JPH11139811A - 高純度過酸化水素水溶液の製造方法 - Google Patents
高純度過酸化水素水溶液の製造方法Info
- Publication number
- JPH11139811A JPH11139811A JP30610897A JP30610897A JPH11139811A JP H11139811 A JPH11139811 A JP H11139811A JP 30610897 A JP30610897 A JP 30610897A JP 30610897 A JP30610897 A JP 30610897A JP H11139811 A JPH11139811 A JP H11139811A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen peroxide
- acid
- reverse osmosis
- soln
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 過酸化水素の分解を伴わずに逆浸透膜の酸化
劣化を抑えて、高純度の過酸化水素水溶液を長時間続け
て製造する方法が提供する。 【解決手段】 鉄及びクロムの含有量がいずれも１０重
量ｐｐｂ以下である精製過酸化水素水溶液をさらに精製
させるに際し、過酸化水素分解抑制剤を０．２〜３００
μｍｏｌ／ｌ添加して逆浸透膜に接触させることを特徴
とする高純度過酸化水素水溶液の製造方法。
劣化を抑えて、高純度の過酸化水素水溶液を長時間続け
て製造する方法が提供する。 【解決手段】 鉄及びクロムの含有量がいずれも１０重
量ｐｐｂ以下である精製過酸化水素水溶液をさらに精製
させるに際し、過酸化水素分解抑制剤を０．２〜３００
μｍｏｌ／ｌ添加して逆浸透膜に接触させることを特徴
とする高純度過酸化水素水溶液の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、過酸化水素水溶液
中に含有される金属成分及び全有機炭素成分（ＴＯＣ）
を除去する高純度過酸化水素水溶液の製造方法に関す
る。該過酸化水素水溶液は、半導体工業においてウェハ
ー等の洗浄に有用である。
中に含有される金属成分及び全有機炭素成分（ＴＯＣ）
を除去する高純度過酸化水素水溶液の製造方法に関す
る。該過酸化水素水溶液は、半導体工業においてウェハ
ー等の洗浄に有用である。
【０００２】
【従来の技術】過酸化水素水溶液は、半導体工業におい
てシリコンウェハー等の洗浄用薬品として広く使用され
てきた。近年、半導体の高集積化が進むにつれて、過酸
化水素水溶液に対する高純度化の要求がより高度になっ
ている。
てシリコンウェハー等の洗浄用薬品として広く使用され
てきた。近年、半導体の高集積化が進むにつれて、過酸
化水素水溶液に対する高純度化の要求がより高度になっ
ている。
【０００３】過酸化水素は、有機溶媒中においてアント
ラキノン類の酸化還元反応を利用したいわゆる自動酸化
法にて製造されており、生成した過酸化水素を水によっ
て抽出して過酸化水素水溶液とするのが一般的である。
この水抽出後の過酸化水素水溶液中には、反応に使用し
た有機溶剤由来の有機炭素成分や装置材質等から混入し
てくる金属成分等が含まれるため過酸化水素が分解する
おそれがあり、これを回避するため抽出時または抽出後
の水溶液に過酸化水素分解抑制剤としてリン酸等が通常
添加される。
ラキノン類の酸化還元反応を利用したいわゆる自動酸化
法にて製造されており、生成した過酸化水素を水によっ
て抽出して過酸化水素水溶液とするのが一般的である。
この水抽出後の過酸化水素水溶液中には、反応に使用し
た有機溶剤由来の有機炭素成分や装置材質等から混入し
てくる金属成分等が含まれるため過酸化水素が分解する
おそれがあり、これを回避するため抽出時または抽出後
の水溶液に過酸化水素分解抑制剤としてリン酸等が通常
添加される。
【０００４】こうして得られた過酸化水素水溶液を半導
体工業向けの高純度過酸化水素水溶液とするため、蒸留
による方法、アニオン交換樹脂との接触による方法、カ
チオン交換樹脂との接触による方法、キレート樹脂との
接触による方法等を単独でまたは組み合わせて用いるこ
とにより精製している。しかしながら、これらの方法で
は過酸化水素水溶液中に含まれるアルミニウム、クロ
ム、鉄、ニッケル等の金属類、硫酸、塩酸、硝酸等のア
ニオン類、一部の有機炭素成分の除去が行われるもの
の、有機炭素成分の除去効果が充分ではなく、より高い
効率での有機物の除去手段が求められてきた。
体工業向けの高純度過酸化水素水溶液とするため、蒸留
による方法、アニオン交換樹脂との接触による方法、カ
チオン交換樹脂との接触による方法、キレート樹脂との
接触による方法等を単独でまたは組み合わせて用いるこ
とにより精製している。しかしながら、これらの方法で
は過酸化水素水溶液中に含まれるアルミニウム、クロ
ム、鉄、ニッケル等の金属類、硫酸、塩酸、硝酸等のア
ニオン類、一部の有機炭素成分の除去が行われるもの
の、有機炭素成分の除去効果が充分ではなく、より高い
効率での有機物の除去手段が求められてきた。
【０００５】この手段の一つとして逆浸透膜法による方
法が、特開平７−３３４０８号公報、特開平７−１０９
１０９号公報、特開平８−１５１２０３号公報に示され
ている。これらでは、不純物濃度が高い過酸化水素水溶
液を精製し高純度化する方法が示されているが、不純物
濃度が高い場合には、過酸化水素は特に不安定となるた
め種々の問題が生ずる。その一つは過酸化水素が分解す
ると発熱を伴うため過酸化水素水溶液の温度が上昇し分
解が促進され、甚だしくは爆発的な分解を起こす危険性
があることである。また、他の問題は、過酸化水素の分
解時に生ずる酸素および酸素ラジカルにより逆浸透膜が
酸化されるため膜の不純物阻止率が低下し、膜の寿命が
短くなることである。
法が、特開平７−３３４０８号公報、特開平７−１０９
１０９号公報、特開平８−１５１２０３号公報に示され
ている。これらでは、不純物濃度が高い過酸化水素水溶
液を精製し高純度化する方法が示されているが、不純物
濃度が高い場合には、過酸化水素は特に不安定となるた
め種々の問題が生ずる。その一つは過酸化水素が分解す
ると発熱を伴うため過酸化水素水溶液の温度が上昇し分
解が促進され、甚だしくは爆発的な分解を起こす危険性
があることである。また、他の問題は、過酸化水素の分
解時に生ずる酸素および酸素ラジカルにより逆浸透膜が
酸化されるため膜の不純物阻止率が低下し、膜の寿命が
短くなることである。
【０００６】ここで、逆浸透膜法は、膜に接する不純物
濃度の異なる２種類の溶液間に生ずる浸透圧以上の圧力
を加え、本来の溶質の浸透方向に対し逆方向に浸透させ
溶液を精製する方法であり、精製中に不純物が濃縮され
ていく溶液と不純物が減ぜられていく溶液を生じている
のが普通である。よって、過酸化水素水溶液の精製に逆
浸透膜法を用いた場合、不純物が濃縮されていく過酸化
水素水溶液を生じ、過酸化水素が爆発的に分解する危険
性を増し、逆浸透膜の寿命が著しく短くなるという問題
が生じる。
濃度の異なる２種類の溶液間に生ずる浸透圧以上の圧力
を加え、本来の溶質の浸透方向に対し逆方向に浸透させ
溶液を精製する方法であり、精製中に不純物が濃縮され
ていく溶液と不純物が減ぜられていく溶液を生じている
のが普通である。よって、過酸化水素水溶液の精製に逆
浸透膜法を用いた場合、不純物が濃縮されていく過酸化
水素水溶液を生じ、過酸化水素が爆発的に分解する危険
性を増し、逆浸透膜の寿命が著しく短くなるという問題
が生じる。
【０００７】上記より、逆浸透膜を安全かつ効果的に精
製に利用するためには、予め不純物を取り除いた過酸化
水素水溶液を逆浸透膜に接触することが望ましい。しか
しながら、予め不純物を取り除いた過酸化水素水溶液を
逆浸透膜に接触した場合にも、過酸化水素が爆発的に分
解する危険性はないものの、逆浸透膜の寿命は十分では
なく、コスト面から工業的に利用することは困難であっ
た。
製に利用するためには、予め不純物を取り除いた過酸化
水素水溶液を逆浸透膜に接触することが望ましい。しか
しながら、予め不純物を取り除いた過酸化水素水溶液を
逆浸透膜に接触した場合にも、過酸化水素が爆発的に分
解する危険性はないものの、逆浸透膜の寿命は十分では
なく、コスト面から工業的に利用することは困難であっ
た。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、逆浸透膜法
による極めて高純度な過酸化水素水溶液の製造におい
て、過酸化水素水溶液を精製する際の逆浸透膜の劣化を
抑え、長時間の過酸化水素水溶液の高度な精製を可能に
することを目的とする。
による極めて高純度な過酸化水素水溶液の製造におい
て、過酸化水素水溶液を精製する際の逆浸透膜の劣化を
抑え、長時間の過酸化水素水溶液の高度な精製を可能に
することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
に対し、鋭意研究を行った結果、精製された過酸化水素
水溶液には、過酸化水素分解抑制剤の含有量が少なくな
るため、逆浸透膜の寿命に悪影響を与えることを見出し
本発明を完成させるに至った。即ち本発明は、鉄及びク
ロムの含有量がいずれも１０重量ｐｐｂ以下である精製
過酸化水素水溶液をさらに精製するに際し、過酸化水素
分解抑制剤を０．２〜３００μｍｏｌ／ｌ添加して逆浸
透膜に接触させることを特徴とする高純度過酸化水素水
溶液の製造方法に関する。
に対し、鋭意研究を行った結果、精製された過酸化水素
水溶液には、過酸化水素分解抑制剤の含有量が少なくな
るため、逆浸透膜の寿命に悪影響を与えることを見出し
本発明を完成させるに至った。即ち本発明は、鉄及びク
ロムの含有量がいずれも１０重量ｐｐｂ以下である精製
過酸化水素水溶液をさらに精製するに際し、過酸化水素
分解抑制剤を０．２〜３００μｍｏｌ／ｌ添加して逆浸
透膜に接触させることを特徴とする高純度過酸化水素水
溶液の製造方法に関する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に関して詳細に説
明する。本発明においては、鉄及びクロムの濃度をいず
れも１０重量ｐｐｂ以下とした精製過酸化水素水溶液を
用いる。また、過酸化水素濃度は通常１０〜７０重量％
である。この様な精製過酸化水素水溶液は、アントラキ
ノン法により製造された粗過酸化水素を公知な精製法で
ある蒸留、カチオン交換樹脂との接触、キレート樹脂と
の接触、アニオン交換樹脂との接触及び逆浸透膜との接
触から選ばれる単独または複数の方法の組み合わせによ
り得ることができ、従来半導体工業において使用されて
きた精製過酸化水素水溶液を含む。
明する。本発明においては、鉄及びクロムの濃度をいず
れも１０重量ｐｐｂ以下とした精製過酸化水素水溶液を
用いる。また、過酸化水素濃度は通常１０〜７０重量％
である。この様な精製過酸化水素水溶液は、アントラキ
ノン法により製造された粗過酸化水素を公知な精製法で
ある蒸留、カチオン交換樹脂との接触、キレート樹脂と
の接触、アニオン交換樹脂との接触及び逆浸透膜との接
触から選ばれる単独または複数の方法の組み合わせによ
り得ることができ、従来半導体工業において使用されて
きた精製過酸化水素水溶液を含む。
【００１１】過酸化水素水溶液に添加する過酸化水素分
解抑制剤は、オルトリン酸、ピロリン酸、トリポリリン
酸、ホスホン酸系キレート剤、酢酸系キレート剤及びス
ズ酸並びにそれらの塩から選ばれる少なくとも１種であ
る。ホスホン酸系キレート剤として、アミノトリ（メチ
レンホスホン酸）、１−ヒドロキシエチリデン−１，１
−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレン
ホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレン
ホスホン酸）、ニトリロメチレンホスホン酸及び１，２
−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）等
並びにこれらの塩が挙げられ、酢酸系キレート剤とし
て、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミ
ンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、Ｎ
−ヒドロキシエチルエチレンジアミンテトラ酢酸及びニ
トリロトリ酢酸等並びにこれらの塩が挙げられる。添加
量は０．２〜３００μｍｏｌ／ｌの範囲であり、好まし
くは０．５〜５０μｍｏｌ／ｌの範囲である。ここで、
過酸化水素分解抑制剤の添加方法は、バッチ式、半連続
式又は連続式のいずれでもよい。
解抑制剤は、オルトリン酸、ピロリン酸、トリポリリン
酸、ホスホン酸系キレート剤、酢酸系キレート剤及びス
ズ酸並びにそれらの塩から選ばれる少なくとも１種であ
る。ホスホン酸系キレート剤として、アミノトリ（メチ
レンホスホン酸）、１−ヒドロキシエチリデン−１，１
−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレン
ホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレン
ホスホン酸）、ニトリロメチレンホスホン酸及び１，２
−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）等
並びにこれらの塩が挙げられ、酢酸系キレート剤とし
て、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミ
ンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、Ｎ
−ヒドロキシエチルエチレンジアミンテトラ酢酸及びニ
トリロトリ酢酸等並びにこれらの塩が挙げられる。添加
量は０．２〜３００μｍｏｌ／ｌの範囲であり、好まし
くは０．５〜５０μｍｏｌ／ｌの範囲である。ここで、
過酸化水素分解抑制剤の添加方法は、バッチ式、半連続
式又は連続式のいずれでもよい。
【００１２】逆浸透装置としては、平膜、スパイラルモ
ジュール等の逆浸透膜を固定支持する耐圧容器と加圧手
段を有する逆浸透膜法により液体を精製する装置を使用
することができる。例えば逆浸透膜の平膜一枚で隔離し
たいわゆる平板型のもの、逆浸透膜（メンブラン）とス
ペーサー又はネッティングを重ねて多重に巻いたいわゆ
るスパイラルモジュール型のものなどである。逆浸透膜
としては特に制限はないが、有機物の阻止能が高く、か
つ耐酸化性の高い低圧高阻止逆浸透膜が望ましく。この
様な膜としては芳香族架橋ポリアミドとポリスルホン系
高分子及び／又はポリエステル系高分子からなる複合膜
を挙げることができる。例えば、日東電工製逆浸透膜Ｅ
Ｓ−１０、ＥＳ−２０等である。加圧圧力としては低圧
逆浸透膜の一般的な操作圧力である０．４９〜１．５Ｍ
Ｐａの範囲で行えばよい。また、加圧時の温度としては
室温である２０〜３０℃の範囲でよいが、−１０℃程度
まで冷却してもよい。
ジュール等の逆浸透膜を固定支持する耐圧容器と加圧手
段を有する逆浸透膜法により液体を精製する装置を使用
することができる。例えば逆浸透膜の平膜一枚で隔離し
たいわゆる平板型のもの、逆浸透膜（メンブラン）とス
ペーサー又はネッティングを重ねて多重に巻いたいわゆ
るスパイラルモジュール型のものなどである。逆浸透膜
としては特に制限はないが、有機物の阻止能が高く、か
つ耐酸化性の高い低圧高阻止逆浸透膜が望ましく。この
様な膜としては芳香族架橋ポリアミドとポリスルホン系
高分子及び／又はポリエステル系高分子からなる複合膜
を挙げることができる。例えば、日東電工製逆浸透膜Ｅ
Ｓ−１０、ＥＳ−２０等である。加圧圧力としては低圧
逆浸透膜の一般的な操作圧力である０．４９〜１．５Ｍ
Ｐａの範囲で行えばよい。また、加圧時の温度としては
室温である２０〜３０℃の範囲でよいが、−１０℃程度
まで冷却してもよい。
【００１３】
【実施例】以下、実施例により、本発明についてさらに
詳しく説明する。なお、実施例中のＴＯＣ濃度はＴＯＣ
計により、鉄及びクロムはＩＣＰ−ＭＳ装置により測定
した。 実施例１ 蒸留により精製された過酸化水素濃度が６０重量％、鉄
濃度１重量ｐｐｂ、クロム濃度０．１重量ｐｐｂ、ＴＯ
Ｃ濃度２１重量ｐｐｍの過酸化水素水溶液に過酸化水素
分解抑制剤としてオルトリン酸を０．３μｍｏｌ／ｌお
よびピロリン酸を０．２μｍｏｌ／ｌ添加した。この過
酸化水素水溶液を以下の条件にて繰り返し加圧通液し
た。
詳しく説明する。なお、実施例中のＴＯＣ濃度はＴＯＣ
計により、鉄及びクロムはＩＣＰ−ＭＳ装置により測定
した。 実施例１ 蒸留により精製された過酸化水素濃度が６０重量％、鉄
濃度１重量ｐｐｂ、クロム濃度０．１重量ｐｐｂ、ＴＯ
Ｃ濃度２１重量ｐｐｍの過酸化水素水溶液に過酸化水素
分解抑制剤としてオルトリン酸を０．３μｍｏｌ／ｌお
よびピロリン酸を０．２μｍｏｌ／ｌ添加した。この過
酸化水素水溶液を以下の条件にて繰り返し加圧通液し
た。
【００１４】日東電工製逆浸透膜ＥＳ−１０の平膜（膜
面積３２ｃｍ2 ）を装着したバッチ式加圧セルに精製に
供する過酸化水素水溶液１５０ｍｌを充填し、攪拌下に
て窒素ガスにより加圧圧力０．４９ＭＰａ、２０℃にて
１００ｍｌ通液した。その後、セル内部に残存する不純
物が濃縮された過酸化水素水溶液を取り出し、再度精製
に供する過酸化水素水溶液を加圧セルに１５０ｍｌ充填
し加圧せずに放置した。この間、セルは、２０℃に保ち
攪拌を継続して実施した。１回目の通液開始時間から８
時間経過後再度１回目の通液と同条件にて１００ｍｌを
加圧通液した。以後８時間サイクルにて上記操作を繰り
返し実施し、各回の所要時間から膜面積当たりの透過速
度を求め、また透過した高純度過酸化水素水溶液中のＴ
ＯＣ濃度を測定した。
面積３２ｃｍ2 ）を装着したバッチ式加圧セルに精製に
供する過酸化水素水溶液１５０ｍｌを充填し、攪拌下に
て窒素ガスにより加圧圧力０．４９ＭＰａ、２０℃にて
１００ｍｌ通液した。その後、セル内部に残存する不純
物が濃縮された過酸化水素水溶液を取り出し、再度精製
に供する過酸化水素水溶液を加圧セルに１５０ｍｌ充填
し加圧せずに放置した。この間、セルは、２０℃に保ち
攪拌を継続して実施した。１回目の通液開始時間から８
時間経過後再度１回目の通液と同条件にて１００ｍｌを
加圧通液した。以後８時間サイクルにて上記操作を繰り
返し実施し、各回の所要時間から膜面積当たりの透過速
度を求め、また透過した高純度過酸化水素水溶液中のＴ
ＯＣ濃度を測定した。
【００１５】膜が劣化した場合には、膜面積当りの透過
速度が著しく増大すると共に、不純物除去能が低下しＴ
ＯＣ濃度が大きくなることから膜の劣化状態と精製度の
確認を行った。１回目及び２０回目の通液結果を表−１
に示す。
速度が著しく増大すると共に、不純物除去能が低下しＴ
ＯＣ濃度が大きくなることから膜の劣化状態と精製度の
確認を行った。１回目及び２０回目の通液結果を表−１
に示す。
【００１６】比較例１ 過酸化水素分解抑制剤を添加しなかった過酸化水素水溶
液を用いたこと以外は実施例１と同様に操作した。１回
目及び２０回目の通液結果を表−１に示す。
液を用いたこと以外は実施例１と同様に操作した。１回
目及び２０回目の通液結果を表−１に示す。
【００１７】実施例２ アニオン交換樹脂およびカチオン交換樹脂を充填したカ
ラムへの通液により精製された過酸化水素濃度が３０重
量％、鉄濃度０．１重量ｐｐｂ、クロム濃度０．１重量
ｐｐｂ未満、ＴＯＣ濃度７重量ｐｐｍの過酸化水素水溶
液に過酸化水素分解抑制剤としてオルトリン酸を３０μ
ｍｏｌ／ｌ添加した。この過酸化水素水溶液を、実施例
１と同様に操作した。１回目及び１５回目の通液結果を
表−１に示す。
ラムへの通液により精製された過酸化水素濃度が３０重
量％、鉄濃度０．１重量ｐｐｂ、クロム濃度０．１重量
ｐｐｂ未満、ＴＯＣ濃度７重量ｐｐｍの過酸化水素水溶
液に過酸化水素分解抑制剤としてオルトリン酸を３０μ
ｍｏｌ／ｌ添加した。この過酸化水素水溶液を、実施例
１と同様に操作した。１回目及び１５回目の通液結果を
表−１に示す。
【００１８】実施例３ 過酸化水素分解抑制剤としてオルトリン酸を１６μｍｏ
ｌ／ｌ及びエチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）ナトリウムを１．５μｍｏｌ／ｌ添加したこと以外
は実施例１と同様に操作した。１回目及び１５回目の通
液結果を表−１に示す。
ｌ／ｌ及びエチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）ナトリウムを１．５μｍｏｌ／ｌ添加したこと以外
は実施例１と同様に操作した。１回目及び１５回目の通
液結果を表−１に示す。
【００１９】比較例２ 過酸化水素分解抑制剤を添加しなかった過酸化水素水溶
液を用いたこと以外は実施例１と同様に操作した。１回
目及び１５回目の通液結果を表−１に示す。
液を用いたこと以外は実施例１と同様に操作した。１回
目及び１５回目の通液結果を表−１に示す。
【００２０】比較例３ 過酸化水素濃度３０重量％、鉄濃度５０重量ｐｐｂ、ク
ロム濃度２０重量ｐｐｂ、ＴＯＣ濃度８重量ｐｐｍの過
酸化水素水溶液にオルトリン酸を３０μｍｏｌ／ｌ添加
した。この過酸化水素水溶液を実施例１と同様に操作し
た。１回目及び１０回目の通液結果を表−１に示す。
ロム濃度２０重量ｐｐｂ、ＴＯＣ濃度８重量ｐｐｍの過
酸化水素水溶液にオルトリン酸を３０μｍｏｌ／ｌ添加
した。この過酸化水素水溶液を実施例１と同様に操作し
た。１回目及び１０回目の通液結果を表−１に示す。
【００２１】実施例４ アニオン交換樹脂及びカチオン交換樹脂を充填したカラ
ムへの通液により精製された過酸化水素濃度３１重量
％、ＴＯＣ濃度１０重量ｐｐｍ、鉄濃度１重量ｐｐｂ、
クロム濃度０．１重量ｐｐｂの過酸化水素水溶液に過酸
化水素分解抑制剤としてピロリン酸を３０μｍｏｌ／ｌ
添加した。この過酸化水素水溶液を日東電工製逆浸透膜
ＥＳ−２０を装着した平膜型の連続通液セル（膜面積６
０ｃｍ2 ）に、高圧ポンプで０．７５ＭＰａに加圧し流
量０．３ｌ／ｈ、操作温度２５℃において通液し２０リ
ットルの高純度過酸化水素水溶液を得た。この時の平均
膜透過速度及び得られた高純度過酸化水素水溶液中のＴ
ＯＣ濃度を表−１に示す。
ムへの通液により精製された過酸化水素濃度３１重量
％、ＴＯＣ濃度１０重量ｐｐｍ、鉄濃度１重量ｐｐｂ、
クロム濃度０．１重量ｐｐｂの過酸化水素水溶液に過酸
化水素分解抑制剤としてピロリン酸を３０μｍｏｌ／ｌ
添加した。この過酸化水素水溶液を日東電工製逆浸透膜
ＥＳ−２０を装着した平膜型の連続通液セル（膜面積６
０ｃｍ2 ）に、高圧ポンプで０．７５ＭＰａに加圧し流
量０．３ｌ／ｈ、操作温度２５℃において通液し２０リ
ットルの高純度過酸化水素水溶液を得た。この時の平均
膜透過速度及び得られた高純度過酸化水素水溶液中のＴ
ＯＣ濃度を表−１に示す。
【００２２】比較例４ 過酸化水素分解抑制剤を添加しなかった過酸化水素水溶
液を用いたこと以外は実施例４と同様に操作した。この
時の平均膜透過速度および得られた高純度過酸化水素水
溶液中のＴＯＣ濃度を表−１に示す。
液を用いたこと以外は実施例４と同様に操作した。この
時の平均膜透過速度および得られた高純度過酸化水素水
溶液中のＴＯＣ濃度を表−１に示す。
【００２３】
【発明の効果】本発明により、過酸化水素の分解を伴わ
ずに逆浸透膜の酸化劣化が抑えられ、極めて高純度の過
酸化水素水溶液を長時間続けて製造する方法が提供され
る。精製された過酸化水素水溶液は半導体工業において
ウェハー洗浄等に好適に使用されるものである。
ずに逆浸透膜の酸化劣化が抑えられ、極めて高純度の過
酸化水素水溶液を長時間続けて製造する方法が提供され
る。精製された過酸化水素水溶液は半導体工業において
ウェハー洗浄等に好適に使用されるものである。
【００２４】
【表１】
Claims (3)
- 【請求項１】 鉄及びクロムの含有量がいずれも１０重
量ｐｐｂ以下である精製過酸化水素水溶液をさらに精製
させるに際し、過酸化水素分解抑制剤を０．２〜３００
μｍｏｌ／ｌ添加して逆浸透膜に接触させることを特徴
とする高純度過酸化水素水溶液の製造方法。 - 【請求項２】 過酸化水素分解抑制剤が、オルトリン
酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、ホスホン酸系キレー
ト剤、酢酸系キレート剤及びスズ酸並びにそれらの塩か
ら選ばれる少なくとも１種である請求項１記載の製造方
法。 - 【請求項３】 精製過酸化水素水溶液が、蒸留、イオン
交換樹脂との接触、キレート樹脂との接触及び逆浸透膜
との接触から選ばれる少なくとも１つの方法により精製
された過酸化水素水溶液である請求項１記載の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30610897A JP3978546B2 (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | 高純度過酸化水素水溶液の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30610897A JP3978546B2 (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | 高純度過酸化水素水溶液の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11139811A true JPH11139811A (ja) | 1999-05-25 |
| JP3978546B2 JP3978546B2 (ja) | 2007-09-19 |
Family
ID=17953142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30610897A Expired - Fee Related JP3978546B2 (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | 高純度過酸化水素水溶液の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3978546B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007507411A (ja) * | 2003-10-02 | 2007-03-29 | ソルヴェイ | 水性過酸化物溶液の精製方法、それによって得られる溶液及びそれらの使用 |
| US7722847B2 (en) | 2002-09-30 | 2010-05-25 | Evonik Degussa Gmbh | Aqueous hydrogen peroxide solutions and method of making same |
| JP2012188318A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Santoku Kagaku Kogyo Kk | 精製過酸化水素水の製造方法 |
| KR20160065911A (ko) * | 2013-10-02 | 2016-06-09 | 솔베이(소시에떼아노님) | 정제된 과산화수소 수용액의 제조 방법 |
| KR20190072525A (ko) | 2016-10-20 | 2019-06-25 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 과산화수소 수용액의 정제 방법 및 정제 장치 |
| KR20190072526A (ko) | 2016-10-20 | 2019-06-25 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 과산화수소 수용액의 정제 방법 및 정제 장치 |
| US20200039822A1 (en) * | 2016-10-13 | 2020-02-06 | Evonik Corporation | Hydrogen peroxide composition and method for producing chlorine dioxide |
| EP1546035B2 (en) † | 2002-09-30 | 2021-04-21 | Evonik Operations GmbH | Novel aqueous hydrogen peroxide solutions |
-
1997
- 1997-11-07 JP JP30610897A patent/JP3978546B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7722847B2 (en) | 2002-09-30 | 2010-05-25 | Evonik Degussa Gmbh | Aqueous hydrogen peroxide solutions and method of making same |
| US7981391B2 (en) | 2002-09-30 | 2011-07-19 | Evonik Degussa Gmbh | Aqueous hydrogen peroxide solutions and method of making same |
| EP1546035B2 (en) † | 2002-09-30 | 2021-04-21 | Evonik Operations GmbH | Novel aqueous hydrogen peroxide solutions |
| JP2007507411A (ja) * | 2003-10-02 | 2007-03-29 | ソルヴェイ | 水性過酸化物溶液の精製方法、それによって得られる溶液及びそれらの使用 |
| JP2012188318A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Santoku Kagaku Kogyo Kk | 精製過酸化水素水の製造方法 |
| US10647576B2 (en) * | 2013-10-02 | 2020-05-12 | Solvay Sa | Process for manufacturing a purified aqueous hydrogen peroxide solution |
| US10099924B2 (en) * | 2013-10-02 | 2018-10-16 | Solvay Sa | Process for manufacturing a purified aqueous hydrogen peroxide solution |
| US20180370798A1 (en) * | 2013-10-02 | 2018-12-27 | Solvay Sa | Process for manufacturing a purified aqueous hydrogen peroxide solution |
| CN109970685A (zh) * | 2013-10-02 | 2019-07-05 | 索尔维公司 | 用于制造纯化的过氧化氢水溶液的方法 |
| US20160251222A1 (en) * | 2013-10-02 | 2016-09-01 | Solvay Sa | Process for manufacturing a purified aqueous hydrogen peroxide solution |
| KR20160065911A (ko) * | 2013-10-02 | 2016-06-09 | 솔베이(소시에떼아노님) | 정제된 과산화수소 수용액의 제조 방법 |
| KR20210106586A (ko) * | 2013-10-02 | 2021-08-30 | 솔베이(소시에떼아노님) | 정제된 과산화수소 수용액의 제조 방법 |
| US20200039822A1 (en) * | 2016-10-13 | 2020-02-06 | Evonik Corporation | Hydrogen peroxide composition and method for producing chlorine dioxide |
| KR20190072525A (ko) | 2016-10-20 | 2019-06-25 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 과산화수소 수용액의 정제 방법 및 정제 장치 |
| KR20190072526A (ko) | 2016-10-20 | 2019-06-25 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 과산화수소 수용액의 정제 방법 및 정제 장치 |
| US11524896B2 (en) | 2016-10-20 | 2022-12-13 | Kurita Water Industries Ltd. | Aqueous hydrogen peroxide purification method and purification system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3978546B2 (ja) | 2007-09-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5704979B2 (ja) | 精製過酸化水素水の製造方法 | |
| EP0634364B1 (en) | Pure water manufacturing method | |
| JP6365624B2 (ja) | 過酸化水素水溶液の精製方法および精製装置 | |
| JP3978546B2 (ja) | 高純度過酸化水素水溶液の製造方法 | |
| JPH04325406A (ja) | 半導体技術で使用するための僅少量だけが溶解した無機および／または有機汚染物質を含有する過酸化水素を後処理する方法 | |
| KR20140071943A (ko) | 과산화수소 수용액의 정제 방법 및 정제 장치 | |
| JP6415159B2 (ja) | 有機溶剤精製システム及び方法 | |
| JP5305165B2 (ja) | 精製過酸化水素水の製造方法 | |
| US7473412B2 (en) | Process for the purification of aqueous peroxygen solutions, solutions obtainable thereby and their use | |
| CN112789241B (zh) | 用于提纯过氧化氢的方法 | |
| FR2763929A1 (fr) | Procede de preparation d'une solution ultra-pure de peroxyde d'hydrogene par echange ionique en presence d'ions acetate | |
| JP2013095629A (ja) | フッ酸回収方法及びフッ酸回収装置 | |
| CN112533864A (zh) | 制备经稳定的过氧化氢水溶液的方法 | |
| JP5393702B2 (ja) | グリオキシル酸と塩酸とを含有する水性反応媒体からグリオキシル酸を分離する方法 | |
| JP3858359B2 (ja) | 有機物の除去方法 | |
| JP4206556B2 (ja) | 精製過酸化水素水溶液の製造方法 | |
| KR100776276B1 (ko) | 폐산액으로부터 고순도의 인산을 제조하는 방법 | |
| JP3259557B2 (ja) | 有機物の除去方法 | |
| JPH09221305A (ja) | 高純度過酸化水素水の製造方法 | |
| JPS63112407A (ja) | 高純度ヒドロキシルアミン硝酸塩の製造法 | |
| JP3794040B2 (ja) | 過酸化水素の精製法 | |
| JP7171671B2 (ja) | 超純水製造システム及び超純水製造方法 | |
| JPH07155744A (ja) | 超純水製造方法 | |
| JP2003010656A (ja) | 分離膜とその改質方法並びに膜分離装置及び方法 | |
| JP3794113B2 (ja) | Ｔｏｃ成分及び溶存酸素の除去方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040921 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070523 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070530 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070612 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100706 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100706 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110706 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110706 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120706 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130706 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |