JPH11124667A - 真空蒸着装置、及び薄膜形成方法 - Google Patents
真空蒸着装置、及び薄膜形成方法Info
- Publication number
- JPH11124667A JPH11124667A JP9303405A JP30340597A JPH11124667A JP H11124667 A JPH11124667 A JP H11124667A JP 9303405 A JP9303405 A JP 9303405A JP 30340597 A JP30340597 A JP 30340597A JP H11124667 A JPH11124667 A JP H11124667A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- amount
- organic
- thin film
- evaporation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 11
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 71
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 56
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 36
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 35
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 10
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 10
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 claims description 7
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 abstract description 20
- 239000010953 base metal Substances 0.000 abstract 2
- 229940126540 compound 41 Drugs 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
や、蒸発量を微量に制御する必要がある薄膜を形成す
る。 【解決手段】真空槽11内に配置された蒸着源401、
402に母材の有機化合物411とドーパントの有機化合
物412をそれぞれ配置し、一緒に有機化合物蒸気を放
出させて基板13表面に微小量のドーパントを含有する
有機薄膜を形成する。この真空蒸着装置10では、有機
化合物411、412の蒸気放出速度に基いて有機化合物
411、412の加熱状態を制御しているため、温度を一
定に制御する場合に比べ、蒸気放出量を一定にできる。
従って、母材とドーパントの有機化合物411、412の
蒸気が一定割合で基板13に到達するので、含有割合が
均一な有機薄膜を得ることができる。この真空蒸着装置
10は、蒸発量を微量制御し、膜厚が非常に小さい薄膜
を形成するのにも適している。
Description
術にかかり、特に、ドーバントを少量含有する有機薄膜
や、蒸発の微量制御による薄膜を形成できる真空蒸着装
置、及び薄膜形成方法に関する。
合、有機化合物の方が反応系や特性が多様であり、ま
た、低エネルギーで表面処理できることから、機能性有
機薄膜が着目されている。
EL素子、圧電センサ、焦電センサ、電気絶縁膜等、種
々のものがあるが、これらのうち、有機EL素子はディ
スプレイパネルとして利用できることから近年非常に注
目されている。
の概略構成図であり、ガラス基板b上に、透明導電膜か
ら成るアノード電極膜c、P型の有機薄膜d、N型の有
機薄膜e、カソード電極膜fがこの順で形成されてい
る。この有機EL素子aのアノード電極膜cとカソード
電極膜fとの間に電圧を印加すると、有機薄膜d、eの
界面が発光し、ガラス基板bを透過したEL光gが外部
に放射される。
は、一般に、金属薄膜を形成する場合と同様に、真空蒸
着装置が用いられている。従来技術の真空蒸着装置を図
5の符号150に示すと、この真空蒸着装置150は真
空槽151を有しており、該真空槽151内の天井側に
は基板ホルダ152が配置され、底壁側には蒸着源14
0が配置されている。蒸着源140内には、有機薄膜の
材料である粉体状の有機化合物141が納められてお
り、その周囲はヒータ142が配置されている。
51内を真空雰囲気にし、基板153を搬入し、基板ホ
ルダ152表面に保持させる。次いで、真空槽151内
を真空排気しながら基板ホルダ152内のヒータ159
に通電し、基板153を昇温させる。それとと共に、ヒ
ータ142に通電し、有機化合物141を加熱、昇温さ
せる。
41の蒸気が安定に放出される温度に達したところで、
蒸着源140上に配置されたシャッタ155を開け、有
機化合物141の蒸気を真空槽151内に放出させる。
成る蒸気量検出手段156が設けられており、シャッタ
155が開けられると、蒸気量検出手段156表面に有
機化合物141の蒸気が付着し始める。蒸気量検出手段
156の周波数は、有機化合物蒸気の付着量によって変
化するので、その周波数変化を検出することにより、蒸
気放出量を求めることができる。
ころで、基板ホルダ152側に設けられたシャッタ15
7を開け、基板153表面に有機化合物141の蒸気を
付着させると重合反応が開始され、有機薄膜が形成され
始める。
も、金属薄膜を形成する場合と同様に、蒸着材料を加熱
して蒸気を発生させているが、金属薄膜材料である金属
の蒸気発生温度は600℃〜2000℃程度と高温であ
るのに対し、有機薄膜の材料である有機化合物は蒸気圧
が高いため、蒸気発生温度は0℃(場合によっては零下)
〜400℃と低温である。従って、金属の場合には、微
小な温度変動があっても蒸気放出量はほぼ一定であるの
に対し、有機化合物の場合は、僅かな温度変化によって
蒸気放出量が大きく変動してしまう。
が採られており、蒸着源140内に熱電対を配置し、有
機化合物141の温度測定を行ってヒータ142への通
電量を制御し、有機化合物141が一定温度を維持する
ようにしていた。
のカラー化のために、微量のドーパントを含んだ有機薄
膜が求められている。この場合、有機薄膜中に含ませる
ドーバントも有機化合物であるため、同じ真空槽内に複
数の蒸着源を設け、有機薄膜の母材となる有機化合物
と、ドーパントとなる有機化合物とを異なる蒸着源内に
配置し、各蒸着源をそれぞれ所定温度に加熱して一緒に
蒸気を放出させ、母材の有機化合物蒸気とドーバントの
有機化合物蒸気とを基板表面に一定割合で付着させ、所
望組成の有機薄膜を得るようにしている。
ントは微量であり、母材となる有機化合物量に比べると
0.2%〜2.0%程度であるため、蒸着源間の蒸気放
出量の変化が、有機薄膜中のドーバント含有率に大きく
影響を与えてしまう。従って、従来より、各蒸着源は精
密に温度制御され、安定に蒸気が放出されるようにして
いた。
材の有機化合物温度とドーパントの有機化合物温度とを
所定温度に維持しても、得られる有機薄膜の特性が安定
せず、その原因の究明と対策が望まれている。
の不都合を解決するために創作されたものであり、その
目的は、微量のドーパントを含有する有機薄膜や、蒸発
の微量制御によって形成され薄膜を安定に得られる技術
を提供することにある。
に、請求項1記載の発明装置は、真空槽と蒸着源とを有
し、前記蒸着源内には加熱手段が設けられ、前記加熱手
段が発熱すると、前記蒸着源内に配置された有機化合物
が加熱され、前記有機化合物の蒸気が前記真空槽内に放
出され、前記真空槽内に配置された基板表面に付着して
有機薄膜を形成できるように構成された真空蒸着装置で
あって、前記有機化合物蒸気の放出量を検出する蒸気量
検出手段と、検出された放出量に基いて前記加熱手段の
発熱量を制御する発熱量制御手段とを有することを特徴
とする。
は、請求項2記載の発明装置のように、前記蒸着源を複
数有し、前記蒸気量検出手段は前記各蒸着源の蒸気放出
量を個別に検出し、前記発熱量制御手段は検出された前
記各蒸着源の蒸気放出量に基いて前記各蒸着源内の加熱
手段の発熱量を個別に制御できる。
配置された蒸着材料を加熱し、蒸着材料蒸気を真空槽内
に放出させ、基板表面に付着させて薄膜を形成する薄膜
形成方法であって、前記蒸着材料蒸気の放出量を測定
し、前記放出量が一定になるように、前記蒸着材料の加
熱状態を制御することを特徴とする。
は、請求項4記載の発明方法のように、前記蒸着材料の
温度を測定し、所定の上限温度以上になると前記蒸着材
料の加熱を停止させることができる。
れか1項記載の薄膜形成方法について、複数の蒸着源か
ら前記真空槽内に蒸着材料蒸気を放出させる場合は、請
求項5記載の発明方法のように、蒸着材料蒸気の放出量
の測定と、蒸着材料の加熱状態の制御とを、前記各蒸着
源毎に個別に行わせるとよい。
装置の真空槽内に、有機化合物等の蒸着材料を配置でき
る蒸着源が設けられており、その蒸着源内には、発熱
し、配置された蒸着材料を加熱する加熱手段が設けられ
ている。この場合、真空槽内に配置された蒸着源内の蒸
着材料を加熱し、真空槽内にその蒸気を放出させると、
蒸着材料蒸気が基板に付着し、薄膜が形成される。蒸着
材料が有機化合物である場合は、基板表面に有機薄膜を
形成することができる。
着装置を用い、ドーパントを微小量含有する有機薄膜を
形成した場合、その特性が安定しない原因を研究したと
ころ、有機薄膜中に含有されたドーパントが不均一であ
ることを見出した。
は、熱電対によって測定した蒸着源るつぼの発熱量を制
御しているため、るつぼの測定温度を一定にすると、蒸
着材料に投入される電力が減少し、蒸発放出速度が時間
の経過とともに小さくなっていくためであることが分か
った。
検出手段と発熱量制御手段とを設け、蒸着源から放出さ
れる有機化合物等の蒸着材料蒸気の放出量を蒸気量検出
手段によって検出しており、発熱量制御手段は、検出さ
れた蒸気放出量から蒸気放出速度を求め、加熱手段の発
熱量を制御している。この場合、例えば、単位時間当た
りの蒸気放出量が大きいときは加熱手段の発熱量を減少
させ、小さいときは発熱量を増加させることで、図3に
示すように、熱電対による有機化合物の測定温度L1は
上昇するのに対し、蒸気放出速度L2を一定値、即ち、
成膜速度を一定値にすることができる。
配置された蒸着源や、ドーパントとなる有機化合物が配
置された蒸着源のように、異なる有機化合物が配置され
た複数の蒸着源が設けられており、各蒸着源内から一緒
に有機化合物蒸気を放出させる場合には、各蒸着源から
放出される有機化合物の蒸気放出量をそれぞれ測定し、
加熱手段の発熱量を個別に制御し、各蒸気の放出量が一
定になるようにすると、微小量のドーバントを均一に含
有する有機薄膜を得ることが可能となる。
度は近接しているため、有機化合物が過加熱された場合
には容易に分解し、有機薄膜が不良品となってしまう。
そこで本発明では、蒸気放出速度とともに、各蒸着源内
の有機化合物(実際には容器)の温度を測定し、有機化合
物が分解する危険性がある上限温度以上になった場合に
発熱を停止させており、有機化合物が分解しないように
している。
化合物の温度が低下し、正常な温度に戻った後は、再び
蒸気放出量を測定し、蒸気放出速度が一定になるように
発熱量を制御している。
する。図1の符号10は、本発明の真空蒸着装置の一例
を示している。この真空蒸着装置10は、真空槽11
と、その真空槽11外に配置された発熱量制御手段3と
を有しており、該発熱量制御手段3内には、温度測定器
71、72と、出力装置5と、膜厚測定器61、62とが設
けられている。
2が設けられており、底壁側には二個の蒸着源401、
402が設けられている。また、側壁には、水晶振動子
で構成された膜厚検出手段161、162が設けられてい
る。
に、金属製の筺体45と、カーボングラファイト製の容
器46とを有しており、容器46は、筺体45内に配置
されている。
置できるように構成されており、容器46の周囲には、
ヒータから成る加熱手段42が巻回されている。加熱手
段42は、電源を有する出力装置5に接続されており、
出力装置5からの通電によって発熱し、容器46を加熱
できるように構成されている。容器46が加熱された場
合には、内部に配置された有機化合物41は、容器46
の壁面からの熱伝導によって加熱され、昇温する。
1の容器46内には、母材となる有機化合物411が配置
されており、他方の蒸着源402の容器46内には、ド
ーパントとなる有機化合物412が配置されている。
物411、412の温度測定用に、各蒸着源401、402
内の容器46の底面に、熱電対48がそれぞれ取り付け
られている。
72にそれぞれ接続され、各温度測定器71、72は、出
力装置5に接続されており、各温度測定器71、72は熱
電対48からの入力によって有機化合物411、412の
るつぼの温度をそれぞれ測定し、その結果を出力装置5
に出力するように構成されている。
用い、ドーバントを微小量含有する有機薄膜を形成する
方法を説明する。先ず、図示しない真空排気系によって
真空槽11内を真空排気した後、基板13を搬入し、基
板ホルダ12に保持させる。
を動作させ、蒸着源401、402内の加熱手段42に通
電する。このとき、出力装置5には、温度測定器71、
72から有機化合物411、412のるつぼの温度が個別
に入力されており、出力装置5は、各有機化合物4
11、412の温度を監視しながら加熱手段42への通電
量を制御し、各有機化合物411、412を所定の昇温速
度で温度上昇させる。
151、152が配置されており、真空中での有機蒸化合
物411、412の前処理を行った後、シャッタ151、
152を開ける。その後、有機化合物411、412を蒸
着に必要な所定の蒸気放出温度まで加熱すると、有機化
合物411、412の蒸気が真空槽11内に一緒に放出さ
れる。
151、152上方の蒸着源401、402に近い位置に配
置されており、真空槽11内に放出された有機化合物4
11、412の蒸気は、蒸気量検出手段161、162にそ
れぞれ到達し、表面に付着すると、蒸気量検出手段16
1、162表面に有機薄膜が形成され始める。
器61、62にそれぞれ接続されており、蒸気量検出手段
161、162の表面に形成される有機薄膜が成長し、発
振周波数が変化すると、膜厚測定器61、62は周波数変
化から付着した有機化合物の膜厚を求め、出力装置5に
出力する。
入力により、有機化合物411、412の単位時間当たり
の蒸気放出量を算出し、その蒸気放出量が安定したとこ
ろで、基板ホルダ12側に設けられたシャッタ17を開
ける。
411、412の蒸気は基板13に到達し、表面に付着す
る。このとき、基板13は所定温度まで昇温しているの
で、基板13に付着した有機化合物411、412は、そ
の表面で重合反応を開始し、有機薄膜が形成され始め
る。
される有機薄膜が成長するが、出力装置5は、有機薄膜
が成長する際に、各有機化合物411、412の蒸気放出
量を個別に監視しており、有機化合物411、412の単
位時間当たりの蒸気放出量が増加した場合は、その有機
化合物が配置された蒸着源内の加熱手段42への通電量
を少なくし、蒸気放出量が減少した場合には、逆に増加
させ、有機化合物蒸気411、412が安定に放出される
ようにする。
蒸気放出量に基いて制御されているため、各蒸着源40
1、402内の熱電対48が示す温度は一定値にならず上
下するが、各蒸着源401、402からは、一定量の有機
化合物411、412蒸気が放出されている。従って、基
板13表面には、母材の有機化合物411の蒸気と、ド
ーパントの有機化合物412の蒸気とが所定割合で到達
するため、微小量のドーパントを均一に含有する有機薄
膜を形成することができる。
置10によれば、発熱量制御手段3は、各蒸着源4
01、402の蒸気放出量に基いて加熱手段42の発熱量
を個別に制御している。従って、従来技術の真空蒸着装
置110(図5)のように、有機化合物141の温度に基
いて加熱手段142の発熱量を制御した場合に比べ、蒸
気放出量の変動に対する発熱量制御の追随性がよく、蒸
気放出量を一定にすることができる。
機化合物411、412の蒸気放出量を測定する際、熱電
対48からの出力により、各蒸着源401、402内の容
器46の温度も監視しており、有機化合物411、412
が過加熱状態になった場合には容器46も高温になるた
め、分解を避けるため、温度測定値が予め設定された上
限温度に達する前に、その蒸着源内の発熱手段42への
通電を停止し、有機化合物411、412が熱分解しない
ようにしている。
発生させ、有機薄膜を形成する場合について説明した
が、本発明の真空蒸着装置は他の材質の蒸着材料を用
い、金属薄膜等の無機薄膜を形成することもできる。そ
のような蒸着材料には、例えばLi金属があり、本発明
の真空蒸着装置10は、膜厚制御性がよいことから、微
量なLi蒸発を発生させ、膜厚が非常に薄いLi金属薄
膜を形成するのにも適している。
を制御するので、蒸着源内の熱電対と有機化合物との温
度差に影響されず、蒸気放出量を一定にできる。ドーパ
ントが均一に含まれる有機薄膜を形成することができ
る。更に、蒸着源の数を増やし、大面積基板への蒸着を
行う場合、個別に蒸着源を制御できるため、大面積基板
へ膜厚分布良く薄膜を形成することができる。
のグラフ
1……真空槽 161、162……蒸気量検出手段
401、402……蒸着源 41……有機化合物 4
2……加熱手段
Claims (5)
- 【請求項1】真空槽と蒸着源とを有し、 前記蒸着源内には加熱手段が設けられ、 前記加熱手段が発熱すると、前記蒸着源内に配置された
有機化合物が加熱され、前記有機化合物の蒸気が前記真
空槽内に放出され、前記真空槽内に配置された基板表面
に付着して有機薄膜を形成できるように構成された真空
蒸着装置であって、 前記有機化合物蒸気の放出量を検出する蒸気量検出手段
と、 検出された放出量に基いて前記加熱手段の発熱量を制御
する発熱量制御手段とを有することを特徴とする真空蒸
着装置。 - 【請求項2】前記蒸着源を複数有し、前記蒸気量検出手
段は前記各蒸着源の蒸気放出量を個別に検出し、前記発
熱量制御手段は検出された前記各蒸着源の蒸気放出量に
基いて前記各蒸着源内の加熱手段の発熱量を個別に制御
できるように構成されたことを特徴とする請求項1記載
の真空蒸着装置。 - 【請求項3】蒸着源内に配置された蒸着材料を加熱し、
蒸着材料蒸気を真空槽内に放出させ、基板表面に付着さ
せて薄膜を形成する薄膜形成方法であって、 前記蒸着材料蒸気の放出量を測定し、前記放出量が一定
になるように、前記蒸着材料の加熱状態を制御すること
を特徴とする薄膜形成方法。 - 【請求項4】前記蒸着材料の温度を測定し、所定の上限
温度以上になると前記蒸着材料の加熱を停止させること
を特徴とする請求項3記載の薄膜形成方法。 - 【請求項5】複数の蒸着源から前記真空槽内に蒸着材料
蒸気を放出させる請求項3又は請求項4のいずれか1項
記載の薄膜形成方法であって、 蒸着材料蒸気の放出量の測定と、蒸着材料の加熱状態の
制御とを、前記各蒸着源毎に個別に行うことを特徴とす
る薄膜形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30340597A JP3741842B2 (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 真空蒸着装置、及び薄膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30340597A JP3741842B2 (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 真空蒸着装置、及び薄膜形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11124667A true JPH11124667A (ja) | 1999-05-11 |
JP3741842B2 JP3741842B2 (ja) | 2006-02-01 |
Family
ID=17920637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30340597A Expired - Lifetime JP3741842B2 (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 真空蒸着装置、及び薄膜形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3741842B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018150581A (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-27 | キヤノン株式会社 | 蒸着装置 |
-
1997
- 1997-10-17 JP JP30340597A patent/JP3741842B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018150581A (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-27 | キヤノン株式会社 | 蒸着装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3741842B2 (ja) | 2006-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0962260B1 (en) | Material evaporation system | |
US6507698B2 (en) | Evaporation apparatus, organic material evaporation source, and method of manufacturing thin organic film | |
JPWO2008117690A1 (ja) | 蒸着源、蒸着装置、成膜方法 | |
JP2010196082A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP2007138193A (ja) | 真空蒸着装置の運転方法および真空蒸着装置 | |
KR100984148B1 (ko) | 소스량 제어가 가능한 진공증착장치 | |
JP3483719B2 (ja) | 有機材料用蒸発源及びこれを用いた有機薄膜形成装置 | |
JP3741842B2 (ja) | 真空蒸着装置、及び薄膜形成方法 | |
US6473564B1 (en) | Method of manufacturing thin organic film | |
KR100611883B1 (ko) | 증착시스템 및 이에 사용되는 증착두께 측정방법 | |
JP2004059982A (ja) | 真空蒸着方法 | |
JPH0610118A (ja) | 蒸着方法及び蒸発装置 | |
KR100518147B1 (ko) | 증착장치,유기증발원및유기박막제조방법 | |
JP5180469B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP2009149919A (ja) | 膜厚モニタ装置及びこれを備える成膜装置 | |
JP2014065942A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPH10158820A (ja) | 蒸着装置、有機蒸発源、有機薄膜製造方法 | |
JP2014055335A (ja) | 真空成膜装置とその蒸発源の温度制御方法及び装置 | |
JPH0645885B2 (ja) | 堆積膜形成法 | |
JP3580101B2 (ja) | リチウムイオン電池負極材料の製造方法及び装置 | |
EP1696049B1 (en) | Vacuum evaporation apparatus | |
JP2015069859A (ja) | 有機el製造装置及び有機el製造方法 | |
CN113699487B (zh) | 蒸发源装置、蒸镀装置及蒸发源装置的控制方法 | |
JP3817037B2 (ja) | 真空蒸着装置、有機el素子の形成方法 | |
KR102165001B1 (ko) | 유기 박막 제조 장치, 유기 박막 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050707 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050908 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051012 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081118 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111118 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111118 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |