、ii）シード重合法
があり、それぞれｉ）ポリマーカプラーラテックス、i
i）層構造ポリマーカプラーラテックスが得られる。そ
れらの重合体の製法および乳剤への添加方法は、それぞ
れにｉ）米国特許第４，０８０，２１１号、ii）特開昭
５８−４２０４４号に記載されている。
【０１０６】本発明で使用するカプラー単量体の具体例
を以下に示すが、これらに限定されない。
を以下に示すが、これらに限定されない。
【０１０７】
【化４３】
【０１０８】
【化４４】
【０１０９】
【化４５】
【０１１０】
【化４６】
【０１１１】本発明で用いられるポリマーカプラーラテ
ックスの組成を表１に示すが、本発明はこれらに限定さ
れない。
ックスの組成を表１に示すが、本発明はこれらに限定さ
れない。
【０１１２】
【表１】
【０１１３】本発明の無呈色カプラーは発色用還元剤と
カプラーが溶解されている高沸点溶媒の微粒子分散物以
外に含有させるのならば、任意の方法で写真構成層中に
添加させることができる。例えば、別個に無呈色カプラ
ーを溶解した高沸点有機溶媒の乳化分散物を作製し、塗
布液中に添加することができる。この場合は、発色用還
元剤、色素形成カプラー、もしくは無呈色カプラーがそ
れらの含まれる高沸点有機溶媒の微細粒子分散物の間の
物質移動により、均質化してしまって本発明の効果を薄
れさせてしまう可能性があり、無呈色カプラーを溶解し
た高沸点有機溶媒の微粒子分散物の添加は塗布直前に行
うのが好ましい。また、高沸点有機溶媒無しで、無呈色
カプラーを感光材料中に導入する、所謂、オイルレス分
散を行うこともできる。さらには、無呈色カプラーを固
体分散状態で添加することも可能である。しかしなが
ら、最も有効である手法としては、ポリマーラテックス
状態のカプラーを作製し、感光材料中に導入する方法で
ある。このような方法であれば、塗布液の溶解経時を行
った場合でも発色用還元剤、色素形成カプラー、もしく
は無呈色カプラーがそれらの含まれる高沸点有機溶媒の
微細粒子分散物の間の物質移動により、均質化してしま
って本発明の効果を薄れさせてしまうことはないし、処
理中に処理液中に流出してしまうこともない。本発明に
おいて、上記したようなポリマーラテックスは任意の方
法で感光材料中に導入することができるが、塗布直前に
塗布液中に添加することが好ましい。
カプラーが溶解されている高沸点溶媒の微粒子分散物以
外に含有させるのならば、任意の方法で写真構成層中に
添加させることができる。例えば、別個に無呈色カプラ
ーを溶解した高沸点有機溶媒の乳化分散物を作製し、塗
布液中に添加することができる。この場合は、発色用還
元剤、色素形成カプラー、もしくは無呈色カプラーがそ
れらの含まれる高沸点有機溶媒の微細粒子分散物の間の
物質移動により、均質化してしまって本発明の効果を薄
れさせてしまう可能性があり、無呈色カプラーを溶解し
た高沸点有機溶媒の微粒子分散物の添加は塗布直前に行
うのが好ましい。また、高沸点有機溶媒無しで、無呈色
カプラーを感光材料中に導入する、所謂、オイルレス分
散を行うこともできる。さらには、無呈色カプラーを固
体分散状態で添加することも可能である。しかしなが
ら、最も有効である手法としては、ポリマーラテックス
状態のカプラーを作製し、感光材料中に導入する方法で
ある。このような方法であれば、塗布液の溶解経時を行
った場合でも発色用還元剤、色素形成カプラー、もしく
は無呈色カプラーがそれらの含まれる高沸点有機溶媒の
微細粒子分散物の間の物質移動により、均質化してしま
って本発明の効果を薄れさせてしまうことはないし、処
理中に処理液中に流出してしまうこともない。本発明に
おいて、上記したようなポリマーラテックスは任意の方
法で感光材料中に導入することができるが、塗布直前に
塗布液中に添加することが好ましい。
【０１１４】本発明に使用する無呈色カプラーの使用量
に特に制限はないが、好ましい使用量は色素形成カプラ
ーのモル数に対して０．１〜２０倍であり、更に好まし
くは０．２倍〜１０倍で、特に好ましくは０．５〜５倍
である。この範囲であると、十分な発色濃度が得られ、
高温高湿下、および／または光照射下での長期保存によ
るステインの上昇が十分に抑制できる点で好ましい。本
発明のカラー写真感光材料は基本的には支持体に少なく
とも１層の親水性コロイド層からなる写真構成層を塗布
してなり、このひとつ又は複数の写真構成層のいずれか
に感光性ハロゲン化銀、色素形成用カプラー、発色用還
元剤、および無呈色カプラーを含有する。本発明に用い
る色素形成カプラーと発色用還元剤は同一の乳化分散物
中に含有されることが必要である。色素形成カプラーと
発色用還元剤を同一の乳化分散物中に含有せしめるため
には色素形成カプラーと発色用還元剤を高沸点有機溶媒
中に溶解し、乳化分散物を作成するという方法が用いら
れる。このようにして作成された乳化分散物はいかなる
層に含有させてもかまわないが、感光性ハロゲン化銀乳
剤が含有されている層、もしくは感光性ハロゲン化銀乳
剤含有層に隣接する層に含有させることが好ましく、感
光性ハロゲン化銀乳剤が含有されている層が特に好まし
い。無呈色カプラーは発色用還元剤および色素形成カプ
ラーが含有されている分散物以外であれば感光材料中の
どの層にも含有させることができるが、発色用還元剤お
よび色素形成カプラーが含有されている分散物が含有さ
れている層もしくはその隣接層に含有させることが好ま
しく、発色用還元剤および色素形成カプラーが含有され
ている分散物が含有されている層に含有させることが特
に好ましい。
に特に制限はないが、好ましい使用量は色素形成カプラ
ーのモル数に対して０．１〜２０倍であり、更に好まし
くは０．２倍〜１０倍で、特に好ましくは０．５〜５倍
である。この範囲であると、十分な発色濃度が得られ、
高温高湿下、および／または光照射下での長期保存によ
るステインの上昇が十分に抑制できる点で好ましい。本
発明のカラー写真感光材料は基本的には支持体に少なく
とも１層の親水性コロイド層からなる写真構成層を塗布
してなり、このひとつ又は複数の写真構成層のいずれか
に感光性ハロゲン化銀、色素形成用カプラー、発色用還
元剤、および無呈色カプラーを含有する。本発明に用い
る色素形成カプラーと発色用還元剤は同一の乳化分散物
中に含有されることが必要である。色素形成カプラーと
発色用還元剤を同一の乳化分散物中に含有せしめるため
には色素形成カプラーと発色用還元剤を高沸点有機溶媒
中に溶解し、乳化分散物を作成するという方法が用いら
れる。このようにして作成された乳化分散物はいかなる
層に含有させてもかまわないが、感光性ハロゲン化銀乳
剤が含有されている層、もしくは感光性ハロゲン化銀乳
剤含有層に隣接する層に含有させることが好ましく、感
光性ハロゲン化銀乳剤が含有されている層が特に好まし
い。無呈色カプラーは発色用還元剤および色素形成カプ
ラーが含有されている分散物以外であれば感光材料中の
どの層にも含有させることができるが、発色用還元剤お
よび色素形成カプラーが含有されている分散物が含有さ
れている層もしくはその隣接層に含有させることが好ま
しく、発色用還元剤および色素形成カプラーが含有され
ている分散物が含有されている層に含有させることが特
に好ましい。
【０１１５】本発明において発色用還元剤と色素形成カ
プラーから生成する色素が拡散性色素である場合、感光
材料中に媒染剤を添加することが好ましい。本発明をこ
の様な形態に適応した場合、現像処理後、更にアルカリ
に浸漬して発色させる必要が無くなり、そのため処理後
の画像安定性が著しく改良される。媒染剤はいずれの層
に用いても良いが、本発明の発色用還元剤が含有されて
いる層に添加すると、発色用還元剤の安定性が悪化する
ために、本発明の発色用還元剤を含まない層に用いるこ
とが好ましい。更に、発色用還元剤とカプラーから生成
する色素は処理中膨潤したゼラチン膜中を拡散して媒染
剤に染色する。その為、良好な鮮鋭度を得るためには拡
散距離が短い方が好ましい。従って、媒染剤が添加され
る層は発色用還元剤が含有されている層の隣接層に添加
することが好ましい。又本発明の発色用還元剤と、本発
明のカプラーから生成する色素は水溶性色素であるの
で、処理液中に流出してしまう可能性がある。従って、
これを阻止するために媒染剤が添加される層は発色用還
元剤が含有されている層に対して、支持体と反対側にあ
ることが好ましい。ただし、特開平７−１６８３３５号
に記載されているようなバリアー層を媒染剤を添加する
層に対して支持体と反対側に設ける場合には、媒染剤が
添加される層が発色用還元剤が含有されている層に対し
て支持体と同じ側にあるのも好ましい。
プラーから生成する色素が拡散性色素である場合、感光
材料中に媒染剤を添加することが好ましい。本発明をこ
の様な形態に適応した場合、現像処理後、更にアルカリ
に浸漬して発色させる必要が無くなり、そのため処理後
の画像安定性が著しく改良される。媒染剤はいずれの層
に用いても良いが、本発明の発色用還元剤が含有されて
いる層に添加すると、発色用還元剤の安定性が悪化する
ために、本発明の発色用還元剤を含まない層に用いるこ
とが好ましい。更に、発色用還元剤とカプラーから生成
する色素は処理中膨潤したゼラチン膜中を拡散して媒染
剤に染色する。その為、良好な鮮鋭度を得るためには拡
散距離が短い方が好ましい。従って、媒染剤が添加され
る層は発色用還元剤が含有されている層の隣接層に添加
することが好ましい。又本発明の発色用還元剤と、本発
明のカプラーから生成する色素は水溶性色素であるの
で、処理液中に流出してしまう可能性がある。従って、
これを阻止するために媒染剤が添加される層は発色用還
元剤が含有されている層に対して、支持体と反対側にあ
ることが好ましい。ただし、特開平７−１６８３３５号
に記載されているようなバリアー層を媒染剤を添加する
層に対して支持体と反対側に設ける場合には、媒染剤が
添加される層が発色用還元剤が含有されている層に対し
て支持体と同じ側にあるのも好ましい。
【０１１６】また、媒染剤は複数の層に添加されてもよ
く、特に、発色用還元剤が含有されている層が複数であ
る場合にはそれぞれの隣接層に、媒染剤を添加すること
も好ましい。また拡散性色素を形成するカプラーは本発
明の発色用還元剤とカップリングして形成される拡散性
色素が媒染剤まで到達するものであれば如何なるカプラ
ーでも良いが、形成される拡散性色素がｐＫａ（酸解離
定数）１２以下の解離基を１つ以上持つことが好まし
く、ｐＫａ８以下の解離基を１つ以上持つことが更に好
ましく、ｐＫａ６以下の解離基を持つことが特に好まし
い。形成される拡散性色素の分子量は２００以上２００
０以下が好ましい。さらに（形成される色素の分子量／
ｐＫａ１２以下の解離基の数）は１００以上２０００以
下が好ましく、１００以上１０００以下であることが更
に好ましい。ここでｐＫａの値はジメチルホルムアミ
ド：水＝１：１を溶媒として測定した値を用いる。
く、特に、発色用還元剤が含有されている層が複数であ
る場合にはそれぞれの隣接層に、媒染剤を添加すること
も好ましい。また拡散性色素を形成するカプラーは本発
明の発色用還元剤とカップリングして形成される拡散性
色素が媒染剤まで到達するものであれば如何なるカプラ
ーでも良いが、形成される拡散性色素がｐＫａ（酸解離
定数）１２以下の解離基を１つ以上持つことが好まし
く、ｐＫａ８以下の解離基を１つ以上持つことが更に好
ましく、ｐＫａ６以下の解離基を持つことが特に好まし
い。形成される拡散性色素の分子量は２００以上２００
０以下が好ましい。さらに（形成される色素の分子量／
ｐＫａ１２以下の解離基の数）は１００以上２０００以
下が好ましく、１００以上１０００以下であることが更
に好ましい。ここでｐＫａの値はジメチルホルムアミ
ド：水＝１：１を溶媒として測定した値を用いる。
【０１１７】拡散性色素を形成するカプラーは本発明の
発色用還元剤とカップリングして形成される拡散性色素
の溶解度が２５℃までｐＨ１１のアルカリ液に１×１０
-6モル／リットル以上溶けることが好ましく、１×１０
-5モル／リットル以上溶けることが更に好ましく、１×
１０-4モル／リットル以上溶けることが特に好ましい。
また拡散性色素を形成するカプラーは本発明の発色用還
元剤とカップリングして形成される拡散性色素の拡散定
数が２５℃、ｐＨ１１のアルカリ液中、１０-4モル／リ
ットルの濃度で溶かしたときに１×１０-8m2／ｓ-1以上
であることが好ましく、１×１０-7m2／ｓ-1以上である
ことが更に好ましく、１×１０-6m2／ｓ -1以上であるこ
とが特に好ましい。
発色用還元剤とカップリングして形成される拡散性色素
の溶解度が２５℃までｐＨ１１のアルカリ液に１×１０
-6モル／リットル以上溶けることが好ましく、１×１０
-5モル／リットル以上溶けることが更に好ましく、１×
１０-4モル／リットル以上溶けることが特に好ましい。
また拡散性色素を形成するカプラーは本発明の発色用還
元剤とカップリングして形成される拡散性色素の拡散定
数が２５℃、ｐＨ１１のアルカリ液中、１０-4モル／リ
ットルの濃度で溶かしたときに１×１０-8m2／ｓ-1以上
であることが好ましく、１×１０-7m2／ｓ-1以上である
ことが更に好ましく、１×１０-6m2／ｓ -1以上であるこ
とが特に好ましい。
【０１１８】本発明で用いることの出来る媒染剤は通常
使用される媒染剤の中から任意に選ぶことが出来るが、
それらの中でも特にポリマー媒染剤が好ましい。ここで
ポリマー媒染剤とは、３級アミノ基を有するポリマー、
含窒素複素環部分を有するポリマー、及びこれらの４級
カチオン基を含むポリマー等である。
使用される媒染剤の中から任意に選ぶことが出来るが、
それらの中でも特にポリマー媒染剤が好ましい。ここで
ポリマー媒染剤とは、３級アミノ基を有するポリマー、
含窒素複素環部分を有するポリマー、及びこれらの４級
カチオン基を含むポリマー等である。
【０１１９】３級イミダゾール基を有するビニルモノマ
ー単位を含むホモポリマーやコポリマーの具体例として
は、米国特許第４，２８２，３０５号、同第４，１１
５，１２４号、同第３，１４８，０６１号、特開昭６０
−１１８８３４号、同６０−１２２９４１号、同６２−
２４４０４３号、同６２−２４４０３６号等に記載され
ている媒染層を含め、以下のものが挙げられる。
ー単位を含むホモポリマーやコポリマーの具体例として
は、米国特許第４，２８２，３０５号、同第４，１１
５，１２４号、同第３，１４８，０６１号、特開昭６０
−１１８８３４号、同６０−１２２９４１号、同６２−
２４４０４３号、同６２−２４４０３６号等に記載され
ている媒染層を含め、以下のものが挙げられる。
【０１２０】４級イミダゾリウム塩を有するビニルモノ
マー単位を含むホモポリマーやコポリマーの好ましい具
体例としては、英国特許第２，０５６，１０１号、同第
２，０９３，０４１号、同第１，５９４，９６１号、米
国特許第４，１２４，３８６号、同第４，１１５，１２
４号、同第４，４５０，２２４号、特開昭４８−２８３
２５号等に記載されている媒染剤を含め以下のものが挙
げられる。
マー単位を含むホモポリマーやコポリマーの好ましい具
体例としては、英国特許第２，０５６，１０１号、同第
２，０９３，０４１号、同第１，５９４，９６１号、米
国特許第４，１２４，３８６号、同第４，１１５，１２
４号、同第４，４５０，２２４号、特開昭４８−２８３
２５号等に記載されている媒染剤を含め以下のものが挙
げられる。
【０１２１】その他、４級アンモニウム塩を有するビニ
ルモノマー単位を有するホモポリマーやコポリマーの好
ましい具体例としては、米国特許第３，７０９，６９０
号、同第３，８９８，０８８号、同第３，９５８，９９
５号、特開昭６０−５７８３６号、同６０−６０６４３
号、同６０−１２２９４０号、同６０−１２２９４２
号、同６０−２３５１３４号等に記載されている媒染剤
を含め以下のものが挙げられる。
ルモノマー単位を有するホモポリマーやコポリマーの好
ましい具体例としては、米国特許第３，７０９，６９０
号、同第３，８９８，０８８号、同第３，９５８，９９
５号、特開昭６０−５７８３６号、同６０−６０６４３
号、同６０−１２２９４０号、同６０−１２２９４２
号、同６０−２３５１３４号等に記載されている媒染剤
を含め以下のものが挙げられる。
【０１２２】その他、米国特許第２，５４８，５６４
号、同第２，４８４，４３０号、同第３，１４８，１６
１号、同第３，７５６，８１４号明細書等に開示されて
いるビニルピリジンポリマー、およびビニルピリジニウ
ムカチオンポリマー；米国特許第３，６２５，６９４
号、同第３，８５９，０９６号、同第４，１２８，５３
８号、英国特許第１，２７７，４５３号明細書等に開示
されているゼラチン等と架橋可能なポリマー媒染剤；米
国特許３，９５８，９９５号、同第２，７２１，８５２
号、同第２，７９８，０６３号、特開昭５４−１１５２
２８号、同５４−１４５５２９号、同５４−２６０２７
号明細書等に開示されている水性ゾル型媒染剤；米国特
許第３，８９８，０８８号明細書に開示されている水不
溶性媒染剤；米国特許第４，１６８，９７６号（特開昭
５４−１３７３３３号）明細書等に開示の染料と共有結
合を行うことのできる反応性媒染剤；更に米国特許第
３，７０９，６９０号、同第３，７８８，８５５号、同
第３，６４２，４８２号、同第３，４８８，７０６号、
同第３，５５７，０６６号、同第３，２７１，１４７
号、特開昭５０−７１３３２号、同５３−３０３２８
号、同５２−１５５５２８号、同５３−１２５号、同５
３−１０２４号明細書に開示してある媒染剤を挙げるこ
とができる。その他、米国特許第２，６７５，３１６
号、同第２，８８２，１５６号明細書に記載の媒染剤も
挙げることができる。
号、同第２，４８４，４３０号、同第３，１４８，１６
１号、同第３，７５６，８１４号明細書等に開示されて
いるビニルピリジンポリマー、およびビニルピリジニウ
ムカチオンポリマー；米国特許第３，６２５，６９４
号、同第３，８５９，０９６号、同第４，１２８，５３
８号、英国特許第１，２７７，４５３号明細書等に開示
されているゼラチン等と架橋可能なポリマー媒染剤；米
国特許３，９５８，９９５号、同第２，７２１，８５２
号、同第２，７９８，０６３号、特開昭５４−１１５２
２８号、同５４−１４５５２９号、同５４−２６０２７
号明細書等に開示されている水性ゾル型媒染剤；米国特
許第３，８９８，０８８号明細書に開示されている水不
溶性媒染剤；米国特許第４，１６８，９７６号（特開昭
５４−１３７３３３号）明細書等に開示の染料と共有結
合を行うことのできる反応性媒染剤；更に米国特許第
３，７０９，６９０号、同第３，７８８，８５５号、同
第３，６４２，４８２号、同第３，４８８，７０６号、
同第３，５５７，０６６号、同第３，２７１，１４７
号、特開昭５０−７１３３２号、同５３−３０３２８
号、同５２−１５５５２８号、同５３−１２５号、同５
３−１０２４号明細書に開示してある媒染剤を挙げるこ
とができる。その他、米国特許第２，６７５，３１６
号、同第２，８８２，１５６号明細書に記載の媒染剤も
挙げることができる。
【０１２３】本発明のポリマー媒染剤の分子量は１，０
００〜１，０００，０００が適当であり、特に１０，０
００〜２００，０００が好ましい。上記のポリマー媒染
剤は通常親水性コロイドと混合されて用いられる。親水
性コロイドとしては親水性コロイド、高吸湿性ポリマー
あるいはそれらの両方が使用できるが、ゼラチンが最も
代表的である。ポリマー媒染剤と親水性コロイドの混合
比、及びポリマー媒染剤の塗布量は、媒染されるべき色
素の量、ポリマー媒染剤の種類や組成、さらに用いられ
る画像形成過程などに応じて、当業者が容易に定めるこ
とができるが、媒染剤／親水性コロイド比が２０／８０
〜８０／２０（重量比）、媒染剤塗布量は０．２〜１５
ｇ／m2が適当であり、好ましくは０．５〜８ｇ／m2で使
用するのが好ましい。本発明では感光材料中に補助現像
主薬およびその前駆体を用いることが好ましく、これら
化合物について以下に説明する。本発明で用いられる補
助現像主薬とは、ハロゲン化銀粒子の現像過程におい
て、発色用還元剤からハロゲン化銀への電子移動を促進
する作用を有する化合物であり、好ましくは露光された
ハロゲン化銀粒子を現像し、かつその酸化体が発色用還
元剤を酸化すること（以後クロス酸化と呼ぶ）かできる
化合物である。本発明で用いられる補助現像主薬は、好
ましくはピラゾリドン類、ジヒドロキシベンゼン類、レ
ダクトン類またはアミノフェノール類が用いられ、特に
好ましくはピラゾリドン類が用いられる。親水性コロイ
ド層中でのこれら化合物の拡散性は低い方が好ましく、
例えば水への溶解度（２５℃）が、好ましくは０．１％
以下、更に好ましくは０．０５％以下、特に好ましくは
０．０１％以下である。本発明で用いられる補助現像主
薬の前駆体は、感材材料中では安定に存在するが、一旦
処理液で処理されると迅速に上記補助現像主薬を放出す
る化合物であり、この化合物を使用する場合にも親水性
コロイド層中での拡散性が低い方が好ましい。例えば水
への溶解度（２５℃）が好ましくは０．１％以下、更に
好ましくは０．０５％以下、特に好ましくは０．０１％
以下である。前駆体から放出される補助現像主薬の溶解
度は特に制限されないが、補助現像主薬自体も溶解度が
低い方が好ましい。本発明の補助現像主薬前駆体は好ま
しくは一般式（Ａ）で表される。
００〜１，０００，０００が適当であり、特に１０，０
００〜２００，０００が好ましい。上記のポリマー媒染
剤は通常親水性コロイドと混合されて用いられる。親水
性コロイドとしては親水性コロイド、高吸湿性ポリマー
あるいはそれらの両方が使用できるが、ゼラチンが最も
代表的である。ポリマー媒染剤と親水性コロイドの混合
比、及びポリマー媒染剤の塗布量は、媒染されるべき色
素の量、ポリマー媒染剤の種類や組成、さらに用いられ
る画像形成過程などに応じて、当業者が容易に定めるこ
とができるが、媒染剤／親水性コロイド比が２０／８０
〜８０／２０（重量比）、媒染剤塗布量は０．２〜１５
ｇ／m2が適当であり、好ましくは０．５〜８ｇ／m2で使
用するのが好ましい。本発明では感光材料中に補助現像
主薬およびその前駆体を用いることが好ましく、これら
化合物について以下に説明する。本発明で用いられる補
助現像主薬とは、ハロゲン化銀粒子の現像過程におい
て、発色用還元剤からハロゲン化銀への電子移動を促進
する作用を有する化合物であり、好ましくは露光された
ハロゲン化銀粒子を現像し、かつその酸化体が発色用還
元剤を酸化すること（以後クロス酸化と呼ぶ）かできる
化合物である。本発明で用いられる補助現像主薬は、好
ましくはピラゾリドン類、ジヒドロキシベンゼン類、レ
ダクトン類またはアミノフェノール類が用いられ、特に
好ましくはピラゾリドン類が用いられる。親水性コロイ
ド層中でのこれら化合物の拡散性は低い方が好ましく、
例えば水への溶解度（２５℃）が、好ましくは０．１％
以下、更に好ましくは０．０５％以下、特に好ましくは
０．０１％以下である。本発明で用いられる補助現像主
薬の前駆体は、感材材料中では安定に存在するが、一旦
処理液で処理されると迅速に上記補助現像主薬を放出す
る化合物であり、この化合物を使用する場合にも親水性
コロイド層中での拡散性が低い方が好ましい。例えば水
への溶解度（２５℃）が好ましくは０．１％以下、更に
好ましくは０．０５％以下、特に好ましくは０．０１％
以下である。前駆体から放出される補助現像主薬の溶解
度は特に制限されないが、補助現像主薬自体も溶解度が
低い方が好ましい。本発明の補助現像主薬前駆体は好ま
しくは一般式（Ａ）で表される。
【０１２４】一般式（Ａ） Ａ−（Ｌ）n −ＰＵＧ Ａは現像処理時に（Ｌ）n −ＰＵＧとの結合が開裂する
ブロック基を表し、Ｌは一般式（Ａ）におけるＬとＡと
の結合が開裂した後、ＬとＰＵＧとの結合が開裂する連
結基を表し、ｎは０〜３の整数を表し、ＰＵＧは補助現
像主薬を表す。補助現像主薬としてはｐ−フェニレンジ
アミン類の化合物以外のケンダール−ペルツ則に従う電
子放出性の化合物が用いられ、上記したピラゾリドン類
が好ましく用いられる。Ａで表されるブロック基として
は、公知の以下のものを適用できる。即ち、米国特許第
３，３１１，４７６号等に記載のアシル基、スルホニル
基等のブロック基、特開昭５９−１０５６４２号等に記
載の逆マイケル反応を利用するブロック基、特開平２−
２８０１４０号等に記載の分子内電子移動によりキノン
メチドまたはキノンメチド類似の化合物を利用するブロ
ック基、特開昭６３−３１８５５５号（欧州特許公開０
２９５７２９号）等に記載の分子内求核置換反応を利用
するブロック基、特開平４−１８６３４４号等に記載の
共役不飽和結合への求核剤の付加反応を利用するブロッ
ク基、特開昭６２−１６３０５１号に記載のβ−離脱反
応を利用するブロック基、特開昭６１−１８８５４０号
に記載のジアリールメタン類の求核置換反応を利用した
ブロック基、特開昭６２−１８７８５０号に記載のロッ
セン転位反応を利用したブロック基、特開昭６２−１４
７４５７号に記載されているチアゾリジン−２−チオン
のＮ−アシル体とアミンとの反応を利用したブロック
基、国際公開特許９３／０３４１９号に記載の２個の求
電子基を有して二求核剤と反応するブロック基等を挙げ
る事ができる。Ｌで表される基は現像処理時Ａで表され
る基より離脱した後、（Ｌ）n-1 −ＰＵＧを開裂するこ
とが可能な連結基であり、この機能をもつものなら特に
制限はない。補助現像主薬またはその前駆体を具体的に
示すが、本発明に用いられる化合物はこれら具体例に限
定されるものではない。
ブロック基を表し、Ｌは一般式（Ａ）におけるＬとＡと
の結合が開裂した後、ＬとＰＵＧとの結合が開裂する連
結基を表し、ｎは０〜３の整数を表し、ＰＵＧは補助現
像主薬を表す。補助現像主薬としてはｐ−フェニレンジ
アミン類の化合物以外のケンダール−ペルツ則に従う電
子放出性の化合物が用いられ、上記したピラゾリドン類
が好ましく用いられる。Ａで表されるブロック基として
は、公知の以下のものを適用できる。即ち、米国特許第
３，３１１，４７６号等に記載のアシル基、スルホニル
基等のブロック基、特開昭５９−１０５６４２号等に記
載の逆マイケル反応を利用するブロック基、特開平２−
２８０１４０号等に記載の分子内電子移動によりキノン
メチドまたはキノンメチド類似の化合物を利用するブロ
ック基、特開昭６３−３１８５５５号（欧州特許公開０
２９５７２９号）等に記載の分子内求核置換反応を利用
するブロック基、特開平４−１８６３４４号等に記載の
共役不飽和結合への求核剤の付加反応を利用するブロッ
ク基、特開昭６２−１６３０５１号に記載のβ−離脱反
応を利用するブロック基、特開昭６１−１８８５４０号
に記載のジアリールメタン類の求核置換反応を利用した
ブロック基、特開昭６２−１８７８５０号に記載のロッ
セン転位反応を利用したブロック基、特開昭６２−１４
７４５７号に記載されているチアゾリジン−２−チオン
のＮ−アシル体とアミンとの反応を利用したブロック
基、国際公開特許９３／０３４１９号に記載の２個の求
電子基を有して二求核剤と反応するブロック基等を挙げ
る事ができる。Ｌで表される基は現像処理時Ａで表され
る基より離脱した後、（Ｌ）n-1 −ＰＵＧを開裂するこ
とが可能な連結基であり、この機能をもつものなら特に
制限はない。補助現像主薬またはその前駆体を具体的に
示すが、本発明に用いられる化合物はこれら具体例に限
定されるものではない。
【０１２５】
【化４７】
【０１２６】
【化４８】
【０１２７】これら化合物は感光層、中間層、下塗り
層、保護層のどの層に添加してもよいが、補助現像主薬
を含有する場合、好ましくは非感光層に添加して使用さ
れる。これら化合物を感光材料に含有させる方法として
は、メタノール等の水混和性の有機溶媒に溶解し、直接
親水性コロイド層に添加する方法、界面活性剤を共存さ
せて、水溶液あるいはコロイド分散物にして添加する方
法、実質上水と非混和性の溶媒やオイルに溶解した後、
水または親水性コロイドに分散したものを添加する方法
または固体微粒子分散体の状態で添加する方法等がとら
れ、従来の公知の方法が単独または併用して適用でき
る。固体微粒子分散物の調製方法としては、詳しくは特
開平２−２３５０４４号の２０頁に記載されている。感
光材料中への添加量は、発色用還元剤に対し１mole％〜
２００mole％、好ましくは５mole％〜１００mole％、よ
り好ましくは１０mole％〜５０mole％である。
層、保護層のどの層に添加してもよいが、補助現像主薬
を含有する場合、好ましくは非感光層に添加して使用さ
れる。これら化合物を感光材料に含有させる方法として
は、メタノール等の水混和性の有機溶媒に溶解し、直接
親水性コロイド層に添加する方法、界面活性剤を共存さ
せて、水溶液あるいはコロイド分散物にして添加する方
法、実質上水と非混和性の溶媒やオイルに溶解した後、
水または親水性コロイドに分散したものを添加する方法
または固体微粒子分散体の状態で添加する方法等がとら
れ、従来の公知の方法が単独または併用して適用でき
る。固体微粒子分散物の調製方法としては、詳しくは特
開平２−２３５０４４号の２０頁に記載されている。感
光材料中への添加量は、発色用還元剤に対し１mole％〜
２００mole％、好ましくは５mole％〜１００mole％、よ
り好ましくは１０mole％〜５０mole％である。
【０１２８】本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、
その他従来公知の写真用素材や添加剤を使用できる。例
えば写真用支持体としては、透過型支持体や反射型支持
体を用いることができる。透過型支持体としては、セル
ローストリアセテートフィルムやポリエチレンテレフタ
レートなどの透過フィルム、更には２，６−ナフタレン
ジカルボン酸（ＮＤＣＡ）とエチレングリコール（Ｅ
Ｇ）とのポリエステルやＮＤＣＡとテレフタル酸とＥＧ
とのポリエステル等に磁性層などの情報記録層を設けた
ものが好ましく用いられる。反射型支持体としては特に
複数のポリエチレン層やポリエステル層でラミネートさ
れ、このような耐水性樹脂層（ラミネート層）の少なく
とも一層に酸化チタン等の白色顔料を含有する反射支持
体が好ましい。
その他従来公知の写真用素材や添加剤を使用できる。例
えば写真用支持体としては、透過型支持体や反射型支持
体を用いることができる。透過型支持体としては、セル
ローストリアセテートフィルムやポリエチレンテレフタ
レートなどの透過フィルム、更には２，６−ナフタレン
ジカルボン酸（ＮＤＣＡ）とエチレングリコール（Ｅ
Ｇ）とのポリエステルやＮＤＣＡとテレフタル酸とＥＧ
とのポリエステル等に磁性層などの情報記録層を設けた
ものが好ましく用いられる。反射型支持体としては特に
複数のポリエチレン層やポリエステル層でラミネートさ
れ、このような耐水性樹脂層（ラミネート層）の少なく
とも一層に酸化チタン等の白色顔料を含有する反射支持
体が好ましい。
【０１２９】更に前記の耐水性樹脂層中には蛍光増白剤
を含有するのが好ましい。また、蛍光増白剤は感材の親
水性コロイド層中に分散してもよい。蛍光増白剤とし
て、好ましくは、ベンゾオキサゾール系、クマリン系、
ピラゾリン系が用いる事ができ、更に好ましくは、ベン
ゾオキサゾリルナフタレン系及びベンゾオキサゾリルス
チルベン系の蛍光増白剤である。使用量は、特に限定さ
れないが、好ましくは１〜１００mg／m2である。耐水性
樹脂に混合する場合の混合比は、好ましくは樹脂に対し
て０．０００５〜３重量％であり、更に好ましくは０．
００１〜０．５重量％である。反射型支持体としては、
透過型支持体、または上記のような反射型支持体上に、
白色顔料を含有する親水性コロイド層を塗設したもので
もよい。また、反射型支持体は、鏡面反射性または第２
種拡散反射性の金属表面をもつ支持体であってもよい。
を含有するのが好ましい。また、蛍光増白剤は感材の親
水性コロイド層中に分散してもよい。蛍光増白剤とし
て、好ましくは、ベンゾオキサゾール系、クマリン系、
ピラゾリン系が用いる事ができ、更に好ましくは、ベン
ゾオキサゾリルナフタレン系及びベンゾオキサゾリルス
チルベン系の蛍光増白剤である。使用量は、特に限定さ
れないが、好ましくは１〜１００mg／m2である。耐水性
樹脂に混合する場合の混合比は、好ましくは樹脂に対し
て０．０００５〜３重量％であり、更に好ましくは０．
００１〜０．５重量％である。反射型支持体としては、
透過型支持体、または上記のような反射型支持体上に、
白色顔料を含有する親水性コロイド層を塗設したもので
もよい。また、反射型支持体は、鏡面反射性または第２
種拡散反射性の金属表面をもつ支持体であってもよい。
【０１３０】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤として
は、迅速処理性の観点から、塩化銀含有率が９５モル％
以上の塩化銀または塩臭化銀乳剤が好ましく、更には塩
化銀含有率が９８モル％以上のハロゲン化銀乳剤が好ま
しい。このようなハロゲン化銀乳剤の中でも、塩化銀粒
子の表面に臭化銀局在相を有するものが、高感度が得ら
れ、しかも写真性能の安定化が図れることから特に好ま
しい。
は、迅速処理性の観点から、塩化銀含有率が９５モル％
以上の塩化銀または塩臭化銀乳剤が好ましく、更には塩
化銀含有率が９８モル％以上のハロゲン化銀乳剤が好ま
しい。このようなハロゲン化銀乳剤の中でも、塩化銀粒
子の表面に臭化銀局在相を有するものが、高感度が得ら
れ、しかも写真性能の安定化が図れることから特に好ま
しい。
【０１３１】前記の反射型支持体はハロゲン化銀乳剤、
更にはハロゲン化銀粒子中にドープされる異種金属イオ
ン種、ハロゲン化銀乳剤の保存安定剤またはカブリ防止
剤、化学増感法（増感剤）、分光増感法（分光増感
剤）、シアン、マゼンタ、イエローカプラー等の乳化分
散法、色像保存性改良剤（ステイン防止剤や褪色防止
剤）、染料（着色層）、ゼラチン種、感材の層構成や感
材の被膜ｐＨなどについては、表２〜３の特許に記載の
ものが本発明に好ましく適用できる。
更にはハロゲン化銀粒子中にドープされる異種金属イオ
ン種、ハロゲン化銀乳剤の保存安定剤またはカブリ防止
剤、化学増感法（増感剤）、分光増感法（分光増感
剤）、シアン、マゼンタ、イエローカプラー等の乳化分
散法、色像保存性改良剤（ステイン防止剤や褪色防止
剤）、染料（着色層）、ゼラチン種、感材の層構成や感
材の被膜ｐＨなどについては、表２〜３の特許に記載の
ものが本発明に好ましく適用できる。
【０１３２】
【表２】
【０１３３】
【表３】
【０１３４】本発明の感光材料の全塗布銀量は、銀換算
で１m2当たり０．００３〜１２ｇで使用するのが好まし
い。カラーネガフィルム等の透過材料の場合には好まし
くは１〜１２ｇで、更に好ましくは３〜１０ｇである。
またカラーペーパー等の反射材料では０．００３〜１ｇ
が迅速処理や低補充化の点で好ましく、その場合各層の
添加量は、１つの感光層につき０．００１〜０．４ｇが
好ましい。特に本発明の感光材料を補力処理（低銀量の
感光材料を過酸化水素等で発色増強し、十分な発色濃度
を得る処理）する場合には０．００３ｇ〜０．３ｇが好
ましく、更に好ましくは０．０１〜０．１ｇ、特に好ま
しくは０．０１５〜０．０５ｇである。この場合１つの
感光層につき０．００１〜０．１ｇが好ましく、更に好
ましくは０．００３ｇ〜０．０３ｇである。本発明で
は、それぞれの感光層の塗布銀量が１m2当たり０．００
１ｇ未満だと銀塩の溶解が進み、十分な発色濃度が得ら
れず、また補力処理する場合０．１ｇを越える場合にＤ
min の増加や気泡が生じ、鑑賞に耐え難くなりやすい。
で１m2当たり０．００３〜１２ｇで使用するのが好まし
い。カラーネガフィルム等の透過材料の場合には好まし
くは１〜１２ｇで、更に好ましくは３〜１０ｇである。
またカラーペーパー等の反射材料では０．００３〜１ｇ
が迅速処理や低補充化の点で好ましく、その場合各層の
添加量は、１つの感光層につき０．００１〜０．４ｇが
好ましい。特に本発明の感光材料を補力処理（低銀量の
感光材料を過酸化水素等で発色増強し、十分な発色濃度
を得る処理）する場合には０．００３ｇ〜０．３ｇが好
ましく、更に好ましくは０．０１〜０．１ｇ、特に好ま
しくは０．０１５〜０．０５ｇである。この場合１つの
感光層につき０．００１〜０．１ｇが好ましく、更に好
ましくは０．００３ｇ〜０．０３ｇである。本発明で
は、それぞれの感光層の塗布銀量が１m2当たり０．００
１ｇ未満だと銀塩の溶解が進み、十分な発色濃度が得ら
れず、また補力処理する場合０．１ｇを越える場合にＤ
min の増加や気泡が生じ、鑑賞に耐え難くなりやすい。
【０１３５】本発明の感光材料の全ゼラチン量は、１m2
当たり１．０〜３０ｇであり、好ましくは２．０〜２０
ｇである。ｐＨ１２のアルカリ液を用いた本感光材料の
膨潤において、その飽和膨潤膜厚（最大膨潤膜厚の９０
％）の１／２の膨潤膜厚に到達する時間は、１５秒以下
が好ましく、更に１０秒以下が好ましい。また膨潤率
〔（最大膨潤膜厚−膜厚）／膜厚×１００〕は、５０〜
３００％が好ましく、特に１００〜２００％が好まし
い。
当たり１．０〜３０ｇであり、好ましくは２．０〜２０
ｇである。ｐＨ１２のアルカリ液を用いた本感光材料の
膨潤において、その飽和膨潤膜厚（最大膨潤膜厚の９０
％）の１／２の膨潤膜厚に到達する時間は、１５秒以下
が好ましく、更に１０秒以下が好ましい。また膨潤率
〔（最大膨潤膜厚−膜厚）／膜厚×１００〕は、５０〜
３００％が好ましく、特に１００〜２００％が好まし
い。
【０１３６】本発明に用いうる防菌・防黴剤としては特
開昭６３−２７１２４７号に記載のものが有用である。
感光材料を構成する写真層に用いられる親水性コロイド
としては、ゼラチンが好ましく、特に鉄、銅、亜鉛、マ
ンガン等の不純物として含有される重金属は、好ましく
は５ppm 以下、更に好ましくは３ppm 以下である。
開昭６３−２７１２４７号に記載のものが有用である。
感光材料を構成する写真層に用いられる親水性コロイド
としては、ゼラチンが好ましく、特に鉄、銅、亜鉛、マ
ンガン等の不純物として含有される重金属は、好ましく
は５ppm 以下、更に好ましくは３ppm 以下である。
【０１３７】本発明の感光材料は、通常のネガプリンタ
ーを用いたプリントシステムに使用される以外に、陰極
線（ＣＲＴ）を用いた走査露光方式にも適している。陰
極線管露光装置は、レーザーを用いた装置に比べて、簡
便でかつコンパクトであり、低コストになる。また、光
軸や色の調整も容易である。画像露光に用いる陰極線管
には、必要に応じてスペクトル領域に発光を示す各種発
光体が用いられる。例えば赤色発光体、緑色発光体、青
色発光体のいずれか１種、あるいは２種以上が混合され
て用いられる。スペクトル領域は、上記の赤、緑、青に
限定されず、黄色、橙色、紫色或いは赤外領域に発光す
る発光体も用いられる。特に、これらの発光体を混合し
て白色に発光する陰極線管がしばしば用いられる。
ーを用いたプリントシステムに使用される以外に、陰極
線（ＣＲＴ）を用いた走査露光方式にも適している。陰
極線管露光装置は、レーザーを用いた装置に比べて、簡
便でかつコンパクトであり、低コストになる。また、光
軸や色の調整も容易である。画像露光に用いる陰極線管
には、必要に応じてスペクトル領域に発光を示す各種発
光体が用いられる。例えば赤色発光体、緑色発光体、青
色発光体のいずれか１種、あるいは２種以上が混合され
て用いられる。スペクトル領域は、上記の赤、緑、青に
限定されず、黄色、橙色、紫色或いは赤外領域に発光す
る発光体も用いられる。特に、これらの発光体を混合し
て白色に発光する陰極線管がしばしば用いられる。
【０１３８】感光材料が異なる分光感度分布を有する複
数の感光性層を持ち、陰極線管も複数のスペクトル領域
の発光を示す発光体を有する場合には、複数の色を一度
に露光、即ち陰極線管に複数の色の画像信号を入力して
管面から発光させてもよい。各色ごとの画像信号を順次
入力して各色の発光を順次行わせ、その色以外の色をカ
ットするフィルターを通して露光する方法（面順次露
光）を採っても良く、一般には、面順次露光の方が、高
解像度の陰極線管を用いることができるため、高画質化
のためには好ましい。
数の感光性層を持ち、陰極線管も複数のスペクトル領域
の発光を示す発光体を有する場合には、複数の色を一度
に露光、即ち陰極線管に複数の色の画像信号を入力して
管面から発光させてもよい。各色ごとの画像信号を順次
入力して各色の発光を順次行わせ、その色以外の色をカ
ットするフィルターを通して露光する方法（面順次露
光）を採っても良く、一般には、面順次露光の方が、高
解像度の陰極線管を用いることができるため、高画質化
のためには好ましい。
【０１３９】本発明の感光材料は、ガスレーザー、発光
ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは
半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線
形光学結晶を組合わせた第二高調波発生光源（ＳＨＧ）
等の単色高密度光を用いたデジタル走査露光方式に好ま
しく使用される。システムをコンパクトで、安価なもの
にするために半導体レーザー、半導体レーザーあるいは
固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波
発生光源（ＳＨＧ）を使用することが好ましい。特にコ
ンパクトで、安価、更に寿命が長く安定性が高い装置を
設計するためには半導体レーザーの使用が好ましく、露
光光源の少なくとも一つは半導体レーザーを使用するこ
とが好ましい。
ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは
半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線
形光学結晶を組合わせた第二高調波発生光源（ＳＨＧ）
等の単色高密度光を用いたデジタル走査露光方式に好ま
しく使用される。システムをコンパクトで、安価なもの
にするために半導体レーザー、半導体レーザーあるいは
固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波
発生光源（ＳＨＧ）を使用することが好ましい。特にコ
ンパクトで、安価、更に寿命が長く安定性が高い装置を
設計するためには半導体レーザーの使用が好ましく、露
光光源の少なくとも一つは半導体レーザーを使用するこ
とが好ましい。
【０１４０】このような走査露光光源を使用する場合、
本発明の感光材料の分光感度極大波長は、使用する走査
露光用光源の波長により任意に設定することができる。
半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーあるい
は半導体レーザーと非線形光学結晶を組合わせて得られ
るＳＨＧ光源では、レーザーの発振波長を半分にできる
ので、青色光、緑色光が得られる。従って、感光材料の
分光感度極大は通常の青、緑、赤の３つの波長領域に持
たせることが可能である。
本発明の感光材料の分光感度極大波長は、使用する走査
露光用光源の波長により任意に設定することができる。
半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーあるい
は半導体レーザーと非線形光学結晶を組合わせて得られ
るＳＨＧ光源では、レーザーの発振波長を半分にできる
ので、青色光、緑色光が得られる。従って、感光材料の
分光感度極大は通常の青、緑、赤の３つの波長領域に持
たせることが可能である。
【０１４１】このような走査露光における露光時間は、
画素密度を４００dpi とした場合の画素サイズを露光す
る時間として定義すると、好ましい露光時間としては１
０-4秒以下、更に好ましくは１０-6秒以下である。特
に、１画素当たりの露光時間が１０-8〜１０-4秒で、か
つ隣接するラスター間の重なりがある走査露光で露光す
ることにより、相反則不軌が改良される点で好ましい。
本発明に適用できる好ましい走査露光方式については、
前記の表に掲示した特許に詳しく記載されている。
画素密度を４００dpi とした場合の画素サイズを露光す
る時間として定義すると、好ましい露光時間としては１
０-4秒以下、更に好ましくは１０-6秒以下である。特
に、１画素当たりの露光時間が１０-8〜１０-4秒で、か
つ隣接するラスター間の重なりがある走査露光で露光す
ることにより、相反則不軌が改良される点で好ましい。
本発明に適用できる好ましい走査露光方式については、
前記の表に掲示した特許に詳しく記載されている。
【０１４２】本発明の発色用還元剤を内蔵する感光材料
を露光後、現像処理する方法としては、発色用現像主薬
を含まないアルカリ性処理液で現像処理するアクチベー
ター処理法、補助現像主薬／塩基を含む処理液で処理す
る方法、拡散転写方式での前記アルカリ性処理液を感光
材料に展開処理する方法や熱現像で処理する方法があ
る。
を露光後、現像処理する方法としては、発色用現像主薬
を含まないアルカリ性処理液で現像処理するアクチベー
ター処理法、補助現像主薬／塩基を含む処理液で処理す
る方法、拡散転写方式での前記アルカリ性処理液を感光
材料に展開処理する方法や熱現像で処理する方法があ
る。
【０１４３】アクチベーター処理とは、発色用還元剤を
感光材料の中に内蔵させておき、発色用現像主薬を含ま
ない処理液で現像処理する処理方法を言う。本発明にお
いて「アクチベーター液」は、従来から使用されている
ようなｐ−フェニレンジアミン系発色現像主薬を実質的
に含まないことが特徴であり、その他の成分（アルカ
リ、ハロゲンやキレート化剤等）を含んでも良い。ま
た、処理安定性を維持するために還元剤は含まれないこ
とが好ましい場合があり、その場合補助現像主薬、ヒド
ロキシアミン類や亜硫酸塩などが実質的に含まれないこ
とが好ましい。ここで実質的に含有しないとは、それぞ
れ好ましくは0.５ｍｍｏｌ／リットル以下、より好まし
くは0.１ｍｍｏｌ／リットル以下である。特に、全く含
有しない場合が好ましい。アルカリ性処理液のｐＨは、
好ましくは９〜１４であり、特に好ましくは１０〜１３
である。アクチベーター処理用感材とその処理について
は、例えば特開平８−２３４３８８号、特願平７−３３
４１９０号、同７−３３４１９２号、同７−３３４１９
７号および同７−３４４３９６号に記載されている。
感光材料の中に内蔵させておき、発色用現像主薬を含ま
ない処理液で現像処理する処理方法を言う。本発明にお
いて「アクチベーター液」は、従来から使用されている
ようなｐ−フェニレンジアミン系発色現像主薬を実質的
に含まないことが特徴であり、その他の成分（アルカ
リ、ハロゲンやキレート化剤等）を含んでも良い。ま
た、処理安定性を維持するために還元剤は含まれないこ
とが好ましい場合があり、その場合補助現像主薬、ヒド
ロキシアミン類や亜硫酸塩などが実質的に含まれないこ
とが好ましい。ここで実質的に含有しないとは、それぞ
れ好ましくは0.５ｍｍｏｌ／リットル以下、より好まし
くは0.１ｍｍｏｌ／リットル以下である。特に、全く含
有しない場合が好ましい。アルカリ性処理液のｐＨは、
好ましくは９〜１４であり、特に好ましくは１０〜１３
である。アクチベーター処理用感材とその処理について
は、例えば特開平８−２３４３８８号、特願平７−３３
４１９０号、同７−３３４１９２号、同７−３３４１９
７号および同７−３４４３９６号に記載されている。
【０１４４】拡散転写方式でのアルカリ性処理液の展開
処理とは、インスタント処理システムとして当該技術分
野では公知であり、少なくとも一つの感光層／色素形成
層（感光層と色素形成層が同一層からなる場合が好まし
い）からなる感光要素と前記感光層／色素形成層より生
成した拡散性色素を捕獲・媒染する媒染層を有する受像
要素とを同支持体あるいは別支持体上に有する感光材料
にアルカリ性処理液を５００μｍ以下の厚みで、好まし
くは５０〜２００μｍの液厚で展開処理することを言
う。
処理とは、インスタント処理システムとして当該技術分
野では公知であり、少なくとも一つの感光層／色素形成
層（感光層と色素形成層が同一層からなる場合が好まし
い）からなる感光要素と前記感光層／色素形成層より生
成した拡散性色素を捕獲・媒染する媒染層を有する受像
要素とを同支持体あるいは別支持体上に有する感光材料
にアルカリ性処理液を５００μｍ以下の厚みで、好まし
くは５０〜２００μｍの液厚で展開処理することを言
う。
【０１４５】補助現像主薬が内蔵されている場合は、処
理液製造や保存のためにのアルカリ性処理液には補助現
像主薬を含まないことが好ましい。拡散転写方式の場
合、アルカリ性処理液のｐＨは、好ましくは１０〜１４
であり、特に好ましくは１２〜１４である。インスタン
ト用感材のプロセスについては、The Theory of Photog
raphic Process 第４版（1977年、Macmillan)に、また
具体的なフィルムユニットの構成については、特開昭６
３−２２６６４９号に記載されている。このフィルムユ
ニットに含まれる素材およびこれを含む各種の層につい
ては、その一例が下記に記載されている。
理液製造や保存のためにのアルカリ性処理液には補助現
像主薬を含まないことが好ましい。拡散転写方式の場
合、アルカリ性処理液のｐＨは、好ましくは１０〜１４
であり、特に好ましくは１２〜１４である。インスタン
ト用感材のプロセスについては、The Theory of Photog
raphic Process 第４版（1977年、Macmillan)に、また
具体的なフィルムユニットの構成については、特開昭６
３−２２６６４９号に記載されている。このフィルムユ
ニットに含まれる素材およびこれを含む各種の層につい
ては、その一例が下記に記載されている。
【０１４６】色素受像層およびこれに含まれる媒染剤に
ついては、特開昭６１−２５２５５１号、米国特許第
２，５４８，５６４号、同第３，７５６，８１４号、同
第４，１２４，３８６号、同第３，６２５，６９４号に
記載されている。アルカリ性処理液を展開した後に感光
材料のｐＨを下げるための中和層については、特公平７
−１２２７５３号、米国特許第４，１３９，３８３号、
ＲＤ−No１６１０２に記載されており、この中和層と組
み合わせて用いるタイミング層については、特開昭５４
−１３６３２８号、米国特許第４，２６７，２６２号、
同第４，００９，０３０号、同第４，２６８，６０４号
に記載されている。乳剤としては任意の乳剤が使用でき
るが、撮影用感光材料用として好ましいオートポジ乳剤
としては特開平７−３３３７７０号、同７−３３３７７
１号などを挙げることができる。
ついては、特開昭６１−２５２５５１号、米国特許第
２，５４８，５６４号、同第３，７５６，８１４号、同
第４，１２４，３８６号、同第３，６２５，６９４号に
記載されている。アルカリ性処理液を展開した後に感光
材料のｐＨを下げるための中和層については、特公平７
−１２２７５３号、米国特許第４，１３９，３８３号、
ＲＤ−No１６１０２に記載されており、この中和層と組
み合わせて用いるタイミング層については、特開昭５４
−１３６３２８号、米国特許第４，２６７，２６２号、
同第４，００９，０３０号、同第４，２６８，６０４号
に記載されている。乳剤としては任意の乳剤が使用でき
るが、撮影用感光材料用として好ましいオートポジ乳剤
としては特開平７−３３３７７０号、同７−３３３７７
１号などを挙げることができる。
【０１４７】その他、必要に応じて遮光層、反射層、中
間層、隔離層、紫外線吸収層、フィルター層、オーバー
コート層、密着改良層などを設置することができる。上
記感光材料を処理するための処理液は、現像のために必
要な処理成分を含み、通常はこれに増粘剤を含有せしめ
て感光材料上に均一に展開する。増粘剤としてはカルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースの
ようなチキソトロピー性のものが好ましい。感光層、処
理液についての詳細は、特開平７−３３３７７１号に記
載されている。
間層、隔離層、紫外線吸収層、フィルター層、オーバー
コート層、密着改良層などを設置することができる。上
記感光材料を処理するための処理液は、現像のために必
要な処理成分を含み、通常はこれに増粘剤を含有せしめ
て感光材料上に均一に展開する。増粘剤としてはカルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースの
ようなチキソトロピー性のものが好ましい。感光層、処
理液についての詳細は、特開平７−３３３７７１号に記
載されている。
【０１４８】感光材料の熱現像での加熱処理は当該技術
分野では公知であり、本発明の感光材料にも適用され
る。熱現像感光材料とそのプロセスについては、例え
ば、写真工業の基礎（1979年、コロナ社発行）の553 〜
555 頁、1978年４月発行映像情報40頁、Nobletts Handb
ook of Photography and Reprography 7th Ed.(Van Nos
trand and Reinhold Company）の32〜33頁、米国特許第
３，１５２，９０４号、同第３，３０１，６７８号、同
第３，３９２，０２０号、同同３，４５７，０７５号、
英国特許第１，１３１，１０８号、同第１，１６７，７
７７号およびリサーチ・ディスクロージャー誌1978年６
月号９〜15頁（ＲＤ−１７０２９）に記載されている。
分野では公知であり、本発明の感光材料にも適用され
る。熱現像感光材料とそのプロセスについては、例え
ば、写真工業の基礎（1979年、コロナ社発行）の553 〜
555 頁、1978年４月発行映像情報40頁、Nobletts Handb
ook of Photography and Reprography 7th Ed.(Van Nos
trand and Reinhold Company）の32〜33頁、米国特許第
３，１５２，９０４号、同第３，３０１，６７８号、同
第３，３９２，０２０号、同同３，４５７，０７５号、
英国特許第１，１３１，１０８号、同第１，１６７，７
７７号およびリサーチ・ディスクロージャー誌1978年６
月号９〜15頁（ＲＤ−１７０２９）に記載されている。
【０１４９】本発明の感光材料には、銀現像及び色素形
成反応を促進する目的で、米国特許第４，５１４，４９
３号、同第４，６５７，８４８号および公知技術第５号
（1991年３月22日、アズテック有限会社発行）の55〜86
頁等に記載されている塩基プレカーサーや欧州特許公開
２１０，６６０号、米国特許第４，７４０，４４５号に
記載されている塩基発生法を適用することが好ましい。
本発明の感光材料には、熱現像を促進する目的で米国特
許第３，３４７，６７５号、および同第３，６６７，９
５９号に記載さている熱溶剤を添加してもよい。
成反応を促進する目的で、米国特許第４，５１４，４９
３号、同第４，６５７，８４８号および公知技術第５号
（1991年３月22日、アズテック有限会社発行）の55〜86
頁等に記載されている塩基プレカーサーや欧州特許公開
２１０，６６０号、米国特許第４，７４０，４４５号に
記載されている塩基発生法を適用することが好ましい。
本発明の感光材料には、熱現像を促進する目的で米国特
許第３，３４７，６７５号、および同第３，６６７，９
５９号に記載さている熱溶剤を添加してもよい。
【０１５０】本発明の感光材料を加熱処理する場合、現
像の促進及び／又は処理用素材の拡散転写のために、
水、無機のアルカリ金属塩や有機の塩基を含む水溶液、
低沸点溶媒または低沸点溶媒と水もしくは前記塩基性水
溶液との混合溶媒を感光材料もしくは処理シートに含ま
せて加熱処理することも好ましい。水を使用した方法と
しては、特開昭６３−１４４３５４号、同６３−１４４
３５５号、同６２−３８４６０号、特開平３−２１０５
５５号、特開昭６２−２５３１５９号、同６３−８５５
４４号、欧州特許公開２１０，６６０号および米国特許
第４，７４０，４４５号等に記載されている。
像の促進及び／又は処理用素材の拡散転写のために、
水、無機のアルカリ金属塩や有機の塩基を含む水溶液、
低沸点溶媒または低沸点溶媒と水もしくは前記塩基性水
溶液との混合溶媒を感光材料もしくは処理シートに含ま
せて加熱処理することも好ましい。水を使用した方法と
しては、特開昭６３−１４４３５４号、同６３−１４４
３５５号、同６２−３８４６０号、特開平３−２１０５
５５号、特開昭６２−２５３１５９号、同６３−８５５
４４号、欧州特許公開２１０，６６０号および米国特許
第４，７４０，４４５号等に記載されている。
【０１５１】本発明は、特開平７−２６１３３６号、同
７−２６８０４５号、同８−３０１０３号、同８−４６
８２２号および同８−９７３４４号等に記載されている
熱現像感光材料や熱現像画像形成方法にも適用できる。
熱現像工程の加熱温度は約５０℃〜２００℃であるが、
特に６０℃〜１５０℃が有用であり、溶媒を用いる場合
はその沸点以下で用いることが好ましい。
７−２６８０４５号、同８−３０１０３号、同８−４６
８２２号および同８−９７３４４号等に記載されている
熱現像感光材料や熱現像画像形成方法にも適用できる。
熱現像工程の加熱温度は約５０℃〜２００℃であるが、
特に６０℃〜１５０℃が有用であり、溶媒を用いる場合
はその沸点以下で用いることが好ましい。
【０１５２】本発明に適用される節水技術としては、詳
しくはリサーチ・ディスクロージャーItem 36544（１９
９４年９月）５４０頁右欄〜５４１頁左欄に記載されて
いる。
しくはリサーチ・ディスクロージャーItem 36544（１９
９４年９月）５４０頁右欄〜５４１頁左欄に記載されて
いる。
【０１５３】
【実施例】以下に、実施例を使って本発明を具体的に説
明するが、もちろん本発明はこれに限定されるものでは
ない。 実施例１ ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コ
ロナ放電処理を施した後ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウムを含むゼラチン下塗り層を設け、さらに３種の
写真構成層を塗布して、以下に表す３層構成の印画紙
（１００）を作製した。塗布液は以下のようにして調製
した。 第二層塗布液 色素形成カプラー（Ｃ−４３）２１ｇ、発色用還元剤
（Ｉ−１６）２０ｇ、溶媒（Ｓｏｌｖ−１）８０ｇを酢
酸エチルに溶解し、この溶液を１０％ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム及びクエン酸を含む１６％ゼラチ
ン溶液４００ｇに乳化分散させて乳化分散物Ｃを調製し
た。一方、塩臭化銀乳剤Ｃ（立方体、平均粒子サイズ
０．５μｍの大サイズ乳剤Ｃと、０．４１μｍの小サイ
ズ乳剤Ｃとの１：４混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ
分布の変動係数はそれぞれ０．０９と０．１１、各サイ
ズ乳剤ともＡｇＢｒ０．８モル％を、塩化銀を基体とす
る粒子表面の一部に局在含有させた）を調製した。この
乳剤には下記に示す赤感性増感色素Ｇ、Ｈがハロゲン化
銀１モル当たり、大サイズ乳剤Ｃに対しては、それぞれ
５．０×１０-5モル、また小サイズ乳剤Ｃに対しては、
それぞれ８．０×１０-5モル添加されている。また、こ
の乳剤の化学熟成は硫黄増感剤と金増感剤が添加して最
適に行なわれた。前記の乳化分散物Ｃとこの塩臭化銀乳
剤Ｃとを混合溶解し、以下に示す組成となるように第二
層塗布液を調製した。乳剤塗布量は銀換算塗布量を示
す。
明するが、もちろん本発明はこれに限定されるものでは
ない。 実施例１ ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コ
ロナ放電処理を施した後ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウムを含むゼラチン下塗り層を設け、さらに３種の
写真構成層を塗布して、以下に表す３層構成の印画紙
（１００）を作製した。塗布液は以下のようにして調製
した。 第二層塗布液 色素形成カプラー（Ｃ−４３）２１ｇ、発色用還元剤
（Ｉ−１６）２０ｇ、溶媒（Ｓｏｌｖ−１）８０ｇを酢
酸エチルに溶解し、この溶液を１０％ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム及びクエン酸を含む１６％ゼラチ
ン溶液４００ｇに乳化分散させて乳化分散物Ｃを調製し
た。一方、塩臭化銀乳剤Ｃ（立方体、平均粒子サイズ
０．５μｍの大サイズ乳剤Ｃと、０．４１μｍの小サイ
ズ乳剤Ｃとの１：４混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ
分布の変動係数はそれぞれ０．０９と０．１１、各サイ
ズ乳剤ともＡｇＢｒ０．８モル％を、塩化銀を基体とす
る粒子表面の一部に局在含有させた）を調製した。この
乳剤には下記に示す赤感性増感色素Ｇ、Ｈがハロゲン化
銀１モル当たり、大サイズ乳剤Ｃに対しては、それぞれ
５．０×１０-5モル、また小サイズ乳剤Ｃに対しては、
それぞれ８．０×１０-5モル添加されている。また、こ
の乳剤の化学熟成は硫黄増感剤と金増感剤が添加して最
適に行なわれた。前記の乳化分散物Ｃとこの塩臭化銀乳
剤Ｃとを混合溶解し、以下に示す組成となるように第二
層塗布液を調製した。乳剤塗布量は銀換算塗布量を示
す。
【０１５４】第一層、第三層の塗布液も第二層塗布液と
同様の方法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤として
は、１オキシ−３，５−ジクロロ−ｓ−トリアジンナト
リウム塩を用いた。また各層にＣｐｄ−２、Ｃｐｄ−
３、Ｃｐｄ−４とＣｐｄ−５をそれぞれ全量が１５．０
mg／m2、６０．０mg／m2、５０．０mg／m2および１０．
０mg／m2となるように添加した。第二層の塩臭化銀乳剤
には下記の分光増感色素を用いた。
同様の方法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤として
は、１オキシ−３，５−ジクロロ−ｓ−トリアジンナト
リウム塩を用いた。また各層にＣｐｄ−２、Ｃｐｄ−
３、Ｃｐｄ−４とＣｐｄ−５をそれぞれ全量が１５．０
mg／m2、６０．０mg／m2、５０．０mg／m2および１０．
０mg／m2となるように添加した。第二層の塩臭化銀乳剤
には下記の分光増感色素を用いた。
【０１５５】
【化４９】
【０１５６】また１−（５−メチルウレイドフェニル）
−５−メルカプトテトラゾールをハロゲン化銀１モル当
たり３．０×１０-3モル添加した。 （層構成）以下に各層の組成を示す。数字は塗布量（ｇ
／m2）を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換算塗布量を表
す。 支持体 ポリエチレンラミネート紙〔第一層側のポリエチレンに
白色顔料（ＴｉＯ2 ）と青味染料（群青）を含む〕
−５−メルカプトテトラゾールをハロゲン化銀１モル当
たり３．０×１０-3モル添加した。 （層構成）以下に各層の組成を示す。数字は塗布量（ｇ
／m2）を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換算塗布量を表
す。 支持体 ポリエチレンラミネート紙〔第一層側のポリエチレンに
白色顔料（ＴｉＯ2 ）と青味染料（群青）を含む〕
【０１５７】 第一層 ゼラチン １．１２ １，５−ジフェニル−３−ピラゾリドン ０．０２ （微粒子固体分散状態） 第二層 前記の塩臭化銀乳剤Ｃ ０．２０ ゼラチン １．５０ シアンカプラー（Ｃ−４３） ０．１９ 発色用還元剤（Ｉ−１６） ０．２０ 溶媒（Ｓｏｌｖ−１） ０．８０ 第三層（保護層） ゼラチン １．０１ ポリビニルアルコールのアクリル変性共重合体（変性度１７％） ０．０４ 流動パラフィン ０．０２ 界面活性剤（Ｃｐｄ−１） ０．０１
【０１５８】
【化５０】
【０１５９】
【化５１】
【０１６０】第二層の塗布液中のシアンカプラー、発色
用還元剤とを表ａに示したシアンカプラー、発色用還元
剤に等モルで置き換え、表ａに示した無呈色カプラーを
色素形成カプラーに対して２００mol ％の量で発色用還
元剤と色素形成カプラーのＳｏｌｖ−１／酢酸エチル溶
液に添加した以外は、試料（１００）の作成と全く同様
にして乳化分散物を作製し、この乳化分散物を用いて試
料（１０１）、（１０３）、（１０４）、（１０６）、
（１０７）を作製した。
用還元剤とを表ａに示したシアンカプラー、発色用還元
剤に等モルで置き換え、表ａに示した無呈色カプラーを
色素形成カプラーに対して２００mol ％の量で発色用還
元剤と色素形成カプラーのＳｏｌｖ−１／酢酸エチル溶
液に添加した以外は、試料（１００）の作成と全く同様
にして乳化分散物を作製し、この乳化分散物を用いて試
料（１０１）、（１０３）、（１０４）、（１０６）、
（１０７）を作製した。
【０１６１】無呈色カプラー（３０）５０ｇと溶媒（Ｓ
ｏｌｖ−１）８０ｇを酢酸エチルに溶解し、この溶液を
１０％ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びクエ
ン酸を含む１６％ゼラチン溶液４００ｇに乳化分散させ
て乳化分散物ｄを調製した。第二層の塗布液中のシアン
カプラー、発色用還元剤とを表ａに示したシアンカプラ
ー、発色用還元剤に等モルで置き換え、上記したように
作成した乳化分散物を用いて塗布液を作製した。他方、
無呈色カプラーを色素形成カプラーの２００mol ％にな
るように塗布直前に前記の塗布液中に添加した以外は試
料（１００）の作製と全く同様にして試料（１０２）、
（１０５）、（１０８）を作製した。
ｏｌｖ−１）８０ｇを酢酸エチルに溶解し、この溶液を
１０％ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びクエ
ン酸を含む１６％ゼラチン溶液４００ｇに乳化分散させ
て乳化分散物ｄを調製した。第二層の塗布液中のシアン
カプラー、発色用還元剤とを表ａに示したシアンカプラ
ー、発色用還元剤に等モルで置き換え、上記したように
作成した乳化分散物を用いて塗布液を作製した。他方、
無呈色カプラーを色素形成カプラーの２００mol ％にな
るように塗布直前に前記の塗布液中に添加した以外は試
料（１００）の作製と全く同様にして試料（１０２）、
（１０５）、（１０８）を作製した。
【０１６２】富士フイルム株式会社製ＦＷＨ型感光計
（光源の色温度３２００°Ｋ）を使用して上記のように
作製した試料（１００）〜（１０８）に対してはセンシ
トメトリー用赤色フィルターでセンシトメトリー用緑色
フィルターで階調露光を与えた。露光後の試料を下記の
処理液を用い、下記の処理工程にて処理を行なった。 処理工程 温度 時間 現像 ４０℃ ２０秒 漂白定着 ４０℃ ４５秒 リンス 室温 ４５秒
（光源の色温度３２００°Ｋ）を使用して上記のように
作製した試料（１００）〜（１０８）に対してはセンシ
トメトリー用赤色フィルターでセンシトメトリー用緑色
フィルターで階調露光を与えた。露光後の試料を下記の
処理液を用い、下記の処理工程にて処理を行なった。 処理工程 温度 時間 現像 ４０℃ ２０秒 漂白定着 ４０℃ ４５秒 リンス 室温 ４５秒
【０１６３】 現像液（アルカリ活性化液） 水 ６００ｍｌ リン酸カリウム ４０ｇ ＫＣｌ ５ｇ ヒドロキシエチリデン-1, 1-ジホスホン酸(30%) ４ｍｌ 水を加えて １０００ｍｌ ｐＨ（２５℃／水酸化カリウムにて） １２
【０１６４】 漂白定着液 水 ６００ｍｌ チオ硫酸アンモニウム（７００ｇ／リットル） ９３ｍｌ 亜硫酸アンモニウム ４０ｇ エチレンジアミン四酢酸鉄（III)アンモニウム ５５ｇ エチレンジアミン四酢酸 ２ｇ 硝酸（６７％） ３０ｇ 水を加えて １０００ｍｌ ｐＨ（２５℃／酢酸及びアンモニア水にて） ５．８
【０１６５】 リンス液 塩素化イソシアヌール酸ナトリウム ０．０２ｇ 脱イオン水（導電率５μＳ／ｃｍ以下） １０００ｍｌ ｐＨ ６．５ 処理後のサンプルの最大発色濃度部（Ｄmax)を試料（１
００）〜（１０８）に対して赤色光で測定した。結果を
表ａに示す。また上記した各試料を温度６０℃、湿度８
０％で９週間放置した後、未露光部（Ｄmin)を試料（１
００）〜（１０８）に対しては、赤色光にて測定した。
結果を表ａに示す。
００）〜（１０８）に対して赤色光で測定した。結果を
表ａに示す。また上記した各試料を温度６０℃、湿度８
０％で９週間放置した後、未露光部（Ｄmin)を試料（１
００）〜（１０８）に対しては、赤色光にて測定した。
結果を表ａに示す。
【０１６６】
【表４】
【０１６７】表ａから明らかなように、本発明の発色用
還元剤を用いた場合、処理後の感光材料を高温高湿下で
長期保存したときに未露光部のステインが上昇してしま
うが、本発明の無呈色カプラーを用いることにより、こ
のようなステインの上昇を抑えることができることが分
かる。また、本発明の無呈色カプラーを用いた場合、発
色濃度の低下が起こってしまうが、本発明の添加方法を
用いた場合には、発色濃度の低下は殆ど起こらないこと
が分かる。また処理後の感光材料に関して光照射下の長
期保存での同様の実験においても、本発明の化合物によ
って同様にステインが抑えられた。
還元剤を用いた場合、処理後の感光材料を高温高湿下で
長期保存したときに未露光部のステインが上昇してしま
うが、本発明の無呈色カプラーを用いることにより、こ
のようなステインの上昇を抑えることができることが分
かる。また、本発明の無呈色カプラーを用いた場合、発
色濃度の低下が起こってしまうが、本発明の添加方法を
用いた場合には、発色濃度の低下は殆ど起こらないこと
が分かる。また処理後の感光材料に関して光照射下の長
期保存での同様の実験においても、本発明の化合物によ
って同様にステインが抑えられた。
【０１６８】実施例２ 実施例１の試料（１００）の第二層の塗布液中のシアン
カプラー、発色用還元剤とを表ｂに示したシアンカプラ
ー、発色用還元剤に等モルで置き換え、表ｂに示す無呈
色ポリマーラテックスを色素形成カプラーに対して反応
する基が２００mol ％になるように、塗布液に添加した
以外は試料（１００）の作製と全く同様にして試料（２
００）〜（２１６）を作製した。また第二層の塗布液中
の塩臭化銀乳剤Ｃを以下に示す塩臭化銀乳剤Ｂに等銀量
で置き換え、シアンカプラー、発色用還元剤を表ｃに示
すマゼンタカプラー、発色用還元剤に等モルで置き換
え、表ｃに示す無呈色ポリマーラテックスを色素形成カ
プラーに対して反応する基が２００mol ％になるよう
に、塗布液に添加した以外は試料（１００）と全く同様
にして、試料（３００）〜（３２４）を作製した。 塩臭化銀乳剤Ｂ：立方体、平均粒子サイズ０．５５μm
の大サイズ乳剤Ｂと、０．３９μm の小サイズ乳剤Ｂと
の１：３混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ０．１０と０．０８、各サイズ乳剤とも
ＡｇＢｒ０．８モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面
の一部に含有させた。塩臭化銀乳剤Ｂには下記の分光増
感色素をそれぞれ用いた。
カプラー、発色用還元剤とを表ｂに示したシアンカプラ
ー、発色用還元剤に等モルで置き換え、表ｂに示す無呈
色ポリマーラテックスを色素形成カプラーに対して反応
する基が２００mol ％になるように、塗布液に添加した
以外は試料（１００）の作製と全く同様にして試料（２
００）〜（２１６）を作製した。また第二層の塗布液中
の塩臭化銀乳剤Ｃを以下に示す塩臭化銀乳剤Ｂに等銀量
で置き換え、シアンカプラー、発色用還元剤を表ｃに示
すマゼンタカプラー、発色用還元剤に等モルで置き換
え、表ｃに示す無呈色ポリマーラテックスを色素形成カ
プラーに対して反応する基が２００mol ％になるよう
に、塗布液に添加した以外は試料（１００）と全く同様
にして、試料（３００）〜（３２４）を作製した。 塩臭化銀乳剤Ｂ：立方体、平均粒子サイズ０．５５μm
の大サイズ乳剤Ｂと、０．３９μm の小サイズ乳剤Ｂと
の１：３混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ０．１０と０．０８、各サイズ乳剤とも
ＡｇＢｒ０．８モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面
の一部に含有させた。塩臭化銀乳剤Ｂには下記の分光増
感色素をそれぞれ用いた。
【０１６９】
【化５２】
【０１７０】（増感色素Ｄをハロゲン化銀１モル当た
り、大サイズ乳剤に対しては３．０×１０-4モル、小サ
イズ乳剤に対しては３．６×１０-4モル、また増感色素
Ｅをハロゲン化銀１モル当たり、大サイズ乳剤に対して
は４．０×１０-5モル、小サイズ乳剤に対しては７．０
×１０-5モル、また増感色素Ｆをハロゲン化銀１モル当
たり、大サイズ乳剤に対しては２．０×１０-4モル、小
サイズ乳剤に対しては２．８×１０-4モル添加した） 上記のように作成した試料（２００）〜（２１６）、
（３００）〜（３２４）を実施例１と同様に処理し、同
様に評価を行った。ただし、試料（３００）〜（３２
４）に関しては露光の際、センシトメトリー用緑色フィ
ルターを用い、また、濃度測定の際、緑色光にて測定し
た。結果を表ｂ、表ｃに示す。
り、大サイズ乳剤に対しては３．０×１０-4モル、小サ
イズ乳剤に対しては３．６×１０-4モル、また増感色素
Ｅをハロゲン化銀１モル当たり、大サイズ乳剤に対して
は４．０×１０-5モル、小サイズ乳剤に対しては７．０
×１０-5モル、また増感色素Ｆをハロゲン化銀１モル当
たり、大サイズ乳剤に対しては２．０×１０-4モル、小
サイズ乳剤に対しては２．８×１０-4モル添加した） 上記のように作成した試料（２００）〜（２１６）、
（３００）〜（３２４）を実施例１と同様に処理し、同
様に評価を行った。ただし、試料（３００）〜（３２
４）に関しては露光の際、センシトメトリー用緑色フィ
ルターを用い、また、濃度測定の際、緑色光にて測定し
た。結果を表ｂ、表ｃに示す。
【０１７１】
【表５】
【０１７２】
【表６】
【０１７３】表ｂ、表ｃから明らかなように、本発明の
無呈色ポリマーカプラーラテックスを用いることによっ
て、高温高湿下で長期保存した場合のステインの上昇を
抑えることができることが分かる。また、本発明のポリ
マーラテックスを用いても、発色濃度の低下は殆ど起こ
らないことが分かる。このようなステインを抑制する能
力、また、高い発色濃度を保つ能力は無呈色カプラーの
モノマーを乳化分散して塗布直前に添加する場合に比べ
て高いことがわかる。光照射下の長期保存での同様の実
験においても、本発明の化合物によって同様にステイン
が抑えられた。
無呈色ポリマーカプラーラテックスを用いることによっ
て、高温高湿下で長期保存した場合のステインの上昇を
抑えることができることが分かる。また、本発明のポリ
マーラテックスを用いても、発色濃度の低下は殆ど起こ
らないことが分かる。このようなステインを抑制する能
力、また、高い発色濃度を保つ能力は無呈色カプラーの
モノマーを乳化分散して塗布直前に添加する場合に比べ
て高いことがわかる。光照射下の長期保存での同様の実
験においても、本発明の化合物によって同様にステイン
が抑えられた。
【０１７４】実施例３ ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コ
ロナ放電処理を施した後ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウムを含むゼラチン下塗り層を設け、さらに種々の
写真構成層を塗布して、以下に表す層構成の多層カラー
印画紙（４００）を作製した。塗布液は以下のようにし
て調製した。 第一層塗布液 カプラー（Ｃ−２１）２３ｇ、発色用還元剤（Ｉ−５
５）１６ｇ、溶媒（Ｓｏｌｖ−１）８０ｇを酢酸エチル
に溶解し、この溶液を１０％ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム及びクエン酸を含む１６％ゼラチン溶液４
００ｇに乳化分散させて乳化分散物Ａを調製した。一
方、塩臭化銀乳剤Ａ（立方体、平均粒子サイズ０．８８
μｍの大サイズ乳剤Ａと０．７０μｍの小サイズ乳剤Ａ
との３：７混合物（銀モル比）。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ０．０８と０．１０、各サイズ乳剤とも
臭化銀０．３モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面の
一部に局在含有させた）を調製した。この乳剤には下記
に示す青感性増感色素Ａ、Ｂ、Ｃが銀１モル当たり大サ
イズ乳剤Ａに対しては、それぞれ１．４×１０-4モル、
また小サイズ乳剤Ａに対しては、それぞれ１．７×１０
-4モル添加されている。また、この乳剤の化学熟成は硫
黄増感剤と金増感剤が添加して最適に行なわれた。前記
の乳化分散物Ａとこの塩臭化銀乳剤Ａとを混合溶解し、
以下に示す組成となるように第一層塗布液を調製した。
乳剤塗布量は銀換算塗布量を示す。
ロナ放電処理を施した後ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウムを含むゼラチン下塗り層を設け、さらに種々の
写真構成層を塗布して、以下に表す層構成の多層カラー
印画紙（４００）を作製した。塗布液は以下のようにし
て調製した。 第一層塗布液 カプラー（Ｃ−２１）２３ｇ、発色用還元剤（Ｉ−５
５）１６ｇ、溶媒（Ｓｏｌｖ−１）８０ｇを酢酸エチル
に溶解し、この溶液を１０％ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム及びクエン酸を含む１６％ゼラチン溶液４
００ｇに乳化分散させて乳化分散物Ａを調製した。一
方、塩臭化銀乳剤Ａ（立方体、平均粒子サイズ０．８８
μｍの大サイズ乳剤Ａと０．７０μｍの小サイズ乳剤Ａ
との３：７混合物（銀モル比）。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ０．０８と０．１０、各サイズ乳剤とも
臭化銀０．３モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面の
一部に局在含有させた）を調製した。この乳剤には下記
に示す青感性増感色素Ａ、Ｂ、Ｃが銀１モル当たり大サ
イズ乳剤Ａに対しては、それぞれ１．４×１０-4モル、
また小サイズ乳剤Ａに対しては、それぞれ１．７×１０
-4モル添加されている。また、この乳剤の化学熟成は硫
黄増感剤と金増感剤が添加して最適に行なわれた。前記
の乳化分散物Ａとこの塩臭化銀乳剤Ａとを混合溶解し、
以下に示す組成となるように第一層塗布液を調製した。
乳剤塗布量は銀換算塗布量を示す。
【０１７５】第二層から第七層の塗布液も第一層塗布液
と同様の方法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤として
は、１−オキシ−３，５−ジクロロ−ｓ−トリアジンナ
トリウム塩を用いた。また各層にＣｐｄ−２、Ｃｐｄ−
３、Ｃｐｄ−４とＣｐｄ−５をそれぞれ全量が１５．０
mg／m2、６０．０mg／m2、５０．０mg／m2および１０．
０mg／m2となるように添加した。第一層の塩臭化銀乳剤
には下記の分光増感色素を用いた。
と同様の方法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤として
は、１−オキシ−３，５−ジクロロ−ｓ−トリアジンナ
トリウム塩を用いた。また各層にＣｐｄ−２、Ｃｐｄ−
３、Ｃｐｄ−４とＣｐｄ−５をそれぞれ全量が１５．０
mg／m2、６０．０mg／m2、５０．０mg／m2および１０．
０mg／m2となるように添加した。第一層の塩臭化銀乳剤
には下記の分光増感色素を用いた。
【０１７６】
【化５３】
【０１７７】第三層および第五層の塩臭化銀乳剤には実
施例１で用いた緑色増感色素Ｄ、Ｅ、Ｆ、および赤色増
感色素Ｇ、Ｈを実施例１で用いた量と同量用いた。第五
層（赤感層）には更に、下記の化合物をハロゲン化銀１
モル当たり２．６×１０-2モル添加した。
施例１で用いた緑色増感色素Ｄ、Ｅ、Ｆ、および赤色増
感色素Ｇ、Ｈを実施例１で用いた量と同量用いた。第五
層（赤感層）には更に、下記の化合物をハロゲン化銀１
モル当たり２．６×１０-2モル添加した。
【０１７８】
【化５４】
【０１７９】また青感性乳剤層、緑感性乳剤層、赤感性
乳剤層に対し、１−（５−メチルウレイドフェニル）−
５−メルカプトテトラゾールをそれぞれハロゲン化銀１
モル当たり３．５×１０-4モル、３．０×１０-3モル、
２．５×１０-4モル添加した。また、青感性乳剤層と緑
感性乳剤層に対し、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，
３，３ａ，７−テトラザインデンをそれぞれハロゲン化
銀１モル当たり、１×１０-4モルと２×１０-4モル添加
した。また、イラジエーション防止のために、乳剤層に
下記の染料（カッコ内は塗布量を表す）を添加した。
乳剤層に対し、１−（５−メチルウレイドフェニル）−
５−メルカプトテトラゾールをそれぞれハロゲン化銀１
モル当たり３．５×１０-4モル、３．０×１０-3モル、
２．５×１０-4モル添加した。また、青感性乳剤層と緑
感性乳剤層に対し、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，
３，３ａ，７−テトラザインデンをそれぞれハロゲン化
銀１モル当たり、１×１０-4モルと２×１０-4モル添加
した。また、イラジエーション防止のために、乳剤層に
下記の染料（カッコ内は塗布量を表す）を添加した。
【０１８０】
【化５５】
【０１８１】（層構成）以下に各層の組成を示す。数字
は塗布量（ｇ／m2）を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換算
塗布量を表す。 支持体 ポリエチレンラミネート紙 〔第一層側のポリエチレンに白色顔料（ＴｉＯ2 １５wt
％）と青味染料（群青）を含む〕 第一層（青感性乳剤層） 前記の塩臭化銀乳剤Ａ ０．２０ ゼラチン １．５０ イエローカプラー（Ｃ−２１） ０．２３ 発色用還元剤（Ｉ−５５） ０．１６ 溶媒（Ｓｏｌｖ−１） ０．８０
は塗布量（ｇ／m2）を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換算
塗布量を表す。 支持体 ポリエチレンラミネート紙 〔第一層側のポリエチレンに白色顔料（ＴｉＯ2 １５wt
％）と青味染料（群青）を含む〕 第一層（青感性乳剤層） 前記の塩臭化銀乳剤Ａ ０．２０ ゼラチン １．５０ イエローカプラー（Ｃ−２１） ０．２３ 発色用還元剤（Ｉ−５５） ０．１６ 溶媒（Ｓｏｌｖ−１） ０．８０
【０１８２】 第二層（混色防止層） ゼラチン １．０９ 混色防止剤（Ｃｐｄ−７） ０．１１ 溶媒（Ｓｏｌｖ−２） ０．１９ 溶媒（Ｓｏｌｖ−３） ０．０７ 溶媒（Ｓｏｌｖ−４） ０．２５ 溶媒（Ｓｏｌｖ−５） ０．０９ １，５−ジフェニル−３−ピラゾリドン ０．０３ （微粒子固体分散状態）
【０１８３】 第三層（緑感性乳剤層） 前記の塩臭化銀乳剤Ｂ ０．２０ ゼラチン １．５０ マゼンタカプラー（Ｃ−５６） ０．２４ 発色用還元剤（Ｉ−５５） ０．１６ 溶媒（Ｓｏｌｖ−１） ０．８０ 第四層（混色防止層） ゼラチン ０．７７ 混色防止剤（Ｃｐｄ−７） ０．０８ 溶媒（Ｓｏｌｖ−２） ０．１４ 溶媒（Ｓｏｌｖ−３） ０．０５ 溶媒（Ｓｏｌｖ−４） ０．１４ 溶媒（Ｓｏｌｖ−５） ０．０６ １，５−ジフェニル−３−ピラゾリドン ０．０２ （微粒子固体分散状態）
【０１８４】 第五層（赤感性乳剤層） 前記の塩臭化銀乳剤Ｃ ０．２０ ゼラチン ０．１５ シアンカプラー（Ｃ−４３） ０．２１ 発色用還元剤（Ｉ−３６） ０．２０ 溶媒（Ｓｏｌｖ−１） ０．８０ 第六層（紫外線吸収層） ゼラチン ０．６４ 紫外線吸収剤（ＵＶ−１） ０．３９ 色像安定剤（Ｃｐｄ−８） ０．０５ 溶媒（Ｓｏｌｖ−６） ０．０５
【０１８５】 第七層（保護層） ゼラチン １．０１ ポリビニルアルコールのアクリル変性共重合体（変性度１７％） ０．０４ 流動パラフィン ０．０２ 界面活性剤（Ｃｐｄ−１） ０．０１
【０１８６】
【化５６】
【０１８７】
【化５７】
【０１８８】試料（４００）に対してカプラー、発色用
還元剤を表ｄに示したカプラー、発色用還元剤に等モル
で置き代え、表ｄに示す無呈色ポリマーラテックスを色
素形成カプラーに対して反応する基が２００mol ％にな
るように、塗布液に添加した以外は試料（４００）の作
製と全く同様にして試料（４００）〜（４０３）を作製
した。上記のように作製した全試料に対して、富士フイ
ルム株式会社製ＦＷＨ型感光計（光源の色温度３２００
°Ｋ）を使用してセンシトメトリー用３色分解フィルタ
ーの階調露光を与えた。露光後の試料を下記の処理液を
用い、下記の処理工程にて処理を行なった。 処理工程 温度 時間 カラー現像 ４０℃ ３０秒 漂白定着 ４０℃ ４５秒 リンス 室温 ９０秒
還元剤を表ｄに示したカプラー、発色用還元剤に等モル
で置き代え、表ｄに示す無呈色ポリマーラテックスを色
素形成カプラーに対して反応する基が２００mol ％にな
るように、塗布液に添加した以外は試料（４００）の作
製と全く同様にして試料（４００）〜（４０３）を作製
した。上記のように作製した全試料に対して、富士フイ
ルム株式会社製ＦＷＨ型感光計（光源の色温度３２００
°Ｋ）を使用してセンシトメトリー用３色分解フィルタ
ーの階調露光を与えた。露光後の試料を下記の処理液を
用い、下記の処理工程にて処理を行なった。 処理工程 温度 時間 カラー現像 ４０℃ ３０秒 漂白定着 ４０℃ ４５秒 リンス 室温 ９０秒
【０１８９】カラー現像液、漂白定着液及びリンス液は
実施例１で用いた現像液、漂白定着液及びリンス液を用
いた。処理後のサンプルの最大発色濃度部を赤色光、緑
色光、青色光にて測定した。結果を表ｄに示す。また実
施例１と同様に温度６０℃、湿度８０％の条件下で９週
間保存した後のサンプルの未露光部の濃度（Ｄmin)を青
色光、緑色光、赤色光にて測定した。結果をそれぞれ表
ｄに示す。
実施例１で用いた現像液、漂白定着液及びリンス液を用
いた。処理後のサンプルの最大発色濃度部を赤色光、緑
色光、青色光にて測定した。結果を表ｄに示す。また実
施例１と同様に温度６０℃、湿度８０％の条件下で９週
間保存した後のサンプルの未露光部の濃度（Ｄmin)を青
色光、緑色光、赤色光にて測定した。結果をそれぞれ表
ｄに示す。
【０１９０】
【表７】
【０１９１】表ｄから明らかなように、重層の感光材料
の場合にも、実施例２と同様に本発明の発色用還元剤を
用いた場合、処理後の感光材料を高温高湿下で長期間保
存したときに未露光部のステインが上昇してしまうが、
本発明の無呈色ポリマーラテックスを用いることによ
り、このようなステインの上昇を抑えることができるこ
とが分かる。また、本発明のポリマーラテックスを添加
しても発色濃度の低下は殆ど起こらないことが分かる。
また、光照射下の長期保存での同様の実験においても、
本発明の化合物によって同様にステインが抑えられた。
の場合にも、実施例２と同様に本発明の発色用還元剤を
用いた場合、処理後の感光材料を高温高湿下で長期間保
存したときに未露光部のステインが上昇してしまうが、
本発明の無呈色ポリマーラテックスを用いることによ
り、このようなステインの上昇を抑えることができるこ
とが分かる。また、本発明のポリマーラテックスを添加
しても発色濃度の低下は殆ど起こらないことが分かる。
また、光照射下の長期保存での同様の実験においても、
本発明の化合物によって同様にステインが抑えられた。
【０１９２】実施例４ 実施例３の試料（４００）の第一層、第三層および第五
層の塩臭化銀乳剤Ａ、ＢおよびＣを以下に示す塩臭化銀
乳剤Ｄ、Ｅ、Ｆに替え、塗布銀量をそれぞれ１m2当たり
０．０１ｇ、０．０１ｇ及び０．０１５ｇとする以外は
全く同じ成分の試料（５００）を作製した。 塩臭化銀乳剤Ｄ：立方体、平均粒子サイズ０．１０μｍ
の大サイズ乳剤Ｄと、０．０８μｍの小サイズ乳剤Ｄと
の３：７混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ０．０８と０．１０、各サイズ乳剤とも
ＡｇＢｒ０．３モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面
の一部に局在含有させた。この乳剤の化学熟成は硫黄増
感剤と金増感剤を添加して最適に行った。
層の塩臭化銀乳剤Ａ、ＢおよびＣを以下に示す塩臭化銀
乳剤Ｄ、Ｅ、Ｆに替え、塗布銀量をそれぞれ１m2当たり
０．０１ｇ、０．０１ｇ及び０．０１５ｇとする以外は
全く同じ成分の試料（５００）を作製した。 塩臭化銀乳剤Ｄ：立方体、平均粒子サイズ０．１０μｍ
の大サイズ乳剤Ｄと、０．０８μｍの小サイズ乳剤Ｄと
の３：７混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ０．０８と０．１０、各サイズ乳剤とも
ＡｇＢｒ０．３モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面
の一部に局在含有させた。この乳剤の化学熟成は硫黄増
感剤と金増感剤を添加して最適に行った。
【０１９３】塩臭化銀乳剤Ｄには実施例２で用いた青感
性増感色素Ａ、Ｂ、Ｃを以下に示す量用いた。（増感色
素Ａ、Ｂ、Ｃをそれぞれハロゲン化銀１モル当たり、大
サイズ乳剤Ｄに対しては、それぞれ７．０×１０-4モ
ル、また小サイズ乳剤Ｄに対しては、それぞれ８．５×
１０-4モル添加した。） 塩臭化銀乳剤Ｅ：立方体、平均粒子サイズ０．１０μｍ
の大サイズ乳剤Ｂと、０．０８μｍの小サイズ乳剤Ｂと
の１：３混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ０．１０と０．０８、各サイズ乳剤とも
ＡｇＢｒ０．８モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面
の一部に局在含有させた。
性増感色素Ａ、Ｂ、Ｃを以下に示す量用いた。（増感色
素Ａ、Ｂ、Ｃをそれぞれハロゲン化銀１モル当たり、大
サイズ乳剤Ｄに対しては、それぞれ７．０×１０-4モ
ル、また小サイズ乳剤Ｄに対しては、それぞれ８．５×
１０-4モル添加した。） 塩臭化銀乳剤Ｅ：立方体、平均粒子サイズ０．１０μｍ
の大サイズ乳剤Ｂと、０．０８μｍの小サイズ乳剤Ｂと
の１：３混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ分布の変動
係数はそれぞれ０．１０と０．０８、各サイズ乳剤とも
ＡｇＢｒ０．８モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面
の一部に局在含有させた。
【０１９４】塩臭化銀乳剤Ｅには実施例２で用いた緑色
増感色素Ｄ、Ｅ、Ｆを以下に示す量用いた。（増感色素
Ｄをハロゲン化銀１モル当たり、大サイズ乳剤に対して
は１．５×１０-3モル、小サイズ乳剤に対しては１．８
×１０-3モル、また増感色素Ｅをハロゲン化銀１モル当
たり、大サイズ乳剤に対しては２．０×１０-4モル、小
サイズ乳剤に対しては３．５×１０-4モル、また増感色
素Ｆをハロゲン化銀１モル当たり、大サイズ乳剤に対し
ては１．０×１０-3モル、小サイズ乳剤に対しては１．
４×１０-3モル添加した。） 塩臭化銀乳剤Ｆ：立方体、平均粒子サイズ０．１０μｍ
の大サイズ乳剤Ｃと、０．０８μｍの小サイズ乳剤Ｃと
の１：４混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ分布の変動
係数は０．０９と０．１１、各サイズ乳剤ともＡｇＢｒ
０．８モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面の一部に
局在含有させた。
増感色素Ｄ、Ｅ、Ｆを以下に示す量用いた。（増感色素
Ｄをハロゲン化銀１モル当たり、大サイズ乳剤に対して
は１．５×１０-3モル、小サイズ乳剤に対しては１．８
×１０-3モル、また増感色素Ｅをハロゲン化銀１モル当
たり、大サイズ乳剤に対しては２．０×１０-4モル、小
サイズ乳剤に対しては３．５×１０-4モル、また増感色
素Ｆをハロゲン化銀１モル当たり、大サイズ乳剤に対し
ては１．０×１０-3モル、小サイズ乳剤に対しては１．
４×１０-3モル添加した。） 塩臭化銀乳剤Ｆ：立方体、平均粒子サイズ０．１０μｍ
の大サイズ乳剤Ｃと、０．０８μｍの小サイズ乳剤Ｃと
の１：４混合物（Ａｇモル比）。粒子サイズ分布の変動
係数は０．０９と０．１１、各サイズ乳剤ともＡｇＢｒ
０．８モル％を、塩化銀を基体とする粒子表面の一部に
局在含有させた。
【０１９５】塩臭化銀乳剤Ｆには実施例２で用いた赤色
増感色素Ｇ、Ｈを以下に示す量用いた。（ハロゲン化銀
１モル当たり、大サイズ乳剤に対しては各々２．５×１
０-4モル、また小サイズ乳剤に対しては４．０×１０-4
モル添加した。） 試料（５００）に対して発色用還元剤、色素形成カプラ
ーを以下のように替え、本発明の無呈色カプラー（ポリ
マーラテックス）を発色用還元剤の２００モル％加えた
以外は試料（５００）と同様の試料（５０１）〜（５０
３）を作製した。
増感色素Ｇ、Ｈを以下に示す量用いた。（ハロゲン化銀
１モル当たり、大サイズ乳剤に対しては各々２．５×１
０-4モル、また小サイズ乳剤に対しては４．０×１０-4
モル添加した。） 試料（５００）に対して発色用還元剤、色素形成カプラ
ーを以下のように替え、本発明の無呈色カプラー（ポリ
マーラテックス）を発色用還元剤の２００モル％加えた
以外は試料（５００）と同様の試料（５０１）〜（５０
３）を作製した。
【０１９６】 試料 発色用還元剤 色素形成カプラー ポリマーラテックス ５０１ イエロー発色層 Ｉ−５５ Ｃ−２１ Ｐ−５ マゼンタ発色層 Ｉ−５５ Ｃ−５６ Ｐ−５ シアン発色層 Ｉ−３６ Ｃ−４３ Ｐ−５ ５０２ イエロー発色層 Ｉ−５５ Ｃ−２１ Ｐ−５ マゼンタ発色層 Ｉ−５５ Ｃ−５６ Ｐ−５ シアン発色層 Ｉ−３６ Ｃ−４３ Ｐ−５ ５０３ イエロー発色層 Ｉ−５５ Ｃ−２１ Ｐ−５ マゼンタ発色層 Ｉ−５５ Ｃ−５６ Ｐ−５ シアン発色層 Ｉ−３６ Ｃ−４３ Ｐ−５
【０１９７】この試料を用い、実施例３と同様な露光を
した後、実施例３で用いた現像液に過酸化水素を添加し
たｐＨ１２．０の過酸化水素０．３％水溶液の補力液で
処理したところ、大幅に低銀化した感光材料を用いても
実施例２と同様の高い最高濃度を有する画像が得られ
た。また本発明のポリマーラテックスを加えた試料は画
像の保存性も良好で、高温高湿条件下、光照射下での保
存後もステインの少ない、鮮明な画像が得られた。本発
明の感光材料は低銀感光材料の補力処理による増幅され
た画像形成にも好ましいことが分かった。
した後、実施例３で用いた現像液に過酸化水素を添加し
たｐＨ１２．０の過酸化水素０．３％水溶液の補力液で
処理したところ、大幅に低銀化した感光材料を用いても
実施例２と同様の高い最高濃度を有する画像が得られ
た。また本発明のポリマーラテックスを加えた試料は画
像の保存性も良好で、高温高湿条件下、光照射下での保
存後もステインの少ない、鮮明な画像が得られた。本発
明の感光材料は低銀感光材料の補力処理による増幅され
た画像形成にも好ましいことが分かった。
【０１９８】実施例５ 実施例３の試料（４００）〜（４０３）を用い、下記露
光をする以外は実施例３と同様の処理、評価を実施し
た。 （露光）光源として半導体レーザーGaAlAs（発振波長、
８０８．５nm）を励起光源としたＹＡＧ固体レーザー
（発振波長、９４６nm）を KNbO3の SHG結晶により波長
変換して取りだした４７３nm、半導体レーザー GaAlAs
(発振波長、８０８．７nm）を励起光源としたＹＶＯ4固
体レーザー（発振波長、１０６４nm）を KTPの SHG結晶
により波長変換して取りだした５３２nm、 AlGaInP（発
振波長、約６７０nm：東芝製 タイプ No.TOLD9211）を
用いた。レーザー光はそれぞれ回転多面体により、走査
方向に対して垂直方向に移動するカラー印画紙上に、順
次走査露光できるような装置である。この装置を用い
て、光量を変化させて感光材料の濃度（Ｄ）と光量
（Ｅ）との関係Ｄ−log Ｅを求めた。この際３つの波長
のレーザー光は、外部変調器を用いて光量を変調し、露
光量を制御した。この走査露光は４００dpi で行いこの
時の画素当たりの平均露光時間は約５×１０-8秒であ
る。半導体レーザーは、温度による光量変動を押さえる
ためペルチェ素子を利用して温度を一定に保った。その
結果、高照度のデジタル露光で形成される画像において
も、高い最高濃度を有する画像が得られ、本発明のポリ
マーラテックスを用いた場合、高温高湿条件下、光照射
下での保存後もステインの少ない画像が得られた。
光をする以外は実施例３と同様の処理、評価を実施し
た。 （露光）光源として半導体レーザーGaAlAs（発振波長、
８０８．５nm）を励起光源としたＹＡＧ固体レーザー
（発振波長、９４６nm）を KNbO3の SHG結晶により波長
変換して取りだした４７３nm、半導体レーザー GaAlAs
(発振波長、８０８．７nm）を励起光源としたＹＶＯ4固
体レーザー（発振波長、１０６４nm）を KTPの SHG結晶
により波長変換して取りだした５３２nm、 AlGaInP（発
振波長、約６７０nm：東芝製 タイプ No.TOLD9211）を
用いた。レーザー光はそれぞれ回転多面体により、走査
方向に対して垂直方向に移動するカラー印画紙上に、順
次走査露光できるような装置である。この装置を用い
て、光量を変化させて感光材料の濃度（Ｄ）と光量
（Ｅ）との関係Ｄ−log Ｅを求めた。この際３つの波長
のレーザー光は、外部変調器を用いて光量を変調し、露
光量を制御した。この走査露光は４００dpi で行いこの
時の画素当たりの平均露光時間は約５×１０-8秒であ
る。半導体レーザーは、温度による光量変動を押さえる
ためペルチェ素子を利用して温度を一定に保った。その
結果、高照度のデジタル露光で形成される画像において
も、高い最高濃度を有する画像が得られ、本発明のポリ
マーラテックスを用いた場合、高温高湿条件下、光照射
下での保存後もステインの少ない画像が得られた。
【０１９９】
【発明の効果】本発明によって、経時で劣化してしまう
現像主薬を含まない単純なアルカリ液で処理して、最大
発色濃度の高いカラー写真が得られる。また、処理後の
感光材料を高温高湿下で、または光照射下で長期保存し
たときに生じるステインを顕著に抑制できる。特に無呈
色ポリマーカプラーラテックスを用いたときに、高い最
大発色濃度を維持しつつ、ステインを顕著に抑制でき
る。
現像主薬を含まない単純なアルカリ液で処理して、最大
発色濃度の高いカラー写真が得られる。また、処理後の
感光材料を高温高湿下で、または光照射下で長期保存し
たときに生じるステインを顕著に抑制できる。特に無呈
色ポリマーカプラーラテックスを用いたときに、高い最
大発色濃度を維持しつつ、ステインを顕著に抑制でき
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｃ 7/407 Ｇ０３Ｃ 7/407
Claims (6)
- 【請求項１】 支持体上に少なくとも一層の写真構成層
を有するハロゲン化銀カラー写真感光材料において、ひ
とつ又は複数の写真構成層のいずれかに、少なくとも一
種の下記一般式（Ｉ）で表される発色用還元剤と少なく
とも一種の色素形成カプラーを少なくとも一種の高沸点
有機溶媒中に溶解した疎水性微粒子が分散した分散物を
含有し、且つ、該疎水性微粒子の分散物外に一般式
（Ｉ）で表される発色用還元剤の酸化体と反応して無色
の化合物を生成するカプラーであって、且つそのカップ
リング活性位に一つの置換基が置換したカプラーを少な
くとも一種含有することを特徴とするハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料。 【化１】 式中、Ｃαは炭素原子を表す。Ｒは置換または無置換の
アルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Ｑは
Ｃαとともに不飽和の環を形成する原子群を表す。 - 【請求項２】 該一般式（Ｉ）で表される発色用還元剤
の酸化体と反応して無色の化合物を生成するカプラーで
あって、且つそのカップリング活性位に一つの置換基が
置換したカプラーが、ポリマーカプラーラテックスであ
ることを特徴とする請求項１に記載のハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料。 - 【請求項３】 ポリマーカプラーラテックスの活性位の
置換基が活性位に炭素原子、硫黄原子もしくは窒素原子
で連結しているポリマーカプラーラテックスであること
を特徴とする請求項２に記載のハロゲン化銀カラー写真
感光材料。 - 【請求項４】 全ての塗布層の銀量を合計した塗布銀量
が銀換算で０．００３〜０．３ｇ／m2のハロゲン化銀を
含有することを特徴とする請求項１、２または３に記載
のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 - 【請求項５】 １画素当たりの露光時間が１０-8〜１０
-4秒でかつ隣接するラスター間の重なりがある走査露光
で露光するのに適した請求項１、２、３または４に記載
のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 - 【請求項６】 実質的に発色用現像主薬を含まないアル
カリ性処理液で請求項１、２、３、４または５に記載の
ハロゲン化銀カラー写真感光材料を処理することを特徴
とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16313097A JPH1115116A (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびこれを用いた画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16313097A JPH1115116A (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびこれを用いた画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1115116A true JPH1115116A (ja) | 1999-01-22 |
Family
ID=15767773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16313097A Pending JPH1115116A (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびこれを用いた画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1115116A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1582919A1 (en) | 2004-03-23 | 2005-10-05 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Silver halide photosensitive material and photothermographic material |
| EP1635216A1 (en) | 2004-09-14 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photothermographic material |
-
1997
- 1997-06-19 JP JP16313097A patent/JPH1115116A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1582919A1 (en) | 2004-03-23 | 2005-10-05 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Silver halide photosensitive material and photothermographic material |
| EP1635216A1 (en) | 2004-09-14 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photothermographic material |
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