JPH11109725A - 画像形成装置 - Google Patents

画像形成装置

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JPH11109725A
JPH11109725A JP9275665A JP27566597A JPH11109725A JP H11109725 A JPH11109725 A JP H11109725A JP 9275665 A JP9275665 A JP 9275665A JP 27566597 A JP27566597 A JP 27566597A JP H11109725 A JPH11109725 A JP H11109725A
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light
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JP9275665A
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English (en)
Inventor
Takayuki Kawakami
尊之 川上
Tomofumi Nakayama
智文 中山
Michiharu Masuda
道晴 増田
Hajime Kaji
一 鍜治
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ光路でレーザ光が減衰しても画質が劣
化しない画像形成装置を提供する。また、レーザ光の減
衰を検出し、検出時に装置を停止する。 【解決手段】 レーザ光源が発射する画像信号により変
調されたレーザ光を光路を経て感光体に照射することに
より感光体上に画像を形成する画像形成装置において、
光路と同一の光路を経た位置に配設され、レーザ光の強
度を検出する第1の光強度検出手段と、光強度検出手段
の検出出力を基準値と比較することによりレーザ光の強
度を制御する光強度制御手段とを備える。更に、光路を
経る前の位置に配設され、レーザ光の強度を検出する第
2の光強度検出手段と、第1の光強度検出手段の検出出
力と、第2の光強度検出手段の検出出力との差分が基準
値を上回るかどうかを判定する判定手段と、該判定手段
の出力が真であるときに装置の動作を停止する停止手段
とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、プリンタ
ー、FAX等に使用される画像形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、この種の画像形成装置におい
てはレーザ光源(LD;Laser Diode)から光変調され
たレーザ光を、例えば、回転多面鏡やf−θレンズを有
する光走査光学系を利用して像担持体面上(感光体)に
導光する。その際、感光体のどの位置からレーザ光を照
射し画像を書き出すかを決めるビームデテクト(BD検
出)手段からのタイミング信号に基づき、感光体面上を
光走査して画像を形成している。更に、走査中のレーザ
光の発光量が常に一定となるようにレーザ素子の内部に
一緒に封入されたピンフォトダイオード(PD;Photo
Diode)を用いLDの光出力を検出しその出力が一定に
なるように制御する手段を備えていた。なお、この制御
のことをAPC(Automatic Power Control)という。
【0003】図8は光学系の平面図を含む画像形成装置
の概要を示すブロック図である。図1に示すように、レ
ーザ光源200から出射したレーザ光は、コリメータレ
ンズ21で平行光線になり、絞り25で径が絞り22の
径に絞られ、曲線矢印方向に回転するポリゴンミラー2
3で反射され走査光になり、レンズ24で直線上の走査
速度が一定になり、折り返しミラー202で反射され、
201感光体を直線矢印方向に等速度で走査する走査光
となる。図9は、図8に示す光学系の断面図である。レ
ーザ光源200から出たレーザ光は、折り返しミラー2
02で反射して感光体201へ導かれていることがわか
る。図8に戻り、28は、感光体へのレーザ書き込みの
タイミング基準信号を生成するための光検出器である。
図8では、走査線が光検出器28を照射してからt秒後
(図示)に感光体上201へ画像データを書き込むこと
になる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、レーザの光出力を検出する素子としてレーザ
素子内部に一緒に封入されているピンフォトダイオード
を用いているため、複数のレーザを用い画像形成を行う
画像形成装置では下記のような欠点があった。
【0005】1)複数のレーザ光源にAPCをかけ各レ
ーザ光源の出力光量を一定に制御する時に用いる光量検
出用のフォトダイオードが複数ありフォトダイオードの
光検出感度にばらつきがあるため、APCをかけてもレ
ーザ光源間でパワー均一性が取れず、これを解決するた
めには、各レーザ光源に対し独立した複数の光量目標値
が必要となり、回路が複雑になる。また、フォトダイオ
ードが1個だけであり、この出力を時分割で兼用する装
置においても、レーザ毎にフォトダイオードを照射する
位置が異なるので、レーザ毎にフォトダイオードの検出
レベルが異なっていた。
【0006】2)画像形成装置では、感光体面上に照射
される光強度が一定であることが求められる。ところ
で、画像形成装置では紙が装置内を移動するために紙粉
等のゴミが発生する。このゴミによって上述のレーザ光
路の部品を汚れてしまう。したがって、レーザ光路中で
レーザ光は減衰し、減衰されたレーザ光が感光体上20
1を照射することになり、画質が劣化してしまう欠点が
ある。光強度検出用のピンフォトダイオードを含むレー
ザ素子内は汚れないため、APCによりレーザ光源の光
出力は一定に保たれているが、レーザ光源から出たレー
ザ光の光量は、レーザ光が上述のように汚れた部品を経
て感光体に到達するので、実際に必要な感光体上の光量
より減衰する。
【0007】そこで本発明は、レーザ光路でレーザ光が
減衰しても画質が劣化しない画像形成装置を提供するこ
とを目的とする。
【0008】また本発明は、レーザ光路でレーザ光が減
衰した場合に、それを検出して、装置の動作を停止した
り、それを表示する画像形成装置を提供することを目的
とする。
【0009】更に本発明は、複数のレーザ光源を用いた
画像形成装置において、レーザ光源間の光量がばらつか
ない画像形成装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明による画像形成装
置は、レーザ光源が発射する画像信号により変調された
レーザ光を光路を経て感光体に照射することにより感光
体上に画像を形成する画像形成装置において、前記光路
と同一の光路を経た位置に配設され、前記レーザ光の強
度を検出する第1の光強度検出手段と、該第1の光強度
検出手段の検出出力を基準値とを比較することにより前
記レーザ光の強度を制御する光強度制御手段と、を備え
ることを特徴とする。
【0011】また、本発明による画像形成装置は、上記
の画像形成装置において、更に、前記レーザ光が前記光
路を経る前の位置に配設され、前記レーザ光の強度を検
出する第2の光強度検出手段と、前記第1の光強度検出
手段の検出出力と、前記第2の光強度検出手段の検出出
力との差分が基準値を上回るかどうかの判定をする判定
手段と、該判定手段の出力が真であるときに装置の動作
を停止する停止手段と、を備えることを特徴とする。
【0012】または、本発明による画像形成装置は、上
記の画像形成装置において、更に、前記レーザ光が前記
光路を経る前の位置に配設され、前記レーザ光の強度を
検出する第2の光強度検出手段と、前記第1の光強度検
出手段の検出出力と、前記第2の光強度検出手段の検出
出力との差分が基準値を上回るかどうかの判定をする判
定手段と、該判定手段の出力が真であるときに真である
ことを表示する表示手段と、を備えることを特徴とす
る。
【0013】更に、本発明による画像形成装置は、前記
レーザ光源、前記光強度制御手段を複数、前記第1の光
強度検出手段を単数備え、前記第1の光強度検出手段の
出力を時分割で使用することにより、時分割で光強度を
制御することを特徴とする。
【0014】更に、本発明による画像形成装置は、前記
レーザ光源、前記光強度制御手段、前記判定手段を複
数、前記第1の光強度検出手段、前記第2の光強度検出
手段を単数備え、前記第1の光強度検出手段の出力と前
記第2の光強度検出手段を時分割で使用することによ
り、時分割で光強度を制御して、時分割で前記判定をす
ることを特徴とする。
【0015】更に、本発明による画像形成装置は、前記
第1の光強度検出手段の出力を補正する第1の補正手段
を備えることを特徴とする。
【0016】または、本発明による画像形成装置は、前
記第1の光強度検出手段の出力を補正する前記複数の光
強度検出手段の各々に対応した複数の第1の補正手段を
備えることを特徴とする。
【0017】または、本発明による画像形成装置は、前
記第1の光強度検出手段の出力を補正する第1の補正手
段と前記第2の光強度検出手段の出力を補正する第2の
補正手段とを備えることを特徴とする。
【0018】または、本発明による画像形成装置は、前
記第1の光強度検出手段の出力を補正する前記複数の光
強度検出手段の各々に対応した複数の第1の補正手段
と、前記第2の光強度検出手段の出力を補正する前記複
数の光強度検出手段の各々に対応した複数の第2の補正
手段とを備えることを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】図1は光学系の平面図を含む画像
形成装置の概要を示すブロック図である。半導体レーザ
200より発せられたレーザ光はコリメータレンズ21
及び絞り25によってほぼ平行光にされて所定のビーム
径22でポリゴン(回転多面鏡)23に入射する。ポリ
ゴンは曲線矢印の方向に等角速度の回転を行っており、
この回転に伴って入射したビームが連続的に角度を変え
る偏向ビームとなって反射される。偏向ビームとなった
光はf−θレンズ24により集光作用を受ける。一方、
f−θレンズは同時に走査の時間的な直線性を保証する
ような歪曲収差の補正を行うため、ビームは折り返しミ
ラー202をへて像担持体としての感光体201の上を
直線矢印の方向206に等速度で結像走査される。28
は光出力を電気信号へ変換する第1の光強度検出手段で
ある光検出器であり、感光体201に画像情報を書き出
すタイミングを検出する同期機構の一要素をも構成して
いる。通常は1回の走査毎にビームの発光タイミングを
取るように走査領域外の位置に光検出器28が設置され
ている。光検出器28で走査ビームを検知した時点から
所定のt秒後に書き出し信号を送っている。光検出器2
8からの出力は光強度検出器207をへて、BD信号生
成器208とレーザドライバ210にそれぞれ入力され
る。本実施形態では、図2に示すように光検出器28
は、光量に比例した電流を出力するPD(Photo Diod
e)である。光強度検出器207は、電流−電圧電変換
器である。光強度検出器207は、PD302の電流出
力を電圧に変換する。BD信号生成器208は、電圧に
変換された信号を入力し、これを基準値と比較して、ビ
ームデテクト信号(BD信号)を生成し制御部209に
供給する。制御部209はBD信号を時間基準として、
BD信号を入力してから時間tの後に、画像信号により
レーザ光源200をON/OFFする信号をレーザドラ
イバ210に供給する。
【0020】次に、レーザドライバ210を、図3に示
すこのブロック図を参照しながら説明する。401はレ
ーザA、402はレーザBである。LD−A(符号40
7),LD−B(符号408)はそれぞれレーザA,B
をON/OFFする信号であり、制御部209から供給
される。スイッチ433、434が閉じているとき、L
D−A(符号407),LD−B(符号408)に同期
して高速スイッチ403,404がON/OFFして、
レーザA401、レーザB404に流れる電流が制御さ
れ、レーザA401、レーザB402が画像信号に応じ
て点滅する。405,406は、各々のレーザの電流源
でありこの電流量はレーザの光量が一定になるように制
御されている。409は光強度検出器207からの光検
出器28が検出した光量に比例した信号であり、第1の
補正手段であるゲイン可変アンプ410,414に入力
する。ゲイン可変アンプ410の出力はサンプルホルド
回路411に入力される。サンプルホルド回路411
は、レーザ光が光検出器28を照射している間のある一
定時間(X)だけ入力電圧をサンプルし(本実施形態で
はX=5μsec)、その後、異なる一定時間(Y)ホ
ルドする(本実施形態では、Y=225μsec)。4
13はこのサンプル/ホルドを制御するためのサンプル
ホルド信号SAMPLE−Aである。サンプル時間Xと
ホルド時間Yとの和は、 X+Y=230μsec となる。
【0021】この230μsecは、ポリゴンミラー2
3の隣接する面を反射したレーザ光がBDセンサをよぎ
って照射する時間の間隔である。従って、本実施形態で
のAPC(Automatic Power Control)は、ポリゴン一
面による一走査に対応する1ライン毎に、走査線が光検
出器28をよぎって照射する間の5μsecに1回だけ
行われている。サンプルホルド回路411からの出力は
差動増幅器412に入力される。差動増幅器412は、
サンプルホルド回路411からの入力と目標光量417
との差分を増幅するので、APCのループにより、目標
光量417とサンプルホルド回路411の出力の値が等
しくなるように可変電流源405を制御される。APC
が終了してサンプルホルド411がホルド状態となる
と、サンプルホルド411の出力はホルドされ、可変電
流源405の電流値もホルドされるので、1ラインの間
だけレーザA401はONの時に同一の光量を出射す
る。他方、光強度検出器207からの光検出器28が検
出した光量に比例した信号409は時分割でゲイン可変
アンプ414にも入力され、ゲイン可変アンプ414、
サンプルホルド回路415、差動増幅器416により、
可変電流源405のAPCとは、別の時間に可変電流源
406のAPCが行われれる。但し、レーザA401か
らのレーザ光とレーザB402からのレーザ光は、別々
の時間に光検出器をよぎって照射して、これらの時間に
おいて各々のAPCが行われる。
【0022】図6は図1のレーザ光源200の位置にあ
る半導体レーザチップの構成図である。図3及び図6を
参照しながら半導体レーザチップについて説明する。4
01はレーザA、402はレーザB、421は第2の光
検出手段である半導体レーザチップが内蔵するフォトダ
イオードPDである。レーザA及びレーザBから出射さ
れたレーザ光の一部はフォトダイオードPDに入射され
る。特に、レーザAとレーザBのAPCを行っていると
きにはフォトダイオードPD421は、レーザAのみ或
いはレーザBのみのレーザ光の一部を入射する。レーザ
A又はレーザBの光量はフォトダイオード421とこれ
に接続される抵抗により両者の接続点に発生する電圧に
変換される。この電圧は、第2の補正手段であるゲイン
可変アンプ422,423に入力される。ゲイン可変ア
ンプ422の出力はサンプルホルド回路424に入力す
る。引き算回路431には、サンプルホルド回路411
とサンプルホルド回路424の出力が入力される。引き
算回路431の出力はコンパレータ429の一入力端子
に入力される。このコンパレータ429のもう一方の入
力端子には設定値427が印加されている。引き算回路
431の出力値が設定値427を超えれば、コンパレー
タ429の出力である汚れ検出信号AはHIGHにな
る。コンパレータ429の出力はOR回路432及びス
イッチ433に入力される。例えば、通常は光強度検出
器207からの信号409の電圧は1V、フォトダイオ
ード421のアノード側の電圧出力は2Vでその電圧差
は1Vである。ばらつきを考慮に入れてその電圧差につ
いて1.5V以下を許容値とし、この電圧差が1.5V
を超える場合は汚れ検出信号AがHIGHとなるように
する。従って、この場合は、設定値427の値は1.5
Vとする。他方、フォトダイオード421のアノード電
圧はゲイン可変アンプ423にも入力される。ゲイン可
変アンプ423、サンプルホルド回路425、引き算回
路428、コンパレータ426の上述と同様な動作をす
るコンパレータ426の出力である汚れ検出信号BがO
R回路432及びスイッチ434に入力される。スイッ
チ433はB接点のスイッチであり、汚れ検出信号Aに
よってON/OFFするので、汚れ検出信号AがHIG
HとなったときにレーザA401は消灯する。同様に、
スイッチ434もB接点のスイッチであり、汚れ検出信
号BによってON/OFFするので、汚れ検出信号Bが
HIGHとなったときにレーザB402は消灯する。O
R回路432の出力は汚れ検出信号A又は汚れ検出信号
BがHIGHになればHIGHとなる。OR回路432
の出力は制御部209に入力される。OR回路432の
出力がHIGHとなったときに制御部209は、表示部
231に図7に示すような「汚れ検知メッセージ」を表
示させ、装置の動作を停止する。
【0023】図4は、上述のAPC及び汚れ検出の動作
を説明するタイミング図である。図3及び図4を参照し
ながらAPC及び汚れ検出を説明する。信号LD−A4
07,LD−B408は各々レーザA,BをON/OF
Fする信号である。但し、スイッチ433,434が閉
じているときのみに有効である。信号SAMPLE−A
413はサンプルホルド回路411及び424のサンプ
ルホルド信号である。SAMPLE−B418はサンプ
ルホルド回路415及び425のサンプルホルド信号で
ある。時間軸上2つのX部は共に5μsecである。X
部の各々ではレーザA又はレーザBをONにさせ(発光
させ)、レーザに対応したサンプル信号をサンプル状態
に設定し、光量制御(APC)を行う。但し、走査光が
BDセンサをよぎって照射しているときにX期間となり
APCが行われる 。その後、225μsecの時間の
Y部の期間において、APCで求まった制御量をホルド
する。Y部の期間中、期間501,502において画像
を作成するパルスLD−A,LD−Bに同期してレーザ
を点灯する。
【0024】図5は、光検出器28上をレーザ光がよぎ
って照射する様子と光検出器28の出力電圧を示す図で
ある。図5を参照しながらAPC及び汚れ検出について
説明する。本実施形態では、2ビームが光検出器28上
を通過する(通過時間は、7μsec)。図に示すよう
に、レーザAが601、レーザBが602部を通過す
る。通過部が各レーザによって異なるため、光強度検出
器207の出力電圧も図に示すように異なることとな
る。603はレーザA、604はレーザBに対応した電
圧出力を示している。この出力電圧が等しくなるよう
に、図3の第1の補正手段であるゲイン可変アンプ41
0,414のゲインを出力が等しくなるように調整を行
う。この調整により同一光量で点灯したレーザA,Bの
サンプルホルド回路411,415に入力するBDから
の電圧信号は等しくなることとなる。その結果、目標値
も417だけで2つのレーザA,Bを制御することが可
能となり、かつ、第2の光検出手段であるレーザ内部の
PDを制御に使用しいないで、感光体201を走査する
レーザ光と同一の光路を通過した光が照射する第1の光
検出手段である光検出器28を使用しているので、感光
体上でのレーザパワーのコントロールが可能となる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、感
光体を走査するレーザ光と同一の光路を通過した光が照
射する第1の光強度検出手段を使用してレーザ光量制御
を行うので、レーザ光路中の部品の汚れなどにより、レ
ーザ光路中でレーザ光が減衰しても、目的の光量でレー
ザ光が感光体を走査することができるので、安定した高
画質な画像を形成することができる。
【0026】また、本発明によれば、複数のレーザを用
い画像形成を行う画像形成装置において、レーザ光路を
通過する前のレーザ光の強度を検出する第1の光強度検
出手段とレーザ光路を通過した後のレーザ光の強度を検
出する第2の光強度検出手段からの信号を比較すること
によって、レーザ光路の部品の汚れを検出することがで
き、汚れ検出時に、装置を停止し、汚れ検出表示をする
ことにより、サービスマンなどに清掃を促せ、常に安定
した画像を得ることが可能となる。
【0027】更に、本発明によれば、第1、第2の光強
度検出手段の各々に対応した複数の第1、第2の補正手
段を持つことにより時分割でAPCを行うことと相まっ
て複数系統のAPC、汚れ検出のための部品、回路の共
通化による部品、回路の簡素化が計られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における光学系の平面図を含む画像形成
装置の概要を示すブロック図である。
【図2】本発明における光検出器及び光強度検出器のブ
ロック図である。
【図3】本発明におけるレーザドライバのブロック図で
ある。
【図4】本発明におけるレーザドライバの制御タイミン
グ図である。
【図5】光検出器上を光がよぎる様子とその電圧出力を
示す図である。
【図6】半導体レーザチップの構成図である。
【図7】表示部が汚れ検出時に表示する画面を示す図で
ある。
【図8】従来例における光学系の平面図の概要を示すブ
ロック図である。
【図9】本発明及び従来例における光学系の断面図であ
る。
【符号の説明】
21 コリメータレンズ 23 ポリゴンミラー 28 光検出器 200 レーザ光源 207 光強度検出器 208 BD信号生成器 209 制御部 210 レーザドライバ 231 表示部 401 レーザA 402 レーザB 410、414、422、423 ゲイン可変アンプ 412、416 差動増幅器 421 フォトダイオードPD
フロントページの続き (72)発明者 鍜治 一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光源が発射する画像信号により変
    調されたレーザ光を光路を経て感光体に照射することに
    より感光体上に画像を形成する画像形成装置において、 前記光路と同一の光路を経た位置に配設され、前記レー
    ザ光の強度を検出する第1の光強度検出手段と、 該第1の光強度検出手段の検出出力を基準値とを比較す
    ることにより前記レーザ光の強度を制御する光強度制御
    手段と、 を備えることを特徴とする画像形成装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の画像形成装置におい
    て、 更に、前記レーザが前記光路を経る前の位置に配設さ
    れ、前記レーザ光の強度を検出する第2の光強度検出手
    段と、 前記第1の光強度検出手段の検出出力と、前記第2の光
    強度検出手段の検出出力との差分が基準値を上回るかど
    うかの判定をする判定手段と、 該判定手段の出力が真であるときに装置の動作を停止す
    る停止手段と、 を備えることを特徴とする画像形成装置。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の画像形成装置におい
    て、 更に、前記レーザが前記光路を経る前の位置に配設さ
    れ、前記レーザ光の強度を検出する第2の光強度検出手
    段と、 前記第1の光強度検出手段の検出出力と、前記第2の光
    強度検出手段の検出出力との差分が基準値を上回るかど
    うかの判定をする判定手段と、 該判定手段の出力が真であるときに真であることを表示
    する表示手段と、 を備えることを特徴とする画像形成装置。
  4. 【請求項4】 前記レーザ光源、前記光強度制御手段を
    複数、前記第1の光強度検出手段を単数備え、前記第1
    の光強度検出手段の出力を時分割で使用することによ
    り、時分割で光強度を制御することを特徴とする請求項
    1に記載の画像形成装置。
  5. 【請求項5】 前記レーザ光源、前記光強度制御手段、
    前記判定手段を複数、前記第1の光強度検出手段、前記
    第2の光強度検出手段を単数備え、前記第1の光強度検
    出手段の出力と前記第2の光強度検出手段を時分割で使
    用することにより、時分割で光強度を制御して、時分割
    で前記判定をすることを特徴とする請求項2又は3に記
    載の画像形成装置。
  6. 【請求項6】 前記第1の光強度検出手段の出力を補正
    する第1の補正手段を備えることを特徴とする請求項1
    に記載の画像形成装置。
  7. 【請求項7】 前記第1の光強度検出手段の出力を補正
    する前記複数の光強度検出手段の各々に対応した複数の
    第1の補正手段を備えることを特徴とする請求項4に記
    載の画像形成装置。
  8. 【請求項8】 前記第1の光強度検出手段の出力を補正
    する第1の補正手段と前記第2の光強度検出手段の出力
    を補正する第2の補正手段とを備えることを特徴とする
    請求項2又は3に記載の画像形成装置。
  9. 【請求項9】 前記第1の光強度検出手段の出力を補正
    する前記複数の光強度検出手段の各々に対応した複数の
    第1の補正手段と、前記第2の光強度検出手段の出力を
    補正する前記複数の光強度検出手段の各々に対応した複
    数の第2の補正手段とを備えることを特徴とする請求項
    5に記載の画像形成装置。
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