JP6891013B2 - 基板処理装置およびノズル構造 - Google Patents

Description

本発明は、処理液によって基板を処理する基板処理技術に関する。処理対象の基板には、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、FED(Field Emission Display)用基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板およびフォトマスク用基板などの各種の基板が含まれる。

特許文献１には、処理液を貯溜する処理槽内に基板を浸漬させることにより基板の表面処理を行なう浸漬型の基板処理装置が示されている。当該基板処理装置は、処理槽の底面の両隅のそれぞれに、外管と内管からなる二重管構造の処理液供給パイプを備える。外管には複数の主噴出孔が列状に設けられ、内管には複数の副噴出孔が列状に設けられている。主噴出孔と副噴出孔とは、外管と内管とのそれぞれの径方向に沿って見たときに、互いに重ならないように設けられている。このため、内管に処理液が供給されると、処理液は、副噴出孔から噴出されて外管の内壁に一度衝突して失速してから内管の外壁と外管の内壁とで形成される流路を通過した後に、主噴出孔から処理槽内に供給される。これにより、基板処理装置は、各主噴出孔から処理槽へそれぞれ噴出される処理液の速度および供給量を均一化して、各基板に対して均一な処理を行うことを図っている。

特開平６−２０８９８４号公報

特許文献１の基板処理装置において、処理液供給パイプは、各主噴出孔から一定の方向に沿って一定の速度で処理槽内に処理液を噴出する。このため、処理槽の内部には、渦を含む処理液の循環流が生じ、この循環流の流速と流れる方向は、時間的に略一定となる。このため基板上には、位置と流れ方とが時間的に略一定の渦が生じる。この渦の中心部の処理液は、基板上に滞留し、新たな処理液によって置換されにくい。このため、処理液に溶解した基板の成分の濃度が上昇して、当該成分が基板上に析出するといった問題がある。また、基板上の各部のうち処理液が入れ替わりやすい部分と、一定の渦が生じて処理液が入れ替わりにくい部分とで、処理液の濃度分布や温度分布が不均一になって基板の各部の処理の均一性が低下するといった問題もある。

本発明は、こうした問題を解決するためになされたもので、処理液を貯留する処理槽内の一定の位置に処理液の渦が生ずることを抑制できる技術を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、第１の態様に係る基板処理装置は、処理液を収容し、当該処理液に浸漬された基板に処理を施す処理槽と、処理液を供給する処理液供給源と、前記処理槽に収容された前記基板の下方に設けられ、前記処理液供給源が供給する処理液を、その噴出方向を振動させつつ上方の前記基板側に向けて前記処理槽内に噴出するフリップフロップノズルと、を備え、前記フリップフロップノズルは、前記処理液の流入口と、前記流入口に対向する噴出口と、前記流入口から流入し前記噴出口へ向かう前記処理液の流れを横切る環状の流路を形成する連結ダクトとを備え、前記流入口から前記噴出口に流れる前記処理液により生じた圧力差によって前記環状の流路を流れる前記処理液を駆動して前記噴出口から噴出する前記処理液の噴出方向を前記処理槽に収容された前記基板の主面と平行な面に沿って振動させ、前記環状の流路の全体が、前記処理槽に収容された前記基板の主面と平行である。

第２の態様に係る基板処理装置は、第１の態様に係る基板処理装置であって、前記処理槽に収容された前記基板の下方に設けられ、前記処理液供給源が供給する前記処理液を内部に導く筒状体をさらに備え、前記フリップフロップノズルは、前記処理液の流入口と、前記流入口に対向する噴出口と、前記流入口から流入し前記噴出口へ向かう前記処理液の流れを横切る環状の流路を形成する連結ダクトとを備え、前記流入口から前記噴出口に流れる前記処理液により生じた圧力差によって前記環状の流路を流れる前記処理液を駆動して前記噴出口から噴出する前記処理液の噴出方向を振動させ、前記流入口は、前記筒状体の軸周りの周壁を貫通して設けられ、前記連結ダクトは、前記筒状体をその周方向に沿って取り囲むように前記筒状体の周方向全周にわたって前記筒状体の周壁から外側にそれぞれ立設されて互いに対向し、前記流入口を間に挟む環状の一対の側壁部と、前記筒状体の周壁のうち前記一対の側壁部の間の環状の部分周壁に対向して前記一対の側壁部によって囲まれる空間を閉塞する外周壁部とを含み、前記噴出口は、前記外周壁部のうち前記流入口に対向する部分を貫通して設けられている。

第３の態様に係る基板処理装置は、第２の態様に係る基板処理装置であって、前記筒状体は、前記処理槽に収容された前記基板の主面を含む平面を貫通する方向に延在し、前記連結ダクトの前記一対の側壁部および前記外周壁部と、前記筒状体の周壁とに囲まれた環状の流路は、前記基板の主面と平行である。

第４の態様に係る基板処理装置は、第２または第３の態様に係る基板処理装置であって、前記連結ダクトの前記一対の側壁部および前記外周壁部と、前記筒状体の周壁とに囲まれた環状の流路の断面積は前記流入口から前記連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて大きくなっている。

第５の態様に係る基板処理装置は、第４の態様に係る基板処理装置であって、前記連結ダクトの前記一対の側壁部の一方の側壁部は、前記筒状体の中心軸と交差する平面に沿って前記筒状体の周壁から立設されており、他方の側壁部は、前記一方の側壁部との間隔が前記流入口から前記連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて拡がるように前記連結ダクトの周方向において湾曲している。

第６の態様に係るノズル構造は、処理液を導くための筒状体と、前記筒状体が導く処理液を噴出するフリップフロップノズルと、を備え、前記フリップフロップノズルは、前記処理液の流入口と、前記流入口に対向する噴出口と、前記流入口から流入し前記噴出口へ向かう前記処理液の流れを横切る環状の流路を形成する連結ダクトとを備え、前記流入口から前記噴出口に流れる前記処理液により生じた圧力差によって前記環状の流路を流れる前記処理液を駆動して前記噴出口から噴出する前記処理液の噴出方向を振動させ、前記流入口は、前記筒状体の軸周りの周壁を貫通して設けられ、前記連結ダクトは、前記筒状体をその周方向に沿って取り囲むように前記筒状体の周方向全周にわたって前記筒状体の周壁から外側にそれぞれ立設されて互いに対向し、前記流入口を間に挟む環状の一対の側壁部と、前記筒状体の周壁のうち前記一対の側壁部の間の環状の部分周壁に対向して前記一対の側壁部によって囲まれる空間を閉塞する外周壁部とを含み、前記噴出口は、前記外周壁部のうち前記流入口に対向する部分を貫通して設けられている。

第７の態様に係るノズル構造は、第６の態様に係るノズル構造であって、前記連結ダクトの前記一対の側壁部および前記外周壁部と、前記筒状体の周壁とに囲まれた環状の流路の断面積は前記流入口から前記連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて大きくなっている。

第８の態様に係るノズル構造は、第７の態様に係るノズル構造であって、前記連結ダクトの前記一対の側壁部の一方の側壁部は、前記筒状体の中心軸と交差する平面に沿って前記筒状体の周壁から立設されており、他方の側壁部は、前記一方の側壁部との間隔が前記流入口から前記連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて拡がるように前記連結ダクトの周方向において湾曲している。

第１の態様に係る発明によれば、基板処理装置は、処理液を収容し、当該処理液に浸漬された基板に処理を施す処理槽と、処理液を供給する処理液供給源と、処理槽に収容された基板の下方に設けられ、処理液供給源が供給する処理液を、その噴出方向を振動させつつ処理槽内に噴出するフリップフロップノズルと、を備える。従って、処理槽内の一定の位置に処理液の渦が生ずることを抑制できる。

本願明細書に記載の発明によれば、フリップフロップノズルは、処理槽に収容された基板の主面と平行な面に沿って処理液の噴出方向を振動させる。従って、フリップフロップノズルが噴出する処理液によって基板が損傷することを抑制できる。

本願明細書に記載の発明によれば、フリップフロップノズルは、流入口から流入し噴出口へ向かう処理液の流れを横切る環状の流路を形成する連結ダクトを備え、流入口から噴出口に流れる処理液により生じた圧力差によって環状の流路を流れる処理液を駆動して噴出口から噴出する処理液の噴出方向を振動させ、流入口から噴出口へ向かう処理液の流れを環状の流路が横切る方向は、処理槽に収容された基板の主面と平行である。従って、フリップフロップノズルは、処理槽に収容された基板の主面と平行な面に沿って処理液の噴出方向を振動させることができるので、フリップフロップノズルが噴出する処理液によって基板が損傷することを抑制できる。

第２および第６の何れの態様に係る発明によっても、連結ダクトは、筒状体をその周方向に沿って取り囲むように筒状体の周壁から外側にそれぞれ立設されて、流入口を間に挟む環状の一対の側壁部と、筒状体の周壁のうち一対の側壁部の間の部分周壁に対向して一対の側壁部によって囲まれる空間を閉塞する外周壁部とを含んでいる。すなわち、連結ダクトは筒状体の周壁に隣接して、筒状体の周方向に延在する。これにより、筒状体の軸方向における連結ダクトの長さを短くできるとともに、筒状体の径方向における連結ダクトの突出量を小さくできる。従って、筒状体の軸方向に複数のフリップフロップノズルを設ける場合にフリップフロップノズルの個数、すなわち流入口および噴出口の個数を増やすことができるとともに、筒状体とフリップフロップノズルとを含むノズル構造を小さくできる。

第３の態様に係る発明によれば、筒状体は、処理槽に収容された基板の主面を含む平面を貫通する方向に延在し、連結ダクトの一対の側壁部および外周壁部と、筒状体の周壁とに囲まれた環状の流路は、基板の主面と平行である。従って、流入口から噴出口へ向かう処理液の流れを環状の流路が横切る方向は、処理槽に収容された基板の主面と平行になる。従って、フリップフロップノズルは、処理槽に収容された基板の主面と平行な面に沿って処理液の噴出方向を振動させることができるので、フリップフロップノズルが噴出する処理液によって基板が損傷することを抑制できる。

第４および第７の何れの態様に係る発明によっても、連結ダクトの一対の側壁部および外周壁部と、筒状体の周壁とに囲まれた環状の流路の断面積は流入口から連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて大きくなっている。従って、環状の流路を流れる処理液が受ける抵抗を減少させることができるので、流入口から噴出口に流れる処理液により生じた圧力差によって環状の流路を流れる処理液を駆動することが容易になり、噴出口から噴出する処理液の噴出方向を振動させることが容易になる。

第５および第８の何れの態様に係る発明によっても、連結ダクトの一対の側壁部の一方の側壁部は、筒状体の中心軸と交差する平面に沿って筒状体の周壁から立設されており、他方の側壁部は、一方の側壁部との間隔が流入口から連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて拡がるように連結ダクトの周方向において湾曲している。従って、例えば、連結ダクトを溶接によって筒状体に取り付ける場合に、取付作業が容易になる。

実施形態に係る基板処理装置の概略構成の一例を示すブロック図である。 図１の基板処理機構の概略構成を模式的に示す斜視図である。 図２の噴出管の一部を拡大して示す斜視図である。 図３の噴出管の断面図である。 図３の噴出管のうちノズル部分の断面斜視図である。 図３の噴出管のうちノズル部分の正面断面図である。 図１の噴出管が処理槽内に噴出する処理液の流れの例を示す図である。 図２の噴出管と基板の配置関係の一例を説明するための図である。 図２の噴出管と基板の配置関係の一例を説明するための図である。 実施形態に係る噴出管の構成例を示す断面図である。 実施形態に係る噴出管の構成例を示す断面図である。 実施形態に係る噴出管の構成例を示す断面図である。 実施形態に係る噴出管の構成例を示す断面図である。 図３の噴出管が含むノズルのシミュレーション結果である。 図１４のシミュレーションにおけるノズルのサイズを示す断面図である。 他の実施形態に係る噴出管の一部を拡大して示す斜視図である。 図１６の噴出管の断面図である。

以下、図面を参照しながら、実施の形態について説明する。以下の実施の形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。また、以下に参照する各図では、理解容易のため、各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。また、各図では、同様な構成および機能を有する部分に同じ符号が付され、下記説明では重複説明が省略される。上下方向は鉛直方向であり、処理槽内の噴出管に対してリフタが上である。

＜１．基板処理装置１＞
図１は、実施形態に係る基板処理装置１の概略構成の一例を模式的に示すブロック図である。図２は、基板処理装置１の基板処理機構ＣＨＢ１の概略構成を模式的に示す斜視図である。図２は、基板処理機構ＣＨＢ１の処理槽４１の内槽４３に収容された噴出管７０、リフタ４７等を透視した図として示されている。

基板処理装置１は、バッチ組みされた複数の基板Ｗに対して一括して処理液を用いた処理を施すバッチ式の基板処理装置である。この基板処理装置１は基板処理機構ＣＨＢ１と、処理液供給源６５と、排出部５１と、制御部２５とを備えている。

制御部２５は、図示しないＣＰＵなどを備えている。制御部２５には、指示部２３と、メモリ２４が電気的に接続されている。指示部２３は、キーボードなどを含んで構成され、装置のオペレータによって操作される。オペレータは、この指示部２３を操作して、例えば、複数の基板Ｗを処理するための手順を規定したレシピを基板処理装置１に指示する。メモリ２４は、指示部２３から指示されたレシピ（不図示）と、プログラムＰＧなどを記憶している。制御部２５のＣＰＵは、プログラムＰＧを実行することによって、基板処理装置１の各部を統括的に制御し、レシピに従った基板Ｗの処理を基板処理装置１に行わせる。

処理液供給源６５は、基板Ｗの処理に供されていない未使用の処理液を貯留しており、不図示のポンプ等によって当該処理液を基板処理機構ＣＨＢ１の噴出管７０に供給可能に構成されている。処理液供給源６５には、供給配管６７の一端側が連通接続されている。供給配管６７には、流量制御が可能な制御弁６９が配設されている。処理液には、薬液とリンス液とが含まれる。薬液として、例えば、燐酸溶液、ＳＰＭ、ＳＣ−１、ＤＨＦ、ＳＣ−２などが用いられる。リンス液として、例えば、純水、温水、オゾン水、磁気水、還元水（水素水）、各種の有機溶剤（イオン水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、機能水（ＣＯ_２水など）、などが用いられる。

基板処理機構ＣＨＢ１は、処理液供給源６５から供給される処理液によって基板Ｗを処理する。基板処理機構ＣＨＢ１は、処理槽４１と、リフタ４７と、リフタ４７を昇降させる昇降機構４８とを備えている。

処理槽４１は、処理液供給源６５が供給する処理液を貯留して、当該処理液に浸漬された基板Ｗに対して所定の処理を行う。処理槽４１は、内槽４３と、内槽４３から溢れた処理液を回収する外槽４５とを備えている。内槽４３は、処理液を内槽４３内に供給するための一対の噴出管（「ノズル構造」）７０を底部に備えている。また、内槽４３の底部には、内槽４３内の処理液を排出する際に使用する底部排出口５７が形成されている。また、外槽４５は、回収した処理液を排出するための排出口５２を底部に備えている。

供給配管６７の他端側は、配管４９の上端と接続している。配管４９は、上下方向に延設されており、その上端部分は内槽４３の上方に配設され、他の部分は内槽４３内に配設されている。配管４９の下端部分は、内槽４３の底部の近傍で二手に分岐し、一対の噴出管７０のそれぞれに接続している。処理液供給源６５から供給された処理液は、制御弁６９の開度によって定まる流量で供給配管６７を通って配管４９に導かれ、配管４９を経て一対の噴出管７０に供給される。一対の噴出管７０は、供給された処理液を内槽４３内に噴出する。

リフタ４７は、鉛直方向に立った姿勢の板状のリフタヘッド４７ａと、基板支持部材４７ｂとを備えている。基板処理機構ＣＨＢ１は、昇降機構４８をさらに備える。昇降機構４８は、例えば、モーターとボールネジ機構等を備えており、リフタ４７を昇降可能に構成されている。

基板支持部材４７ｂは、鉛直方向に立った姿勢で水平方向に配列された複数の基板Ｗを下方から支持可能に設けられている。基板支持部材４７ｂは、複数（図示の例では３個）の長尺部材を含んでいる。当該複数の長尺部材は、リフタヘッド４７ａの一主面の下端部分から互いに同じ方向（当該一主面の法線方向）に沿って、リフタヘッド４７ａに対してそれぞれ同じ側に延設されている。互いに隣り合う長尺部材の間には、隙間が設けられている。これにより、リフタ４７に支持された各基板Ｗの下端側の周縁は、リフタ４７の下方に設けられている噴出管７０に対向する。

各基板Ｗは、その主面がリフタヘッド４７ａの一主面と平行になるように、基板支持部材４７ｂによって支持される。基板支持部材４７ｂの各長尺部材の上端部分のうち複数の基板Ｗを支持する複数の部分には、不図示の複数の溝部が形成されている。各溝部は、基板Ｗの厚みよりも若干広い幅で、基板Ｗの主面（リフタヘッド４７ａの一主面）に沿って形成されている。各溝部の深さは、基板Ｗの周縁部の幅に略等しくなるように設定されている。これにより、基板Ｗは、その周縁部を各長尺部材のうち対応する各溝部によって挟まれた状態で、基板支持部材４７ｂによって下方から支持される。

リフタ４７は、処理槽４１の上方の受渡し位置において、予めバッチ組みされた複数の基板Ｗを不図示の搬送ロボットから受け取る。リフタ４７は、複数の基板Ｗを受け取った後に、処理槽４１の内槽４３の開口部から内槽４３内に降下することによって、複数の基板Ｗを一括して内槽４３内に収容し、処理液に浸漬する。複数の基板Ｗに対する処理が終了すると、リフタ４７は、処理槽４１の上方の受渡し位置まで上昇して、処理済みの複数の基板Ｗを搬送ロボットに引き渡す。

排出部５１は、処理槽４１に貯留された処理液を処理槽４１から排出できるように構成されている。排出部５１は、例えば、排出管５３と、底部排出管５８と、ポンプ５５とを備えて構成される。

排出管５３は、外槽４５の排出口５２に連通接続しており、排出口５２から排出される処理液を廃液タンクなどに導く。排出管５３には、排出口５２側から順に、開閉弁５４と、ポンプ５５と、開閉弁５６とが配設されている。開閉弁５４、開閉弁５６が開いた状態でポンプ５５が作動することによって、内槽４３から外槽４５に溢れた処理液は、排出口５２から排出管５３に導かれ、排出管５３から排液タンクなどに排出される。

底部排出管５８は、内槽４３の底部排出口５７と連通接続しているとともに、ポンプ５５よりも上流側で排出管５３にも連通接続しており、内槽４３内の処理液を排出管５３に導く。底部排出管５８には、開閉弁５９が配設されている。開閉弁５９、開閉弁５６が開いた状態でポンプ５５が作動することにより、内槽４３内の処理液は、底部排出口５７と、底部排出管５８と、排出管５３とを介して排液タンク等に排出される。排液タンク等に回収された処理液をフィルターなどで浄化して再度使用するようにすればランニングコストを低減させることができる。

＜２．噴出管７０＞
図３は、噴出管７０の一部を拡大して示す斜視図である。図４は、噴出管７０の一部の断面図である。図４では、側面断面図と正面断面図とが示されている。図５は、噴出管７０のうちノズル７２部分の断面斜視図である。

噴出管７０は、処理液を導くための筒状体７１と、少なくとも１つのノズル７２を備える。図示の例では、複数のノズル７２が筒状体７１の軸方向に配列して筒状体７１の周壁に設けられている。噴出管７０、すなわち、筒状体７１と、各ノズル７２とは、処理槽４１の内槽４３の底部において、内槽４３に収容される基板Ｗの下方に位置するように設けられている。噴出管７０は、好ましくは、石英によって形成される。

筒状体（「導管」）７１は、処理槽４１の内槽４３の底部に設けられている。筒状体７１は、内槽４３に収容された基板Ｗの下方において、基板Ｗの主面を含む平面を貫通する方向に延在する。筒状体７１は、好ましくは、当該平面と直交する方向に延在する。筒状体７１としては、好ましくは直管が採用される。筒状体７１の一端には、配管４９の下端が連通接続している。処理液供給源６５が供給する処理液は、配管４９等を介して筒状体７１の一端から筒状体７１内に導入される。配管４９から筒状体７１内に処理液を供給可能であれば、筒状体７１の一端以外の箇所において配管４９が筒状体７１に接続してもよい。筒状体７１の他端（「先端」）は閉塞されている。筒状体７１の周壁のうち上側の部分には、少なくとも１つ流入口７３が設けられる。図示の例では、複数のノズル７２の個数に応じて複数の流入口７３が筒状体７１の軸方向に一列に配列されている。

ノズル（「フリップフロップノズル」、「自励振動ノズル」）７２は、処理液の流入口７３と、流入口７３に対向する噴出口７４と、連結ダクト７５とを備える。流入口７３は、筒状体７１の周壁を貫通して設けられている。連結ダクト７５は、一対の側壁部７５ａ、７５ｂと、筒状体７１の周壁と間隔を隔てて対向する外周壁部７５ｃと、を含んでいる。噴出口７４は、外周壁部７５ｃのうち流入口７３に対向する部分を貫通して設けられている。流入口７３、噴出口７４は、筒状体７１の径方向に見て矩形にそれぞれ形成されている。当該各矩形は、筒状体７１の軸に平行な辺と、当該軸と直交する辺（筒状体７１の周方向に沿って延在する辺）とを有する。流入口７３がなす矩形は、例えば、筒状体７１の周方向と軸方向とに沿って、０．５ｍｍ×２ｍｍ程度の大きさを有し、噴出口７４がなす矩形は、６ｍｍ×２ｍｍ程度の大きさを有する。すなわち、噴出口７４の方が流入口７３よりも筒状体７１（連結ダクト７５）の周方向の長さが長い。

ノズル７２は、処理液供給源６５から筒状体７１内に供給された処理液を、流入口７３から導入し、噴出口７４から基板Ｗに向けて処理槽４１内に噴出する。ノズル７２は、処理液を噴出する際に、その噴出方向を振動させる。

連結ダクト７５は、筒状体７１の中心軸を中心とする周方向に筒状体７１を取り囲んで延在している。連結ダクト７５は、一対の側壁部７５ａ、７５ｂが筒状体７１の周壁に溶接されること等により当該周壁に固定されている。連結ダクト７５の外観形状は、筒状体７１の軸方向に見て、円環形の平板形状である。連結ダクト７５は、中空構造となっている。

一対の側壁部７５ａ、７５ｂのそれぞれは、筒状体７１をその周方向に沿って取り囲むように筒状体７１の周壁から外側にそれぞれ立設されている。各側壁部７５ａ、７５ｂは、環状に形成されており、筒状体７１の周壁に沿って筒状体７１をその周方向に取り囲んでいる。一対の側壁部７５ａ、７５ｂは、流入口７３を互いの間に挟んで筒状体７１の周壁から立設されている。

外周壁部７５ｃは、筒状体７１の周壁のうち一対の側壁部７５ａ、７５ｂの間の部分（「部分周壁」）と対向している。外周壁部７５ｃは、一対の側壁部７５ａ、７５ｂのそれぞれの上端に連なって設けられており、一対の側壁部７５ａ、７５ｂによって囲まれる空間を閉塞する。閉塞された当該空間によって、環状の流路８０が形成される。流路８０は、連結ダクト７５の一対の側壁部７５ａ、７５ｂおよび外周壁部７５ｃと、筒状体７１の周壁とに囲まれた環状の空間であり、筒状体７１の周方向に延在する。環状の流路８０は、連結ダクト７５内に形成される。

流路８０は、流入口７３から流入し噴出口７４へ向かう処理液の流れを横切る。流路８０が、当該処理液の流れを横切る方向は、好ましくは、処理槽４１に収容された基板Ｗの主面と平行である。また、流路８０は、好ましくは、基板Ｗの主面と平行な面に沿って延在する。流入口７３と噴出口７４とは、流入口７３から流入し噴出口７４へ向かう処理液の流れが連結ダクト７５の一部を横断するように、すなわち、当該流れが流路８０の一部を横断するように配置されている。噴出口７４は、好ましくは、流入口７３側の端部から出口側端部へ向けて、その断面積が緩やかに連続して拡大されるようなテーパ状とされる。また、流入口７３から流入する液流がコアンダ効果により噴出口７４の内壁に沿って流れ易いように、噴出口７４の連結ダクト７５側の開口面積が流入口７３の連結ダクト７５側の開口面積よりも大きくなっている。

次に、ノズル７２の作用について説明する。図６は、噴出管７０のうちノズル７２部分の正面断面図である。

流入口７３からノズル７２内に流入した処理液の液流１１は、連結ダクト７５（連結ダクト７５内の環状の流路８０）を横断し、噴出口７４へ到達してノズル７２から流出する。この際、処理液は、コアンダ効果によって連結ダクト７５の周方向における噴出口７４の壁面７４ａ、７４ｂのいずれか一方に沿って流出する。

図６に示すように、液流１１が壁面７４ｂに沿って流出した場合、流路８０のうち連結ダクト７５の周方向において壁面７４ｂに近い点Ｂ付近に渦を生じ、圧力が低下し、流路８０のうち反対側の壁面７４ａに近い点Ａ付近の圧力は、点Ｂ付近の圧力よりも高くなる。この結果、連結ダクト７５内（流路８０）に点Ａから点Ｂへ向かう処理液の流れ１２が生ずる。この流れ１２により、点Ａ、点Ｂ間の圧力差は徐々に低下し、圧力差はやがてゼロとなる。しかし、連結ダクト７５内の流れ１２は慣性により流れ続け、その結果、点Ａと点Ｂの圧力が逆転する。これにより、壁面７４ｂに沿って流れていた液流１１が剥がされ、反対側の壁面７４ａに沿って流れる様になる。その後、連結ダクト７５内を通る流れの向きも、圧力差に従って逆転し、今度は点Ｂから点Ａに向かい連結ダクト内を流れる。以上の動作が自動的に繰り返されることにより、処理液の液流の自励振動が実現される。

連結ダクト７５は、筒状体７１の周囲を取り囲む円状（曲線状）の配設経路に沿って設けられているので、連結ダクト７５の流路８０を処理液が流れる際の抵抗を低減できる。これにより、流入口７３から噴出口７４に向かう処理液の液流１１の一部が点Ａ、点Ｂから連結ダクト７５内の流路８０に入り込み易くなるので、噴出口７４から噴出する液流１１の振動が安定する。

このように、ノズル７２は、流入口７３から噴出口７４に流れる処理液によって流路８０に生じた圧力差により流路８０を流れる処理液を駆動して噴出口７４から噴出する処理液の噴出方向を振動させる。ノズル７２は、好ましくは、処理槽４１に収容された基板Ｗの主面と平行な面に沿って処理液の噴出方向を振動させる。

図７は、噴出管７０のノズル７２が処理槽４１（内槽４３）内に噴出する処理液の流れの時間的な変化の一例を示す図である。ノズル７２は、処理液の噴出方向を振動させつつ基板Ｗ側に処理液を噴出するので、基板Ｗ上の処理液の流れは、一定とならず、時間的に変動する。これにより、基板Ｗ上に発生する渦（渦の中心）の位置も時間的に変動する。また、処理槽４１内の処理液の流れが時間的に変動するので、処理槽４１内の処理液の濃度分布および温度分布が均一化される。

図８、図９は、噴出管７０と、処理槽４１に収容される複数の基板Ｗの配置関係の一例を説明するための図である。

図８に示される例では、各ノズル７２の流入口７３、噴出口７４が、基板Ｗの配列方向（筒状体７１の軸方向）において、隣り合う基板Ｗの中央に位置するように各ノズル７２が筒状体７１に設けられている。基板処理装置１は、例えば、５０枚の基板Ｗを一括して処理槽４１内に収容して処理するので、噴出管７０は、約５０個のノズル７２を備える。

図９に示される例では、基板Ｗの配列方向において、隣り合う基板Ｗの間に、２つのノズル７２の流入口７３、噴出口７４が位置するように各ノズル７２が筒状体７１に設けられているので、噴出管７０は、約１００個のノズル７２を備える。隣り合う基板Ｗの間に３個以上の噴出口７４が位置するように噴出管７０が複数のノズル７２を備えてもよい。また、隣り合う基板Ｗ同士の間に複数の噴出口７４が位置すれば、基板Ｗ上における処理液の流れを、より効率良く時間的に変動させることができる。

図２〜図３、図８、図９に示される例では、複数のノズル７２が筒状体７１の軸方向に沿って等間隔で設けられているが、等間隔で設けられなくてもよい。この場合には、例えば、処理槽４１の周壁や底壁に対する位置関係等によって処理槽４１の収容空間の中で処理液が滞留しやすい部分に隣り合って配列される基板Ｗ同士の間に位置する噴出口７４の個数が増加するように各ノズル７２が設けられる。

＜３．噴出管の他の実施形態＞
図１０〜図１３は、他の実施形態に係る噴出管７０Ａ〜７０Ｄの構成例を示す断面図である。図１０〜図１３には、噴出管７０Ａ〜７０Ｄの正面断面図と側面断面図とが示されている。基板処理装置１が噴出管７０に代えて、例えば、噴出管７０Ａ〜７０Ｄを備えてもよい。噴出管７０Ａ〜７０Ｄは、ノズル７２Ａ〜７２Ｄをそれぞれ備えており、処理槽４１内に噴出管７０と同様に配設される。また、噴出管７０Ａ〜７０Ｄは、複数のノズルをそれぞれ備えているが、これらのノズルは、噴出管７０における複数のノズル７２と同様に配置される。

図１０に示される噴出管７０Ａと、噴出管７０との違いは、噴出管７０Ａが噴出管７０のノズル７２に代えてノズル（「フリップフロップノズル」）７２Ａを備えることである。ノズル７２Ａは、ノズル７２の連結ダクト７５に代えて連結ダクト７６を備えることを除いてノズル７２と同様に構成されている。連結ダクト７６は、連結ダクト７５の一対の側壁部７５ａ、７５ｂ、外周壁部７５ｃに代えて一対の側壁部７６ａ、７６ｂ、外周壁部７６ｃを備えている。

図１１に示される噴出管７０Ｂと、噴出管７０との違いは、噴出管７０Ｂが、噴出管７０の筒状体７１に代えて筒状体７１Ｂを備えるとともに、噴出管７０のノズル７２に代えてノズル（「フリップフロップノズル」）７２Ｂを備えることである。筒状体７１Ｂは、断面矩形の角筒状である。ノズル７２Ｂは、ノズル７２の連結ダクト７５に代えて連結ダクト７７を備えることを除いてノズル７２と同様に構成されている。連結ダクト７７は、連結ダクト７５の一対の側壁部７５ａ、７５ｂ、外周壁部７５ｃに代えて一対の側壁部７７ａ、７７ｂ、外周壁部７７ｃを備えている。

連結ダクト７６（７７）の一対の側壁部７６ａ、７６ｂ（７７ａ、７７ｂ）の一方の側壁部７６ｂ（７７ｂ）は、筒状体７１の中心軸と交差（直交）する平面に沿って筒状体７１（７１Ｂ）の周壁から立設されており、他方の側壁部７６ａ（７７ａ）は、一方の側壁部７６ｂ（７７ｂ）との間隔が流入口７３から連結ダクト７６（７７）の周方向に沿って遠ざかるにつれて拡がるように当該周方向において湾曲している。

すなわち、連結ダクト７６（７７）の一対の側壁部７６ａ、７６ｂ（７７ａ、７７ｂ）および外周壁部７６ｃ（７７ｃ）と、筒状体７１（７１Ｂ）の周壁とに囲まれた環状の流路８０の断面積は流入口７３から連結ダクト７６（７７）の周方向に沿って遠ざかるにつれて大きくなっている。

より具体的には、図１０、図１１において、正面断面図に記載の角度θは、筒状体７１（７１Ｂ）の中心軸から噴出口７４の中心に延びる第１の半直線と、筒状体７１（７１Ｂ）の中心軸からノズル７２Ａ（７２Ｂ）の外周壁部７６ｃ（７７ｃ）上の点に延びる第２の半直線とがなす角度である。外周壁部７６ｃ上の各点は、第２の半直線と外周壁部７６ｃとの交点として表現される。反時計回り方向の回転角度の符号を正とすると、角度θの範囲は、−１８０°〜１８０°となる。角度θが０°のときに、第２の半直線は、第１の半直線と一致する。角度が−１８０°と１８０°のときには、第２の半直線は、筒状体７１（７１Ｂ）の中心軸に対して、第１の半直線と線対称となる。

連結ダクト７６（７７）の他方の側壁部７６ａ（７７ａ）上の各点と、一方の側壁部７６ｂ（７７ｂ）との間隔は、他方の側壁部７６ａ（７７ａ）上の各点を通る第２の半直線が第１の半直線となす角度θの絶対値に比例して拡がっている。

連結ダクト７６（７７）においては、流路８０の断面積が、流入口７３から連結ダクト７６（７７）の周方向に沿って遠ざかるにつれて大きくなっているので、流路８０を通過する処理液が流路８０から受ける抵抗を減少させることができる。

図１０、図１１の例では、一方の側壁部７６ｂ（７７ｂ）は、筒状体７１（７１Ｂ）の中心軸と交差（直交）する平面に沿って筒状体７１（７１Ｂ）の周壁から立設されているが、筒状体７１（７１Ｂ）の中心軸と直交する平面に関して、一方の側壁部７６ｂ（７７ｂ）が、湾曲している他方の側壁部７６ａ（７７ａ）と、例えば、面対称となるように形成されていてもよい。また、図１０、図１１の例とは逆に、一方の側壁部７６ｂ（７７ｂ）が湾曲しており、他方の側壁部７６ａ（７７ａ）が平面に沿っていてもよい。

図１２に示される噴出管７０Ｃと、噴出管７０との違いは、噴出管７０Ｃが噴出管７０のノズル７２に代えてノズル（「フリップフロップノズル」）７２Ｃを備えることである。ノズル７２Ｃは、ノズル７２の噴出口７４に代えて噴出口７４Ｃを備えることを除いてノズル７２と同様に構成されている。

噴出口７４Ｃの連結ダクト７５側の開口は、噴出口７４の連結ダクト７５側の開口と同様に形成されている。また、噴出口７４Ｃは、噴出口７４と同様に外周壁部７５ｃの一部（基板Ｗの周縁に対向する一部）を貫通して形成されている。しかし、噴出口７４Ｃは、流入口７３に対向する断面矩形の筒状に形成されており、外周壁部７５ｃに対して連結ダクト７５（筒状体７１）の径方向の外側に突出している。より詳細には、噴出口７４Ｃは、筒状体７１の軸に垂直な切断面における断面が台形の角筒状に構成されており、その先端に向かう（基板Ｗ側に向かう）につれて連結ダクト７５の周方向（筒状体７１の周方向）の幅が拡大する。

図１３に示される噴出管７０Ｄと、噴出管７０との違いは、噴出管７０Ｄが噴出管７０のノズル７２に代えてノズル（「フリップフロップノズル」）７２Ｄを備えることである。ノズル７２Ｄは、ノズル７２の噴出口７４、連結ダクト７５に代えて噴出口７４Ｄ、連結ダクト７８を備えることを除いてノズル７２と同様に構成されている。

連結ダクト７８は、連結ダクト７５の一対の側壁部７５ａ、７５ｂと外周壁部７５ｃに代えて、一対の側壁部７８ａ、７８ｂと外周壁部７８ｃとを備える。一対の側壁部７８ａ、７８ｂは、一対の側壁部７５ａ、７５ｂに比べて筒状体７１の径方向に短い。外周壁部７８ｃは、外周壁部７５ｃよりも肉厚である、すなわち、外周壁部７５ｃよりも外周壁部７８ｃの径方向の幅が大きい。また、外周壁部７８ｃの厚みは、筒状体７１の周壁の厚みよりも大きい。そして、噴出口７４Ｄは、外周壁部７８ｃの一部（基板Ｗの周縁に対向する一部）を貫通して形成されている。噴出口７４Ｄは、筒状体７１の軸に垂直な切断面における断面が台形の角孔状に構成されており、その先端に向かう（基板Ｗ側に向かう）につれて連結ダクト７８の周方向（筒状体７１の周方向）の幅が拡大する。

図１２（図１３）のノズル７２Ｃ（７２Ｄ）によれば、筒状体７１の径方向において、噴出口７４Ｃ（７４Ｄ）の周壁は、流入口７３の周壁よりも長いので、噴出口７４Ｃ（７４Ｄ）においてコアンダ効果が得られやすくなっている。

図１４は、図３の噴出管７０が含むノズル７２のシミュレーション結果である。図１４では、流入口７３の中心と噴出口７４の中心とを結ぶ方向が横向きになるようにノズル７２が示されている。図１５は、図１４のシミュレーションにおけるノズル７２の各部のサイズを示す断面図である。図１５では、正面断面図と側面断面図とが示されている。

ノズル７２の半径ｒ１は、１９ｍｍである。角度θ１は、筒状体７１の中心軸に沿って見たときに、筒状体７１の中心軸と噴出口７４の壁面７４ａとを結ぶ直線と、当該中心軸と噴出口７４の壁面７４ｂとを結ぶ直線とがなす角度であり、θ１は、１５°である。筒状体７１の周方向における流入口７３の幅ｄ１は、０．５ｍｍである。筒状体７１の径方向における流路８０の幅ｄ２は、４．５ｍｍである。筒状体７１の径方向において、流入口７３の幅ｄ３は、２．５ｍｍであり、噴出口７４の幅ｄ４は、２ｍｍである。流入口７３と噴出口７４のそれぞれの筒状体７１の軸方向における長さｄ５は、１．５ｍｍである。

図１４のシミュレーション結果は、一定の間隔の３つの時刻におけるノズル７２の内部および周囲の各部における処理液の流れの向きを図中の各矢印にて示している。噴出口７４から噴出する処理液の液流は、壁面７４ｂに沿って流出した後、一定時間の経過後に壁面７４ａに沿って流出し、さらに一定時間の経過後に、再び、壁面７４ｂに沿って流出している。このシミュレーション結果からノズル７２が噴出する処理液の噴出方向が振動していることが判る。すなわち、ノズル７２が噴出する処理液の液流の自励振動が実現されることが判る。

図１６は、他の実施形態に係る噴出管７０Ｅの一部を拡大して示す斜視図である。図１７は、筒状体７１の中心軸と垂直な切断面における噴出管７０Ｅの断面図である。

上述した基板処理装置１は、ノズル７２（７２Ａ〜７２Ｄ）を含む噴出管７０（７０Ａ〜７０Ｄ）を備え、ノズル７２（７２Ａ〜７２Ｄ）は、連結ダクト７５（７６〜７８）を備え、連結ダクト７５（７６〜７８）は筒状体７１（７１Ｂ）の周壁に隣接して、筒状体７１（７１Ｂ）の周方向に延在している。しかし、図１６、図１７に示されるように、基板処理装置１が、例えば、噴出管７０に代えて、噴出管７０Ｅを備え、噴出管７０Ｅが、筒状体７１と、筒状体７１に設けられた少なくとも１つのノズル（「フリップフロップノズル」）７２Ｅを備えていてもよい。図１６、図１７の例では、噴出管７０Ｅは、複数のノズル７２Ｅを備えている。

当該複数のノズル７２Ｅは、筒状体７１から処理槽４１内の基板Ｗ（不図示）側にそれぞれ突出して、筒状体７１の中心軸に沿って一列に配列されている。ノズル７２Ｅは、ノズル７２の流入口７３、噴出口７４、および連結ダクト７５に代えて、流入口７３Ｅ、噴出口７４Ｅ、および連結ダクト７５Ｅを備えている。連結ダクト７５Ｅは、筒状体７１の軸方向と直交する軸を取り囲む矩形状の配設経路に沿って延在している。図１６の例では、筒状体７１から各ノズル７２Ｅに処理液を供給しているが、各ノズル７２Ｅについて、当該ノズルのみに処理液を供給する専用の供給管が筒状体７１に代えて設けられてもよい。

以上のように構成された本実施形態に係る基板処理装置によれば、処理液を収容し、当該処理液に浸漬された基板Ｗに処理を施す処理槽４１と、処理液を供給する処理液供給源６５と、処理槽４１に収容された基板Ｗの下方に設けられ、処理液供給源６５が供給する処理液を、その噴出方向を振動させつつ処理槽４１内に噴出するノズル７２と、を備える。従って、処理槽４１内の一定の位置に処理液の渦が生ずることを抑制できる。

また、本実施形態に係る基板処理装置によれば、ノズル７２は、処理槽４１に収容された基板Ｗの主面と平行な面に沿って処理液の噴出方向を振動させる。従って、ノズル７２が噴出する処理液によって基板Ｗが損傷することを抑制できる。

また、本実施形態に係る基板処理装置によれば、ノズル７２は、流入口７３から流入し噴出口７４へ向かう処理液の流れを横切る環状の流路８０を形成する連結ダクト７５を備え、流入口７３から噴出口７４に流れる処理液により生じた圧力差によって環状の流路８０を流れる処理液を駆動して噴出口７４から噴出する処理液の噴出方向を振動させ、流入口７３から噴出口７４へ向かう処理液の流れを環状の流路８０が横切る方向は、処理槽４１に収容された基板Ｗの主面と平行である。従って、ノズル７２は、処理槽４１に収容された基板Ｗの主面と平行な面に沿って処理液の噴出方向を振動させることができるので、ノズル７２が噴出する処理液によって基板Ｗが損傷することを抑制できる。

また、本実施形態に係る基板処理装置と、以上のように構成された本実施形態に係る噴出管の何れによっても、連結ダクト７５は、筒状体７１をその周方向に沿って取り囲むように筒状体７１の周壁から外側にそれぞれ立設されて、流入口７３を間に挟む環状の一対の側壁部７５ａ、７５ｂと、筒状体７１の周壁のうち一対の側壁部７５ａ、７５ｂの間の部分周壁に対向して一対の側壁部７５ａ、７５ｂによって囲まれる空間を閉塞する外周壁部７５ｃとを含んでいる。すなわち、連結ダクト７５は筒状体７１の周壁に隣接して、筒状体７１の周方向に延在する。筒状体７１が周方向に延在することにより、連結ダクトが筒状体７１の軸方向に延在するフリップフロップノズルを備える噴出管に比べて、筒状体７１の軸方向における連結ダクト７５の長さを短くできる。また、連結ダクト７５が筒状体７１の周壁に隣接しててることにより、連結ダクトが筒状体７１の軸方向に延在するフリップフロップノズルを備える噴出管に比べて、筒状体７１の径方向における連結ダクト７５の突出量を小さくできる。従って、筒状体７１の軸方向に複数のノズル７２を設ける場合にノズル７２の個数、すなわち流入口７３および噴出口７４の個数を増やすことができるとともに、筒状体７１とノズル７２とを含む噴出管７０を小さくできる。

また、本実施形態に係る基板処理装置によれば、筒状体７１は、処理槽４１に収容された基板Ｗの主面を含む平面を貫通する方向に延在し、連結ダクト７５の一対の側壁部７５ａ、７５ｂおよび外周壁部７５ｃと、筒状体７１の周壁とに囲まれた環状の流路８０は、基板Ｗの主面と平行である。従って、流入口７３から噴出口７４へ向かう処理液の流れを環状の流路８０が横切る方向は、処理槽４１に収容された基板Ｗの主面と平行になる。従って、ノズル７２は、処理槽４１に収容された基板Ｗの主面と平行な面に沿って処理液の噴出方向を振動させることができるので、ノズル７２が噴出する処理液によって基板Ｗが損傷することを抑制できる。

また、本実施形態に係る基板処理装置と、本実施形態に係る噴出管の何れによっても、連結ダクト７６（７７）の一対の側壁部７６ａ、７６ｂ（７７ａ、７７ｂ）および外周壁部７６ｃ（７７ｃ）と、筒状体７１（７１Ｂ）の周壁とに囲まれた環状の流路８０の断面積は流入口７３から連結ダクト７６（７７）の周方向に沿って遠ざかるにつれて大きくなっている。従って、環状の流路８０を流れる処理液が受ける抵抗を減少させることができるので、流入口７３から噴出口７４に流れる処理液により生じた圧力差によって環状の流路８０を流れる処理液を駆動することが容易になり、噴出口７４から噴出する処理液の噴出方向を振動させることが容易になる。

また、本実施形態に係る基板処理装置と、本実施形態に係る噴出管の何れによっても、連結ダクト７６（７７）の一対の側壁部７６ａ、７６ｂ（７７ａ、７７ｂ）の一方の側壁部７６ｂ（７７ｂ）は、筒状体７１（７１Ｂ）の中心軸と交差する平面に沿って筒状体７１（７１Ｂ）の周壁から立設されており、他方の側壁部７６ａ（７７ａ）は、一方の側壁部７６ｂ（７７ｂ）との間隔が流入口７３から連結ダクト７６（７７）の周方向に沿って遠ざかるにつれて拡がるように当該周方向において湾曲している。従って、例えば、連結ダクト７６（７７）を溶接によって筒状体７１（７１Ｂ）に取り付ける場合に、取付作業が容易になる。

本発明は詳細に示され記述されたが、上記の記述は全ての態様において例示であって限定的ではない。したがって、本発明は、その発明の範囲内において、実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。

１ 基板処理装置
４１ 処理槽
４３ 内槽
４５ 外槽
４７ リフタ
４７ａ リフタヘッド
４７ｂ 基板支持部材
４８ 昇降機構
６５ 処理液供給源
７０，７０Ａ〜７０Ｅ 噴出管（ノズル構造）
７２，７２Ａ〜７２Ｅ ノズル（フリップフロップノズル）
７３，７３Ｅ 流入口
７４，７４Ｃ〜７４Ｅ 噴出口
７４ａ、７４ｂ 壁面
７５〜７８，７５Ｅ 連結ダクト
７５ａ、７５ｂ 側壁部
７６ａ、７６ｂ 側壁部
７７ａ、７７ｂ 側壁部
７８ａ、７８ｂ 側壁部
７５ｃ〜７８ｃ 外周壁部
８０ 流路
Ａ，Ｂ 点
ＣＨＢ１ 基板処理機構
Ｗ 基板

Claims (8)

1. 処理液を収容し、当該処理液に浸漬された基板に処理を施す処理槽と、
   処理液を供給する処理液供給源と、
   前記処理槽に収容された前記基板の下方に設けられ、前記処理液供給源が供給する処理液を、その噴出方向を振動させつつ上方の前記基板側に向けて前記処理槽内に噴出するフリップフロップノズルと、
   を備え、
   前記フリップフロップノズルは、
   前記処理液の流入口と、前記流入口に対向する噴出口と、前記流入口から流入し前記噴出口へ向かう前記処理液の流れを横切る環状の流路を形成する連結ダクトとを備え、前記流入口から前記噴出口に流れる前記処理液により生じた圧力差によって前記環状の流路を流れる前記処理液を駆動して前記噴出口から噴出する前記処理液の噴出方向を前記処理槽に収容された前記基板の主面と平行な面に沿って振動させ、
   前記環状の流路の全体が、前記処理槽に収容された前記基板の主面と平行である、基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置であって、
   前記処理槽に収容された前記基板の下方に設けられ、前記処理液供給源が供給する前記処理液を内部に導く筒状体をさらに備え、
   前記フリップフロップノズルは、
   前記処理液の流入口と、前記流入口に対向する噴出口と、前記流入口から流入し前記噴出口へ向かう前記処理液の流れを横切る環状の流路を形成する連結ダクトとを備え、前記流入口から前記噴出口に流れる前記処理液により生じた圧力差によって前記環状の流路を流れる前記処理液を駆動して前記噴出口から噴出する前記処理液の噴出方向を振動させ、
   前記流入口は、前記筒状体の軸周りの周壁を貫通して設けられ、
   前記連結ダクトは、
   前記筒状体をその周方向に沿って取り囲むように前記筒状体の周方向全周にわたって前記筒状体の周壁から外側にそれぞれ立設されて互いに対向し、前記流入口を間に挟む環状の一対の側壁部と、前記筒状体の周壁のうち前記一対の側壁部の間の環状の部分周壁に対向して前記一対の側壁部によって囲まれる空間を閉塞する外周壁部とを含み、
   前記噴出口は、前記外周壁部のうち前記流入口に対向する部分を貫通して設けられている、基板処理装置。
3. 請求項２に記載の基板処理装置であって、
   前記筒状体は、前記処理槽に収容された前記基板の主面を含む平面を貫通する方向に延在し、
   前記連結ダクトの前記一対の側壁部および前記外周壁部と、前記筒状体の周壁とに囲まれた環状の流路は、前記基板の主面と平行である、基板処理装置。
4. 請求項２または請求項３に記載の基板処理装置であって、
   前記連結ダクトの前記一対の側壁部および前記外周壁部と、前記筒状体の周壁とに囲まれた環状の流路の断面積は前記流入口から前記連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて大きくなっている、基板処理装置。
5. 請求項４に記載の基板処理装置であって、
   前記連結ダクトの前記一対の側壁部の一方の側壁部は、前記筒状体の中心軸と交差する平面に沿って前記筒状体の周壁から立設されており、他方の側壁部は、前記一方の側壁部との間隔が前記流入口から前記連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて拡がるように前記連結ダクトの周方向において湾曲している、基板処理装置。
6. 処理液を導くための筒状体と、
   前記筒状体が導く処理液を噴出するフリップフロップノズルと、
   を備え、
   前記フリップフロップノズルは、
   前記処理液の流入口と、前記流入口に対向する噴出口と、前記流入口から流入し前記噴出口へ向かう前記処理液の流れを横切る環状の流路を形成する連結ダクトとを備え、前記流入口から前記噴出口に流れる前記処理液により生じた圧力差によって前記環状の流路を流れる前記処理液を駆動して前記噴出口から噴出する前記処理液の噴出方向を振動させ、
   前記流入口は、前記筒状体の軸周りの周壁を貫通して設けられ、
   前記連結ダクトは、
   前記筒状体をその周方向に沿って取り囲むように前記筒状体の周方向全周にわたって前記筒状体の周壁から外側にそれぞれ立設されて互いに対向し、前記流入口を間に挟む環状の一対の側壁部と、前記筒状体の周壁のうち前記一対の側壁部の間の環状の部分周壁に対向して前記一対の側壁部によって囲まれる空間を閉塞する外周壁部とを含み、
   前記噴出口は、前記外周壁部のうち前記流入口に対向する部分を貫通して設けられている、ノズル構造。
7. 請求項６に記載のノズル構造であって、
   前記連結ダクトの前記一対の側壁部および前記外周壁部と、前記筒状体の周壁とに囲まれた環状の流路の断面積は前記流入口から前記連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて大きくなっている、ノズル構造。
8. 請求項７に記載のノズル構造であって、
   前記連結ダクトの前記一対の側壁部の一方の側壁部は、前記筒状体の中心軸と交差する平面に沿って前記筒状体の周壁から立設されており、他方の側壁部は、前記一方の側壁部との間隔が前記流入口から前記連結ダクトの周方向に沿って遠ざかるにつれて拡がるように前記連結ダクトの周方向において湾曲している、ノズル構造。

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