JPH11121402A - Uv照射ユニット及び該uv照射ユニットを搭載したダイシング装置 - Google Patents

Uv照射ユニット及び該uv照射ユニットを搭載したダイシング装置

Info

Publication number
JPH11121402A
JPH11121402A JP28021297A JP28021297A JPH11121402A JP H11121402 A JPH11121402 A JP H11121402A JP 28021297 A JP28021297 A JP 28021297A JP 28021297 A JP28021297 A JP 28021297A JP H11121402 A JPH11121402 A JP H11121402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
light source
dicing
irradiation
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28021297A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Namioka
伸一 波岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP28021297A priority Critical patent/JPH11121402A/ja
Publication of JPH11121402A publication Critical patent/JPH11121402A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Dicing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ダイシング装置等に配設されるUV照射ユニッ
トにおいて、設置スペースをあまりとらず、強力なUV
照射を可能とする。 【解決手段】少なくとも、装置内部の空間領域に収納さ
れる光源部と、装置の任意の領域に配設されてUV照射
を行うライン照射部とから構成されるUV照射ユニット
を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェーハ等
を保持する紫外線(UV)硬化型の保持テープに紫外線
を照射して粘着力を低下させるUV照射ユニット及びこ
のUV照射ユニットが配設されたダイシング装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】図3に示すような、ダイシング装置によ
ってダイシングされる半導体ウェーハWの表面には、所
定間隔を置いて格子状に配列された複数個の直線状領域
であるストリートSが存在し、ストリートSによって区
画された複数の矩形領域には、回路パターンが施されて
いる。そして、ストリートSが切削されると、矩形領域
は分離されてチップとなる。
【0003】このような半導体ウェーハWは、ダイシン
グ前に保持テープTを介してフレームFに保持され、ダ
イシング後も保持テープTの粘着力によってバラバラに
ならず、全体としてダイシング前の形状が維持されてい
る。従って、ダイシング後は、保持テープTから各チッ
プを剥離させるピックアップという作業が必要となる
が、各チップは依然として保持テープTの強力な粘着力
によって保持されているため、ピックアップは容易では
ない。
【0004】そこで、ピックアップを容易とするための
一つの手法として、保持テープTにUV硬化型テープを
用い、ダイシング後にUV硬化型テープTに紫外線(U
V)を充分に照射する手法がある。この手法によれば、
UV硬化型テープTの接着力を充分に低下させてからチ
ップを剥離させることができるため、ピックアップ作業
を円滑に行うことができる。
【0005】UV硬化型テープへのUV照射は、ダイシ
ング装置にUV照射ユニットを設けることにより、以下
のようにしてダイシング装置におけるダイシングの一連
の工程内で行うことができる。
【0006】図3のように保持テープTを介してフレー
ムFに保持された半導体ウェーハWが図4に示すダイシ
ング装置20においてダイシングされる際は、まず、カ
セット載置領域21に載置されたカセット22内に収容
される。そして、カセット22内に収容された半導体ウ
ェーハWは、第一の搬送手段23によって仮受け領域2
4まで搬出され、更に、第二の搬送手段25の旋回動に
よってチャックテーブル26まで搬送されて吸引保持さ
れる。
【0007】チャックテーブル26に吸引保持された半
導体ウェーハWは、チャックテーブル26のX軸方向の
移動によってアライメント手段27の直下に位置付けさ
れると、半導体ウェーハWの面に形成されたストリート
Sとダイシング手段28を構成するブレード29との位
置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理
がアライメント手段27によって行われ、アライメント
が遂行される。
【0008】そして、上記アライメントがなされると、
チャックテーブル26が更にX軸方向に移動することに
より、チャックテーブル26に保持された半導体ウェー
ハWのストリートSは、ブレード29が挿着されたダイ
シング手段28の作用を受けて切削されて、ダイシング
が遂行される。
【0009】ダイシングが完了すると、チャックテーブ
ル26は、元の位置まで戻ると共に、チャックテーブル
26の吸引力が解除され、半導体ウェーハWを保持した
フレームFは、第三の搬送手段30に吸着され、洗浄兼
スピン乾燥領域31まで搬送されて、洗浄及びスピン乾
燥が行われる。
【0010】洗浄兼スピン乾燥領域31において半導体
ウェーハWの洗浄、スピン乾燥が行われた後、半導体ウ
ェーハWは、第四の搬送手段32の旋回動によって仮受
け領域24まで搬送される。
【0011】仮受け領域24まで搬送された半導体ウェ
ーハWは、図5に示すUV照射用搬送手段40の吸着部
41に吸着されて搬送され、UV照射ユニット42の直
上に位置付けられてUV照射を受ける。
【0012】そして、UV照射を受けて粘着力の弱まっ
たUV硬化型テープTに保持された半導体ウェーハW
は、仮受け領域24まで戻され、第一の搬送手段23に
よってカセット22内の所定場所に搬入されて一連のダ
イシング及びUV照射が終了する。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、UV照
射ユニット42を設置するためのスペースには制限があ
るため、充分なUV照射を行うための強力な光源を設置
できない場合があり、強力な光源を設置しようとする
と、ダイシング装置の設計変更が必要となることもあ
る。更に、上記のようなUV照射用搬送手段40を用い
て特別な経路を設けなければならず、半導体ウェーハの
搬送に時間を要し、ダイシングの生産性も低下する。
【0014】従って、従来のUV照射ユニットは、生産
性を低下させることなく、UV照射ユニットの設置用の
スペースの制限を受けずに設置でき、かつ、充分なUV
照射が行えるようにすることに課題を有している。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の具体的手段として本発明は、半導体ウェーハ等の被加
工物に貼着されているUVテープに紫外線を照射して該
UVテープの粘着力を低下させるUV照射ユニットであ
って、少なくとも紫外線を発する光源部と、該光源部が
発する紫外線をライン状に照射するライン照射部とから
構成されることを要旨とするものである。
【0016】このように構成されるUV照射ユニット
は、光源部とライン照射部とから構成されることによ
り、光源部を装置の内部に収納し、ライン照射部を省ス
ペースで配設することができる。
【0017】また本発明は、テープを介してフレームに
装着された半導体ウェーハをダイシングするダイシング
装置であって、半導体ウェーハを保持して搬送する搬送
手段が配設され、該搬送手段によって搬送される半導体
ウェーハの搬送経路の所要位置には、少なくとも紫外線
を発する光源部と該光源部が発する紫外線をライン状に
照射するライン照射部とから構成されるUV照射ユニッ
トのライン照射部が配設されることを要旨とするもので
ある。
【0018】そして、テープを介してフレームに装着さ
れた半導体ウェーハを複数収容したカセットが載置され
るカセット載置領域と、該カセット載置領域に載置され
たカセット内のフレームに装着された半導体ウェーハを
搬出入する第一の搬送手段と、該第一の搬送手段によっ
て搬出入される際にフレームに装着された半導体ウェー
ハが一時的に置かれる仮受け領域と、該仮受け領域から
半導体ウェーハを保持するチャックテーブルまでフレー
ムに装着された半導体ウェーハを搬送する第二の搬送手
段と、チャックテーブルに保持された半導体ウェーハを
ダイシング加工するダイシング手段と、チャックテーブ
ルからダイシング加工後の半導体ウェーハを洗浄領域ま
で搬送する第三の搬送手段と、洗浄領域から洗浄後の半
導体ウェーハを仮受け領域まで搬送する第四の搬送手段
とを含み、該第四の搬送手段によって洗浄後の半導体ウ
ェーハが洗浄領域から仮受け領域まで搬送される搬送経
路にライン照射部が配設され、装置内の空間領域に光源
部が配設されること、第四の搬送手段は、第二の搬送手
段と共用することを付加的要件とするものである。
【0019】このようなダイシング装置では、半導体ウ
ェーハの搬送過程においてUV照射が行われるため、U
V照射用の特別な領域を設けたり、UV照射を受けるた
めの特別な経路を設けたりする必要もない。更に、半導
体ウェーハの搬送過程においてUV照射が行われるた
め、UV照射のための特別の工程が不要となる。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態として、UV
照射ユニットを配設したダイシング装置について図1及
び図2を参照して説明する。なお、理解を容易とするた
め、図4に示した従来のダイシング装置20と共通する
部位については、同一の符号を付して説明することとす
る。
【0021】本発明のダイシング装置10には、図4に
示した従来のダイシング装置20で配設されていたUV
照射ユニット42やUV照射用搬送手段40を配設して
おらず、装置内に収納した光源部11と、ラインファイ
バー12と、ラインファイバー12を介して光源部11
と接続されたライン照射部13とからなるUV照射ユニ
ット14が搭載されている。
【0022】光源部11は、強力な紫外線を発すること
ができる光源であり、ダイシング装置10内の空間領域
に収納され、折り曲げても光を伝えることができる細い
光ファイバーを複数束ねたラインファイバー12を介し
て、ライン照射部13と接続されている。
【0023】ラインファイバー12を介して光源部11
と接続されたライン照射部13は、第二の搬送手段25
の旋回経路の下方に配設され、図2に示すように、中央
部に半導体ウェーハの直径以上の長さを有するライン状
の照射口17、両端にはダイシング装置10の基台にネ
ジ等によって固定されるブラケット15を備え、片方の
端部には、ラインファイバー12を覆ってカバーするチ
ューブ16が設けられている。そして、光源部11から
発せられた紫外線は、ラインファイバー12を通ってラ
イン照射部13の照射口17から照射される。
【0024】このように構成されるダイシング装置10
において、保持テープ(UV硬化型テープ)Tを介して
フレームFに保持された半導体ウェーハWは、第一の搬
送手段23によってカセット22から仮受け領域24に
搬出された後、第二の搬送手段25の旋回動によってチ
ャックテーブル26に搬送される過程でライン照射部1
3の直上を通過するが、このとき必要であれば若干のU
V照射を受ける。
【0025】ここでUV照射を受けることにより、UV
硬化型テープTの粘着力が若干低下し、これに伴い硬化
して半導体ウェーハWの保持状態が安定する。従って、
ここでUV照射を行わない場合よりも、安定した保持状
態でダイシングが行われ、ダイシング時に半導体ウェー
ハWに細かな欠け(チッピング)が生じにくくなる。
【0026】そして、ダイシング手段28によるダイシ
ング、及び、洗浄兼スピン乾燥領域31における洗浄、
スピン乾燥が行われた後、半導体ウェーハWは、第二の
搬送手段25を兼ねる第四の搬送手段32の旋回動によ
って仮受け領域24に戻されるが、第四の搬送手段32
の旋回時に、再びダイシング後の半導体ウェーハWがラ
イン照射部13の直上を通過する。
【0027】このとき、UV硬化型テープTはライン照
射部13から紫外線を充分に照射されて、粘着力が充分
に低下するため、後のチップのピックアップを容易に行
うことができる。
【0028】このようにして、粘着力が充分に低下した
UV硬化型テープに保持されたチップは、カセット22
に収納されて一連のダイシング工程を終了する。そし
て、UV照射によって粘着力が充分に低下したUV硬化
型テープTからは、チップのピックアップが容易に行わ
れる。
【0029】なお、ライン照射部13の配設位置は、本
実施の形態に限定されるものではなく、例えば、第一の
搬送手段23の搬送経路の所要位置に配設するようにし
てもよい。
【0030】また、本発明に係るUV照射ユニットは、
ダイシング装置のみならず、UV照射を必要とする任意
の装置に搭載可能であり、特に搭載用のスペースがあま
りない装置には有用である。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るUV
照射ユニットは、光源部とライン照射部とから構成され
ることにより、光源部を装置の内部に収納し、ライン照
射部を省スペースで配設することができるため、装置に
UV照射ユニットの搭載用の特別な領域を設ける必要が
なく、強力な光源を搭載することもできる。
【0032】また、本発明に係るダイシング装置では、
半導体ウェーハの搬送過程においてUV照射が行われる
ため、UV照射用の特別な領域を設けたり、UV照射を
受けるための特別な経路を設けたりする必要もないの
で、ダイシング装置の設計変更が不要となる。更に、半
導体ウェーハの搬送過程においてUV照射が行われるた
め、UV照射のための工程が不要となり、UV照射に時
間がかからず、生産性を低下させることがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るUV照射ユニットを搭載したダイ
シング装置を示す斜視図である。
【図2】同ダイシング装置に配設されるライン照射部を
示す平面図である。
【図3】保持テープによってフレームに保持された半導
体ウェーハを示す平面図である。
【図4】従来のダイシング装置を示す斜視図である。
【図5】同ダイシング装置に配設されるUV照射用搬送
手段を示す斜視図である。
【符号の説明】
10……ダイシング装置 11……光源部 12……ラ
インファイバー 13……ライン照射部 14……UV照射ユニット 1
5……ブラケット 16……チューブ 17……照射口 20……ダイシング装置 21……カセット載置領域
22……カセット 23……第一の搬送手段 24……仮受け領域 25…
…第二の搬送手段 26……チャックテーブル 27……アライメント手段 28……ダイシング手段 29……ブレード 30……
第三の搬送手段 31……洗浄兼スピン乾燥領域 32……第四の搬送手
段 40……UV照射用搬送手段 41……吸着部 42…
…UVユニット W……半導体ウェーハ S……ストリート T……保持テープ(UV硬化型テープ) F……フレー

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体ウェーハ等の被加工物に貼着されて
    いるUVテープに紫外線を照射して該UVテープの粘着
    力を低下させるUV照射ユニットであって、少なくとも
    紫外線を発する光源部と、該光源部が発する紫外線をラ
    イン状に照射するライン照射部とから構成されるUV照
    射ユニット。
  2. 【請求項2】テープを介してフレームに装着された半導
    体ウェーハをダイシングするダイシング装置であって、
    前記半導体ウェーハを保持して搬送する搬送手段が配設
    され、該搬送手段によって搬送される前記半導体ウェー
    ハの搬送経路の所要位置には、少なくとも紫外線を発す
    る光源部と該光源部が発する紫外線をライン状に照射す
    るライン照射部とから構成されるUV照射ユニットの前
    記ライン照射部が配設されるダイシング装置。
  3. 【請求項3】テープを介してフレームに装着された半導
    体ウェーハを複数収容したカセットが載置されるカセッ
    ト載置領域と、該カセット載置領域に載置された前記カ
    セット内の前記フレームに装着された半導体ウェーハを
    搬出入する第一の搬送手段と、該第一の搬送手段によっ
    て搬出入される際に前記フレームに装着された半導体ウ
    ェーハが一時的に置かれる仮受け領域と、該仮受け領域
    から半導体ウェーハを保持するチャックテーブルまで前
    記フレームに装着された半導体ウェーハを搬送する第二
    の搬送手段と、前記チャックテーブルに保持された半導
    体ウェーハをダイシング加工するダイシング手段と、前
    記チャックテーブルからダイシング加工後の半導体ウェ
    ーハを洗浄領域まで搬送する第三の搬送手段と、前記洗
    浄領域から洗浄後の半導体ウェーハを前記仮受け領域ま
    で搬送する第四の搬送手段とを含み、該第四の搬送手段
    によって洗浄後の半導体ウェーハが前記洗浄領域から前
    記仮受け領域まで搬送される搬送経路にライン照射部が
    配設され、装置内の空間領域に光源部が配設される請求
    項2に記載のダイシング装置。
  4. 【請求項4】第四の搬送手段は、第二の搬送手段と共用
    する請求項3に記載のダイシング装置。
JP28021297A 1997-10-14 1997-10-14 Uv照射ユニット及び該uv照射ユニットを搭載したダイシング装置 Pending JPH11121402A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28021297A JPH11121402A (ja) 1997-10-14 1997-10-14 Uv照射ユニット及び該uv照射ユニットを搭載したダイシング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28021297A JPH11121402A (ja) 1997-10-14 1997-10-14 Uv照射ユニット及び該uv照射ユニットを搭載したダイシング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11121402A true JPH11121402A (ja) 1999-04-30

Family

ID=17621882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28021297A Pending JPH11121402A (ja) 1997-10-14 1997-10-14 Uv照射ユニット及び該uv照射ユニットを搭載したダイシング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11121402A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085449A (ja) * 1999-09-10 2001-03-30 Disco Abrasive Syst Ltd Csp基板保持部材及び該csp基板保持部材が載置されるcsp基板用テーブル
JP2012094927A (ja) * 2012-02-17 2012-05-17 Lintec Corp 光照射装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085449A (ja) * 1999-09-10 2001-03-30 Disco Abrasive Syst Ltd Csp基板保持部材及び該csp基板保持部材が載置されるcsp基板用テーブル
JP2012094927A (ja) * 2012-02-17 2012-05-17 Lintec Corp 光照射装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3076179B2 (ja) ダイシング装置
JP2000232080A (ja) 被加工物の分割システム及びペレットの移し替え装置
KR20160099479A (ko) 웨이퍼 처리 시스템
TW200933720A (en) Ultraviolet irradiation method and device using the same
JP7042944B2 (ja) 搬送装置、および基板処理システム
JP5312997B2 (ja) 紫外線照射装置
JPH1167881A (ja) 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法
TW200910434A (en) Dicing apparatus and dicing method
KR100849589B1 (ko) 절삭장치
JP3232575B2 (ja) 半導体処理装置
JPH09213626A (ja) 原版保持装置およびこれを用いた露光装置
JP5371127B2 (ja) 電子部品の処理装置及びその処理方法
JP2004281430A (ja) 紫外線照射方法およびそれを用いた装置
JPH11121402A (ja) Uv照射ユニット及び該uv照射ユニットを搭載したダイシング装置
JPH10242083A (ja) ダイシング方法
JP2000208445A (ja) 被加工物の分割加工方法
JP2000299297A (ja) ペレットのピックアップ用テーブル及びペレットの移し替え装置
JPH08288318A (ja) ピックアップ方法および装置
JP6758508B2 (ja) 基板処理方法及び基板処理システム
JP2005276987A (ja) 極薄チップの製造プロセス及び製造装置
JP2000323439A (ja) ダイシング装置
JP2001168064A (ja) ペレット押上部材及びペレットピックアップ装置
JPH11255332A (ja) 基板収納ケース
JPH05267451A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH10335270A (ja) ペレットのピックアップ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040827

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070606

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070731

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071029