JPH11147764A - 非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッド - Google Patents
非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッドInfo
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐磨耗性、加工性に優れた非磁性基体および
これを用いた磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 ＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯ
を主成分として有するとともに、イルメナイト型および
スピネル型を主結晶構造として有し、さらにこの非磁性
基体を任意の断面で切断した切断面に占める、イルメナ
イト型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積
の面積率が、２０％以上である非磁性基体２を採用す
る。 【効果】 このような非磁性基体の採用により、単結晶
フェライトを磁気コアとして用いた磁気ヘッドと同等の
耐磨耗性が得られる。また、イルメナイト型結晶領域お
よびスピネル型結晶領域の残部の領域が、ＣａＴｉＯ3
相およびＴｉＯ2相を含む場合には、加工性をも向上す
ることができる。
これを用いた磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 ＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯ
を主成分として有するとともに、イルメナイト型および
スピネル型を主結晶構造として有し、さらにこの非磁性
基体を任意の断面で切断した切断面に占める、イルメナ
イト型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積
の面積率が、２０％以上である非磁性基体２を採用す
る。 【効果】 このような非磁性基体の採用により、単結晶
フェライトを磁気コアとして用いた磁気ヘッドと同等の
耐磨耗性が得られる。また、イルメナイト型結晶領域お
よびスピネル型結晶領域の残部の領域が、ＣａＴｉＯ3
相およびＴｉＯ2相を含む場合には、加工性をも向上す
ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は非磁性基体およびこ
れを用いた磁気ヘッドに関し、さらに詳しくは、耐磨耗
性および被加工性（以下、加工性と記す）に優れた非磁
性基体およびこれを用いた磁気ヘッドに関する。
れを用いた磁気ヘッドに関し、さらに詳しくは、耐磨耗
性および被加工性（以下、加工性と記す）に優れた非磁
性基体およびこれを用いた磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録テープを記録媒体とするＶＴＲ
(Video Tape Recorder) やＤＡＴ(Digital Audio Tape)
等の磁気記録再生装置は、磁気記録テープに信号を記録
したり、記録された信号を再生するための磁気ヘッドを
備えている。磁気ディスクを記録媒体とするＨＤＤ(Har
d Disk Drive) やＦＤＤ(Floppy Disk Drive) 等の磁気
記録再生装置においても、同様に磁気ヘッドを備える。
(Video Tape Recorder) やＤＡＴ(Digital Audio Tape)
等の磁気記録再生装置は、磁気記録テープに信号を記録
したり、記録された信号を再生するための磁気ヘッドを
備えている。磁気ディスクを記録媒体とするＨＤＤ(Har
d Disk Drive) やＦＤＤ(Floppy Disk Drive) 等の磁気
記録再生装置においても、同様に磁気ヘッドを備える。
【０００３】これら磁気ヘッドは、高透磁率磁性材料か
らなる磁気コアと、この磁気コアに巻回されたコイル等
の部材から構成される、電磁誘導型が主流である。この
電磁誘導型の磁気ヘッドは、従来からバルクの高透磁率
磁性材料を機械加工により切り出したコア半体を突き合
わせて磁気コアを作成していた。しかしながら、近年の
高密度記録化への指向は、電磁誘導型磁気ヘッドに対し
ても、より一層の狭トラック幅、狭ギャップ幅を要求し
ている。
らなる磁気コアと、この磁気コアに巻回されたコイル等
の部材から構成される、電磁誘導型が主流である。この
電磁誘導型の磁気ヘッドは、従来からバルクの高透磁率
磁性材料を機械加工により切り出したコア半体を突き合
わせて磁気コアを作成していた。しかしながら、近年の
高密度記録化への指向は、電磁誘導型磁気ヘッドに対し
ても、より一層の狭トラック幅、狭ギャップ幅を要求し
ている。
【０００４】これらの要求に応えるため、薄膜型磁気ヘ
ッドが実用化されている。薄膜型磁気ヘッドは、セラミ
ックス等の非磁性基体上に高透磁率の磁性薄膜や導電材
料薄膜を成膜し、これにドライエッチング等の薄膜加工
技術を適用して磁気コアや磁気コイルを形成することに
より作成される。また、非磁性基体上に磁性薄膜および
絶縁膜を多層に成膜して磁気コア半体を構成し、これを
突き合わせて磁気コアを作成した積層型磁気ヘッドも実
用化されている。
ッドが実用化されている。薄膜型磁気ヘッドは、セラミ
ックス等の非磁性基体上に高透磁率の磁性薄膜や導電材
料薄膜を成膜し、これにドライエッチング等の薄膜加工
技術を適用して磁気コアや磁気コイルを形成することに
より作成される。また、非磁性基体上に磁性薄膜および
絶縁膜を多層に成膜して磁気コア半体を構成し、これを
突き合わせて磁気コアを作成した積層型磁気ヘッドも実
用化されている。
【０００５】一方では、再生専用ではあるが、非磁性基
体上に薄膜の磁気抵抗素子を成膜した磁気抵抗効果型ヘ
ッドもＨＤＤ装置主体に用いられている。
体上に薄膜の磁気抵抗素子を成膜した磁気抵抗効果型ヘ
ッドもＨＤＤ装置主体に用いられている。
【０００６】またＨＤＤ装置では、ハードディスクにニ
アコンタクトの状態で磁気ヘッドを浮上させるため、ス
ライダと呼ばれる非磁性基体のブロック端面に磁気ヘッ
ドを搭載する。これら薄膜型磁気ヘッド、積層型磁気ヘ
ッドあるいはスライダ用の非磁性基体としては、例えば
特開昭６２−２２４１１号公報に提案されている、Ｍｎ
Ｏ−ＮｉＯ系の複合酸化物が知られている。ここに開示
されている複合酸化物は、ＭｎＯを主成分としてＮａＣ
ｌ型の結晶構造を有し、これにより加工性を向上するも
のである。
アコンタクトの状態で磁気ヘッドを浮上させるため、ス
ライダと呼ばれる非磁性基体のブロック端面に磁気ヘッ
ドを搭載する。これら薄膜型磁気ヘッド、積層型磁気ヘ
ッドあるいはスライダ用の非磁性基体としては、例えば
特開昭６２−２２４１１号公報に提案されている、Ｍｎ
Ｏ−ＮｉＯ系の複合酸化物が知られている。ここに開示
されている複合酸化物は、ＭｎＯを主成分としてＮａＣ
ｌ型の結晶構造を有し、これにより加工性を向上するも
のである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このＭ
ｎＯ−ＮｉＯ二成分系複合酸化物は、フェライト単結晶
と比較して、特に高密度記録媒体として開発された蒸着
薄膜テープに対する耐磨耗性が必ずしも充分ではないと
いう問題点を有する。このため、ＭｎＯ−ＮｉＯ二成分
系複合酸化物を非磁性基体やガード材とする薄膜型ヘッ
ドや積層型ヘッドは、フェライト単結晶を磁気コア材と
するバルクヘッドやＭＩＧヘッドに比較して寿命が短
い。この問題は低温多湿等の使用環境下において顕著に
現れる。
ｎＯ−ＮｉＯ二成分系複合酸化物は、フェライト単結晶
と比較して、特に高密度記録媒体として開発された蒸着
薄膜テープに対する耐磨耗性が必ずしも充分ではないと
いう問題点を有する。このため、ＭｎＯ−ＮｉＯ二成分
系複合酸化物を非磁性基体やガード材とする薄膜型ヘッ
ドや積層型ヘッドは、フェライト単結晶を磁気コア材と
するバルクヘッドやＭＩＧヘッドに比較して寿命が短
い。この問題は低温多湿等の使用環境下において顕著に
現れる。
【０００８】本発明は上述した従来技術に鑑み、その問
題点を解決するために提案するものである。すなわち本
発明の課題は、耐磨耗性に優れるとともに、加工性にも
優れた非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッドを提供
することである。
題点を解決するために提案するものである。すなわち本
発明の課題は、耐磨耗性に優れるとともに、加工性にも
優れた非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッドを提供
することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の非磁性基体は上
述した課題を解決するために提案するものであり、Ｎｉ
Ｏ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯを主成分として有す
るとともに、イルメナイト型およびスピネル型を主結晶
構造として有する非磁性基体であって、この非磁性基体
を任意の断面で切断した切断面に占める、イルメナイト
型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の面
積率が、２０％以上であることを特徴とする。イルメナ
イト型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積
の面積率の上限は特に限定はなく、１００％であっても
よい。
述した課題を解決するために提案するものであり、Ｎｉ
Ｏ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯを主成分として有す
るとともに、イルメナイト型およびスピネル型を主結晶
構造として有する非磁性基体であって、この非磁性基体
を任意の断面で切断した切断面に占める、イルメナイト
型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の面
積率が、２０％以上であることを特徴とする。イルメナ
イト型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積
の面積率の上限は特に限定はなく、１００％であっても
よい。
【００１０】また非磁性基体の加工性を考慮すると、こ
の切断面に占める、イルメナイト型結晶領域およびスピ
ネル型結晶領域の合計の面積の残部は、ＣａＴｉＯ3 相
およびＴｉＯ2 相を含むことが望ましい。
の切断面に占める、イルメナイト型結晶領域およびスピ
ネル型結晶領域の合計の面積の残部は、ＣａＴｉＯ3 相
およびＴｉＯ2 相を含むことが望ましい。
【００１１】つぎに本発明の磁気ヘッドは、ＮｉＯ，Ｔ
ｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯを主成分として有するとと
もに、イルメナイト型およびスピネル型を主結晶構造と
して有する非磁性基体上に形成された磁性薄膜を有する
磁気ヘッドであって、この非磁性基体を任意の断面で切
断した切断面に占める、イルメナイト型結晶領域および
スピネル型結晶領域の合計の面積の面積率が、２０％以
上であることを特徴とする。イルメナイト型結晶領域お
よびスピネル型結晶領域の合計の面積の面積率の上限
は、これも特に限定はなく、１００％であってもよい。
ｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯを主成分として有するとと
もに、イルメナイト型およびスピネル型を主結晶構造と
して有する非磁性基体上に形成された磁性薄膜を有する
磁気ヘッドであって、この非磁性基体を任意の断面で切
断した切断面に占める、イルメナイト型結晶領域および
スピネル型結晶領域の合計の面積の面積率が、２０％以
上であることを特徴とする。イルメナイト型結晶領域お
よびスピネル型結晶領域の合計の面積の面積率の上限
は、これも特に限定はなく、１００％であってもよい。
【００１２】本発明の磁気ヘッドにおいても、加工性の
観点からは、この切断面に占める、イルメナイト型結晶
領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の残部は、
ＣａＴｉＯ3 相およびＴｉＯ2 相を含むことが望まし
い。本発明の非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッド
は、薄膜型磁気ヘッド、積層型磁気ヘッドの別を問わ
ず、また電磁誘導型、磁気抵抗効果型、あるいは光磁気
記録媒体用のバイアス磁界印加用ヘッドあるいはスライ
ダ材料等、使用目的を問わない。
観点からは、この切断面に占める、イルメナイト型結晶
領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の残部は、
ＣａＴｉＯ3 相およびＴｉＯ2 相を含むことが望まし
い。本発明の非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッド
は、薄膜型磁気ヘッド、積層型磁気ヘッドの別を問わ
ず、また電磁誘導型、磁気抵抗効果型、あるいは光磁気
記録媒体用のバイアス磁界印加用ヘッドあるいはスライ
ダ材料等、使用目的を問わない。
【００１３】本発明の非磁性基体は、イルメナイト型結
晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の面積率
として、２０％以上の値をとることにより、薄膜蒸着テ
ープあるいは塗布型テープをはじめとする磁気記録媒体
に対して、フェライトコアを用いた磁気ヘッドと同等以
上の耐磨耗性を得ることができる。またイルメナイト型
結晶領域およびスピネル型結晶領域の残部として、ペロ
ブスカイト型結晶構造のＣａＴｉＯ3 相およびルチル型
結晶構造のＴｉＯ2 相を含むことにより、耐磨耗性を確
保しながらも機械加工における加工性を向上することが
できる。
晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の面積率
として、２０％以上の値をとることにより、薄膜蒸着テ
ープあるいは塗布型テープをはじめとする磁気記録媒体
に対して、フェライトコアを用いた磁気ヘッドと同等以
上の耐磨耗性を得ることができる。またイルメナイト型
結晶領域およびスピネル型結晶領域の残部として、ペロ
ブスカイト型結晶構造のＣａＴｉＯ3 相およびルチル型
結晶構造のＴｉＯ2 相を含むことにより、耐磨耗性を確
保しながらも機械加工における加工性を向上することが
できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下本発明の非磁性基体およびこ
れを用いた磁気ヘッドにつき、図１および図２を参照し
て説明する。
れを用いた磁気ヘッドにつき、図１および図２を参照し
て説明する。
【００１５】これらのうち、図１は積層型磁気ヘッドの
一例を示す概略斜視図である。図１に示す磁気ヘッド１
は、高透磁率の磁性薄膜および絶縁膜を交互に複数層形
成した積層磁性体膜４を、非磁性基体２の間に挟持した
一対の磁気コア半体３を突き合わせ、接合一体化したも
のである。磁気記録媒体（不図示）との摺動面５には、
磁気ギャップＧｐが形成されている。磁気ギャップＧｐ
のトラック幅は、積層磁性体膜４の膜厚によって規定さ
れる。また摺動面５の磁気記録媒体との当たり幅Ｃｗ
は、積層磁性体膜４と非磁性基体２の厚さの和で規定さ
れる。さらに、一方の磁気コア半体３の突き合わせ面に
は、磁気ギャップＧｐのギャップデプスＤｐを規制する
とともにコイル（不図示）を巻回するための巻線窓６が
形成されている。かかる積層磁気ヘッドに本発明の非磁
性基体２を適用することにより、耐磨耗性および加工性
に優れた磁気ヘッドを提供することができる。
一例を示す概略斜視図である。図１に示す磁気ヘッド１
は、高透磁率の磁性薄膜および絶縁膜を交互に複数層形
成した積層磁性体膜４を、非磁性基体２の間に挟持した
一対の磁気コア半体３を突き合わせ、接合一体化したも
のである。磁気記録媒体（不図示）との摺動面５には、
磁気ギャップＧｐが形成されている。磁気ギャップＧｐ
のトラック幅は、積層磁性体膜４の膜厚によって規定さ
れる。また摺動面５の磁気記録媒体との当たり幅Ｃｗ
は、積層磁性体膜４と非磁性基体２の厚さの和で規定さ
れる。さらに、一方の磁気コア半体３の突き合わせ面に
は、磁気ギャップＧｐのギャップデプスＤｐを規制する
とともにコイル（不図示）を巻回するための巻線窓６が
形成されている。かかる積層磁気ヘッドに本発明の非磁
性基体２を適用することにより、耐磨耗性および加工性
に優れた磁気ヘッドを提供することができる。
【００１６】また図２はＨＤＤ装置用の磁気ヘッドの一
例を示す概略側面図である。図２の磁気ヘッド１は、ウ
インチェスタタイプのスライダである非磁性基体２の一
側端面に、磁気ヘッド素子７が固着されたものである。
この磁気ヘッド素子７は、電磁誘導型でも磁気抵抗効果
型であってもよい。なお図中の破線は磁気ヘッド１の摺
動面の長手方向に形成された溝を表す。図２に示すＨＤ
Ｄ装置用の磁気ヘッド１に、本発明の非磁性基体２を適
用することにより、耐磨耗性および加工性に優れた磁気
ヘッドを提供することができる。
例を示す概略側面図である。図２の磁気ヘッド１は、ウ
インチェスタタイプのスライダである非磁性基体２の一
側端面に、磁気ヘッド素子７が固着されたものである。
この磁気ヘッド素子７は、電磁誘導型でも磁気抵抗効果
型であってもよい。なお図中の破線は磁気ヘッド１の摺
動面の長手方向に形成された溝を表す。図２に示すＨＤ
Ｄ装置用の磁気ヘッド１に、本発明の非磁性基体２を適
用することにより、耐磨耗性および加工性に優れた磁気
ヘッドを提供することができる。
【００１７】本発明の非磁性基体は、常法に準じて製造
することができる。すなわち、ＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，Ｚｎ
ＯおよびＣａＯが所定の組成となるように、市販のＮｉ
Ｏ粉末、ＴｉＯ2 粉末、ＺｎＯ粉末およびＣａＣＯ3 粉
末を秤量し、純水を加えてボールミル中で２４時間湿式
混合した。次いでボールミルポットからスラリを取り出
し、これに１００℃で２０時間以上乾燥工程を加えた。
この乾燥ケーキを粗粉砕後、１１００℃で５時間仮焼し
た。この仮焼焼結体を粉砕した粉末に再度純水を加え、
ボールミル中で２４時間湿式混合した。この後１００℃
で２０時間以上乾燥し、得られた乾燥ケーキをさらに粉
砕後、ＰＶＡ(Poly Vinyl Alcohol)の１０重量％水溶液
を乾燥ケーキの１０重量％加えて造粒した。その後、８
０ＭＰａでプレス成形し、酸素中で１２５０℃から１４
００℃の温度範囲で焼成した。さらに、Ａｒガスにより
１００ＭＰａで加圧しながら１１５０℃から１３５０℃
の温度範囲でＨＩＰ(Hot Isotropic Press) 処理を施
し、本発明の非磁性基体を作成した。
することができる。すなわち、ＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，Ｚｎ
ＯおよびＣａＯが所定の組成となるように、市販のＮｉ
Ｏ粉末、ＴｉＯ2 粉末、ＺｎＯ粉末およびＣａＣＯ3 粉
末を秤量し、純水を加えてボールミル中で２４時間湿式
混合した。次いでボールミルポットからスラリを取り出
し、これに１００℃で２０時間以上乾燥工程を加えた。
この乾燥ケーキを粗粉砕後、１１００℃で５時間仮焼し
た。この仮焼焼結体を粉砕した粉末に再度純水を加え、
ボールミル中で２４時間湿式混合した。この後１００℃
で２０時間以上乾燥し、得られた乾燥ケーキをさらに粉
砕後、ＰＶＡ(Poly Vinyl Alcohol)の１０重量％水溶液
を乾燥ケーキの１０重量％加えて造粒した。その後、８
０ＭＰａでプレス成形し、酸素中で１２５０℃から１４
００℃の温度範囲で焼成した。さらに、Ａｒガスにより
１００ＭＰａで加圧しながら１１５０℃から１３５０℃
の温度範囲でＨＩＰ(Hot Isotropic Press) 処理を施
し、本発明の非磁性基体を作成した。
【００１８】得られた非磁性基体につき、イルメナイト
型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の面
積率、残部の結晶構造、磨耗量および加工性を評価し
た。
型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の面
積率、残部の結晶構造、磨耗量および加工性を評価し
た。
【００１９】イルメナイト型結晶領域およびスピネル型
結晶領域の合計の面積の面積率、および残部の結晶構造
の評価 上述の工程により得られた非磁性基体を任意の断面で切
断し、切断面を鏡面研磨加工し、次に１１００℃で３時
間、サーマルエッチングを施した。この切断面に露出し
た各結晶ドメインの結晶構造をＸＭＡ(X-ray Micro Ana
lyzer)により同定した。また各結晶構造の面積率を画像
解析装置により求めた。
結晶領域の合計の面積の面積率、および残部の結晶構造
の評価 上述の工程により得られた非磁性基体を任意の断面で切
断し、切断面を鏡面研磨加工し、次に１１００℃で３時
間、サーマルエッチングを施した。この切断面に露出し
た各結晶ドメインの結晶構造をＸＭＡ(X-ray Micro Ana
lyzer)により同定した。また各結晶構造の面積率を画像
解析装置により求めた。
【００２０】また各結晶構造の面積率は、原料組成物中
のＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯのモル比、お
よびこれから得られる非磁性基体を構成する、ＣａＴｉ
Ｏ3，ＮｉＺｎＴｉＯ3 ，Ｚｎ2 ＴｉＯ4 ，ＮｉＴｉＯ
3 ，ＴｉＯ2 およびＮｉＯの、モル比、分子量、比重か
ら計算することも勿論可能である。
のＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯのモル比、お
よびこれから得られる非磁性基体を構成する、ＣａＴｉ
Ｏ3，ＮｉＺｎＴｉＯ3 ，Ｚｎ2 ＴｉＯ4 ，ＮｉＴｉＯ
3 ，ＴｉＯ2 およびＮｉＯの、モル比、分子量、比重か
ら計算することも勿論可能である。
【００２１】磨耗量の評価 非磁性基体の磨耗量は、非磁性基体単体でＶＴＲ用のダ
ミーヘッドを作成し、その磨耗量を測定した。ダミーヘ
ッドの形状は、２ｍｍ（幅）×２ｍｍ（高さ）×０．２
ｍｍ（厚さ）で、摺動面の当たり幅８０μｍ、当たり幅
方向の曲率はＲ６ｍｍである。磨耗試験は、このダミー
ヘッドをデータトレージテープドライブデッキＳＤＸ−
３００Ｃ（ソニー社製）に搭載し、Ｃｏ合金系の薄膜蒸
着テープＳＤＸ−Ｔ３Ｎ（ソニー社製）を５℃、５０％
ＲＨの環境下で１０００時間走行させた後、ドラムから
のダミーヘッドの突き出し量変化を測定して磨耗量とし
た。もちろん、磨耗量の少ないもの程、耐磨耗性は良好
である。なお、ドラムからのダミーヘッドの突き出し量
の初期設定値は３０μｍとした。
ミーヘッドを作成し、その磨耗量を測定した。ダミーヘ
ッドの形状は、２ｍｍ（幅）×２ｍｍ（高さ）×０．２
ｍｍ（厚さ）で、摺動面の当たり幅８０μｍ、当たり幅
方向の曲率はＲ６ｍｍである。磨耗試験は、このダミー
ヘッドをデータトレージテープドライブデッキＳＤＸ−
３００Ｃ（ソニー社製）に搭載し、Ｃｏ合金系の薄膜蒸
着テープＳＤＸ−Ｔ３Ｎ（ソニー社製）を５℃、５０％
ＲＨの環境下で１０００時間走行させた後、ドラムから
のダミーヘッドの突き出し量変化を測定して磨耗量とし
た。もちろん、磨耗量の少ないもの程、耐磨耗性は良好
である。なお、ドラムからのダミーヘッドの突き出し量
の初期設定値は３０μｍとした。
【００２２】加工性の評価 通常のスライシングマシンを使用して、非磁性基体に回
転砥石を５０パス入れた後の回転砥石の磨耗量、すなわ
ち、回転砥石の初期溝深さと、５０パス終了後に回転砥
石に形成された溝深さの差を測定し、加工性を評価し
た。この回転砥石の磨耗量が少ない程、加工性は良好で
ある。加工条件は、回転砥石がＳＤ３／８（Ｒ２０
０）、砥石回転数５０００ｒｐｍ、送り速度３０ｍｍ／
ｍｉｎ、切り込み深さを０．１ｍｍとした。なお、磨耗
量および加工性については、比較材としてフェライト単
結晶およびＭｎＯ−ＮｉＯ系非磁性基体についても評価
した。
転砥石を５０パス入れた後の回転砥石の磨耗量、すなわ
ち、回転砥石の初期溝深さと、５０パス終了後に回転砥
石に形成された溝深さの差を測定し、加工性を評価し
た。この回転砥石の磨耗量が少ない程、加工性は良好で
ある。加工条件は、回転砥石がＳＤ３／８（Ｒ２０
０）、砥石回転数５０００ｒｐｍ、送り速度３０ｍｍ／
ｍｉｎ、切り込み深さを０．１ｍｍとした。なお、磨耗
量および加工性については、比較材としてフェライト単
結晶およびＭｎＯ−ＮｉＯ系非磁性基体についても評価
した。
【００２３】非磁性基体試料の製造 原料組成物中のＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯ
の配合比を変え、〔表１〕に示す試料Ｎｏ．１〜１９の
非磁性基体を製造した。
の配合比を変え、〔表１〕に示す試料Ｎｏ．１〜１９の
非磁性基体を製造した。
【００２４】
【表１】
【００２５】試料Ｎｏ．１〜１９の非磁性基体につき、
イルメナイト型およびスピネル型結晶領域の合計の面積
率、および残部の結晶構造を評価した。また試料Ｎｏ．
１〜１９の非磁性基体および比較材の非磁性基体につい
て、磨耗量および加工性（砥石の磨耗量）を評価した。
これらの評価結果をまとめて〔表２〕に示す。
イルメナイト型およびスピネル型結晶領域の合計の面積
率、および残部の結晶構造を評価した。また試料Ｎｏ．
１〜１９の非磁性基体および比較材の非磁性基体につい
て、磨耗量および加工性（砥石の磨耗量）を評価した。
これらの評価結果をまとめて〔表２〕に示す。
【００２６】
【表２】
【００２７】〔表２〕の評価結果につき、以下に考察を
加える。まず、イルメナイト型およびスピネル型結晶領
域の合計の面積率が２０％未満のＮｏ．１〜５の試料
は、磨耗量がフェライト単結晶の比較材１より大きく、
いずれも２μｍ以上ある。このため、Ｎｏ．１〜５の試
料を磁気ヘッドのガード材やスライダ等に使用した場合
には、磨耗が大きく磁気ヘッドとしての寿命が短くな
り、不適である。
加える。まず、イルメナイト型およびスピネル型結晶領
域の合計の面積率が２０％未満のＮｏ．１〜５の試料
は、磨耗量がフェライト単結晶の比較材１より大きく、
いずれも２μｍ以上ある。このため、Ｎｏ．１〜５の試
料を磁気ヘッドのガード材やスライダ等に使用した場合
には、磨耗が大きく磁気ヘッドとしての寿命が短くな
り、不適である。
【００２８】一方、イルメナイト型およびスピネル型結
晶領域の合計の面積率が２０％以上のＮｏ．６〜１９の
試料は、磨耗量がフェライト単結晶の比較材１と同等以
下であり、いずれも１μｍ以下の値である。したがっ
て、Ｎｏ．６〜１９の試料を磁気ヘッドのガード材やス
ライダ等に使用した場合には、磨耗が小さく、長寿命の
磁気ヘッドを製造することができる。
晶領域の合計の面積率が２０％以上のＮｏ．６〜１９の
試料は、磨耗量がフェライト単結晶の比較材１と同等以
下であり、いずれも１μｍ以下の値である。したがっ
て、Ｎｏ．６〜１９の試料を磁気ヘッドのガード材やス
ライダ等に使用した場合には、磨耗が小さく、長寿命の
磁気ヘッドを製造することができる。
【００２９】そして、Ｎｏ．６〜１９の試料の中でも、
イルメナイト型およびスピネル型結晶領域の残部の結晶
構造として、ＣａＴｉＯ3 相およびＴｉＯ2 相を共に含
む、Ｎｏ．６，Ｎｏ．７，Ｎｏ．８，Ｎｏ．１０，Ｎ
ｏ．１３，Ｎｏ．１５，Ｎｏ．１７，Ｎｏ．１８，およ
びＮｏ．１９の各試料は、いずれも砥石の磨耗量が３〜
５μｍと小さく、加工性も良好である。
イルメナイト型およびスピネル型結晶領域の残部の結晶
構造として、ＣａＴｉＯ3 相およびＴｉＯ2 相を共に含
む、Ｎｏ．６，Ｎｏ．７，Ｎｏ．８，Ｎｏ．１０，Ｎ
ｏ．１３，Ｎｏ．１５，Ｎｏ．１７，Ｎｏ．１８，およ
びＮｏ．１９の各試料は、いずれも砥石の磨耗量が３〜
５μｍと小さく、加工性も良好である。
【００３０】しかしながら、Ｎｏ．６〜１９の試料の中
でも、イルメナイト型およびスピネル型結晶領域の残部
の結晶構造として、ＮｉＯ（ＮａＣｌ型結晶構造）を含
む、Ｎｏ．９，Ｎｏ．１１，Ｎｏ．１２，Ｎｏ．１４，
およびＮｏ．１６の各試料は、砥石の磨耗量が１８〜２
２μｍと大きく、ＭｎＯ−ＮｉＯ系の比較材２と同様、
加工性が悪い。
でも、イルメナイト型およびスピネル型結晶領域の残部
の結晶構造として、ＮｉＯ（ＮａＣｌ型結晶構造）を含
む、Ｎｏ．９，Ｎｏ．１１，Ｎｏ．１２，Ｎｏ．１４，
およびＮｏ．１６の各試料は、砥石の磨耗量が１８〜２
２μｍと大きく、ＭｎＯ−ＮｉＯ系の比較材２と同様、
加工性が悪い。
【００３１】以上の評価結果およびその考察より、Ｎｉ
Ｏ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯを主成分として有す
るとともに、イルメナイト型およびスピネル型を主結晶
構造として有する非磁性基体であって、この非磁性基体
を任意の断面で切断した切断面に占める、イルメナイト
型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の面
積率が、２０％以上である非磁性基体は、磨耗量がフェ
ライト単結晶と同等程度以下と小さいことが判る。
Ｏ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯを主成分として有す
るとともに、イルメナイト型およびスピネル型を主結晶
構造として有する非磁性基体であって、この非磁性基体
を任意の断面で切断した切断面に占める、イルメナイト
型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の面
積率が、２０％以上である非磁性基体は、磨耗量がフェ
ライト単結晶と同等程度以下と小さいことが判る。
【００３２】さらに、イルメナイト型結晶領域およびス
ピネル型結晶領域の合計の面積の残部が、ＣａＴｉＯ3
相およびＴｉＯ2 相を含む場合には、加工性をも向上す
ることができる。
ピネル型結晶領域の合計の面積の残部が、ＣａＴｉＯ3
相およびＴｉＯ2 相を含む場合には、加工性をも向上す
ることができる。
【００３３】上述の実施の形態例は、データストレージ
テープレコーダ用の磁気ヘッド用非磁性基体を想定して
シミュレーションをおこなったが、ＶＴＲ用やＤＡＴ用
の磁気ヘッド、ＨＤＤ用のスライダ等においても同様の
結果を得ることができる。
テープレコーダ用の磁気ヘッド用非磁性基体を想定して
シミュレーションをおこなったが、ＶＴＲ用やＤＡＴ用
の磁気ヘッド、ＨＤＤ用のスライダ等においても同様の
結果を得ることができる。
【００３４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の非磁性基体は、フェライト単結晶の磁気コア材と同等
程度以上の良好な耐磨耗性が得られる。また、イルメナ
イト型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積
の残部が、ＣａＴｉＯ3 相およびＴｉＯ2 相を含む場合
には、加工性をも向上することができる。
の非磁性基体は、フェライト単結晶の磁気コア材と同等
程度以上の良好な耐磨耗性が得られる。また、イルメナ
イト型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積
の残部が、ＣａＴｉＯ3 相およびＴｉＯ2 相を含む場合
には、加工性をも向上することができる。
【００３５】したがって、かかる非磁性基体を採用する
ことにより、耐磨耗性に優れた長寿命の磁気ヘッドやス
ライダを製造することが可能となる。
ことにより、耐磨耗性に優れた長寿命の磁気ヘッドやス
ライダを製造することが可能となる。
【図１】積層型磁気ヘッドの一例を示す概略斜視図であ
る。
る。
【図２】ＨＤＤ用の磁気ヘッドの一例を示す概略側面図
である。
である。
１…磁気ヘッド、２…非磁性基体、３…磁気コア半体、
４…積層磁性体膜、５…摺動面、６…巻線窓、７…磁気
ヘッド素子、Ｇｐ…磁気ギャップ、Ｃｗ…当たり幅、Ｄ
ｐ…ギャップデプス
４…積層磁性体膜、５…摺動面、６…巻線窓、７…磁気
ヘッド素子、Ｇｐ…磁気ギャップ、Ｃｗ…当たり幅、Ｄ
ｐ…ギャップデプス
Claims (4)
- 【請求項１】 ＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯ
を主成分として有するとともに、イルメナイト型および
スピネル型を主結晶構造として有する非磁性基体であっ
て、 前記非磁性基体を任意の断面で切断した切断面に占め
る、前記イルメナイト型結晶領域およびスピネル型結晶
領域の合計の面積の面積率が、２０％以上であることを
特徴とする非磁性基体。 - 【請求項２】 前記切断面に占める、前記イルメナイト
型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の残
部は、ＣａＴｉＯ3 相およびＴｉＯ2 相を含むことを特
徴とする請求項１記載の非磁性基体。 - 【請求項３】 ＮｉＯ，ＴｉＯ2 ，ＺｎＯおよびＣａＯ
を主成分として有するとともに、イルメナイト型および
スピネル型を主結晶構造として有する非磁性基体上に形
成された磁性薄膜を有する磁気ヘッドであって、 前記非磁性基体を任意の断面で切断した切断面に占め
る、前記イルメナイト型結晶領域およびスピネル型結晶
領域の合計の面積の面積率が、２０％以上であることを
特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記切断面に占める、前記イルメナイト
型結晶領域およびスピネル型結晶領域の合計の面積の残
部は、ＣａＴｉＯ3 相およびＴｉＯ2 相を含むことを特
徴とする請求項３記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9315614A JPH11147764A (ja) | 1997-11-17 | 1997-11-17 | 非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッド |
| US09/192,382 US6136459A (en) | 1997-11-17 | 1998-11-16 | Nonmagnetic substrate and magnetic head using the same |
| SG1998004722A SG75894A1 (en) | 1997-11-17 | 1998-11-16 | Nonmagnetic substrate and magnetic head using the same |
| CN98122481A CN1097258C (zh) | 1997-11-17 | 1998-11-17 | 非磁性基底及应用它的磁头 |
| KR1019980049333A KR19990045347A (ko) | 1997-11-17 | 1998-11-17 | 비자성 기판 및 이것을 이용한 자기 헤드 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9315614A JPH11147764A (ja) | 1997-11-17 | 1997-11-17 | 非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11147764A true JPH11147764A (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=18067491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9315614A Withdrawn JPH11147764A (ja) | 1997-11-17 | 1997-11-17 | 非磁性基体およびこれを用いた磁気ヘッド |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6136459A (ja) |
| JP (1) | JPH11147764A (ja) |
| KR (1) | KR19990045347A (ja) |
| CN (1) | CN1097258C (ja) |
| SG (1) | SG75894A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6426848B1 (en) * | 1999-06-23 | 2002-07-30 | Sony Corporation | Non-magnetic substrate including TiO2 for a magnetic head and magnetic head |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001118212A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5744208A (en) * | 1994-06-24 | 1998-04-28 | Corning Incorporated | Glass-ceramics containing lithium disilicate and tridymite |
| US5476821A (en) * | 1994-11-01 | 1995-12-19 | Corning Incorporated | High modulus glass-ceramics containing fine grained spinel-type crystals |
| US5491116A (en) * | 1995-04-03 | 1996-02-13 | Corning Incorporated | Fine-grained glass-ceramics |
-
1997
- 1997-11-17 JP JP9315614A patent/JPH11147764A/ja not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-11-16 SG SG1998004722A patent/SG75894A1/en unknown
- 1998-11-16 US US09/192,382 patent/US6136459A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-11-17 CN CN98122481A patent/CN1097258C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-11-17 KR KR1019980049333A patent/KR19990045347A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6426848B1 (en) * | 1999-06-23 | 2002-07-30 | Sony Corporation | Non-magnetic substrate including TiO2 for a magnetic head and magnetic head |
| KR100690460B1 (ko) * | 1999-06-23 | 2007-03-09 | 소니 가부시끼 가이샤 | 자기 헤드용 비자성 기판과 자기 헤드 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6136459A (en) | 2000-10-24 |
| KR19990045347A (ko) | 1999-06-25 |
| CN1217528A (zh) | 1999-05-26 |
| SG75894A1 (en) | 2000-10-24 |
| CN1097258C (zh) | 2002-12-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040316 |