JPH11143077A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 解像力、感度、耐熱性、フォーカスマージ
ン、露光マージン、密着性、発泡マージン、保存安定
性、塗布性の諸性能に優れ、微細加工用に有用なフォト
レジストを提供する。 【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光性化合
物（Ｂ）、および溶剤を含有する感光性樹脂組成物にお
いて、該アルカリ可溶性樹脂として、フェノール性化合
物と1,3,5 −トリオキサンとの重縮合物からなるノボラ
ック樹脂を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アルカリ可溶性ノ
ボラック樹脂、感光性化合物及び溶剤を主成分とする、
紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線に感応する
ポジ型レジスト組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】集積回路は年を追うごとに高集積化さ
れ、ダイナミックランダムアクセスメモリ−（ＤＲＡ
Ｍ）を例にとれば、現在では、６４Ｍビットの記憶容量
を持つものの本格生産が開始されている。それに伴い集
積回路の生産に不可欠のフォトリソグラフィ−技術に対
する要求も年々厳しくなってきている。ポジ型レジスト
においても、今やサブミクロンのパターン形成が要求さ
れるに到っており解像力の優れたものが要望されてい
る。近年集積回路製造のフォトリソグラフィー行程に於
いて、高解像を実現するため露光機側も改良がなされ従
来のコンタクト形式から縮小投影方式が注目されるよう
になって来た。しかしながら縮小投影方式はスループッ
トが低いという問題点が有り、集積回路の生産性を上げ
るためにもポジ型レジストの高感度化が望まれている。
又、エッチング技術も従来のウエットエッチングに変わ
りドライエッチングが主流になってきており、その為レ
ジストの耐熱性も従来以上に要求されるようになってき
た。しかし一般的に感度の向上はポジ型レジストに用い
られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂の分子量を低くす
ることにより達成されるが、この方法だと耐熱性が悪く
なったり、未露光部の膜減りが大きくなり、露光部との
溶解速度差が取れず、いわゆる露光部と未露光部とのコ
ントラストの低下を招き、ひいては解像力の低下を生じ
る。一方アルカリ可溶性ノボラック樹脂の分子量を高く
すると耐熱性及び解像力は改善されるが、感度が低下を
生じる。すなわち、一方を改良しようとすると、他の一
方が更に悪くなるというきわめて深刻な不都合を生じ
る。

【０００３】以上のような問題点を解決する目的で種々
感光性樹脂組成物の研究が行われており、アルカリ可溶
性樹脂についても様々なものが提案されているが、何れ
も感度、解像力、耐熱性の観点からさらなる改善が望ま
れている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
の背景に鑑み、解像力、感度、耐熱性、フォーカスマー
ジン、露光マージン、密着性、発泡マージン、保存安定
性、塗布性の諸性能に優れた、感光性樹脂組成物を提供
することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】このような問題点を解決
するために本発明者等は種々検討を重ねた結果、アルカ
リ可溶性樹脂としてフェノール性化合物の混合物と１，
３，５−トリオキサンから得られる重縮合物であるノボ
ラック樹脂を用いることによりにその目的を達成しうる
ことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに
至った。即ち、本発明の要旨は、アルカリ可溶性樹脂
（Ａ）、感光性化合物（Ｂ）、および溶剤を主成分とす
る感光性樹脂組成物において、該アルカリ可溶性樹脂
が、フェノール性化合物と１，３，５−トリオキサンと
の重縮合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成
物に存する。

【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
アルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性化合物と
１，３，５−トリオキサンとの重縮合物からなるノボラ
ック樹脂を含有することを必須の用件とする。フェノー
ル性化合物としては、例えばフェノール，ｏ−クレゾー
ル、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール，３，５−キシレ
ノール、２，５−キシレノール、２，３−キシレノー
ル、３，４−キシレノール、２，３，５−トリメチルフ
ェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、２−ｔ
−ブチルフェノール、３−ｔ−ブチルフェノール、４−
ｔ−ブチルフェノール、レゾルシノール、２−メチルレ
ゾルシノール、４−メチルレゾルシノール、５−メチル
レゾルシノール、カテコール、４−ｔ−ブチルカテコー
ル、ピロガロール、２−メトキシフェノール、３−メト
キシフェノール、４−メトキシフェノール、２−メトキ
シレゾルシノール、２，３−ジメトキシフェノール、
２，５−ジメトキシフェノール、３，５−ジメトキシフ
ェノール、２−エチルフェノール、３−エチルフェノー
ル、４−エチルフェノール、２，３，５−トリエチルフ
ェノール、３，４，５−トリエチルフェノール、２，３
−ジエチルフェノール、３，５−ジエチルフェノール、
２−イソプロピルフェノール、、３−イソプロピルフェ
ノール、、４−イソプロピルフェノール、２−プロピル
フェノール、３−プロピルフェノール、４−プロピルフ
ェノール、２−メトキシ−５−メチルフェノール、２−
ｔ−ブチル−５−メチルフェノールや、特開平６−０７
３１１９、同７−２８１４３０、同７−２８１４３１等
の公報に開示されているシクロヘキシル基をもつフェー
ノル性化合物などを挙げることが出来る。これらの化合
物は単独で叉は２種以上組み合わせて用いられる。

【０００７】本発明においては、特にフェノール性化合
物としてｍ−クレゾールを含むものを用いるのが好まし
い。ｍ−クレゾールは例えば、クレゾール及び／又はキ
シレノールなどの他のフェノール性化合物と併用して用
いてもよいが、本発明では全フェノール性化合物に対す
るｍ−クレゾールの量を４０モル％以上、好ましくは６
０モル％以上とするのが効果上望ましい。さらに好まし
くは、フェノール性化合物として、ｍ−クレゾール、ｐ
−クレゾールおよび２，５−キシレノールの３種を混合
して用いることが望ましい。

【０００８】本発明でのアルカリ可溶性樹脂はアルデヒ
ド源として１，３，５−リオキサンを主成分として使用
することを必須とするが、本特許の趣旨を越えない限り
で他のアルデヒド類を少量用いても良い。他のアルデヒ
ド類としてはｏ−メトキシベンズアルデヒド、ｍ−メト
キシベンズアルデヒド、ｐ−メトキシベンズアルデヒ
ド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシ
ベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、
バニリン、ｏ−バニリン、４−ヒドロキシ−３−メチル
ベンズアルデヒド、３−メチル−４−メトキシベンズア
ルデヒド、２，６−ジメチルベンズアルデヒド、３，６
−ジメチルベンズアルデヒド、３，５−ジメチルベンズ
アルデヒド、２，３−ジヒドロキシベンズアルデヒド、
２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，５−ジヒ
ドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシベン
ズアルデヒド、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズア
ルデヒド、２−ヒドロキシ−５−メトキシベンズアルデ
ヒド、３−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒ
ド、５−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド、
テレフタルアルデヒドなどの芳香族アルデヒド類や、ア
セトアルデヒド、パラアルデヒド、プロピオンアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド、グリオキサール等のアルキルア
ルデヒド類、特開平８−２０２０３４、同８−２７２０
９３、同９−１５８５１、同−２５７７９０８等の公報
に開示されたアルデヒド類等が挙げられる。これら芳香
族アルデヒド類やアルキルアルデヒド類は１，３，５−
トリオキサンと共に単独でも叉は任意の混合割合で混合
して使用して用いても良い。

【０００９】上述のようなフェノール性化合物と１，
３，５−トリオキサンとの重縮合物を製造する方法とし
ては、常法に従い、例えば酸触媒の共存下、混合加熱、
重縮合させる方法が挙げられる。この酸触媒としては例
えば塩酸、硝酸、硫酸、等の無機酸、又は蓚酸、p-トル
エンスルフォン酸等の有機酸が用いられる。特に好まし
くは硫酸、p-トルエンスルフォン酸が用いられる。蓚酸
や塩酸では得られるノボラック樹脂の分子量が小さめに
なる傾向にある。本発明の重縮合反応に於いては溶媒を
使用することもできる。これら溶媒としては例えばメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のア
ルコール類やエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル
アミルケトン等のケトン類が挙げられる。

【００１０】反応温度はフェノール性化合物に応じて異
なるが、通常１０〜２００℃であり、好ましくは２０〜
１５０℃である。反応終了後に生成したノボラック樹脂
を分離・回収するには水に不溶性でノボラック樹脂には
良溶媒な溶媒に溶解させ水洗等により酸触媒を除いた後
反応溶媒を留去して除きノボラック樹脂を分離・回収す
る方法、反応終了後そのまま反応液を内温を１５０〜２
５０℃に上昇させ減圧下に未反応原料、酸触媒及び水を
留去し、ついで溶融したノボラック樹脂を取り出す方
法、反応溶媒に水に可溶性な溶媒を用いたものは反応終
了後、反応混合物を水等の溶媒に添加することによりノ
ボラック樹脂を析出させ、析出物を櫨取、乾燥すること
により取得する方法などが採用できる。これらノボラッ
ク樹脂の分離・回収方法はそれぞれ特徴があり、反応終
了後、そのまま内温を上昇させる方法、ノボラック樹脂
を水等に析出させる方法は簡便であるが触媒に使用した
酸が得られたノボラック樹脂中に僅かではあるが残存す
る可能性があり、反応終了後、反応液と水にて分液する
方法は、抽出後再度溶媒留去の操作が必要なため煩雑で
はあるが残存する酸の量は上記２つのものより少ない傾
向にある。これらノボラック樹脂は低分子量成分を、特
開昭６０−４５２３８、同６０−９７３４７、同６０−
１４０２３５、同６０−１８９７３９、同６４−１４２
２９、特開平１−２７６１３１、同２−６０９１５、同
２−２７５９５５、同２２８２７４５、同４ー１０１１
４７、同４−１２２９３８等の公報に開示されている、
分別沈澱、分別溶解、カラムクロマトグラフィー等の方
法により除去することもできる。またこれらノボラック
樹脂は単独でも、又２種以上混合して用いてもよい。本
発明のノボラック樹脂のポリスチレン換算重量平均分子
量（以下ＭＷという）は通常２５００〜３００００が好
ましい。ＭＷが２５００未満ではポジ型レジストの耐熱
性が悪化し、３００００を超えると感度の悪化が著しく
ノボラック樹脂として良好なものが得られにくい。

【００１１】本発明では、上記のノボラック樹脂以外に
他のアルカリ可溶性樹脂を含有しても良い。他のアルカ
リ可溶性樹脂としては、前記ノボラック樹脂とは異なる
フェノール性化合物やアルデヒド類を重縮合して得たノ
ボラック樹脂、ポリビニルフェノール、ポリビニルアル
コール、ポリアクリル酸等が挙げられる。本発明にて用
いられる感光性化合物（Ｂ）は、例えばオルトキノンジ
アジド基を含む感光剤等が挙げられる。

【００１２】オルトキノンジアジド基を含む感光剤とし
ては、１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルフォン
酸、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルフォン
酸、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォン酸
等のエステルもしくはアミド等のオルトキノンジアジド
系感光剤が好適であり、具体的にはグリセリン、ペンタ
エリスリト−ル等のポリヒドロキシアルキル化合物、ノ
ボラック樹脂、ビスフェノ−ルＡ、没食子酸エステル、
ケルセチン、モリン、ポリヒドロキシベンゾフェノン、
特−２６１８９４７号、同−２６２６４７９、同−２６
２９９８８、同−２６３１７４４、同−２６２９３５
６、同−２６２８６１５、特開平４−２３０７５５、同
８−１２９２５５、同８ー１９０１９５、同５−３３３
９３６、同７−２８１４２８、同７−２６１３８２、同
７−２６１３８１、同６−２８９６０５、同５−５１４
６５、同５−８５８５６、同８−２４５４６３、同８−
２４５４６１、同８−２６２７１２、同８−２６２７０
８、同８−３２０５５８、同８−３３９０７９、同９−
２２１１２、同９−４３８４１、同９−１３６８７１、
ＥＰ−０７２２１２０Ａ１等の公報に開示された特定の
ポリヒドロキシ芳香族化合物の１，２−ベンゾキノンジ
アジド−４−スルフォン酸、１，２−ナフトキノンジア
ジド−４−スルフォン酸、１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルフォン酸エステル等が用いられる。

【００１３】これらの感光剤は、単独で用いても、二種
以上を混合して用いてもよい。中でも、分子量を限定し
たノボラック樹脂、ポリヒドロキシベンゾフェノン等の
ポリヒドロキシ芳香族化合物の１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルフォン酸エステルが好ましく用いられ
る。ここで用いられるノボラック樹脂のＭＷは５００〜
２０００が特に好ましい。これらの感光剤の水酸基のエ
ステル化による置換率の好適な範囲は感光剤の種類によ
り様々であるが、ノボラック樹脂のエステル化物につい
ては１５〜７０％が好ましく、ポリヒドロキシベンゾフ
ェノンのエステル化物については５０〜９５％が好まし
い。この置換率が低すぎると、フォトレジスト組成物の
解像力が劣化し、又高すぎると、感度の低下が著しいた
め好ましくない。その他、例えば特開平２−２６９３５
１や特開平３−４８２４９に記載されている様なフェノ
−ル性水酸基を持った化合物や本発明のアルカリ可溶性
樹脂のナフトキノンジアジドスルフォン酸エステルも感
光剤として好ましく用いることができる。なお、エステ
ル化反応は、通常、エステル化される化合物と所定量の
キノンジアジドスルホン酸クロライドとを有機溶媒中で
室温下、反応させることにより実施することができる。

【００１４】本発明に於いては、発明の範囲内で２種以
上の上記、感光性化合物を併用して用いても良い。又、
必要に応じ、酸性条件下で作用するアルカリ可溶性樹脂
の架橋剤を添加することもできる。この架橋剤の具体例
としてはヘキサメトキシメチル化メラミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラヒドロキシメチルサクシナミド、テ
トラメトキシメチル化尿素、２，４，６−トリヒドロキ
シメチル化フェノール等のヒドロキシメチル基、メトキ
シメチル基、エトキシメチル基等の架橋基を１分子中に
個以上有する化合物が挙げられる。本発明のフォトレジ
スト液の調製に用いられる溶媒は、例えば乳酸メチル、
乳酸エチル、グリコ−ル酸エチル等のグリコ−ル酸エス
テル誘導体類、エチルセロソルブアセテ−ト、メチルセ
ロソルブアセテ−ト、プロピレングリコ−ルモノメチル
エ−テルアセテ−ト等のグリコ−ルエ−テルエステル誘
導体類、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等のケト
ンエステル類、３−メトキシ−プロピオン酸メチル、３
−メトキシ−プロピオン酸エチル、３−エトキシ−プロ
ピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等の
アルコキシカルボン酸エステル類、アセチルアセトン、
シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン
等のケトン誘導体類、ジアセトンアルコ−ルメチルエ−
テル等のケトンエ−テル誘導体類、アセト−ル、ジアセ
トンアルコ−ル等のケトンアルコ−ル誘導体類、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルフォルムアミド等のアミド誘
導体類、アニソ−ル、ジエチレングリコ−ルジメエチル
エ−テル等のエ−テル誘導体類等が挙げられる。又、必
要に応じてキシレン、酢酸ブチル等を添加した混合溶媒
を用いることもできる。中でも、保存安定性、膜の均一
性、安全性、取扱いの容易さ等を勘案すると３−メトキ
シプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチ
ル、２−ヘプタノン、乳酸エチルもしくは乳酸エチルを
主成分として含む混合溶媒が好ましく用いられる。

【００１５】本発明の感光性樹脂組成物におけるアルカ
リ可溶性樹脂の濃度は、通常、１〜４０重量％である。
また、キノンジアジド系感光性化合物の濃度は０．１〜
１５重量％である。更にアルカリ可溶性樹脂に対するキ
ノンジアジド系感光性化合物の割合は、通常０．１〜
１．３の重量倍である。更に、塗布性を向上させるため
に特開平９−１６０２３４に記載されているような界面
活性剤を添加することができる。その添加量としてはフ
ォトレジスト液に対して１０００ｐｐｍ以下が好まし
い。又、基板よりの乱反射光の影響を少なくするために
「工業用色素の技術と市場」（ＣＭＣ出版）や、染料便
覧（有機合成化学協会編）に記載の市販吸光剤等の吸光
性材料を、又、感度向上のための増感剤等を又溶解特性
をコントロールするためにトリフェニルメタノールやト
リフェニルメタン、ベンゾピナコール、ニンヒドリン、
ヒドリダンチン等をさらに添加することもできる。増感
剤としては、ＭＷが５００〜１５００以下のノボラック
樹脂、ビスフェノ−ルＡ、ビスフェノールＳ、ビス
（３、５- ジメチル-4- ヒドロキシフェニル）スルフォ
ン、没食子酸エステル、ケルセチン、モリン、ポリヒド
ロキシベンゾフェノンや特開平４−３７７５０、同４−
１３４８６３、同４−２１１２５７、同８−５９５３
０、同８−９９９２２、同９−１３６８５１等の公報に
開示されたポリヒドロキシ芳香族化合物や４- ヒドロキ
フェニル酢酸、安息香酸等のカルボン酸類等が挙げられ
る。

【００１６】ＩＣ製造においては、使用する材料は微量
金属に代表される不純物は極力少ない方が好ましいが、
該フォトレジスト組成物についても純度の向上のため
に、それぞれの構成成分をそれぞれイオン交換法等によ
り精製を行ってから混合してフォトレジスト組成物を製
造しても、又、それぞれの構成成分を混合してフォトレ
ジスト液を製造してからイオン交換法等により精製を行
ってその使用に供しても良い。又、実際に集積回路の製
造に使用するには、サブμｍのポアのフィルタ−により
瀘過したものが供されるのが通常である。本発明の感光
性樹脂組成物を用いれば、従来品と比較して、解像力、
感度、耐熱性の諸性能に優れているため、微細加工用の
フォトレジストに適する。

【００１７】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はその主旨を超えない限り以下の実施例
により何等限定されるものではない。尚、以下の実施例
に於いて、分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィーにより分析した結果のポリスチレン換算重量平
均分子量を、又、エステル化率は仕込モル比から求めた
エステル化率を表す。

【００１８】ノボラック樹脂合成例１ ５００ｍｌセパラブルフラスコに、ｍ−クレゾール８
１．１１ｇ、ｐ−クレゾール６４．８８ｇ、２，５−キ
シレノール１８．３３ｇ、１，３，５−トリオキサン３
８．５４ｇを仕込み、攪拌下、オイルバスの温度を１２
０℃まで昇温し、内温が１００℃になったところで、p-
トルエンスルフォン酸一水和物２．８５ｇを添加してそ
の温度のまま４時間反応する。反応終了後メチルイソブ
チルケトン３５０ｇに溶解させた反応溶液１Ｌの分液槽
に移し内温６０℃にて水３００ｇで３回抽出させ中和す
る。ついで有機層側を１Ｌのセパラブルフラスコに移し
内温を１８０℃に２時間かけて昇温しながらメチルイソ
ブチルケトンを系外へ留去し、留去後、更に内温を１９
５℃に昇温し、２０ｔｏｒｒの減圧下、残存するメチル
イソブチルケトンの一部及び未反応のモノマーを留去し
てノボラック樹脂（Ａ−１）を得た。このものの分子量
をゲルパーミションクロマトグラフィーにより分析した
ところ、ポリスチレン換算平均分子量は８２７０であっ
た。

【００１９】ノボラック樹脂合成例２ ｍ−クレゾール９７．３３ｇ、ｐ−クレゾール４８．６
６ｇ、２，５−キシレノール１８．３３ｇ、１，３，５
−トリオキサン３８．５４ｇ、p-トルエンスルフォン酸
一水和物２．８５ｇを用いた以外はノボラック樹脂合成
例１と同様の方法で合成して、ノボラック樹脂（Ａ−
２）を得た。このものの分子量をゲルパーミションクロ
マトグラフィーにより分析したところ、ポリスチレン換
算平均分子量は９７３０であった。

【００２０】ノボラック樹脂合成例３ ５００ｍｌセパラブルフラスコにｍ−クレゾール８１．
１１ｇ、ｐ−クレゾール６４．８８ｇ、２，５−キシレ
ノール１８．３３ｇ、蓚酸２水化物７．５ｇを仕込み、
攪拌下、内温を９５℃に昇温し、３７％ホルマリン水溶
液を８９．４８ｇを適下しその温度を維持したまま５時
間反応を行った。ついで内温を１８０℃に１．５時間か
けて昇温しながら水を系外へ留去し、留去後、更に内温
を１９５℃に昇温し、２０ｔｏｒｒの減圧下、未反応の
モノマーを留去してノボラック樹脂（Ａ−３）を得た。
このものの分子量をゲルパーミションクロマトグラフィ
ーにより分析したところ、ポリスチレン換算平均分子量
は１００７０であった。

【００２１】ノボラック樹脂合成例４ ｍ−クレゾール９７．３２ｇ、ｐ−クレゾール４８．６
６ｇ、２，５−キシレノール１８．３３ｇ、蓚酸２水化
物７．５ｇ、３７％ホルマリン水溶液を８６．３８ｇを
用いた以外はノボラック樹脂合成例３と同様の方法で合
成して、ノボラック樹脂（Ａ−４）を得た。このものの
分子量をゲルパーミションクロマトグラフィーにより分
析したところ、ポリスチレン換算平均分子量は９８００
であった。

【００２２】ノボラック樹脂合成例５ ｍ−クレゾール６４．８８ｇ、ｐ−クレゾール８１．１
１ｇ、２，５−キシレノール１８．３３ｇ、蓚酸２水化
物７．５ｇ、３７％ホルマリン水溶液を８７．６６ｇを
用いた以外はノボラック樹脂合成例３と同様の方法で合
成して、ノボラック樹脂（Ａ−５）を得た。このものの
分子量をゲルパーミションクロマトグラフィーにより分
析したところ、ポリスチレン換算平均分子量は９５００
であった。

【００２３】ノボラック樹脂合成例６ ３００ｍｌの４つ口フラスコにｍ−クレゾール７５．６
ｇ，４−ヒドロキシベンズアルデヒド３２．０３ｇ、３
５％塩酸１．５ｍｌ及びエタノール１２０ｇを仕込み、
室温攪拌下、９０％アセトアルデヒド１２．８３ｇを滴
下し、その後油浴温度を１００℃に維持し８時間加熱還
流し反応を行った。反応終了後反応液に１２０ｇのエタ
ノールを加えた後、４ｌの水中に撹拌下、適下し、結晶
物を析出させた。得られた結晶物をろ取後、水２ｌにて
３回洗浄した後乾燥させてノボラック樹脂（Ａ−６）を
得た。このものの分子量をゲルパーミションクロマトグ
ラフィーにより分析したところ、ポリスチレン換算平均
分子量は９５０であった。

【００２４】フォトレジスト組成物調製例１ アルカリ可溶性樹脂としてノボラック樹脂（Ａ−１）
４．４８重量部と増感剤としてノボラック樹脂（Ａ−
６）０．９２重量部、感光剤（ｍ−クレゾール及びアセ
トアルデヒドの重縮合物（ＭＷ＝１０５８）の1,2-ナフ
トキノンジアジド-5- スルフォン酸のエステル化物（エ
ステル化率３２．５％）（Ｂ−１））３．７１重量部、
乳酸エチル／酢酸ブチルの重量比９／１の混合溶媒３
０．８０重量部及び、塗布性向上剤としてフロラードＦ
Ｃ−４３０（住友スリーエム（株）社製）を１００ｐｐ
ｍになるように添加し、混合溶解した。これを孔径０．
２μｍのメンブレンフィルターにて濾過してフォトレジ
スト組成物（ＰＲ−１）を得た。

【００２５】フォトレジスト組成物調製例２〜５ 下記表−１に記載のアルカリ可溶性樹脂、増感剤、及び
感光剤を表−１に示した割合で組み合わせた以外はフォ
トレジスト組成物調製例１と同様にしてフォトレジスト
組成物（ＰＲ−２〜５）を得た。

【００２６】実施例１〜２及び比較例１〜３ 感光性樹脂組成物（ＰＲ−１）〜（ＰＲ−５）を下記パ
ターニング方法によりパターニングし、感度、限界解像
力、耐熱性を評価し、結果を表−２に示した。尚、表−
２中、下記の記号及び用語はそれぞれ下記の意味を示
す。

【００２７】（評価方法）これらのフォトレジスト組成
物をスピンコ−タ−によりシリコンウエハ−に塗布した
後、９０℃のホットプレ−ト上にて６０秒間加熱して溶
媒を除去し、膜厚１．０７μｍのフォトレジスト塗布膜
を形成した。このものをニコン株製ｉ−線ステッパ−
（ＮＡ．＝０．５０）にて露光した後、１１０℃ホット
プレ−ト上にて６０秒間加熱し、次に、２．３８％水酸
化テトラメチルアンモニウム水溶液に６０秒間浸し、現
像した。

【００２８】（評価項目） Ｅｔｈ：２ｍｍ角の露光部を基板まで完全にアルカリ現
像液で溶解させるのに要な最小露光量を露光時間で表示 Ｅ0 ：マスク上で０．５μｍ幅のライン＆スペースパ
ターンが１：１であるとき、露光後アルカリ現像液によ
り現像することにより露光部（スペース）と未露光部
（ライン）の線幅が０．５μｍの寸法で１：１に仕上が
る露光量を時間で表示 限界解像力：露光量Ｅ0 において解像可能な最小のライ
ン＆スペースパターンのサイズで表示 耐熱性：ウェハーをホットプレート上で５分間加熱した
場合、５μｍライン＆スペースのパターンが変形しない
最高温度（但し。５℃間隔）

【００２９】

【表１】

【００３０】

【表２】

【００３１】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は、従来品と
比較して、解像力、感度、耐熱性、フォーカスマージ
ン、露光マージン、密着性、発泡マージン、保存安定
性、塗布性の諸性能に優れているため、微細加工用のフ
ォトレジストとして有用である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光性化合
   物（Ｂ）、および溶剤を含有する感光性樹脂組成物にお
   いて、該アルカリ可溶性樹脂が、フェノール性化合物と
   １，３，５−トリオキサンとの重縮合物からなるノボラ
   ック樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂組成
   物。
2. 【請求項２】 該フェノール性化合物が少なくともｍ−
   クレゾールを含むことを特徴とする請求項１記載の感光
   性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 該フェノール性化合物がｍ−クレゾー
   ル、ｐ−クレゾール及び２，５−キシレノールを含有す
   ることを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂組成物。