JPH11145097A - 処理槽及びそれを備えた基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理槽内で行う基板に対する処理を均一に行
う。 【解決手段】 処理槽１０には、先端部４が閉塞され、
基端部３側から導入される処理液を、側面に並設された
多数の処理液噴出孔２から処理槽１０内に噴出させる処
理液注入管１が取り付けられている。この処理液注入管
１の各処理液噴出孔２に、管内壁から管外側に向かって
孔径が徐々に小さくなるスロープ部６を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、先端部が閉塞さ
れ、基端部側から導入される処理液を、側面に並設され
た多数の処理液噴出孔から槽内に噴出させる処理液注入
管を有し、基板を処理液に浸漬させて処理するための処
理槽及びその処理槽を備えた基板処理装置に係り、特に
は、処理槽に取り付ける処理液注入管の改良技術に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】この種の処理槽は、処理槽内に処理液の
流れを形成するために、図１１に示すように、先端部１
００が閉塞され、基端部１０１側から導入される処理液
を、側面に並設された多数の処理液噴出孔１０２から処
理槽１１０内に噴出させる処理液注入管１０３が底部付
近に取り付けらている。この処理液注入管１０３は、従
来、図１１に示すように、基端部１０１から先端部１０
０に至る管全体の内径が均一に形成された管の側面に円
筒状の多数の処理液噴出孔１０２が予め決められた位置
に穿設されて製作されている。各処理液噴出孔１０２
は、従来、管の外壁側からドリルなどを用いて穿設され
ている。また、処理液注入管１０３の基端部１０１への
処理液の供給は処理液供給管１２０を介して処理液供給
部１３０から行われる。

【０００３】そして、処理槽１１０内に複数枚の基板Ｗ
が配列されて支持され、処理液注入管１０３の各処理液
噴出孔１０２から噴出される処理液によって、処理槽１
１０内全体に形成される処理液の上昇流の中に各基板Ｗ
が浸漬されてこれら基板Ｗに所定の処理が行われる。

【０００４】例えば、エッチング処理は、処理液注入管
１０３の各処理液噴出孔１０２から噴出された純水によ
り処理槽１１０内に純水が満たされた中に複数枚の基板
Ｗが浸漬された状態で、処理液注入管１０３の各処理液
噴出孔１０２からエッチング作用があるフッ酸などの薬
液を噴出させて、処理槽１１０内の処理液を純水から薬
液に置換することで行われる。

【０００５】このように処理液注入管１０３の各処理液
噴出孔１０２から処理槽１１０内に全体的に薬液を噴出
して、処理槽１１０内全体に薬液の流れを形成すること
で、処理槽１１０内全体の処理液の置換を効率よく行う
ことができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来使
用されていた処理液注入管１０３は、図１２に示すよう
に、各処理液噴出孔１０２から噴出される処理液の水頭
長ｗｌの差が大きく、また、各処理液噴出孔１０２から
処理槽１１０内に噴出される処理液の噴出方向にバラツ
キがあるという欠点があった。なお、図中のラインｗｌ
ｔは、先端部１００に最も近い処理液噴出孔１０２から
噴出される処理液の水頭長を示すラインである。

【０００７】そのため、従来の処理槽１１０で、例え
ば、エッチング処理を行うと、各処理液噴出孔１０２か
ら噴出される処理液の水頭長ｗｌの差と、各処理液噴出
孔１０２から処理槽１１０内に噴出される処理液の噴出
方向のバラツキとによって、処理槽１１０内の純水から
薬液への置換が均一に行えず、各基板Ｗごとのエッチン
グ量に差が生じるなど、各基板Ｗに対する処理にバラツ
キが生じて複数枚の基板Ｗを均一に処理することができ
なかった。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、処理槽内で行う基板に対する処理を均
一に行うことができる処理槽及びそれを備えた基板処理
装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、従来使用さ
れていた処理液注入管１０３の欠点の発生原因について
調査、研究した。

【００１０】その結果、従来使用されていた処理液注入
管１０３において、各処理液噴出孔１０２から噴出され
る処理液の水頭長ｗｌに差が生じる原因は、処理液噴出
孔１０２からの処理液の噴出圧力が、各処理液噴出孔１
０２ごとにバラツキがあることに起因するという結論に
達した。すなわち、処理液注入管１０３の基端部１０１
側から先端部１００側に近づくに従って、処理液噴出孔
１０２からの処理液の噴出圧力が高くなっていくので、
図１２に示すように、処理液注入管１０３の基端部１０
１側の処理液噴出孔１０２から先端部１００側の処理液
噴出孔１０２に近づくに従って、噴出される処理液の水
頭長ｗｌが序々に大きくなるように水頭長ｗｌに差が生
じるものである。

【００１１】また、各処理液噴出孔１０２から処理槽１
１０内に噴出される処理液の噴出方向にバラツキが生じ
るのは、次のような原因によるものと考えられる。

【００１２】すなわち、処理液注入管１０３の管内壁１
０４側の処理液噴出孔１０２の噴出孔入口１０５に流れ
込む処理液の方向は一定していない。一方で、従来品の
ように単なる円筒状の処理液噴出孔１０２の場合、処理
液噴出孔１０２の噴出孔入口１０５に流れ込む処理液の
種々の方向の流れが整流されることがなく、そのまま、
処理液注入管１０３の管外壁１０６側の処理液噴出孔１
０２の噴出孔出口１０７から処理液が噴出されることに
なる。従って、処理液噴出孔１０２の噴出孔出口１０７
から処理槽１１０内に噴出される処理液の噴出方向が、
処理液噴出孔１０２の噴出孔入口１０５に流れ込む処理
液の種々の方向の流れの影響をそのまま受けて、各処理
液噴出孔１０２から処理槽１１０内に噴出される処理液
の噴出方向にバラツキが生じるものと考えられる。

【００１３】以上の調査、研究結果を基に、本発明者は
従来品の欠点を解消し得る以下のような発明をなすに至
った。

【００１４】すなわち、請求項１に記載の発明に係る処
理槽は、先端部が閉塞され、基端部側から導入される処
理液を、側面に並設された多数の処理液噴出孔から槽内
に噴出させる処理液注入管を有し、基板を処理液に浸漬
させる処理槽において、前記処理液注入管は、前記各処
理液噴出孔に、管内壁から管外側に向かって孔径が徐々
に小さくなるスロープ部を備えたことを特徴とするもの
である。

【００１５】請求項２に記載の発明に係る処理槽は、上
記請求項１に記載の処理槽において、前記処理液注入管
を内管とし、その外周に、前記処理槽内に処理液を最終
的に噴出する多数の第２の処理液噴出孔が側面に並設さ
れた処理液注入外管を配設し、外側の処理液注入外管の
第２の処理液噴出孔からの処理液の噴出方向に対して、
内側の処理液注入管の処理液噴出孔からの処理液の噴出
方向がずらされていることを特徴とするものである。

【００１６】請求項３に記載の発明に係る基板処理装置
は、上記請求項１または２に記載の処理槽を備えたこと
を特徴とするものである。

【００１７】

【作用】請求項１に記載の発明によれば、処理液注入管
の各処理液噴出孔に、管内壁から管外側に向かって孔径
が徐々に小さくなるスロープ部を備えたので、管外壁側
の処理液噴出孔の噴出孔出口の口径に比べて、管内壁側
の処理液噴出孔の噴出孔入口の口径が大きくなり、処理
液が噴出孔入口に流れ込み易くなり、各処理液噴出孔で
の処理液の噴出圧力差が抑制され、各処理液噴出孔から
の処理液の水頭長の差が従来品に比べて抑制されること
になる。

【００１８】また、処理液噴出孔の噴出孔入口に流れ込
む処理液の種々の方向の流れは、スロープ部の内周壁に
ぶつかり、処理液噴出孔の中心軸線方向以外の流れは互
いに干渉し、相殺される結果、最終的に処理液の噴出方
向が処理液噴出孔の中心軸線方向に収束され、各処理液
噴出孔から処理槽内に噴出される処理液の噴出方向のバ
ラツキが抑制されることになる。

【００１９】請求項２に記載の発明によれば、処理液注
入管を内管とし、その外周に、処理槽内に処理液を最終
的に噴出する多数の第２の処理液噴出孔が側面に並設さ
れた処理液注入外管を配設し、外側の処理液注入外管の
第２の処理液噴出孔からの処理液の噴出方向に対して、
内側の処理液注入管の処理液噴出孔からの処理液の噴出
方向がずらされているので、内側の処理液注入管の処理
液噴出孔から噴出された処理液は、外側の処理液注入外
管の内壁面にぶつかって流速（圧力）が減ぜられた後、
流れが二分され、それぞれの流れが、内側の処理液注入
管の外壁面と外側の処理液注入外管の内壁面と間の空間
を別方向から回り込み、第２の処理液噴出孔で各流れが
合流して、第２の処理液噴出孔から処理槽内に噴出され
ることになる。従って、処理液の流れは、内側の処理液
注入管の処理液噴出孔より噴出されてから外側の処理液
注入外管の第２の処理液噴出孔より処理槽内に噴出され
るまでの間にさらに整流され、処理槽内に噴出される処
理液の噴出方向のバラツキを一層抑制することができ
る。

【００２０】請求項３に記載の発明によれば、装置に備
えられた請求項１または２に記載の発明に係る処理槽
で、基板を処理液に浸漬させて処理する。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１（ａ）は本発明の第１実施形
態に係る処理槽の構成を示す縦断面図であり、図１
（ｂ）はその平面図、図２（ａ）はその横断面図、図２
（ｂ）は処理液噴出孔を処理液注入管の内壁面から見た
図である。

【００２２】図に示す処理槽１０は、略箱型の形状を有
し、その底面１０ａが正面視でＶ字型となるように中央
部を下方に窪ませて形成されている。処理槽１０の側面
１０ｂの上部には、処理槽１０の上部から溢れた処理液
を回収する回収部１１が設けられている。この回収部１
１には、排液管１２が接続されていて、回収部１１で回
収した処理液を排液ドレイン１３に流すように構成され
ている。また、処理槽１０の底面１０ａには、排液口１
４が設けられている。この排液口１４は、開閉弁１５が
介装された配管１６を介して排液管１２に接続され、開
閉弁１５を開に切り換えることで、処理槽１０内の処理
液を底部から排液ドレイン１３に排出することができる
ようになっている。

【００２３】この処理槽１０内には、複数枚の基板Ｗを
所定の間隔を開けて整列させて支持する支持部材１７が
設けられている。この支持部材１７は図示しない昇降機
構により昇降自在に構成されている。

【００２４】そして、この処理槽１０には、２本の処理
液注入管１が処理槽１０の底面１０ａと側面１０ｂとを
連結するように取り付けられている。各処理液注入管１
はそれぞれ、各処理液噴出孔２を処理槽１０内に臨ま
せ、かつ、各処理液噴出孔２からの処理液の噴出方向が
水平面よりやや下方を向くように配設されている。この
処理液注入管１の詳細構成は後述する。

【００２５】各処理液注入管１の基端部３には、先端部
が二股に分かれた処理液供給管２０が接続され、この処
理液供給管２０を介して、各処理液注入管１に、処理液
供給部２１から処理液が供給されるようになっている。

【００２６】処理槽１０での処理が単一の処理液を用い
たもの（例えば、純水のみによる純水洗浄処理や、単一
の薬液を用いた薬液洗浄処理など）である場合には、処
理液供給部２１は単一の処理液を供給するように構成さ
れる。また、処理槽１０での処理が複数の処理液を用い
たものである（例えば、純水による純水洗浄処理と薬液
による薬液洗浄処理とを行う）場合には、処理液供給部
２１は複数の処理液を選択的に供給できるように構成さ
れる。

【００２７】処理槽１０（底面１０ａ、側面１０ｂ、回
収部１１など）や、処理液注入管１は、例えば、石英
や、ＰＶＣ（塩化ビニル樹脂）、ＰＥＥＫ（ポリエーテ
ルエーテルケトン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエ
チレン）、ＰＶＤＦ（ポリビニリデンフルオライド）な
どの材料で構成される。

【００２８】次に、本発明の要部である処理液注入管１
の構成を図１ないし図４を参照して説明する。図３は処
理液注入管の拡大横断面図であり、図４（ａ）は処理液
噴出孔部分の拡大縦断面図、図４（ｂ）は処理液噴出孔
部分の拡大横断面図である。

【００２９】この処理液注入管１は、先端部４が閉塞さ
れ、基端部３側から導入される処理液を、側面に並設さ
れた多数の処理液噴出孔２から処理槽１０内に噴出させ
るものである。そして、各処理液噴出孔２に、管内壁５
から管外側に向かって孔径が徐々に小さくなるテーパー
状のスロープ部６を備えている。また、そのスロープ部
６に連なるように、管外壁７に向かって円筒状の（孔径
が同じ）ストレート部８が形成されている。

【００３０】このように構成したことにより、管外壁７
側の処理液噴出孔２の噴出孔出口２ａの口径ｒｏに比べ
て、管内壁５側の処理液噴出孔２の噴出孔入口２ｂの口
径ｒｉが大きくなり、処理液が噴出孔入口２ｂに流れ込
み易くなり、各処理液噴出孔２での処理液の噴出圧力差
が抑制される。その結果、図３に示すように、各処理液
噴出孔２からの処理液の水頭長ｗｌの差が、従来の処理
液注入管１０３（図１２参照）に比べて抑制されること
になる。

【００３１】また、図４に示すように、処理液噴出孔２
の噴出孔入口２ｂに流れ込む処理液の種々の方向の流れ
（矢印で示している）は、スロープ部６の内周壁にぶつ
かり、処理液噴出孔２の中心軸線ｈｊ方向以外の流れは
互いに干渉し、相殺される結果、最終的に処理液の噴出
方向ＦＨが処理液噴出孔２の中心軸線ｈｊ方向に収束さ
れ、図３に示すように各処理液噴出孔２から処理槽１０
内に噴出される処理液の噴出方向のバラツキが抑制され
ることになる。

【００３２】なお、噴出孔出口２ａの口径ｒｏに比べて
噴出孔入口２ｂの口径ｒｉが大きければ、水頭長ｗｌの
差を抑制することが可能であるので、例えば、図５
（ａ）、（ｂ）に示すように、スロープ部６の軸芯ｓｌ
ｊとストレート部８の軸芯ｓｔｊとがずれていたり、図
５（ｃ）、（ｄ）に示すように、スロープ部６の内周壁
の傾斜角度が上下（左右）方向に対称でないような場合
などでも、水頭長ｗｌの差を抑制できる。しかしなが
ら、上記図５（ａ）〜（ｄ）の各場合には、噴出孔入口
２ｂに流れ込む処理液の種々の方向の流れが、スロープ
部６の内周壁にぶつかって方向を変えられても、その方
向にバラツキが生じて処理液の種々の方向の流れが相殺
されずに、処理液の噴出方向が処理液噴出孔２の中心軸
線方向からずれる可能性もあり、各処理液噴出孔２から
処理槽１０内に噴出される処理液の噴出方向のバラツキ
が十分に抑制されないことも考えられる。従って、スロ
ープ部６とストレート部８とは同芯軸となるように構成
するとともに、スロープ部６の内周壁を上下（左右）方
向に対称になるように構成することが好ましい。なお、
スロープ部６の内周壁を上下（左右）方向に対称にする
には、スロープ部６が円錐状であることに限らず、例え
ば、図５（ｅ）、（ｆ）に示すように、スロープ６は、
処理液注入管１の内壁面から見て楕円形となるように構
成してもよい。図５（ａ）、（ｃ）は処理液噴出孔の部
分の断面図、図５（ｂ）、（ｄ）、（ｅ）は処理液噴出
孔を処理液注入管の内壁面から見た図、図５（ｆ）は処
理液噴出孔全体形状を立体的に描いた図である。

【００３３】上述したように、処理槽１０に取り付けら
れた各処理液注入管１は、各処理液噴出孔２から噴出さ
れる処理液の水頭長ｗｌの差が抑制されているととも
に、各処理液噴出孔２から処理槽１０内に噴出される処
理液の噴出方向のバラツキが抑制されているので、各処
理液注入管１の各処理液噴出孔２から処理槽１０内への
処理液の噴出を、従来装置よりも均一な条件で行うこと
ができ、複数枚の各基板Ｗに対する処理を均一に行うこ
とができる。

【００３４】例えば、上記実施形態に係る処理槽１０に
おいて、処理液注入管１の各処理液噴出孔２から噴出さ
れた純水により処理槽１０内に純水が満たされた中に複
数枚の基板Ｗが支持部材１７に支持されて浸漬された状
態で、処理液注入管１の各処理液噴出孔２からフッ酸な
どの薬液が噴出させて、処理槽１０内の処理液を純水か
ら薬液に置換してエッチング処理を行う場合、各処理液
注入管１の各処理液噴出孔２から噴出される薬液の水頭
長ｗｌや薬液の噴出方向の均一化が図られているので、
処理槽１０内での純水から薬液への置換の進行が均一に
行われ、各基板Ｗごとのエッチング量に差が生じること
になく、各基板Ｗに対する処理を均一に行うことができ
る。

【００３５】また、上記実施形態に係る処理槽１０によ
れば、処理液注入管１の各処理液噴出孔２から噴出され
た所定の処理液により処理槽１０内にその処理液が満た
された中に複数枚の基板Ｗが支持部材１７に支持されて
浸漬された状態で、処理液注入管１の各処理液噴出孔２
から処理槽１０内の処理液と同じ処理液を噴出させ続け
て行うような、単一の処理液による処理の場合にも、各
処理液注入管１の各処理液噴出孔２から噴出される薬液
の水頭長ｗｌや処理液の噴出方向の均一化が図られてい
るので、各基板Ｗは同じ処理条件で処理され、各基板Ｗ
の処理を均一に行うことができる。

【００３６】なお、上記実施形態では、スロープ部６を
テーパー状（断面で見て孔径が直線状に変化する形状）
に形成しているが、図６（ａ）に示すように、Ｒ形状
に、すなわち、断面で見て孔径が曲線状に変化するよう
に形成しても上記実施形態の処理液注入管１と同様の効
果を得ることができる。また、上記実施形態では、各処
理液噴出孔２をスロープ部６とストレート部８とを備え
て構成しているが、図６（ｂ）、（ｃ）に示すように、
各処理液噴出孔２をスロープ部６のみで構成しても上記
実施形態の処理液注入管１と同様の効果を得ることがで
きる。なお、図６（ｂ）、（ｃ）に示すように各処理液
噴出孔２を加工すると、加工後の各処理液噴出孔２の噴
出孔出口２ａの口径ｒｏや形成位置が予め決められた口
径や形成位置に対してズレ易くなる。すなわち、各処理
液噴出孔２をスロープ部６のみで構成する場合、加工後
の各処理液噴出孔２の噴出孔出口２ａの口径ｒｏを予め
決められた口径に形成し、噴出孔出口２ａの形成位置を
予め決められた形成位置に形成するのには加工上困難性
を伴うことになる。これに対して各処理液噴出孔２にス
ロープ部６とストレート部８とを備えて構成する場合、
スロープ部６を加工した後、ストレート部８を加工する
ときに、加工後の各処理液噴出孔２の噴出孔出口２ａの
口径ｒｏや形成位置を調整して加工することができるの
で、加工の上からは、各処理液噴出孔２にスロープ部６
とストレート部８とを備えて構成する方が好ましい。

【００３７】なお、処理液注入管１は、円管に限らず、
図７（ａ）、（ｂ）などに示すように、断面形状が矩形
や三角形など多角形の角管であってもよく、また、図７
（ｃ）、（ｄ）に示すように、断面形状で円弧部と直線
部とを有するＤ字形状の管であってもよい。

【００３８】図６、図７の変形例については、後述する
実施形態でも同様に変形実施可能である。

【００３９】次に、スロープ部６を備えた処理液噴出孔
２を有する処理液注入管１の製造方法を図７（ｃ）の形
状の処理液注入管１を製造する場合を例に採り、図８を
参照して説明する。

【００４０】従来の処理液注入管１０３のように各処理
液噴出孔１０２が円筒状であれば、管外壁１０６から処
理液噴出孔１０２を穿設することが可能である。しかし
ながら、管内壁５側にスロープ部６を備えた処理液噴出
孔２を管外壁７から穿設することは不可能である。

【００４１】そこで、まず、図８（ａ）に示す切断線Ｃ
Ｌで円管１’の軸線方向（図の紙面に垂直な方向）に沿
って円管１’を切断して、図８（ｂ）に示すように管断
片１ａと１ｂとに分離して、管内壁５側から加工が行え
るようにする。そして、大きい方の管断片１ａにスロー
プ部６を備えた各処理液噴出孔２を形成する。各処理液
噴出孔２をレーザー加工で形成する場合は、図８（ｃ）
に示すように、レーザー光ＬＢを円錐状に変位させてス
ロープ部６を形成し、次に、図８（ｄ）に示すように、
レーザー光ＬＢを円形に変位させてストレート部８を形
成して処理液噴出孔２を形成する。また、各処理液噴出
孔２をドリルで形成する場合は、図８（ｅ）に示すよう
な円錐状のドリル部分３１と円柱状のドリル部分３２と
を備えたドリル３３を用いて、図８（ｆ）に示すように
処理液噴出孔２を穿設する。なお、図６（ａ）に示すよ
うに、スロープ部６をＲ形状に構成する場合には、図８
（ｅ）、（ｆ）のドリル３３の円錐状のドリル部分３１
の形状を、球状、楕円球状、紡錘状などに構成したドリ
ルを用いればよい。その他、超音波加工などで処理液噴
出孔２を形成してもよい。管断片１ａにスロープ部６を
備えた処理液噴出孔２を全て形成し終わると、図８
（ｇ）に示すように、その管断片１ａの開口を塞ぐよう
に、別途用意しておいた板状の部材１ｃを溶接などによ
り接合して図７（ｃ）に示す形状の処理液注入管１を得
る。

【００４２】図７（ｄ）に示す形状の処理液注入管１
は、板状の部材１ｃ側に各処理液噴出孔２を形成したも
のである。

【００４３】また、図８（ａ）、（ｂ）において切断し
た際の残りの管断片１ｂを、各処理液噴出孔２を形成し
た管断片１ａに接合すれば、円管状の処理液注入管１を
得ることができる。

【００４４】図７（ａ）、（ｂ）に示す形状の処理液注
入管１も同様に、角管を切断して得られた管断片に各処
理液噴出孔２を形成し、その後、各処理液噴出孔２を形
成した管断片の開口を塞いで角管にすればよい。

【００４５】次に、本発明の第２実施形態の構成を図９
を参照して説明する。図９（ａ）は本発明の第２実施形
態に係る処理槽の底部付近の構成を示す縦断面図であ
り、図９（ｂ）は処理液注入管及び処理液注入外管の構
成を示す横断面図、図９（ｃ）は処理液注入管及び処理
液注入外管の構成を示す拡大縦断面図である。

【００４６】この実施形態は、上記第１実施形態で説明
した構造の処理液注入管１を内管とし、その外周に処理
液注入外管４０を配設して２重管構造に構成している。
各処理液注入外管４０は、両端部が閉塞されており、そ
の側面に、処理液注入管１の処理液噴出孔２と同数の第
２の処理液噴出孔４１が、処理液注入管１の各処理液噴
出孔２の間隔と同じ間隔で形成されている。各第２の処
理液噴出孔４１は円筒状に形成されている。各処理液注
入外管４０はそれぞれ、各第２の処理液噴出孔４１を処
理槽１０内に臨ませ、かつ、各第２の処理液噴出孔４１
からの処理液の噴出方向を水平面よりやや下方を向くよ
うに配設されている。各処理液注入管１と各処理液注入
外管４０とは同芯状に配設され、各処理液噴出孔２から
の処理液の噴出方向と、各第２の処理液噴出孔４１から
の処理液の噴出方向とは、互いに略反対方向となるよう
にずらされている。また、各処理液噴出孔２と各第２の
処理液噴出孔４１との軸方向の位置にズレがないよう
に、すなわち、軸線ＣＪに直交する軸ＶＪ上に各処理液
噴出孔２と各第２の処理液噴出孔４１とが配置されるよ
うに構成され、処理液注入外管４０の第２の処理液噴出
孔４１の孔径は、処理液注入管１の各処理液噴出孔２の
処理液の噴出孔出口２ａの口径よりも大きく形成されて
いる。処理液注入外管４０は、処理液注入管１と同様の
材料で構成される。その他の構成は上記第１実施形態と
同様の構成を有するので、共通する部分は図１ないし図
４と同一符号を付してその詳述を省略する。

【００４７】この処理槽１０によれば、図９（ｃ）に示
すように、内側の処理液注入管１の処理液噴出孔２から
の噴出された処理液は、外側の処理液注入外管４０の内
壁面にぶつかって流速（圧力）が減ぜられた後、流れが
二分され、それぞれの流れが、内側の処理液注入管１の
外壁面と外側の処理液注入外管４０の内壁面と間の空間
４２を別方向から回り込み、第２の処理液噴出孔４１で
各流れが合流して、第２の処理液噴出孔４１から処理槽
１０内に噴出されることになる。従って、処理液の流れ
は、内側の処理液注入管１の処理液噴出孔２より噴出さ
れてから外側の処理液注入外管４０の第２の処理液噴出
孔４１より処理槽１０内に噴出されるまでの間にさらに
整流され、処理槽１０内に噴出される処理液の噴出方向
のバラツキを一層抑制することができ、処理槽１０によ
る各基板Ｗに対する処理を一層均一に行うことができ
る。

【００４８】なお、上記第２実施形態のように２重管構
造とした場合の外側の処理液注入外管４０の各第２の処
理液噴出孔４１にもスロープ部６を備えるように構成し
てもよい。

【００４９】また、上記各実施形態に係る処理槽１０に
は、回収部１１を備えているが、回収部１１を備えてい
ない処理槽であっても本発明は同様に適用できる。

【００５０】上記各実施形態やその変形例に係る処理槽
１０は、各種のバッチ式の基板処理装置に備えられる処
理槽として用いることができる。

【００５１】例えば、図１０（ａ）の平面図に示すよう
な、複数枚の基板に各種の洗浄処理を施す複数個の処理
槽を備えたウエットステーションと呼ばれる基板処理装
置の各処理槽として、上記実施形態に係る処理槽１０を
用いることにより、各処理槽での洗浄処理を均一に行う
ことができる。なお、図中の符号５０は搬入搬出部を示
し、この搬入搬出部５０で、カセットに収容された複数
枚の基板を取り出すととともに、処理済の基板をカセッ
トに収容する処理が行われる。符号５１は、搬入搬出部
５０でカセットから取り出された複数枚の基板を一括保
持して、各処理槽１０に順次搬送するとともに、処理済
の複数枚の基板を搬入搬出部５０に引き渡す動作を行う
搬送装置である。

【００５２】また、図１０（ｂ）の縦断面図に示すよう
に、複数枚の基板Ｗに１または複数の洗浄処理を１台で
行う処理槽を密閉チャンバ６０内に収容し、かつ、ノズ
ル６１から密閉チャンバ６０内にＩＰＡ（イソプロピー
ルアルコール）などの有機溶剤を供給可能に構成した
り、さらに、密閉チャンバ６０内を減圧可能に構成する
などして複数枚の基板Ｗに対する洗浄処理と乾燥処理と
を密閉チャンバ６０内で行うように構成した基板処理装
置の処理槽として、上記実施形態に係る処理槽１０を用
いることにより、処理槽での洗浄処理を均一に行うこと
ができる。なお、図１０（ｂ）では、密閉チャンバ６０
の底部に排気・排液口６１を備えていて、処理槽１０か
ら溢れ出た処理液を密閉チャンバ６０内に流して、排気
・排液口６１から排液管１２を介して排液ドレイン１３
に排出するように構成しているので、処理槽１０に回収
部１１を備えていないが、回収部１１を備えた処理槽１
０を密閉チャンバ６０に収容してもよい。

【００５３】さらに、実開平６−３１１４２号公報に開
示されているような１台以上の処理槽と基板乾燥装置と
を組み込んだ基板処理装置の処理槽として、上記実施形
態に係る処理槽１０を用いることにより、処理槽での洗
浄処理を均一に行うことができる。

【００５４】その他の構成で洗浄処理、または、洗浄処
理及び乾燥処理を行う基板処理装置の処理槽としても上
記実施形態に係る処理槽１０を用いることもできる。

【００５５】さらに、洗浄処理や、洗浄処理及び乾燥処
理以外の基板処理を行う基板処理装置であっても、先端
部が閉塞され、基端部側から導入される処理液を、側面
に並設された多数の処理液噴出孔から槽内に噴出させる
処理液注入管を有し、基板を処理液に浸漬させて処理す
る処理槽を備えたものであれば、上記実施形態に係る処
理槽１０を適用することができる。

【００５６】また、基板を１枚だけ浸漬する処理槽にも
適用することができ、基板の主面と処理液噴出孔の並び
とが平行となるように浸漬する場合には、基板の全面を
均一に処理できる。

【００５７】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、処理槽に取り付ける処理液注
入管の各処理液噴出孔に、管内壁から管外側に向かって
孔径が徐々に小さくなるスロープ部を備えたので、従来
の処理液注入管に比べて各処理液噴出孔から噴出される
処理液の水頭長の差を抑制することができるとともに、
各処理液噴出孔から処理槽に噴出される処理液の噴出方
向のバラツキを抑制することができる。従って、従来装
置に比べて、基板に対する処理をより均一に行うことが
できる処理槽を実現することができる。

【００５８】請求項２に記載の発明によれば、請求項１
に記載の処理液注入管を内管とし、その外周に、処理槽
内に処理液を最終的に噴出する多数の第２の処理液噴出
孔が側面に並設された処理液注入外管を配設し、外側の
処理液注入外管の第２の処理液噴出孔からの処理液の噴
出方向に対して、内側の処理液注入管の処理液噴出孔か
らの処理液の噴出方向がずらされているので、処理槽内
に噴出される処理液の噴出方向のバラツキを一層抑制す
ることができ、基板に対する処理をさらに均一に行うこ
とができる処理槽を実現することができる。

【００５９】請求項３に記載の発明によれば、請求項１
または２に記載の発明で説明した効果が得られる処理槽
を備えた基板処理装置を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態に係る処理槽の構成を示
す縦断面図と平面図である。

【図２】第１実施形態に係る処理槽の横断面図と、処理
液噴出孔を処理液注入管の内壁面から見た図である。

【図３】本発明の要部の処理液注入管の拡大横断面図で
ある。

【図４】処理液噴出孔部分の拡大縦断面図と拡大横断面
図である。

【図５】処理液噴出孔の各種の構造を示す図である。

【図６】処理液噴出孔に備えるスロープ部の各種の変形
例の構成を示す断面図である。

【図７】処理液注入管の変形例の構成を示す縦断面図で
ある。

【図８】スロープ部を備えた処理液噴出孔が形成された
処理液注入管の製造方法の一例を説明するための図であ
る。

【図９】本発明の第２実施形態に係る処理槽の底部付近
の構成を示す縦断面図と、処理液注入管及び処理液注入
外管の構成を示す横断面図及び拡大縦断面図である。

【図１０】本発明に係る処理槽を適用できる基板処理装
置の一例の構成を示す図である。

【図１１】従来の処理槽の構成を示す縦断面図と横断面
図、及び処理液噴出孔を処理液注入管の内壁面から見た
図である。

【図１２】従来の処理液注入管の欠点を示す図である。

【符号の説明】

１：処理液注入管 ２：処理液噴出孔 ３：処理液注入管の基端部 ４：処理液注入管の先端部 ５：処理液注入管の管内壁 ６：スロープ部 １０：処理槽 ４０：処理液注入外管 ４１：第２の処理液噴出孔 Ｗ：基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 先端部が閉塞され、基端部側から導入さ
   れる処理液を、側面に並設された多数の処理液噴出孔か
   ら槽内に噴出させる処理液注入管を有し、基板を処理液
   に浸漬させる処理槽において、 前記処理液注入管は、前記各処理液噴出孔に、管内壁か
   ら管外側に向かって孔径が徐々に小さくなるスロープ部
   を備えたことを特徴とする処理槽。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の処理槽において、 前記処理液注入管を内管とし、その外周に、前記処理槽
   内に処理液を最終的に噴出する多数の第２の処理液噴出
   孔が側面に並設された処理液注入外管を配設し、外側の
   処理液注入外管の第２の処理液噴出孔からの処理液の噴
   出方向に対して、内側の処理液注入管の処理液噴出孔か
   らの処理液の噴出方向がずらされていることを特徴とす
   る処理槽。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の処理槽を備え
   たことを特徴とする基板処理装置。