JPH11121331A - レチクルローダ機構 - Google Patents
レチクルローダ機構Info
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- JPH11121331A JPH11121331A JP9279060A JP27906097A JPH11121331A JP H11121331 A JPH11121331 A JP H11121331A JP 9279060 A JP9279060 A JP 9279060A JP 27906097 A JP27906097 A JP 27906097A JP H11121331 A JPH11121331 A JP H11121331A
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- reticule
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】縮小投影露光装置におけるレチクルローダ機構
において、レチクル１６と載置面１４ａとの間に介在す
る異物に起因する装填されるレチクル１６の光軸に対す
る傾きを防止する。 【解決手段】レチクルステージ１４の載置面１４ａと載
置面１４ａに対応するレチクル１６の下面の部分とを拭
き清掃する洗浄ユニット１を設け、レチクル１６をレチ
クルステージに装填する前にに付着している異物を除去
している。
において、レチクル１６と載置面１４ａとの間に介在す
る異物に起因する装填されるレチクル１６の光軸に対す
る傾きを防止する。 【解決手段】レチクルステージ１４の載置面１４ａと載
置面１４ａに対応するレチクル１６の下面の部分とを拭
き清掃する洗浄ユニット１を設け、レチクル１６をレチ
クルステージに装填する前にに付着している異物を除去
している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板に転写
するパターンが形成されるレチクルを縮小投影露光装置
のレチクルステージに自動的に装填する関するものであ
る。
するパターンが形成されるレチクルを縮小投影露光装置
のレチクルステージに自動的に装填する関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の縮小投影露光装置には、
レチクルのような光学部品に塵芥が付着しないようにレ
チクル保管装置が備えられている。また、保管中に塵芥
が付着したか否かを検査する装置や洗浄装置も付設され
ている。
レチクルのような光学部品に塵芥が付着しないようにレ
チクル保管装置が備えられている。また、保管中に塵芥
が付着したか否かを検査する装置や洗浄装置も付設され
ている。
【０００３】このような露光システムにおけるレチクル
の搬送は、まず、レチクル保管装置からレチクルを搬送
機構より取り出しパーティクル検査装置へ搬送する。そ
こでレチクル表面に異物が付着していないか否かを検査
する。もし、異物が付着していると判定されると、洗浄
装置へ搬送される。表面の異物が除去されたら、再びパ
ーティクル検査装置で検査される。その結果、合格であ
ればレチクルは自動的に縮小投影露光装置のレチクル装
填部のレチクルローダ機構に搬送される。
の搬送は、まず、レチクル保管装置からレチクルを搬送
機構より取り出しパーティクル検査装置へ搬送する。そ
こでレチクル表面に異物が付着していないか否かを検査
する。もし、異物が付着していると判定されると、洗浄
装置へ搬送される。表面の異物が除去されたら、再びパ
ーティクル検査装置で検査される。その結果、合格であ
ればレチクルは自動的に縮小投影露光装置のレチクル装
填部のレチクルローダ機構に搬送される。
【０００４】図４は従来の一例におけるレチクルローダ
機構を説明するための斜視図である。検査装置から送ら
れるレチクルは、図４に示すように、他の搬送機構から
移載されるレチクル１６をフォ一ク２４に乗せ吸着パッ
ド１２で吸着保持し、鏡筒内にフォーク２４を挿入し、
レチクル１６をレチクルステージ１４の上で停止させ
る。そして、フォーク２４を下降させレチクル１６を四
個所の載置面１４ａに乗せた状態で吸着パッドの吸着力
を解除し、フォーク２４を引き抜きレチクル１６を装填
していた。
機構を説明するための斜視図である。検査装置から送ら
れるレチクルは、図４に示すように、他の搬送機構から
移載されるレチクル１６をフォ一ク２４に乗せ吸着パッ
ド１２で吸着保持し、鏡筒内にフォーク２４を挿入し、
レチクル１６をレチクルステージ１４の上で停止させ
る。そして、フォーク２４を下降させレチクル１６を四
個所の載置面１４ａに乗せた状態で吸着パッドの吸着力
を解除し、フォーク２４を引き抜きレチクル１６を装填
していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のレチクルの搬送システムの構成では、洗浄装置
で異物であるパーティクル２５ａが除去され検査装置で
パーティクル２５ａの有無が検査されても、検査装置か
らレチクルステージまでの搬送経路途中でパーティクル
２５ａが付着する恐れがある。また、検査装置にしても
パターンが形成されるの中心部の異物の有無を容易に確
認できるものの見逃す恐れがある。特に、パターン形成
領域を保護膜で覆うようにペリクルが装着されるレチク
ルの場合は、パターン面を覆うペリクルの表面のみ洗浄
するので、レチクルステージの載置面に対応するレチク
ルの四隅の面にパーティクルが付着している確率が高
い。
た従来のレチクルの搬送システムの構成では、洗浄装置
で異物であるパーティクル２５ａが除去され検査装置で
パーティクル２５ａの有無が検査されても、検査装置か
らレチクルステージまでの搬送経路途中でパーティクル
２５ａが付着する恐れがある。また、検査装置にしても
パターンが形成されるの中心部の異物の有無を容易に確
認できるものの見逃す恐れがある。特に、パターン形成
領域を保護膜で覆うようにペリクルが装着されるレチク
ルの場合は、パターン面を覆うペリクルの表面のみ洗浄
するので、レチクルステージの載置面に対応するレチク
ルの四隅の面にパーティクルが付着している確率が高
い。
【０００６】このようにレチクルの四隅の面のいずれか
にパーティクル２５ｂが付着した場合、レチクルをレチ
クルステージの載置面１４ａに載置すると、レチクルの
面が露光光の光軸に対して垂直な面にならず、異物の分
だけ高くなりレチクルの面がいずれかに傾き、半導体基
板に転写されるパターンに歪みや位置ずれを起こすとい
う問題がある。一方、レチクルが載置される載置面に異
物が付着していても同様の問題を起すことになる。
にパーティクル２５ｂが付着した場合、レチクルをレチ
クルステージの載置面１４ａに載置すると、レチクルの
面が露光光の光軸に対して垂直な面にならず、異物の分
だけ高くなりレチクルの面がいずれかに傾き、半導体基
板に転写されるパターンに歪みや位置ずれを起こすとい
う問題がある。一方、レチクルが載置される載置面に異
物が付着していても同様の問題を起すことになる。
【０００７】従って、本発明の目的は、レチクルとレチ
クルステージの載置面との間に異物が無くレチクルの面
を露光光の光軸に対して垂直になるようにレチクルを装
填できるレチクルローダ機構を提供することにある。
クルステージの載置面との間に異物が無くレチクルの面
を露光光の光軸に対して垂直になるようにレチクルを装
填できるレチクルローダ機構を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、露光装
置の鏡筒内にレチクルを搬送しレチクルステージの載置
面に前記レチクルを載置する移載機構を備えるレチクル
ローダ機構において、前記鏡筒内に挿入され前記載置面
を拭き清掃するとともに前記鏡筒外に停留して前記移載
機構により搬送される前記レチクルの下面の前記載置面
に対応する両側部分を拭き清掃する異物除去部をもつワ
イパ部材を具備する洗浄ユニットを備えるレチクルロー
ダ機構である。
置の鏡筒内にレチクルを搬送しレチクルステージの載置
面に前記レチクルを載置する移載機構を備えるレチクル
ローダ機構において、前記鏡筒内に挿入され前記載置面
を拭き清掃するとともに前記鏡筒外に停留して前記移載
機構により搬送される前記レチクルの下面の前記載置面
に対応する両側部分を拭き清掃する異物除去部をもつワ
イパ部材を具備する洗浄ユニットを備えるレチクルロー
ダ機構である。
【０００９】また、前記ワイパ部材の異物除去部は、内
部に洗浄液の流路を有する棒状部材の一端部側に有し前
記流路と通じ上下に配設される一対の前記洗浄液の流出
口部材と、前記流出口部材を覆ように長手方向に前記棒
状部材に載置され前記洗浄液の吐出口を有する一対の弓
形状の板ばね部材と、この板ばね部材と前記棒状部材と
の間に充填される弾力性の吸水部材と、前記一対の板ば
ね部材を包む綿布部材とを備えることが望ましい。さら
に、前記棒状部材に乾燥ガスの流路を形成し該流路と通
ずるとともに前記乾燥ガスを噴出するとともに前記棒状
部材の上下に設けられる乾燥ガス噴射ノズルを備えるこ
とが望ましい。
部に洗浄液の流路を有する棒状部材の一端部側に有し前
記流路と通じ上下に配設される一対の前記洗浄液の流出
口部材と、前記流出口部材を覆ように長手方向に前記棒
状部材に載置され前記洗浄液の吐出口を有する一対の弓
形状の板ばね部材と、この板ばね部材と前記棒状部材と
の間に充填される弾力性の吸水部材と、前記一対の板ば
ね部材を包む綿布部材とを備えることが望ましい。さら
に、前記棒状部材に乾燥ガスの流路を形成し該流路と通
ずるとともに前記乾燥ガスを噴出するとともに前記棒状
部材の上下に設けられる乾燥ガス噴射ノズルを備えるこ
とが望ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１１】図１は本発明の一実施の形態におけるレチ
クルローダ機構を示す斜視図である。このレチクルロー
ダ機構は、図１に示すように、レチクル洗浄装置から搬
送されるレチクル１６を回転爪１３で保持し上下に移動
するプリアライメント部５と、回転爪１３から解放され
るレチクル１６を乗せ吸着パッド１２で保持し鏡筒部１
５内に挿入されレチクルステージ１４の載置面１４ａに
レチクル１６を移載するフォーク４と、鏡筒部１５外に
配置される支持部１１上に配置されるベース１０の上を
摺動し鏡筒部１５内に進入し載置面１４ａを拭き清掃す
るとともに後退してベース１０上に停止し移動するフォ
ーク４が保持するレチクル１６の載置面１４ａに対応す
る両側下面を移動に伴なって拭き清掃する異物除去部２
ａをもつワイパ部材２を具備する洗浄ユニット１を備え
ている。
クルローダ機構を示す斜視図である。このレチクルロー
ダ機構は、図１に示すように、レチクル洗浄装置から搬
送されるレチクル１６を回転爪１３で保持し上下に移動
するプリアライメント部５と、回転爪１３から解放され
るレチクル１６を乗せ吸着パッド１２で保持し鏡筒部１
５内に挿入されレチクルステージ１４の載置面１４ａに
レチクル１６を移載するフォーク４と、鏡筒部１５外に
配置される支持部１１上に配置されるベース１０の上を
摺動し鏡筒部１５内に進入し載置面１４ａを拭き清掃す
るとともに後退してベース１０上に停止し移動するフォ
ーク４が保持するレチクル１６の載置面１４ａに対応す
る両側下面を移動に伴なって拭き清掃する異物除去部２
ａをもつワイパ部材２を具備する洗浄ユニット１を備え
ている。
【００１２】また、異物除去部２ａの外皮は、例えば、
毛ばたたない光学部品用の拭き取り紙あるいは洗い晒し
た綿布などである。また、ワイパ２はスライダ９と一体
化され、スライダ９の案内溝にベース１０の突出部と精
密に嵌合しスライダ９はワイパ２を伴なって矢印方向に
蛇行することなく移動できるようになっている。
毛ばたたない光学部品用の拭き取り紙あるいは洗い晒し
た綿布などである。また、ワイパ２はスライダ９と一体
化され、スライダ９の案内溝にベース１０の突出部と精
密に嵌合しスライダ９はワイパ２を伴なって矢印方向に
蛇行することなく移動できるようになっている。
【００１３】なお、このスライダ９の移動は、スライダ
９の下部に取り付けられたラック６とベース１０内のモ
ータ７ａの軸に取付けられ突出するピニオン７ｂとが噛
み合い、モータ７ａの回転で行なわれている。すなわ
ち、モータ７ａの回転方向でスライダ９の前進および後
退を行なっている。
９の下部に取り付けられたラック６とベース１０内のモ
ータ７ａの軸に取付けられ突出するピニオン７ｂとが噛
み合い、モータ７ａの回転で行なわれている。すなわ
ち、モータ７ａの回転方向でスライダ９の前進および後
退を行なっている。
【００１４】このスライダ９とベース１０との組立体
は、上下動機構８に乗せられ後述するように、ワイパ２
の上下移動を仕さどている。この上下動機構８は、ベー
ス１０を所定の距離だけ上昇および下降させる電磁ソレ
ノイドとワイパ２の異物除去部２ａに押圧力を与える圧
電素子を備えている。
は、上下動機構８に乗せられ後述するように、ワイパ２
の上下移動を仕さどている。この上下動機構８は、ベー
ス１０を所定の距離だけ上昇および下降させる電磁ソレ
ノイドとワイパ２の異物除去部２ａに押圧力を与える圧
電素子を備えている。
【００１５】図２は図１のワイパの実施例を示す断面図
である。レチクルや載置面に付着する塵芥が、空気中に
浮遊していたものであれば、前述のように、洗浄液なし
で、単に綿布や紙などで拭く動作で除去できるが、保管
棚以前に付着したパーティクルは拭くだけの動作では除
去できない。特に、ペリクル付きのレチクルの場合は、
取り難いパーティクルが付着している。そこで、図２に
示すワイパを適用するに至った。
である。レチクルや載置面に付着する塵芥が、空気中に
浮遊していたものであれば、前述のように、洗浄液なし
で、単に綿布や紙などで拭く動作で除去できるが、保管
棚以前に付着したパーティクルは拭くだけの動作では除
去できない。特に、ペリクル付きのレチクルの場合は、
取り難いパーティクルが付着している。そこで、図２に
示すワイパを適用するに至った。
【００１６】このワイパは、図２に示すように、内部に
洗浄液の流路２１を有する棒状部材の一端部側に有し流
路２１と通じ上下に配設される一対のニップル２０と、
このニップル２０を覆うように長手方向に載置され洗浄
液を吐出する吐出口１９ａを有するる一対の弓形状の板
ばね１９と、この板ばね１９と棒状部材との間に充填さ
れる弾力性の吸水材１８と、一対の板ばね１９と棒状部
材とをを包む綿布材１７とで構成されている。なお、こ
の線布材１７はリティナ２３によって固定されている。
洗浄液の流路２１を有する棒状部材の一端部側に有し流
路２１と通じ上下に配設される一対のニップル２０と、
このニップル２０を覆うように長手方向に載置され洗浄
液を吐出する吐出口１９ａを有するる一対の弓形状の板
ばね１９と、この板ばね１９と棒状部材との間に充填さ
れる弾力性の吸水材１８と、一対の板ばね１９と棒状部
材とをを包む綿布材１７とで構成されている。なお、こ
の線布材１７はリティナ２３によって固定されている。
【００１７】また、洗浄液である溶剤としては、パーテ
ィクルなどの異物を溶解し易く乾燥速度が速いメチル・
エチル・ケトンを使用することが望ましい。吸水材１８
は、例えば、スポンジのようなもので作られ、ベローズ
ポンプのような定量吐出ポンプなどで流露２１を経て供
給される洗浄液を吸取り蓄える機能を有している。すな
わち、定量ポンプの一回の供給量の洗浄液を蓄えてい
る。
ィクルなどの異物を溶解し易く乾燥速度が速いメチル・
エチル・ケトンを使用することが望ましい。吸水材１８
は、例えば、スポンジのようなもので作られ、ベローズ
ポンプのような定量吐出ポンプなどで流露２１を経て供
給される洗浄液を吸取り蓄える機能を有している。すな
わち、定量ポンプの一回の供給量の洗浄液を蓄えてい
る。
【００１８】そして、レチクルステージの載置面やレチ
クルの裏面に異物除去部である綿布材１７を押し付ける
ことで、板ばね１９が凹んで吸水材１８が圧縮され洗浄
液が吐出口１９ａから滲み出て綿布材１７を洗浄液で濡
らす。圧電素子の伸縮で板ばね１９を押圧する量を設定
すれば、綿布材１７に供給する洗浄液の量が決められ
る。従って、過剰に供給することはないし、液滴となっ
て下方の縮小レンズなどの光学部品を汚すことがない。
クルの裏面に異物除去部である綿布材１７を押し付ける
ことで、板ばね１９が凹んで吸水材１８が圧縮され洗浄
液が吐出口１９ａから滲み出て綿布材１７を洗浄液で濡
らす。圧電素子の伸縮で板ばね１９を押圧する量を設定
すれば、綿布材１７に供給する洗浄液の量が決められ
る。従って、過剰に供給することはないし、液滴となっ
て下方の縮小レンズなどの光学部品を汚すことがない。
【００１９】また、メチル・エチル・ケトンのような溶
解力がなく乾燥速度が遅いが、一般的に使用されるアル
コール類がある。しかしながら、乾燥速度が遅いため、
乾燥手段が必要となってくる。そこで、本発明では、異
物除去部の近くでワイパ２が移動する方向にエア噴出ノ
ズル３を並べ設けたことである。
解力がなく乾燥速度が遅いが、一般的に使用されるアル
コール類がある。しかしながら、乾燥速度が遅いため、
乾燥手段が必要となってくる。そこで、本発明では、異
物除去部の近くでワイパ２が移動する方向にエア噴出ノ
ズル３を並べ設けたことである。
【００２０】なお、エア噴出ノズル３から噴出されるガ
スは、乾燥窒素が望ましく市販のボンベに電磁開閉弁を
取付け鏡筒外に配置し、図２の流路２２と繋がるフレキ
シブルチューブと連結させる。勿論、前述の洗浄液も、
流路２１と繋がりスライダ９から導出されるフレキシブ
ルチューブと定量ポンプよって供給される。
スは、乾燥窒素が望ましく市販のボンベに電磁開閉弁を
取付け鏡筒外に配置し、図２の流路２２と繋がるフレキ
シブルチューブと連結させる。勿論、前述の洗浄液も、
流路２１と繋がりスライダ９から導出されるフレキシブ
ルチューブと定量ポンプよって供給される。
【００２１】図３（ａ）〜（ｄ）は図２のワイパを具備
する図１のレチクルローダ機構の動作を説明するために
動作順に示す主要部の図である。次に、図１、図２およ
び図３を参照してレチクルローダ機構の動作を説明す
る。
する図１のレチクルローダ機構の動作を説明するために
動作順に示す主要部の図である。次に、図１、図２およ
び図３を参照してレチクルローダ機構の動作を説明す
る。
【００２２】まず、下方の保管棚より引き出されるレチ
クル１６を回転爪１３で保持しているプリアライメント
部５が上昇し待機している。この状態のとき、スライダ
９は上下動機構８により最も低い位置に置かれている。
そして、ワイパ２の異物除去部２ａの外皮である綿布材
１７の表面とレチクルステージ１４の載置面１４ａと略
一致している。そして、電圧が印加されていた圧電素子
を解除して異物除去部２ａを稍下げる。そして、スライ
ダ９を前後に移動させ洗浄液を載置面に塗りながら拭き
清掃する。
クル１６を回転爪１３で保持しているプリアライメント
部５が上昇し待機している。この状態のとき、スライダ
９は上下動機構８により最も低い位置に置かれている。
そして、ワイパ２の異物除去部２ａの外皮である綿布材
１７の表面とレチクルステージ１４の載置面１４ａと略
一致している。そして、電圧が印加されていた圧電素子
を解除して異物除去部２ａを稍下げる。そして、スライ
ダ９を前後に移動させ洗浄液を載置面に塗りながら拭き
清掃する。
【００２３】そして、圧電素子に電圧を印加し、異物除
去部２ａを載置面１４ａから引き離す。次に、必要に応
じて加熱された乾燥窒素をエア噴出ノズル３から噴き出
しながらスライダ９を前後に移動させる。
去部２ａを載置面１４ａから引き離す。次に、必要に応
じて加熱された乾燥窒素をエア噴出ノズル３から噴き出
しながらスライダ９を前後に移動させる。
【００２４】次に、図３（ｂ）に示すように、ワイパ２
とスライダ９を後退させ元の位置に戻し他の積層型圧電
素子を動作させワイパ２が最も高い位置にする。この動
作と平行して、フォーク４が前進し下降しているプリア
ライメント部５の回転爪１３の間に挿入され回転爪１３
の回転によりレチクル１６の保持が解除されフォーク４
に移載される。
とスライダ９を後退させ元の位置に戻し他の積層型圧電
素子を動作させワイパ２が最も高い位置にする。この動
作と平行して、フォーク４が前進し下降しているプリア
ライメント部５の回転爪１３の間に挿入され回転爪１３
の回転によりレチクル１６の保持が解除されフォーク４
に移載される。
【００２５】そして、フォーク４に乗せられたレチクル
１６はその裏面が吸着パッド１２で保持され、フォーク
４は前進しながらレチクル１６の裏の両側面をがワイパ
２の異物除去部２ａで拭き清掃する。必要に応じてフォ
ーク４を前後に往復させ清掃する。そして、圧電素子の
付勢を解除し異物除去部２ａをレチクル１６の下面から
引き離す。そして、エア噴出ノズル３から乾燥窒素を噴
出させレチクル１６に残存する洗浄液を乾燥させる。
１６はその裏面が吸着パッド１２で保持され、フォーク
４は前進しながらレチクル１６の裏の両側面をがワイパ
２の異物除去部２ａで拭き清掃する。必要に応じてフォ
ーク４を前後に往復させ清掃する。そして、圧電素子の
付勢を解除し異物除去部２ａをレチクル１６の下面から
引き離す。そして、エア噴出ノズル３から乾燥窒素を噴
出させレチクル１６に残存する洗浄液を乾燥させる。
【００２６】次に、図３（ｃ）に示すように、フォーク
４が前進しレチクル１６が載置面１４ａの上で停止す
る。そして、フォーク４が下降しレチクル１６が載置面
１４ａに乗せられる。そして、吸着パッド１２の保持が
解除され、図面に示していないところの載置面１４ａの
吸着穴で吸着されレチクル１６は、レチクルステージ１
４に装填される。
４が前進しレチクル１６が載置面１４ａの上で停止す
る。そして、フォーク４が下降しレチクル１６が載置面
１４ａに乗せられる。そして、吸着パッド１２の保持が
解除され、図面に示していないところの載置面１４ａの
吸着穴で吸着されレチクル１６は、レチクルステージ１
４に装填される。
【００２７】そして、図３（ｄ）に示すように、フォー
クは後退し元の位置に戻り、プリアライメント部５は下
降し、次のレチクルを取り出す保管棚の位置で待機す
る。この動作をもってレチクルローダ機構の動作は完了
する。
クは後退し元の位置に戻り、プリアライメント部５は下
降し、次のレチクルを取り出す保管棚の位置で待機す
る。この動作をもってレチクルローダ機構の動作は完了
する。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、レチクル
ステージの載置面とレチクルステージの載置面に対応す
るレチクルの下面部分を拭き清掃する手段を設け、レチ
クルをレチクルステージに装填する前に、前記手段でレ
チクルに付着するパーティクルやレチククルステージに
付着するパーティクルを除去し、レチクルは露光光の光
軸に垂直な面で装填できるので、従来、起きていたパタ
ーンの位置ずれやパターン形状による不良を無くすとい
う効果がある。
ステージの載置面とレチクルステージの載置面に対応す
るレチクルの下面部分を拭き清掃する手段を設け、レチ
クルをレチクルステージに装填する前に、前記手段でレ
チクルに付着するパーティクルやレチククルステージに
付着するパーティクルを除去し、レチクルは露光光の光
軸に垂直な面で装填できるので、従来、起きていたパタ
ーンの位置ずれやパターン形状による不良を無くすとい
う効果がある。
【図１】本発明の一実施の形態におけるレチクルローダ
機構を示す斜視図である。
機構を示す斜視図である。
【図２】図１のワイパの実施例を示す断面図である。
【図３】図２のワイパを具備する図１のレチクルローダ
機構の動作を説明するために動作順に示す主要部の図で
ある。
機構の動作を説明するために動作順に示す主要部の図で
ある。
【図４】従来の一例におけるレチクルローダ機構を説明
するための斜視図である。
するための斜視図である。
１ 洗浄ユニット ２ ワイパ ２ａ 異物除去部 ３ エア噴出ノズル ４，２４ フォーク ５ プリアライメント部 ６ ラック ７ａ モータ ７ｂ ピニオン ８ 上下動機構 ９ スライダ １０ ベース １１ 支持部 １２ 吸着パッド １３ 回転爪 １４ レチクルステージ １４ａ 載置面 １５ 鏡筒部 １６ レチクル １７ 綿布材 １８ 吸水材 １９ 板ばねル １９ａ 吐出口 ２０ ニップル ２１，２２ 流路 ２３ リテイナ ２５ａ，２５ｂ パーティクル
Claims (3)
- 【請求項１】 露光装置の鏡筒内にレチクルを搬送しレ
チクルステージの載置面に前記レチクルを載置する移載
機構を備えるレチクルローダ機構において、前記鏡筒内
に挿入され前記載置面を拭き清掃するとともに前記鏡筒
外に停留して前記移載機構により搬送される前記レチク
ルの下面の前記載置面に対応する両側部分を拭き清掃す
る異物除去部をもつワイパ部材を具備する洗浄ユニット
を備えることを特徴とするレチクルローダ機構。 - 【請求項２】 前記ワイパ部材の異物除去部は、内部に
洗浄液の流路を有する棒状部材の一端部側に有し前記流
路と通じ上下に配設される一対の前記洗浄液の流出口部
材と、前記流出口部材を覆ように長手方向に前記棒状部
材に載置され前記洗浄液の吐出口を有する一対の弓形状
の板ばね部材と、この板ばね部材と前記棒状部材との間
に充填される弾力性の吸水部材と、前記一対の板ばね部
材を包む綿布部材とを備えることを特徴とする請求項１
記載のレチクルローダ機構。 - 【請求項３】 前記棒状部材に乾燥ガスの流路を形成し
該流路と通ずるとともに前記乾燥ガスを噴出するととも
に前記棒状部材の上下に設けられる乾燥ガス噴射ノズル
を備えることを特徴とする請求項２記載のレチクルロー
ダ機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9279060A JP3068533B2 (ja) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | レチクルローダ機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9279060A JP3068533B2 (ja) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | レチクルローダ機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11121331A true JPH11121331A (ja) | 1999-04-30 |
| JP3068533B2 JP3068533B2 (ja) | 2000-07-24 |
Family
ID=17605854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9279060A Expired - Lifetime JP3068533B2 (ja) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | レチクルローダ機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3068533B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003068620A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Sendai Nikon:Kk | 露光装置 |
-
1997
- 1997-10-13 JP JP9279060A patent/JP3068533B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003068620A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Sendai Nikon:Kk | 露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3068533B2 (ja) | 2000-07-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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