JPH11147186A - テクスチュア記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 作成されるバンプの不均一をなくして良好な
ＣＳＳ特性が得られるようにし、光軸の調整等のメンテ
ナンスの負担を軽減し、生産性を高める。 【解決手段】 ディスク基板１９の表面にレーザー光を
照射してバンプを作成するテクスチュア記録装置におい
て、レーザー光を変調する光変調手段１４と、変調した
レーザー光をディスク基板に照射するレーザー光照射手
段１８と、ディスク基板を回転させ回転速度の検出を行
う回転機構２０と、レーザー光の照射位置に対しディス
ク基板を相対移動させ移動位置の検出を行う移動機構２
１と、回転速度の検出に基づき回転速度の制御、移動位
置の検出に基づき移動位置の制御、レーザー光の変調制
御を行う制御手段１３とを備え、バンプの記録を開始す
るレーザー光の立ち上がり照射強度を大きくしてバンプ
の大きさ、深さ及びリムの高さが一様になるように変調
手段１４を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク基板のテ
クスチュア加工技術に関し、詳しくはレーザー光を利用
してディスク基板の表面に微小突起（バンプ）を作成す
るテクスチュア記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク装置では、コンタクト・ス
タート・ストップ（ＣＳＳ）方式が採用され、磁気ディ
スク基板は、静止状態において磁気ヘッドと密着してい
て、回転を始めると、磁気ヘッドとの隙間を流れる空気
の粘性と磁気ヘッドを磁気ディスク基板に押し付けるバ
ネの力との平衡点で隙間が安定する。このようなＣＳＳ
方式を採用した磁気ディスク装置において、静止時の接
触摩擦力を低減させるために、磁気ディスク基板の表面
に研磨テープ等で微小突起（バンブ）を作る技術が開発
され、さらに近年レーザー光を利用した加工により微小
突起を作る方法が開発された。

【０００３】図１０はレーザー光を利用して磁気ディス
クを加工し微小突起を作る従来のテクスチュア記録装置
の構成例を示す図であり、８１は光源、８２は光変調
器、８３は制御装置、８４、８４′は全反射鏡、８５、
８５′は集光器、８６、８９は磁気ディスク基板、８
７、９０は基板回転機構、８８、９１は基板移動機構、
９２は光学系移動機構を示す。

【０００４】図１０において、光源８１は、加工用のレ
ーザー光を発生するレーザービーム発振器であり、光変
調器８２は、光源８１からのレーザー光をオン／オフ
（パルス変調）するものである。磁気ディスク基板８
６、８９は、レーザー光によりテクスチャ加工を行い表
面に微小突起（バンブ）を作る被加工材である。基板回
転機構８７、９０は、磁気ディスク基板８６、８９を保
持して回転駆動する機構であり、基板移動機構８８、９
１は、磁気ディスク基板８６、８９を半径方向に移動さ
せる機構であり、光学系移動機構９２は、全反射鏡８
４、集光器８５からなる光学系を磁気ディスク基板８
６、８９の加工部間で移動させる機構である。制御装置
８３は、光変調器８２のオン／オフタイミング、基板回
転機構８７、９０の回転数、基板移動機構８８、９１の
移動位置、光学系移動機構９２の移動位置の制御を行う
ものである。

【０００５】上記構成のテクスチュア記録装置におい
て、制御装置８３は、光学系移動機構９２を制御して磁
気ディスク基板８６の加工部又は磁気ディスク基板８９
の加工部に全反射鏡８４、集光器８５からなる光学系の
位置決め、基板移動機構８８、９１を制御して磁気ディ
スク基板８６、８９のレーザー光の照射点の位置決めを
行い、基板回転機構８７、９０を制御して磁気ディスク
基板８６、８９を一定の回転数となるように（ＣＡＶ）
又はレーザー光の照射位置の線速度が一定となるように
（ＣＬＶ）回転駆動する。そして、光変調器８２を制御
してレーザー光のオン／オフタイミングの制御を行い、
全反射鏡８４、集光器８５からなる光学系を介して照射
することにより、磁気ディスク基板８６、８９の表面に
微小の凹凸からなるテクスチャ加工を行う。

【０００６】従来のレーザー光を利用した加工装置で
は、上記のように磁気ディスク基板８６、８９、基板回
転機構８７、９０、基板移動機構８８、９１からなる複
数の加工部を併設し、光学系移動機構９２の制御により
光学系が図示８４、８５の位置と８４′、８５′の位置
との間を繰り返し移動して連続的に加工を行うようにす
ることによって、加工用レーザー光源の利用率を高め、
作業効率を高めるようにしている。また、移動光学系９
２を省き、光学系を固定して加工部を相対的に移動させ
てもよい（例えば特開平８−２２４６７７号公報参
照）。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、現在までに開
発されたバンプを作成するテクスチュア記録装置では、
バンプの大きさ、深さ及びリムの高さが作成された全面
で均一にならないという問題がある。バンプが不均一な
表面のディスク基板からコンタクト・スタート・ストッ
プをすると、磁気ヘッドに傷がついたり磁気ヘッドの摩
擦力が大きくて始動時間が長くなったり、始動しなくな
る、所謂ステッキング現象が発生する。

【０００８】また、テクスチュア記録装置では、装置に
レーザー光発振器を含め光変調器や集光器を内蔵し、こ
れら光学部品間の光路が煩雑になるため、光軸の調整、
稼働中のずれによる再調整等に多大の手間がかかる。し
かも、光路が空気等の雰囲気を通過するため、光路中の
気流や雰囲気の温度差による「陽炎」で「ゆらぎ」が発
生したり、浮遊している塵により光量が不安定になると
いう問題もある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するものであり、作成されるバンプの不均一をなく
して良好なＣＳＳ特性が得られるようにし、光軸の調整
等のメンテナンスの負担を軽減し、生産性を高めるよう
にするものである。

【００１０】そのために本発明は、ディスク基板の表面
にレーザー光を照射してバンプを作成するテクスチュア
記録装置において、レーザー光を変調する光変調手段
と、該光変調手段により変調したレーザー光をディスク
基板に照射するレーザー光照射手段と、ディスク基板を
回転させ回転速度の検出を行う回転機構と、前記レーザ
ー光照射手段により照射するレーザー光の位置に対しデ
ィスク基板を相対移動させ移動位置の検出を行う移動機
構と、前記回転機構による回転速度の検出に基づき回転
速度の制御を行うと共に前記移動機構による移動位置の
検出に基づき移動位置の制御を行って前記光変調手段に
よるレーザー光の変調を制御する制御手段とを備え、前
記制御手段は、バンプの記録を開始するレーザー光の立
ち上がり照射強度を大きくしてバンプの大きさ、深さ及
びリムの高さが一様になるように前記光変調手段による
変調を制御することを特徴とするものである。

【００１１】また、前記制御手段は、前記回転機構の制
御により前記回転速度を一定にし、前記ディスク基板に
おけるレーザー光の照射位置の線速に応じて前記光変調
手段の制御により前記レーザー光の平均照射強度を変化
させ、あるいは前記回転機構の制御により前記ディスク
基板におけるレーザー光の照射位置に関わらず前記照射
位置におけるディスク基板の線速が一定になるように前
記相対移動に伴って前記回転速度を変化させ、前記光変
調手段の制御により前記レーザー光の平均照射強度を一
定にすることを特徴とし、前記光変調手段は、前段に入
射レーザー光を所定の設定値に安定化するレーザー光強
度安定化手段を有し、前記制御手段は、平均照射強度を
前記レーザー光強度安定化手段の設定値により制御する
ことを特徴とし、前記各手段の間の光路を光ファイバー
で接続したことを特徴とするものである。

【００１２】さらに、レーザー光を複数の光路に時間分
割して切り換え分配する光路分配手段を備え、該光路分
配手段により分配されたそれぞれの光路の出射レーザー
光を複数の光変調手段により変調し、複数の光学系を構
成したことを特徴とするものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ説明する。図１は本発明に係るテクスチュ
ア記録装置の実施の形態を示す図であり、１１は光源、
１２はレーザー光強度安定器、１３は制御装置、１４は
光変調器、１５は全反射鏡、１６は半透明鏡、１７は光
量検出器、１８は集光器、１９はディスク基板、２０は
基板回転機構、２１は基板移動機構を示す。

【００１４】図１において、光源１１は、例えば加工用
のレーザー光を発生するレーザー発振器からなるレーザ
ー光等の光源であり、バンプ作成用のレーザー光の場
合、紫外線から赤外線の単波長又は２波長以上が混合し
たものでもよいが、基板の熱吸収率等の関係とレーザー
光出力の関係から５００ｎｍの波長の赤外線を使用する
ことが多い。レーザー光強度安定器１２は、レーザー光
強度を予め決められた所定の設定値Ｌ_B に安定化するも
のであり、光変調器１４は、安定化されたレーザー光を
変調信号（印加電圧）Ｓで変調するものである。全反射
鏡１５は、光変調器１４で変調されたレーザー光の向き
を変え、集光器１８は、その出射レーザー光をディスク
基板１９の照射位置に集光するためのものであり、オー
トフォーカス機能を有するものを用いることにより、デ
ィスク基板の回転に伴って加工面にゆれがあっても集光
の安定性を高くすることができる。半透明鏡１６は、光
変調器１４で変調されたレーザー光の出射光量を検出す
るために光路を２つに分割するものであり、光量検出器
１７は、その分割した光路により光量を検出するもので
ある。ディスク基板１９は、レーザー光によりテクスチ
ャ加工を行い表面に微小突起（バンブ）を作る被加工材
であり、磁気ディスク基板あるいはそのスタンパーのマ
スター基板である。基板回転機構２０は、ディスク基板
１９を回転させ回転速度を検出するものであり、レーザ
ー光の照射強度が一定の場合には、記録位置（照射位
置）に応じて回転速度を変化させて線速度が一定になる
ように制御される。基板移動機構２１は、ディスク基板
１９を相対移動させ移動位置を検出するものである。

【００１５】制御装置８は、光量検出器１７により検出
される光変調器１４の出射レーザー光の光量、基板回転
機構２０により検出される回転速度、基板移動機構２１
により検出される移動位置を入力し、レーザー光強度安
定器１２の設定値Ｌ_B 、光変調器１４の変調信号Ｓ、基
板回転機構２０の回転速度、基板移動機構２１の移動位
置を制御するものである。光変調器１４の変調信号Ｓで
は、バンプの記録を開始するレーザー光の立ち上がり時
照射強度を大きくしてバンプの大きさ、深さ及びリムの
高さが一様になるように、レーザー光のオン／オフのタ
イミング、照射強度を制御する。

【００１６】図２は本発明に係るテクスチュア記録装置
によるレーザー光照射強度とバンプの形状、深さ及びリ
ムの高さの形成例を示す図、図３は従来のテクスチュア
記録装置によるレーザー光照射強度とバンプの形状、深
さ及びリムの高さの形成例を示す図である。

【００１７】本発明に係るテクスチュア記録装置では、
先に説明したようにバンプの記録を開始するレーザー光
の立ち上がり時照射強度を大きくするものであり、その
例を示したのが図２（Ａ）である。バンプの記録を開始
するレーザー光の立ち上がり時は、ディスク基板が冷え
ているため照射強度を特に大きくし、その後、図示のよ
うに漸減させることにより、図２（Ｂ）に示すようにバ
ンプの形状が一様になり、また、図２（Ｃ）に示すよう
にバンプの深さ及びリムの高さも一様になる。従来のテ
クスチュア記録装置では、図３（Ａ）に示すようにレー
ザー光を一定の照射強度にすると、バンプの記録開始位
置では光量が後方の位置に対して相対的に不足するた
め、図３（Ｂ）に示すようにバンプの形状が後方に広が
り、バンプの深さ及びリムの高さも前方が後方より不足
する。つまり、バンプの大きさ、深さ及びリムの高さが
一様に形成できない。

【００１８】ところで、ディスク基板１９を基板移動機
構２１により相対移動をさせながら基板回転機構２０に
より基板の回転速度を一定にしてレーザー光をディスク
基板１９に照射し記録を行うと、照射位置（記録位置）
により、つまり記録半径が大きくなれば基板照射部の線
速度は速くなり、外周になるに伴って記録レーザー光量
が不足する。その結果、外周のバンプは、内周のそれに
比べて浅く、リムの高さは低くなる。

【００１９】そこで、記録位置が変わっても基板移動機
構２１によるディスク基板１９の相対移動に合わせて線
速が一定になるように基板回転機構２０によるディスク
基板１９の回転速度を制御し（ＣＬＶ）、レーザー光の
照射強度が一定になるように制御して記録を行うか、基
板回転機構２０によるディスク基板１９の回転速度を一
定に制御し（ＣＡＶ）、線速度が変わってもその線速度
の変化に応じてレーザー光の照射強度が変化するように
制御して記録を行う。これらいずれかの記録モードを選
択することにより、安定したバンプの大きさ、深さ及び
リムの高さの記録を実現することができる。このような
所謂レーザー光の平均照射強度の制御は、光変調器１４
の変調信号Ｓで制御してもよいが、レーザー光強度安定
器１２の設定値Ｌ_B で制御してもよい。なお、ディスク
基板１９にバンプを作成する場合、記録範囲は、半径３
ｍｍ程度である。

【００２０】図４はレーザー光強度安定器や光変調器の
具体的な構成例を示す図、図５及び図６は変調信号とレ
ーザー光との関係を説明するための図であり、３１は光
変調素子、３２はビームスプリッターを示す。図４にお
いて、光変調素子３１は、入射レーザー光に対する出射
レーザー光の波面（偏光面）の角度θを印加される電圧
Ｓに応じて変える、例えば電気光学素子（ＥＯ素子）で
あり、ビームスプリッター３２は、入射レーザー光を波
面の角度θに応じて２つの光路に分配するものである。
この光変調素子３１とビームスプリッター３２とを組み
合わせることにより、レーザー光強度安定器や光変調器
を構成することができ、これらの関係は例えば次のよう
になっている。すなわち、光変調素子３１は、印加電圧
Ｓが０のとき図４（Ｂ）に示すように入射レーザー光ａ
に対し波面の角度θが０°のレーザー光ａ′として出射
し、印加電圧Ｓが所定値Ｖｆのとき図４（Ｃ）に示すよ
うに入射レーザー光ａに対し波面の角度θが９０°のレ
ーザー光ａ′として出射する。また、ビームスプリッタ
ー３２は、図４（Ｄ）に示すように入射レーザー光ａ′
のうち波面の角度θが０°の成分を光路ｂに分配し、波
面の角度θが９０°の成分を光路ｃに分配する。

【００２１】これらの関係から、図５に示すように光変
調素子３１の印加電圧ＳをＶｆのパルス信号として供給
すると、入射レーザー光をビームスプリッター３２の光
路ｂとｃとの間でスイッチングして切り換え配分するこ
とができる。つまり、印加電圧Ｓとしてパルス信号を光
変調素子３１に印加することにより、ビームスプリッタ
ー３２の光路ｂからパルス変調したレーザー光として取
り出す光変調器として構成することができ、さらに、光
変調素子３１の印加電圧ＳをＶｆの範囲内で所望の波形
で変化させることにより、ビームスプリッター３２の光
路ｂから所望の波形に変調した出射レーザー光を得るこ
とができる。

【００２２】また、光変調素子３１の印加電圧Ｓを０と
Ｖｆの中間で変化させると、図４（Ｄ）に示すように入
射レーザー光ａ′を光路ｂとｃにその変化に対応した割
合で比率配分することができる。したがって、その変化
に対応して光路ｂのレーザー光の出射強度が変化するの
で、所望の設定値Ｌ_B を印加電圧Ｓとして光変調素子３
１に印加することにより、ビームスプリッター３２の光
路ｂから強度調整されたレーザー光として取り出すレー
ザー光強度安定器として構成することができる。

【００２３】さらに、光変調素子３１とビームスプリッ
ター３２との組み合わせにより、入射レーザー光をビー
ムスプリッター３２の光路ｂとｃに時間分割して切り換
え分配するように光変調素子３１の印加電圧Ｓを制御し
たり、一定の比率でビームスプリッター３２の光路ｂと
ｃに入射レーザー光を配分するように光変調素子３１の
印加電圧Ｓを制御して、それぞれのビームスプリッター
３２の光路ｂとｃの出射レーザー光を取り出して使うよ
うにすることにより、光路分配器として使用することが
できる。しかも、図４（Ａ）に示す光変調素子３１とビ
ームスプリッター３２からなる構成を光路分配器として
複数個使い、ビームスプリッターの２つの光路に順次縦
続接続することにより、レーザー光の多分配装置が実現
でき、例えば初段の光路分配器で時間分割して切り換え
分配することにより、一方の光路から図６ａに示すよう
なレーザー光を取り出し、それを図６Ｓ〜に示すよ
うな任意の波形の変調信号で変調することにより、さら
に図６ｂに示すように強度変調することができる。図６
Ｓは積分波を使い、図６は三角波（鋸状波）を使
い、図６は台形波を使い、図６は矩形波を位相遅れ
で使った例を示したものである。

【００２４】図７は光路分配器と光変調器とを組み合わ
せた１つの入射レーザー光により並行して２系統でテク
スチュア記録を行えるようにしたテクスチュア記録装置
の構成例を示す図、図８は図７に示すテクスチュア記録
装置の動作を説明するための図、図９はレーザー光の多
分配を可能にしたさらに他の実施の形態を示す図であ
り、４１、６１〜６３は光変調素子、４２は制御装置、
４３、６４〜６６はビームスプリッター、４４、４６は
半透明鏡、４５、４７は光量検出器、４８、５２は光変
調器、５１は全反射鏡を示す。

【００２５】図７において、光変調素子４１とビームス
プリッター４３は、入射レーザー光ａを光路ｂとｃに分
配する光路分配器を構成するものであり、光変調器４
８、５２は、光路分配器で分配されたそれぞれの光路の
レーザー光をバンプの記録を開始するレーザー光の立ち
上がり照射強度を大きくしてバンプの大きさ、深さ及び
リムの高さが一様になるように前記光変調手段による変
調するものである。なお、半透明鏡４４、４６は、光路
分配器で分配された各光路の出射レーザー光の光量を検
出するために光路を２つに分割するものであり、光量検
出器１７は、その分割した光路により光量を検出するも
のであるが、これらは必要に応じて設けられるものであ
る。したがって、省いてもいずれか一方のみにしてもよ
いし、光変調器４８、５２の後方に設けて、これらの出
射レーザー光の光量を検出するようにしてもよい。全反
射鏡５１は、光路ｂの向きを変えるためのものである。
制御装置４２は、光量検出器１７の検出信号を入力して
光変調素子４１、光変調器４８、５２の変調信号を制御
するものであるが、さらに図示しないレーザー光強度安
定器や基板回転機構、基板移動機構も制御する。

【００２６】上記の構成により、図８に示すように変調
信号Ｓ１により入射レーザー光ａを光路ｂ、ｃに時間分
割して切り換え分配し、分配したそれぞれの光路ｂ、ｃ
で光変調器４８、５２の変調信号Ｓ２、Ｓ３を制御する
ことにより図８に示すような波形の出射強度を持つレー
ザー光ｂ′、ｃ′を取り出すことができる。

【００２７】さらに、光変調素子とビームスプリッター
からなる構成を光路分配器として複数個使い、ビームス
プリッターの２つの光路に順次縦続接続することによ
り、レーザー光多分配の装置が実現した構成例を示した
のが図９であり、次のような複数のモードに対応でき
る。

【００２８】まず、第１の制御モードとして、光変調素
子６１〜６３とビームスプリッター６４〜６６で光路
〜にレーザー光を比率分配するように光変調素子６１
〜６３の印加電圧を制御し、それぞれの光路〜で図
１に示した光変調素子１４とビームスプリッター１５と
同じ構成で切り換え分配する。

【００２９】第２の制御モードとして、光変調素子６１
〜６３とビームスプリッター６４〜６６で光路〜に
レーザー光を切り換え分配するように光変調素子６１〜
６３の印加電圧を制御する。さらに、それぞれの光路
〜で図１に示した光変調素子１４とビームスプリッタ
ー１５と同じ構成で切り換え分配してもよい。

【００３０】第３の制御モードとして、光変調素子６１
とビームスプリッター６４で比率分配して、光変調素子
６２、６３とビームスプリッター６５、６６で切り換え
分配するように光変調素子６１〜６３の印加電圧を制御
する。この場合には、光路で図１に示した光変調素子
１４とビームスプリッター１５と同じ構成で切り換え分
配することが必要となる。

【００３１】本発明に係るテクスチュア記録装置では、
大出力のレーザー光発振器を用いるため、通常水冷や強
制空冷により冷却を行う。このような発振器を装置に内
蔵すると、冷却の振動が装置に伝わり光軸がその振動で
ずれたり、水冷の場合には、接触部の緩みや水圧の上昇
による漏水で装置に損傷を与えるという問題が発生す
２。また、光源からレーザー光強度安定器、光路分配
器、ビームスプリッター、半透明鏡、全反射鏡、集光器
等を経て、被加工材であるディスク基板にレーザー光を
照射するため、それぞれの光路での光軸合わせが重要に
なる。しかも、多大な手間をかけて光軸を合わせたとし
ても、稼働中に経時的あるいは光学部品の交換により光
軸がずれたり、衝撃で光軸がずれたりすると、その調整
にさらに手間を要し、光軸調整、メンテナンスに多大な
負担が要求される。そのため、本発明に係るテクスチュ
ア記録装置では、光学部品との間を光導波路、つまり光
ファイバーで接続する。このことにより、光軸の調整が
容易になり、さらに光路の雰囲気の影響を受けない光学
装置を提供することができる。

【００３２】なお、本発明は、上記実施の形態で限定さ
れるものではなく、種々の変形が可能である。例えば上
記実施の形態では、印加電圧を制御して入射レーザー光
に対し出射レーザー光の波面の角度を変えて変調する光
変調素子、例えば電気光学素子（ＥＯ素子）とレーザー
光の波面の角度に応じて２つの光路に分配するビームス
プリッターを組み合わせて構成した光変調器及びレーザ
ー光強度安定器の例を示したが、電気光学素子（ＥＯ素
子）に代えて音響光学素子（ＡＯ素子）その他の光学素
子を用いてもよいし、光変調器やレーザー光強度安定器
は、一般に使用されている他の構成のものを採用しても
よい。また、光源のレーザー光は連続光として説明した
が、パルス光源を用いてもよい。パルス光源の場合、波
高値の変動が無視できずバンプの不均一が生じやすい
が、このバンプの不均一をなくすのに、本発明のような
パルス光源とレーザー光強度安定器とを組み合わせた構
成はきわめて有効である。

【００３３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、バンプの記録を開始するレーザー光の立ち上
がり照射強度を大きくしてバンプの大きさ、深さ及びリ
ムの高さが一様になるように前記光変調手段による変調
を制御するので、作成されるバンプの不均一をなくして
良好なＣＳＳ特性が得られる。しかも、光路分配器や光
ファイバーを用いることにより、光量損失がなく光軸調
整が容易になり、さらに再現性、均一性を高め、生産性
を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係るテクスチュア記録装置の実施の
形態を示す図である。

【図２】 本発明に係るテクスチュア記録装置によるレ
ーザー光照射強度とバンプの形状、深さ及びリムの高さ
の形成例を示す図である。

【図３】 従来のテクスチュア記録装置によるレーザー
光照射強度とバンプの形状、深さ及びリムの高さの形成
例を示す図である。

【図４】 レーザー光強度安定器や光変調器の具体的な
構成例を示す図である。

【図５】 変調信号とレーザー光との関係を説明するた
めの図である。

【図６】 変調信号とレーザー光との関係を説明するた
めの図である。

【図７】 光路分配器と光変調器とを組み合わせた１つ
の入射レーザー光により並行して２系統でテクスチュア
記録を行えるようにしたテクスチュア記録装置の構成例
を示す図である。

【図８】 図７に示すテクスチュア記録装置の動作を説
明するための図である。

【図９】 レーザー光の多分配を可能にしたさらに他の
実施の形態を示す図である。

【図１０】 レーザー光を利用して磁気ディスクを加工
し微小突起を作る従来のテクスチュア記録装置の構成例
を示す図である。

【符号の説明】

１１…光源、１２…レーザー光強度安定器、１３…制御
装置、１４…光変調器、１５…全反射鏡、１６…半透明
鏡、１７…光量検出器、１８…集光器、１９…ディスク
基板、２０…基板回転機構、２１…基板移動機構

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ディスク基板の表面にレーザー光を照射
   してバンプを作成するテクスチュア記録装置において、
   レーザー光を変調する光変調手段と、該光変調手段によ
   り変調したレーザー光をディスク基板に照射するレーザ
   ー光照射手段と、ディスク基板を回転させ回転速度の検
   出を行う基板回転機構と、前記レーザー光照射手段によ
   り照射するレーザー光の位置に対しディスク基板を相対
   移動させ移動位置の検出を行う基板移動機構と、前記基
   板回転機構による回転速度の検出に基づき回転速度の制
   御を行うと共に前記基板移動機構による移動位置の検出
   に基づき移動位置の制御を行って前記光変調手段による
   レーザー光の変調を制御する制御手段とを備え、前記制
   御手段は、バンプの記録を開始するレーザー光の立ち上
   がり照射強度を大きくしてバンプの大きさ、深さ及びリ
   ムの高さが一様になるように前記光変調手段による変調
   を制御することを特徴とするテクスチュア記録装置。
2. 【請求項２】 前記制御手段は、前記回転機構の制御に
   より前記回転速度を一定にし、前記ディスク基板におけ
   るレーザー光の照射位置の線速に応じて前記光変調手段
   の制御により前記レーザー光の平均照射強度を変化させ
   ることを特徴とする請求項１記載のテクスチュア記録装
   置。
3. 【請求項３】 前記制御手段は、前記回転機構の制御に
   より前記ディスク基板におけるレーザー光の照射位置に
   関わらず前記照射位置におけるディスク基板の線速が一
   定になるように前記相対移動に伴って前記回転速度を変
   化させ、前記光変調手段の制御により前記レーザー光の
   平均照射強度を一定にすることを特徴とする請求項１記
   載のテクスチュア記録装置。
4. 【請求項４】 前記光変調手段は、前段に入射レーザー
   光を所定の設定値に安定化するレーザー光強度安定化手
   段を有し、前記制御手段は、平均照射強度を前記レーザ
   ー光強度安定化手段の設定値により制御することを特徴
   とする請求項２又は３記載のテクスチュア記録装置。
5. 【請求項５】 前記各手段の間の光路を光ファイバーで
   接続したことを特徴とする請求項１記載のテクスチュア
   記録装置。
6. 【請求項６】 ディスク基板の表面にレーザー光を照射
   してバンプを作成するテクスチュア記録装置において、
   レーザー光を複数の光路に時間分割して切り換え分配す
   る光路分配手段と、該光路分配手段により分配されたそ
   れぞれの光路の出射レーザー光を変調する複数の光変調
   手段と、該光変調手段により変調したレーザー光をディ
   スク基板に照射する複数のレーザー光照射手段と、ディ
   スク基板を回転させ回転速度の検出を行う複数の基板回
   転機構と、前記レーザー光照射手段により照射するレー
   ザー光の位置に対しディスク基板を相対移動させ移動位
   置の検出を行う複数の基板移動機構と、前記光路分配手
   段によるレーザー光の分配制御、前記光変調手段による
   レーザー光の変調制御、前記基板回転機構による回転速
   度の検出に基づき回転速度の制御、及び前記基板移動機
   構による移動位置の検出に基づき移動位置の制御を行う
   制御手段とを備え、前記制御手段は、バンプの記録を開
   始するレーザー光の立ち上がり照射強度を大きくしてバ
   ンプの大きさ、深さ及びリムの高さが一様になるように
   前記光変調手段による変調を制御することを特徴とする
   テクスチュア記録装置。
7. 【請求項７】 前記光路分配器の前段に入射レーザー光
   を所定の設定値に安定化するレーザー光強度安定化手段
   を有し、前記制御手段は、平均照射強度を前記レーザー
   光強度安定化手段の設定値により制御することを特徴と
   する請求項６記載のテクスチュア記録装置。
8. 【請求項８】 前記各手段の間の光路を光ファイバーで
   接続したことを特徴とする請求項６記載のテクスチュア
   記録装置。