JPH11106959A - 使用済のエッチング液を再生するための装置および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 使用済のエッチング溶液の改良された再生装
置と方法を提供する。 【解決手段】 二価の形態の金属を含む溶液である使用
済のエッチング溶液を再生するための装置１０である。
装置１０は、エッチング溶液が最初に供給される制御タ
ンク１８、制御タンク１８からの溶液を金属の一価の形
態の高い画分を含む溶液に変換するための第１の電解セ
ルである電気化学セル１６、および金属の一価の形態の
高い画分を含む溶液から金属をメッキするための第２の
電解タンクであるノックダウンセル１４を含んでいる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塩化第二銅の酸エ
ッチング液を電解再生するための方法と装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】塩化第二銅の酸エッチング液（Ｃｕｃｌ
₂ ／ＨＣｌ）はプリント回路基板の製造において、特に
多層基板の内側層を生成するために広く使用されてい
る。このエッチング液は、現在、プリント回路基板の製
造の５０％以上において用いられ、またその使用量は増
大しつつある。

【０００３】塩化第二銅／塩酸による銅のエッチングの
間における全体の反応は、次の通りである。

【０００４】

【化１】Ｃｕ＋ＣｕＣｌ₂ ＝２ＣｕＣｌ （１）

【０００５】上記式が示すように、活性のあるエッチン
グ化合物である、ＣｕＣｌ₂ が消費されて全体の溶液中
の銅が増大する。現在では、多くのプリント回路基板の
製造者は、ＣｕＣｌ₂ を回復するために、塩素あるいは
過酸化水素などの酸化剤を使用してエッチング溶液を再
生している。生成される過剰のエッチング液を廃棄処理
することは、害毒であり、迷惑であり、および化学処理
が高価である以外に、著しくコストがかかり、また環境
に対する重荷となる。塩素に関する安全のための危険管
理が可能である場合には、塩素はコストの理由から好ま
しい酸化剤である。多くの基板業者は、しかしながら、
価格がより高いにも拘らず、より安全で、より良性であ
る、過酸化水素／ＨＣｌシステムを使用している。

【０００６】ところで、プリント回路基板工業において
は、コストおよび環境的な観点からして、化学的な再生
を効率的な電解的な再生に置き換えるための方法を開発
する努力がなされている。プリント回路基板工業の要求
に合致するためのこのような１つの方法が、Ｏｘｌｅｙ
に付与された米国特許第５，４２１，９６６号（以下、
「´９６６特許」と称する。）に記載されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】この´９６６特許は、
塩化第二銅の酸エッチング浴のオンラインの再生のため
の電解装置と方法に関するものである。この装置は、シ
ステム内にエッチングされた銅金属を完全に取り除き、
同時に、塩化第一および第二銅の濃度を所望の範囲内に
維持するために、上式（１）で説明された反応を正確に
逆にする再生方法を利用している。´９６６特許で説明
された好ましいシステムでは、フロースルー型のグラフ
ァイトないしカーボン陽極およびフローバイ型陰極を利
用し、電流／電位の変数の制御を行っている。陽極と陰
極を含むセルは、低い動作電圧を利用できるという特長
があり、廃熱の発生が少なく、また電力コストを低く抑
えることができる。また、そのデザインが簡単であるの
で、オンラインプロセスの制御が改善され、動作効率お
よび不意の保守および事故停止の点における信頼性が向
上する。

【０００８】しかしながら、上記のＯｘｌｅｙ装置より
もさらに効率的で生産性の高い、ＣｕＣｌ₂ エッチング
溶液を再生するための装置および方法が求められてい
る。

【０００９】従って、本発明の目的は、エッチング溶液
を再生するための改良された装置および方法を提供する
ことにある。

【００１０】本発明の別の目的は、酸塩化第二銅エッチ
ング液を再生する際に特に有用である、上記の装置と方
法を提供することにある。

【００１１】本発明のさらに別の目的は、スラブの形態
で製品としての、高品位な銅を産出する、上記の装置お
よび方法を提供することにある。

【００１２】広い範囲の電流密度で効率的に行うことが
できて、異なるプリント回路基板の生産速度に容易に適
用できる、上記の装置および方法を提供することにあ
る。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の各目的は、本発明
の装置および方法によれば達成することができる。本発
明に係る、エッチング液を再生するための装置は、再生
される使用済のエッチング溶液が供給される液溜め（su
mp）において一般的に動作するものである。このエッチ
ング液は、銅、主として二価の形態の銅（第二銅）のよ
うな金属を含んでいる。本装置は、液溜めからのエッチ
ング溶液を受け取るため、および前記金属の一価の形
態、例えば第一銅の銅の高い画分を含む溶液を保持する
ための制御タンクを含んでいる。第１の電気化学セルの
ような第１の電解手段は、制御タンクからの溶液を操作
する。第１の電解手段は、液溜めから供給されたこの溶
液内の金属の二価の形態を、この金属の一価の形態の高
い画分を含む溶液に変換する。第１の電解手段内におい
て処理がなされた後には、金属の一価の形態の高い画分
を含む溶液は制御タンクに戻される。本装置は、第２の
電気化学セルのような、第２の電解手段を含んでおり、
この第２の電解手段には、金属の一価の形態の高い画分
を含む溶液が供給される。第２の電解手段において、金
属の一価の形態は、好ましくはスラブの形態で、金属に
変換される。

【００１４】本発明の好ましい実施の形態において、第
１の電解手段は、内部にフロースルー型陽極を備えた陽
極チャンバおよび内部にフロースルー型陰極を備えた陰
極チャンバを有する電解セルから構成され、また、第２
の電解手段は、内部にフロースルー型陽極を備えた陽極
チャンバおよびフローバイ型陰極を備えた陰極チャンバ
を有する電解メッキセルから構成されている。

【００１５】ここで、「フロースルー型」とは、グラフ
ァイトあるいはカーボンフェルトのような多孔性の材料
により形成されるもの（陽極など）を意味する。そし
て、このフロースルー型の陽極が浸漬された溶液は、陽
極材料の多孔性の性質により、陽極の間隙内を通って流
れるようになる。また、「フローバイ型」とは、上記の
ような溶液が流れる間隙を有していない材料により形成
されるもの（陰極など）を意味する。そして、フローバ
イ型の陰極では、溶液は陰極の回りを流れるようにな
る。

【００１６】本発明の装置のデザインの主要な特長の１
つは、モジュール化に有用であることである。特定の生
産要求に対して十分な面積を提供するために、セル陽極
と陰極チャンバは交互の順序で積重ねて配列することが
できる。これにより、異なるエッチング能力要求に対し
てデザインをカスタマイズすることが容易になる。さら
に、他のエッチング再生システムが６ボルトから９ボル
トで動作するのに対して、本発明の装置は２ボルトある
いはこれより小さい電圧で動作する。このような低い電
圧で動作できる機能は、電気コストをより低くできるの
で、特に好ましいものである。さらに、過剰電力により
発生する熱を取り除く必要性を排除することができる。

【００１７】本発明に係る方法は、再生される使用済の
エッチング溶液が供給される液溜めについて一般的に動
作するものであり、このエッチング液は、銅、主として
二価の形態の銅（第二銅）のような金属を含んでいる。
そして、本方法は、制御タンクに使用済のエッチング溶
液を供給するステップ、消費したエッチング液を含む制
御タンク溶液の供給を第１の電解セルに移し、その溶液
内の金属の二価の形態の多くを前記金属の一価の形態の
高い画分を含む溶液に電解的に変換するステップ、金属
の一価の形態の高い画分を含む溶液を制御タンクに戻す
ステップ、この溶液を第２の電解セルに同時に供給し、
溶液内の金属の一価の形態を前記第２の電解セル内で金
属自体に電解的に変換するステップを含んでなるもので
ある。本発明のプロセスは、さらに、使用済のエッチン
グ溶液を第１および第２の電解セルに陽極液として供給
するステップを含んでいる。

【００１８】本発明の装置および方法の他の詳細、およ
びその他の目的および特長は、以下の詳細な説明および
添付図面において説明されている。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態を説明する。なお、添付図面において同
じ構成要素には同じ符号が付してある。図１は、電解的
にＣｕＣｌ₂を再生するのと同時に再販売のための銅金
属を生成することで、エッチング液を含むＣｕＣｌ₂ の
エッチング力を維持する、オンライン装置を例示したも
のである。これらのすべては、エッチング液のＣｕ⁺ イ
オンの濃度を、プリント回路板のエッチング速度を許容
可能で確実なものとするために必要な低いレベルに維持
しながら、行うことができる。

【００２０】以下に詳細に説明するように、Ｃｕ²⁺から
Ｃｕ⁺ およびＣｕ⁺ から銅金属への還元は、別々の、プ
リズム状（prismatic ）の電解セルあるいは電気化学セ
ルにおいて行われ、また、Ｃｕ⁺ からＣｕ²⁺への酸化
は、各セルの陽極側においては共通である。プリズム状
のデザインによって、本発明の装置において、第一銅か
ら第二銅への酸化あるいは第二銅から第一銅への還元の
両方に対して好ましくはグラファイトあるいはカーボン
である、高い効率の、多孔性のフロースルー型の電極の
使用が可能になる。この形式の電極を使用することで、
寄生電極反応（parasitic electrode reaction）、特
に、他の方法において問題となっている陽極の塩素エボ
ルーション（chlorine evolution）の発生を防止でき
る。第一銅イオンの高い画分を含む銅イオンの溶液から
銅をメッキすることは、均一で、必須的にデンドライト
のない、銅の電着を生成するための重要事項である。銅
は、陰極基体から単一のシートで容易に取り除くことが
でき、また高い純度のものである。さらに、溶液内にお
ける第二銅イオンに対する第一銅イオンの比が高いほ
ど、銅がメッキされる電気効率が高くなる。また、メッ
キされる溶液内の第二銅の画分が低すぎると、セルのフ
ロースルー型陰極において銅のメッキが起きるようにな
り、Ｃｕ²⁺からＣｕ⁺ に還元されるので回避しなければ
ならない。

【００２１】次に、図１を参照して、本発明の装置１０
は、使用済のＣｕＣｌ₂ エッチング液を含むエッチング
液溜め１２について動作する。典型的には、液溜め１２
内のエッチング液は、高い濃度のＣｕ²⁺、例えば約７５
から２００ｇ／ｌのＣｕ²⁺を含んでいる。本装置は、
「ノックダウン」セルとして知られている第１の電解あ
るいは電気化学セルを含み、またメッキセルとして機能
する第２の電解あるいは電気化学セル１６を含んでい
る。メッキセルにおいて、第一銅は銅金属に陽極的に還
元される。

【００２２】本発明の装置１０は、また、陽極液の制御
タンク１８を含んでいる。このタンク内の溶液には、ノ
ックダウンセル１４によって好ましくは約０．３から約
２．５ｇ／ｌの範囲内に保持された溶液内の第二銅の濃
度を備えた第１銅の高い画分が含まれている。必要なら
ば、銅析出物を側方により良く結合するとともに剛性を
増大してその品質を改善するために、この溶液に約１０
から約２５ｐｐｍの界面活性剤のようなメッキ添加物を
含ませることができる。溶液内の銅はライン２０を経て
補給されるエッチング溶液により補充されるため、溶液
の銅含有量は実質的に一定に維持される。所望の流れ速
度を発生するために、ポンプ２１をライン２０に組み込
むこともできる。オーバフローライン３４は、タンク１
８から液溜め１２にオーバフロー溶液を戻すために設け
られている。また、（ａ）メッキセル内で析出された銅
に対する補充として液溜め１２からカソード液タンク１
８に供給される溶液内における第二銅イオンを減じるた
め、および（ｂ）電解タンクから液溜めにオーバフロー
されたカソード液の容量に対する補充として液溜め１２
からカソード液タンク１８に供給される溶液内の第二銅
イオンを減じることで入ってくる液溜め溶液に対するス
ペースをカソード液タンク内に設けるために、ノックダ
ウンセル１４内の電流はメッキセル１６内の電流よりも
多少高く設定されている。正確なノックダウンセルの電
流は、カソード液タンクの銅イオン濃度およびメッキセ
ルの電流から決定される。

【００２３】図１から明らかなように、タンク１８内の
溶液は、セル１４と１６の陰極側への流れループ２２お
よび２４によって供給される。カソード溶液の所望の流
れを発生するために、各ループは好ましくは内部に組み
込まれたポンプ２５あるいは他の流れ制御手段を有して
いる。典型的には、カソード液の流れ速度は、セル１６
に対しては約８．０ｃｍ／ｓｅｃから約５０．０ｃｍ／
ｓｅｃ、セル１４に対しては約２．０ｃｍ／ｓｅｃから
１０ｃｍ／ｓｅｃの範囲である。

【００２４】各セル１４と１６の陽極側にはライン２８
および２９を経てエッチング液溜め１２から供給されて
いる。エッチング液／陽極液の所望の流れ、好ましくは
ライン２８および２９内において約１．０ｃｍ／ｓｅｃ
から約６．０ｃｍ／ｓｅｃの範囲内の流れを発生するた
めに、ライン２８および２９に供給しているライン２６
は、内部に組み込まれたポンプ２７を有している。エッ
チング液／陽極液を液溜め１２に戻すために、戻りライ
ン３０と３２が設けられている。陽極側においては、各
セル１４と１６における反応は第一銅から第二銅への酸
化である。

【００２５】図２に戻って、ノックダウンセル１４は好
ましくは、セパレータ壁４６によって分離された、陰極
チャンバ４２および陰極チャンバ４４を有するタンク４
０により形成されている。好ましくは、タンクはポリ塩
化ビニル（ＰＶＣ）から作られているが、他のプラスチ
ックを使用することもできる。セパレータ壁４６は、親
水性にされた、好ましくは多孔性セラミック、焼結ガラ
ス、あるいは多孔性プラスチックから作られた多孔性プ
レートが嵌め合された陽極、および陰極と同じ寸法のカ
ットアウトを備えた固体のＰＶＣのプレートから好まし
くは構成され、その上に同様な寸法の親水性の薄膜シー
トが置かれる。セルをシーリングするために、セパレー
タ壁４６の両側上にガスケット（図示せず）が設けられ
ている。チャンバ４２と４４のそれぞれには、各陽極液
およびアノード液のための入口４３、４５および出口４
７、４９が設けられている。

【００２６】陽極チャンバ４４は陽極４８を含み、また
陰極チャンバは陰極５０を含んでいる。これらの高い表
面の電極は、フロースルー型の多孔性電極、好ましくは
グラファイトあるいはカーボンフェルトから作られてい
る。このタイプの電極は、その反応が各電極において促
進されるイオンの濃度が低いことから、陽極および陰極
の両方において使用されている。

【００２７】図３を参照して、メッキセル１６はまた、
セパレータ壁６６により分離された、陰極チャンバ６２
および陽極チャンバ６４を有している。タンク６０も同
様に、化学的に耐性のあるプラスチック、好ましくはＰ
ＶＣから作られる。セパレータ壁６６はまた、多孔性の
窓部（上記と同じ）を備えた固体のＰＶＣのプレートに
より好ましくは形成される。セルのシーリングをするた
めに、セパレータ壁６６の両側にはガスケット（図示せ
ず）が同様に設けられている。チャンバ６２と６４のそ
れぞれには、入口６１、６３と出口６５、６７が設けら
れており、カソード液／陽極液がそれぞれこれらを通っ
て流れることができる。

【００２８】陰極チャンバ６２は、好ましくは、それぞ
れがフローバイ型のグラファイトプレート陰極（graphi
te plate cathode）である、１つ以上の陰極６８を有し
ている。陰極６８は、その上にメッキされた銅金属を取
り入れるために周期的に取り除くことができるように配
列される。陽極チャンバ６４は、好ましくはフロースル
ー型の多孔性の電極、好ましくはグラファイトあるいは
カーボンフェルトから構成される陽極７０を有してい
る。

【００２９】セル１４と１６のそれぞれの内部の陽極お
よび陰極は、所望の電流レベルを与えるために適当な電
源（図示せず）に接続されている。陽極を陰極を電源に
接続するために、公知のいずれかの適当な電気接続を使
用することができる。１００ｇ／ｈｒの大きさのシステ
ムに対しては、所望の酸化反応および還元反応を起こす
ためには、ノックダウンセル１４内において陽極と陰極
の間に約６５．８アンペアの電流が供給され、またメッ
キセル１６内において陽極と陰極の間には４６．９アン
ペアの電流が供給される。

【００３０】本発明の装置１を使用して、ｃｍ² 当たり
０．１８グラム／時間を超える銅メッキ速度を得ること
ができることが判った。さらに、約１２０ｍＡ／ｃｍ²
までの電流密度で良好な品質の析出物を得ることができ
た。

【００３１】高レベルの第一銅イオンを備えた溶液から
銅をメッキすることの利点の１つは、断続的な操作を行
えることである。既にメッキされた銅は、電流がオフに
なり、また陰極がカソード液に入ったままでも、溶解し
ないで維持される。このことは、中小のプリント回路板
業者にとっては、連続した操作条件を維持しながら非連
続的な操作を随意行うことができて、著しく有用なこと
である。

【００３２】操作においては、所定の濃度のＣｕ⁺ イオ
ンを含む使用済のＣｕＣｌ₂ のエッチング液は、エッチ
ング装置（etcher）内の液溜めのような、液溜め１２内
に位置される。使用済のエッチング液はカソード液の制
御タンク１８に供給され、このタンクは等しい容積のよ
り低い銅含量の溶液をエッチング液の液溜めに戻してオ
ーバフローする。カソード液の制御タンクからの溶液は
ノックダウンセル１４の陰極側に供給される。液溜め１
２からのエッチング液は、セル１４の陽極側に供給され
る。セル１４を横切って電流が供給される。陰極側で
は、カソード溶液内のＣｕ²⁺イオンがＣｕ⁺ イオンの濃
度に変換される。減じられたカソード溶液はタンク１８
に戻される。セル１４の陽極側では、陽極液内のＣｕ⁺
の低い濃度の一部がＣｕ²⁺に酸化される。同時に、第一
銅の高い画分を含む陽極溶液がタンク１８からメッキセ
ル１６の陰極側に供給され、また液溜め１２からのエッ
チング液がメッキセル１６の陰極側に供給される。電流
がセル１６を横切って供給される。陰極側では、カソー
ド溶液から陰極上に銅金属がメッキされて析出される。
セル１６の陽極側では、Ｃｕ⁺ がＣｕ²⁺に酸化される。

【００３３】必要ならば、Ｃｕ⁺ からＣｕ²⁺への化学的
な酸化を実質的に防止ないし最小限とするために、カソ
ード溶液上にＮ₂ パジング（padding ）を配置すること
ができる。

【００３４】以上、本発明をＣｕＣｌ₂ エッチング溶液
を再生する内容について説明したが、本発明の装置およ
び方法は他の形式の溶液を再生するために使用すること
ができる。なお、本発明の範囲内において他の変更、変
形および代替えを適宜行えることは当業者には自明であ
る。これらの変更、変形および代替えは本発明の範囲に
含まれるものである。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、上記した各目的、手段
および特長を完全に満足することができるＣｕＣｌ₂ エ
ッチング液を再生するための装置および方法を提供でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の装置の図式的な説明図で
ある。

【図２】金属の二価の形態を含む溶液を一価の形態に変
換するための第１の電解セルの図式的な説明図である。

【図３】一価の形態の上記金属を主に含む陽極液から金
属をメッキするための第２の電解セルの図式的な説明図
である。

【符号の説明】

１０ 装置 １２ 液溜め １４ ノックダウンセル ２０ ライン ２１ ポンプ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロナルド エー．プット アメリカ合衆国，ジョージア 30068，マ リエッタ，サドル ヒル 803

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液溜め内の使用済のエッチング溶液を再
   生するための装置であり、前記使用済のエッチング溶液
   は二価の形態の金属を含み、 前記使用済のエッチング溶液を制御タンクに供給するた
   めの手段、 前記制御タンクから前記二価の形態の前記金属を含む溶
   液を受け取るため、および前記金属を前記二価の形態で
   備えた前記溶液を前記金属の一価の形態での高い画分を
   含む溶液に変換するために、前記制御タンクに接続され
   た第１の電解手段、 前記金属の一価の形態での高い画分を含む前記溶液を前
   記制御タンクに戻すための手段、 溶液のオーバフローを前記制御タンクから前記液溜めに
   戻すための手段、 前記金属の一価の形態での高い画分を含む前記溶液を受
   け取るため、および前記金属の前記１価の形態を前記金
   属に変換するために、前記制御タンクに連絡された第２
   の電解手段を含んでなることを特徴とする装置。
2. 【請求項２】 前記使用済のエッチング溶液を前記第１
   および第２の電解手段に陽極液として送るための手段を
   さらに含んでなることを特徴とする請求項１記載の装
   置。
3. 【請求項３】 前記二価の形態の前記金属が第二銅の銅
   であり、また前記第１の電解手段が第二銅の銅を第一銅
   の銅に変換し、また前記第２の電解手段が第一銅を銅金
   属に変換することを特徴とする請求項１記載の装置。
4. 【請求項４】 前記第１の電解手段が、陽極チャンバお
   よび陰極チャンバを有する電気化学セルからなり、 前記陽極チャンバが内部にフロースルー型陽極を有し、 前記陰極チャンバが内部にフロースルー型陰極を有する
   ことを特徴とする請求項１記載の装置。
5. 【請求項５】 前記フロースルー型陽極および前記フロ
   ースルー型陰極がそれぞれ、グラファイトあるいはカー
   ボンフェルトから形成されたフロースルー型電極から形
   成されていることを特徴とする請求項４記載の装置。
6. 【請求項６】 前記エッチング液が前記陽極チャンバに
   供給され、また前記金属の一価の形態での高い画分を含
   む前記溶液が前記陰極チャンバに供給されることを特徴
   とする請求項５記載の装置。
7. 【請求項７】 前記第２の電解手段が、陰極チャンバお
   よび陽極チャンバを有するメッキセルからなり、 前記陰極チャンバがフローバイ型陽極を有し、また前記
   陽極チャンバがフロースルー型陰極を有することを特徴
   とする請求項１記載の装置。
8. 【請求項８】 前記陽極がフロースルー型のグラファイ
   トあるいはカーボンフェルト陽極からなり、また前記フ
   ローバイ型陰極がフローバイ型のグラファイトプレート
   陰極からなることを特徴とする請求項７記載の装置。
9. 【請求項９】 液溜め内の使用済のエッチング液の溶液
   を再生するための方法において、前記使用済エッチング
   溶液は二価の形態の金属の濃度を含み、 二価の形態の前記金属を含む所要量の前記エッチング溶
   液を制御タンクに供給するステップ、 溶液のオーバフローを前記制御タンクから前記液溜めに
   押しやるステップ、 前記制御タンクから第１の電解セルに溶液を供給するス
   テップ、 前記第１の電解セル内で前記金属の二価の形態を備えた
   前記溶液を、前記金属の一価の形態の高い画分を含む溶
   液に電解的に変換するステップ、 前記金属の前記一価の形態の高い画分を含む前記溶液を
   前記制御タンクに戻すステップ、 前記金属の前記一価の形態の高い画分を含む前記溶液を
   前記制御タンクから第２の電解セルに供給するステッ
   プ、および前記第２の電解セル内で前記溶液内の前記金
   属の前記一価の形態を前記金属に電解的に変換するステ
   ップを含んでなることを特徴とする方法。
10. 【請求項１０】 前記使用済のエッチング溶液を前記第
    １および第２の電解セルに陽極液として送るステップを
    さらに含んでなることを特徴とする請求項９記載の方
    法。
11. 【請求項１１】 前記エッチング液内の前記二価の形態
    の前記金属が第二銅の銅からなり、 前記第１の電解変換をするステップが、前記第１の電解
    セル内で前記第二銅の銅を第一銅の銅に変換するステッ
    プからなり、および前記第２の電解変換をするステップ
    が、前記第２の電解セル内で前記第一銅の銅を銅に変換
    するステップからなることを特徴とする請求項９記載の
    方法。
12. 【請求項１２】 前記タンク内の溶液を、約０．３ｇ／
    ｌから約２．５ｇ／ｌの範囲の濃度の前記第二銅の銅を
    有するように、維持するステップをさらに含んでなるこ
    とを特徴とする請求項１１記載の方法。