JPH1087783A - ウレトジオン基含有重付加化合物の製法 - Google Patents
ウレトジオン基含有重付加化合物の製法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウレトジオン基含有重付加化合物の簡単な製
法 【解決手段】 下式のＩＰＤＩ−ウレトジオン及びジオ
ール及び/又はアミノアルコール及び/又はジアミンから
のウレトジオン基含有重付加化合物を製造する場合に、
このウレトジオン基含有重付加化合物（ＵＤ−ＤＡ）を
溶液（Ｌ１）中で製造し、かつ、その中にウレトジオン
基含有重付加化合物が不溶である第２の溶剤（Ｌ２）の
添加により、この化合物（ＵＤ−ＤＡ）を沈殿させる。 【化１】
法 【解決手段】 下式のＩＰＤＩ−ウレトジオン及びジオ
ール及び/又はアミノアルコール及び/又はジアミンから
のウレトジオン基含有重付加化合物を製造する場合に、
このウレトジオン基含有重付加化合物（ＵＤ−ＤＡ）を
溶液（Ｌ１）中で製造し、かつ、その中にウレトジオン
基含有重付加化合物が不溶である第２の溶剤（Ｌ２）の
添加により、この化合物（ＵＤ−ＤＡ）を沈殿させる。 【化１】
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、高融点のウ
レトジオン基含有重付加化合物の製造のために好適であ
る、ウレトジオン基含有重付加化合物の簡単な製法に関
する。
レトジオン基含有重付加化合物の製造のために好適であ
る、ウレトジオン基含有重付加化合物の簡単な製法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ドイツ特許（ＤＥ−ＰＳ）第３０３０５
７２号明細書中には、ブロッキング剤不含のＰＵＲ−粉
末の製造のために経済的に重要になっているウレトジオ
ン基含有（uretdiongruppenhaltige)重付加化合物が記
載されている。このドイツ特許（ＤＥ−ＰＳ）第３０３
０５７２号で請求されている化合物は、イソシアヌレー
ト基不含のウレトジオン基含有イソホロンジイソシアネ
ート（以後、イソホロンジイソシアネート−ウレトジオ
ンと称し、ＩＰＤＩ−ウレトジオンと略記する）及びジ
オールからの重付加化合物であり、この際、こうして得
られた付加生成物は、場合によりすべて又は部分的にモ
ノアルコール又はモノアミンと反応される。このウレト
ジオン基含有重付加化合物の製造は、２工程で行われ、
この際、第１工程では反応成分を溶剤中で反応させ、反
応実施の後に溶剤、通常はアセトンを除去する。このた
めに、スクリュウ型蒸発器（Abdammpfschnecken)及び薄
膜蒸発器が好適である。この溶剤除去は、経費のかかる
技術を内容とすることは別として、この方法を用いて
は、最大１２５℃の融点を有するウレトジオン基含有重
付加化合物のみが製造される。それというのも、溶剤の
除去の後にこの反応生成物は融液として生じ、この融液
の温度は、ウレトジオン環の熱不安定性に基づき、当
然、上方で制限されるからである。
７２号明細書中には、ブロッキング剤不含のＰＵＲ−粉
末の製造のために経済的に重要になっているウレトジオ
ン基含有（uretdiongruppenhaltige)重付加化合物が記
載されている。このドイツ特許（ＤＥ−ＰＳ）第３０３
０５７２号で請求されている化合物は、イソシアヌレー
ト基不含のウレトジオン基含有イソホロンジイソシアネ
ート（以後、イソホロンジイソシアネート−ウレトジオ
ンと称し、ＩＰＤＩ−ウレトジオンと略記する）及びジ
オールからの重付加化合物であり、この際、こうして得
られた付加生成物は、場合によりすべて又は部分的にモ
ノアルコール又はモノアミンと反応される。このウレト
ジオン基含有重付加化合物の製造は、２工程で行われ、
この際、第１工程では反応成分を溶剤中で反応させ、反
応実施の後に溶剤、通常はアセトンを除去する。このた
めに、スクリュウ型蒸発器（Abdammpfschnecken)及び薄
膜蒸発器が好適である。この溶剤除去は、経費のかかる
技術を内容とすることは別として、この方法を用いて
は、最大１２５℃の融点を有するウレトジオン基含有重
付加化合物のみが製造される。それというのも、溶剤の
除去の後にこの反応生成物は融液として生じ、この融液
の温度は、ウレトジオン環の熱不安定性に基づき、当
然、上方で制限されるからである。
【０００３】欧州特許（ＥＰ）第０６６９３５３号明細
書中には、単軸−又は多軸スクリュウ押出機、殊に２軸
押出機中での強力ニーダーを用いる、ウレトジオン基含
有重付加化合物の溶剤不含で連続的な製法が記載されて
いる。ここでも、最大１２０℃の融点を有する生成物の
みが製造できる。
書中には、単軸−又は多軸スクリュウ押出機、殊に２軸
押出機中での強力ニーダーを用いる、ウレトジオン基含
有重付加化合物の溶剤不含で連続的な製法が記載されて
いる。ここでも、最大１２０℃の融点を有する生成物の
みが製造できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、任意の高い融点を有するＩＰＤＩ−ウレトジオン及
びジオール及び/又はアミノアルコール及び/又はジアミ
ンからのウレトジオン基含有重付加化合物を製造するた
めの簡単な方法を提供することである。
は、任意の高い融点を有するＩＰＤＩ−ウレトジオン及
びジオール及び/又はアミノアルコール及び/又はジアミ
ンからのウレトジオン基含有重付加化合物を製造するた
めの簡単な方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この課題は、意外にも、
ウレトジオン基含有重付加化合物（ＵＤ−ＤＡ）を溶液
中で製造し、かつ、その中にＵＤ−ＤＡが不溶である第
２の溶剤（Ｌ２）を添加することによりこのＵＤ−ＤＡ
を沈殿させることにより解決できた。
ウレトジオン基含有重付加化合物（ＵＤ−ＤＡ）を溶液
中で製造し、かつ、その中にＵＤ−ＤＡが不溶である第
２の溶剤（Ｌ２）を添加することによりこのＵＤ−ＤＡ
を沈殿させることにより解決できた。
【０００６】従って、本発明の目的は、次式：
【０００７】
【化２】
【０００８】Ｒ１：Ｃ−原子数２〜６を有する２価の炭
化水素基； Ｒ２：Ｈ、Ｃ−原子数１〜１４を有する同一又は異なる
炭化水素基； Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５：同一又は異なるＣ−原子数１〜１４
を有する炭化水素基 を表す］のＩＰＤＩ−ウレトジオン及びジオール及び/
又はアミノアルコール及び/又はジアミンからのウレト
ジオン基含有重付加化合物を製造する方法であり、この
際、このウレトジオン基含有重付加化合物（ＵＤ−Ｄ
Ａ）を溶液（Ｌ１）中で製造し、かつ、その中にこのウ
レトジオン基含有重付加化合物が不溶である第２の溶剤
（Ｌ２）の添加によりこの化合物（ＵＤ−ＤＡ）を沈殿
させる。
化水素基； Ｒ２：Ｈ、Ｃ−原子数１〜１４を有する同一又は異なる
炭化水素基； Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５：同一又は異なるＣ−原子数１〜１４
を有する炭化水素基 を表す］のＩＰＤＩ−ウレトジオン及びジオール及び/
又はアミノアルコール及び/又はジアミンからのウレト
ジオン基含有重付加化合物を製造する方法であり、この
際、このウレトジオン基含有重付加化合物（ＵＤ−Ｄ
Ａ）を溶液（Ｌ１）中で製造し、かつ、その中にこのウ
レトジオン基含有重付加化合物が不溶である第２の溶剤
（Ｌ２）の添加によりこの化合物（ＵＤ−ＤＡ）を沈殿
させる。
【０００９】本発明の方法で使用すべきウレトジオン
は、ドイツ特許（ＤＥ−ＯＳＳ）第３０３０５１３号及
び同第３７３９５４９号明細書中に記載のような１７〜
１８％の遊離ＮＣＯ−含有率を有するイソホロンジイソ
シアネート−ウレトジオンである、即ち、反応生成物中
にはＩＰＤＩのポリウレトジオン分がかなり高い割合で
存在するはずである。このモノマー含有率は≦１％であ
る。１８０〜２００℃までの加熱（０.５〜１時間）の
後のこのＩＰＤＩ−ウレトジオンの総ＮＣＯ−含有率
は、３７.５〜３７.８％である。
は、ドイツ特許（ＤＥ−ＯＳＳ）第３０３０５１３号及
び同第３７３９５４９号明細書中に記載のような１７〜
１８％の遊離ＮＣＯ−含有率を有するイソホロンジイソ
シアネート−ウレトジオンである、即ち、反応生成物中
にはＩＰＤＩのポリウレトジオン分がかなり高い割合で
存在するはずである。このモノマー含有率は≦１％であ
る。１８０〜２００℃までの加熱（０.５〜１時間）の
後のこのＩＰＤＩ−ウレトジオンの総ＮＣＯ−含有率
は、３７.５〜３７.８％である。
【００１０】ＩＰＤＩ−ウレトジオンに対する反応成分
は、本発明の方法では、ジオール、例えばエチレングリ
コール、プロピレン−１，２−及び−１，３−グリコー
ル、２−エチルヘキサンジオール、ヘキサンジオール、
オクタン−、デカン−ドデカンジオール、ネオペンチル
グリコール、１，４−ビスヒドロキシメチルシクロヘキ
サン、３（４）−、８（９）−ビスヒドロキシメチルト
リシクロドデカン、２−メチルプロパンジオール−１，
３、３−メチルペンタンジオール−１，５、ジエチレン
グリコール及びヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールエステルである。ＩＰＤＩ−ウレトジオンに対す
る反応成分としてブタンジオール１，４を使用するのが
有利である。
は、本発明の方法では、ジオール、例えばエチレングリ
コール、プロピレン−１，２−及び−１，３−グリコー
ル、２−エチルヘキサンジオール、ヘキサンジオール、
オクタン−、デカン−ドデカンジオール、ネオペンチル
グリコール、１，４−ビスヒドロキシメチルシクロヘキ
サン、３（４）−、８（９）−ビスヒドロキシメチルト
リシクロドデカン、２−メチルプロパンジオール−１，
３、３−メチルペンタンジオール−１，５、ジエチレン
グリコール及びヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールエステルである。ＩＰＤＩ−ウレトジオンに対す
る反応成分としてブタンジオール１，４を使用するのが
有利である。
【００１１】ジオールとしては、２５０〜２０００、有
利に３００〜１５００の分子量を有する線状ヒドロキシ
ル基含有ポリエステルがＩＰＤＩ−ウレトジオンの連鎖
延長剤として使用することができる。これは、例えばジ
オール及びジカルボン酸の組み合わせにより製造され
る。この連鎖延長剤の製造のためには、前記のジオー
ル、有利にトランス−及びシス−シクロヘキサンジメタ
ノール（ＣＨＤＭ）が使用される。
利に３００〜１５００の分子量を有する線状ヒドロキシ
ル基含有ポリエステルがＩＰＤＩ−ウレトジオンの連鎖
延長剤として使用することができる。これは、例えばジ
オール及びジカルボン酸の組み合わせにより製造され
る。この連鎖延長剤の製造のためには、前記のジオー
ル、有利にトランス−及びシス−シクロヘキサンジメタ
ノール（ＣＨＤＭ）が使用される。
【００１２】有利なジカルボン酸には、脂肪族の、場合
によりアルキル分枝した、例えばコハク酸、アジピン
酸、コルク酸、アゼライン酸、セバシン酸及び２，２，
４（２，４，４）−トリメチルアジピン酸が挙げられ
る。更に、ラクトン及びヒドロキシカルボン酸、例えば
ε−カプロラクトン及びヒドロキシカプロン酸もこれに
挙げられる。
によりアルキル分枝した、例えばコハク酸、アジピン
酸、コルク酸、アゼライン酸、セバシン酸及び２，２，
４（２，４，４）−トリメチルアジピン酸が挙げられ
る。更に、ラクトン及びヒドロキシカルボン酸、例えば
ε−カプロラクトン及びヒドロキシカプロン酸もこれに
挙げられる。
【００１３】本発明の方法で使用されるジオール／連鎖
延長剤−混合物は、相互に５：９５〜９０：１０の割合
で存在する。
延長剤−混合物は、相互に５：９５〜９０：１０の割合
で存在する。
【００１４】ジオールの代わりにアミノアルコールもＩ
ＰＤＩ−ウレトジオンの連鎖延長剤として使用できる。
好適なアミノアルコールは、原則的に、１個の１級又は
２級のアミノ基及び１個の１級又は２級のＯＨ−基を有
するすべての化合物、例えばエタノールアミン、２−ア
ミノ−１−ブタノール、２−アミノ−２−メチル−１−
プロパノール、モノイソプロパノール−アミン、２，
２’−アミノエトキシエタノール、３−アミノプロパノ
ール、３−アミノメチル−３，５，５−トリメチルシク
ロヘキサノール、メチルエタノールアミン、ｎ−プロピ
ルエタノールアミン、ブチルエタノールアミンである。
ＰＤＩ−ウレトジオンの連鎖延長剤として使用できる。
好適なアミノアルコールは、原則的に、１個の１級又は
２級のアミノ基及び１個の１級又は２級のＯＨ−基を有
するすべての化合物、例えばエタノールアミン、２−ア
ミノ−１−ブタノール、２−アミノ−２−メチル−１−
プロパノール、モノイソプロパノール−アミン、２，
２’−アミノエトキシエタノール、３−アミノプロパノ
ール、３−アミノメチル−３，５，５−トリメチルシク
ロヘキサノール、メチルエタノールアミン、ｎ−プロピ
ルエタノールアミン、ブチルエタノールアミンである。
【００１５】本発明の方法で使用すべきＩＰＤＩ−ウレ
トジオンに対する更なる反応成分は、非芳香族のジアミ
ンである。このジアミンは、一方ではジ１級ジアミン、
例えばエチレンジアミン、１，２−ジアミノプロパン、
２−メチルペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、２，２，４（２，４，４）−トリメチルヘキサ
メチレンジアミン、イソホロンジアミン（ＩＰＤ）、
１，２−ジアミノシクロヘキサンであり、他方では、１
個の１級及び２級のアミノ基を有するジアミンである。
これらのジアミンは、２工程で製造され、この際、第１
工程で前記のジ１級ジアミンとアルデヒド又はケトンと
が縮合されてシッフの塩基にされ、第２工程で、このシ
ッフの塩基の水素化及び分別蒸留が行なわれる。できる
だけ少量の副産物（ジ−シッフの塩基）を得るために、
大過剰のジアミンを用いて操作すべきであり、通常、１
０モルのジアミンと１モルのカルボニル化合物を反応さ
せる。縮合してシッフの塩基を得るために、原則的に、
すべての脂肪族及び（環状）脂肪族アルデヒド及びケト
ンが使用されるが、イソブチルアルデヒド、２−エチル
ヘキサナール、メチルエチルケトン、ジイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン及び３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサノンを使用するのが有利である。本発明の方法
の有利な変法は、水素化され、シアンエチル化されたモ
ノアミン、例えばＮ−メチル−１，３−プロパンジアミ
ン又はＮ−シクロヘキシル−１，３−プロパンジアミン
を使用することよりなる。
トジオンに対する更なる反応成分は、非芳香族のジアミ
ンである。このジアミンは、一方ではジ１級ジアミン、
例えばエチレンジアミン、１，２−ジアミノプロパン、
２−メチルペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、２，２，４（２，４，４）−トリメチルヘキサ
メチレンジアミン、イソホロンジアミン（ＩＰＤ）、
１，２−ジアミノシクロヘキサンであり、他方では、１
個の１級及び２級のアミノ基を有するジアミンである。
これらのジアミンは、２工程で製造され、この際、第１
工程で前記のジ１級ジアミンとアルデヒド又はケトンと
が縮合されてシッフの塩基にされ、第２工程で、このシ
ッフの塩基の水素化及び分別蒸留が行なわれる。できる
だけ少量の副産物（ジ−シッフの塩基）を得るために、
大過剰のジアミンを用いて操作すべきであり、通常、１
０モルのジアミンと１モルのカルボニル化合物を反応さ
せる。縮合してシッフの塩基を得るために、原則的に、
すべての脂肪族及び（環状）脂肪族アルデヒド及びケト
ンが使用されるが、イソブチルアルデヒド、２−エチル
ヘキサナール、メチルエチルケトン、ジイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン及び３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサノンを使用するのが有利である。本発明の方法
の有利な変法は、水素化され、シアンエチル化されたモ
ノアミン、例えばＮ−メチル−１，３−プロパンジアミ
ン又はＮ−シクロヘキシル−１，３−プロパンジアミン
を使用することよりなる。
【００１６】更に、本発明の方法でＩＰＤＩ−ウレトジ
オンに対する反応成分として、記載の１級及び２級アミ
ノ基を有するジアミンと同様に製造される、ジ２級ジア
ミンを使用することができる。多くの場合に、記載のジ
アミンの混合物をＩＰＤＩ−ウレトジオンに対する反応
成分として使用することが有利であると立証されてい
る。
オンに対する反応成分として、記載の１級及び２級アミ
ノ基を有するジアミンと同様に製造される、ジ２級ジア
ミンを使用することができる。多くの場合に、記載のジ
アミンの混合物をＩＰＤＩ−ウレトジオンに対する反応
成分として使用することが有利であると立証されてい
る。
【００１７】ウレトジオン基含有重付加化合物は、２工
程法で製造され、この際、第１工程で、ＩＰＤＩ−ウレ
トジオンとジオール及び/又はポリエステルジオール及
び/又はアミノアルコール及び/又はジアミンを溶液中で
２０〜９０℃で反応させる。好適な溶剤は、芳香族炭化
水素、例えばトルエン、キシレン、ケトン、例えばアセ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シ
クロヘキサノン又はエステル、例えば酢酸エチル又は酢
酸ブチルである。ＩＰＤＩ−ウレトジオンとジオール及
び/又はポリエステルジオールとの反応は、一般に６０
〜８０℃の温度で行われる。反応成分を、ＮＣＯ：ＯＨ
−比１：０.５〜１：０.９５又は０.５：１〜０.９５：
１で、所定の温度で、すべてのＯＨ−基がウレタン基の
形成下に反応するまで加熱する。これは反応温度に応じ
て０.５〜５時間かかる。反応の促進のために、触媒、
例えば酢酸錫（ＩＩ）、ラウリン酸錫（ＩＩ）、ジブチ
ル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート（ＤＢＴ
Ｌ）、ジブチル錫マレエート又はジオクチル錫ジアセテ
ートも使用できる。
程法で製造され、この際、第１工程で、ＩＰＤＩ−ウレ
トジオンとジオール及び/又はポリエステルジオール及
び/又はアミノアルコール及び/又はジアミンを溶液中で
２０〜９０℃で反応させる。好適な溶剤は、芳香族炭化
水素、例えばトルエン、キシレン、ケトン、例えばアセ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シ
クロヘキサノン又はエステル、例えば酢酸エチル又は酢
酸ブチルである。ＩＰＤＩ−ウレトジオンとジオール及
び/又はポリエステルジオールとの反応は、一般に６０
〜８０℃の温度で行われる。反応成分を、ＮＣＯ：ＯＨ
−比１：０.５〜１：０.９５又は０.５：１〜０.９５：
１で、所定の温度で、すべてのＯＨ−基がウレタン基の
形成下に反応するまで加熱する。これは反応温度に応じ
て０.５〜５時間かかる。反応の促進のために、触媒、
例えば酢酸錫（ＩＩ）、ラウリン酸錫（ＩＩ）、ジブチ
ル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート（ＤＢＴ
Ｌ）、ジブチル錫マレエート又はジオクチル錫ジアセテ
ートも使用できる。
【００１８】ＮＣＯ−ＯＨ−比１：０.５〜１：０.９５
で反応生成物の遊離ＮＣＯ−基がすべて又は部分的にモ
ノアルコールで不可逆的にブロッキングされるべき場合
には、連鎖延長に引き続き、この反応生成物をモノアル
コールと共に、ＯＨ−当量当たり当量のＮＣＯが反応さ
れるまで更に加熱する。好適な１価のアルコールは、メ
タノール、エタノール、ｎ−ブタノール、２−エチルヘ
キサノール及びｎ−デカノールである。モノアルコール
の代わりに１級又は２級のモノアミン、例えばｎ−プロ
ピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン又
はジブチルアミンを使用することもできる。
で反応生成物の遊離ＮＣＯ−基がすべて又は部分的にモ
ノアルコールで不可逆的にブロッキングされるべき場合
には、連鎖延長に引き続き、この反応生成物をモノアル
コールと共に、ＯＨ−当量当たり当量のＮＣＯが反応さ
れるまで更に加熱する。好適な１価のアルコールは、メ
タノール、エタノール、ｎ−ブタノール、２−エチルヘ
キサノール及びｎ−デカノールである。モノアルコール
の代わりに１級又は２級のモノアミン、例えばｎ−プロ
ピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン又
はジブチルアミンを使用することもできる。
【００１９】ＩＰＤＩ−ウレトジオンとジアミンとの反
応の際には、ＩＰＤＩ−ウレトジオンのアセトン溶液
に、室温で、ジアミンを、ＮＣＯ−ＮＨ−比１：０.５
〜１：０.９５で、反応溶液の温度が４０℃を越えて上
昇しないように添加する。このジアミン添加の終了後に
反応は終了している。この反応生成物の遊離ＮＣＯ−基
をなお完全に又は部分的にモノアルコール又は１級又は
２級のモノアミンでブロッキングすべき場合には、既に
記載のＩＰＤＩ−ウレトジオン／ジオール−付加生成物
のブロッキングにおけると同様に行う。
応の際には、ＩＰＤＩ−ウレトジオンのアセトン溶液
に、室温で、ジアミンを、ＮＣＯ−ＮＨ−比１：０.５
〜１：０.９５で、反応溶液の温度が４０℃を越えて上
昇しないように添加する。このジアミン添加の終了後に
反応は終了している。この反応生成物の遊離ＮＣＯ−基
をなお完全に又は部分的にモノアルコール又は１級又は
２級のモノアミンでブロッキングすべき場合には、既に
記載のＩＰＤＩ−ウレトジオン／ジオール−付加生成物
のブロッキングにおけると同様に行う。
【００２０】次いで、第２工程で、溶けているウレトジ
オン基含有重付加生成物の単離を行う。本発明の方法で
は、このＵＤ−ＤＡの溶液を室温で、激しい撹拌下にゆ
っくり溶剤（Ｌ２）に添加する。この場合に、ＵＤ−Ｄ
Ａの３０〜７０％溶液１００重量部に対して少なくとも
１００重量部の溶剤Ｌ２が必要である。その中にＵＤ−
ＤＡが不溶である溶剤Ｌ２としては、脂肪族又は環状脂
肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、
デカン、シクロヘキサン又は任意のこれらの混合物、例
えば石油エーテル又は水が使用される。本発明の方法に
おけるこの溶剤Ｌ２によるＵＤ−ＤＡの沈殿の際に、Ｕ
Ｄ−ＤＡのこの溶液を溶剤Ｌ２に添加することが重要で
ある。逆に行うと、殆ど沈殿せずに良好に濾過可能なＵ
Ｄ−ＤＡが得られる。
オン基含有重付加生成物の単離を行う。本発明の方法で
は、このＵＤ−ＤＡの溶液を室温で、激しい撹拌下にゆ
っくり溶剤（Ｌ２）に添加する。この場合に、ＵＤ−Ｄ
Ａの３０〜７０％溶液１００重量部に対して少なくとも
１００重量部の溶剤Ｌ２が必要である。その中にＵＤ−
ＤＡが不溶である溶剤Ｌ２としては、脂肪族又は環状脂
肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、
デカン、シクロヘキサン又は任意のこれらの混合物、例
えば石油エーテル又は水が使用される。本発明の方法に
おけるこの溶剤Ｌ２によるＵＤ−ＤＡの沈殿の際に、Ｕ
Ｄ−ＤＡのこの溶液を溶剤Ｌ２に添加することが重要で
ある。逆に行うと、殆ど沈殿せずに良好に濾過可能なＵ
Ｄ−ＤＡが得られる。
【００２１】本発明の方法を用いて初めて、高融点の
（融点＞１３０℃）ウレトジオン基含有重付加生成物が
簡単な方法で製造可能になった。
（融点＞１３０℃）ウレトジオン基含有重付加生成物が
簡単な方法で製造可能になった。
【００２２】
例１ ＩＰＤＩ−ウレトジオン４.５モル、ブタンジオール３.
５モル及び２−エチルヘキサノール２モルからの反応生
成物の約５０％アセトン溶液５００重量部を激しい撹拌
下に約１時間かかってＨ２Ｏ ５００重量部に加えた。
生じた沈殿を濾過し、真空乾燥箱中、６０℃で乾燥させ
た。
５モル及び２−エチルヘキサノール２モルからの反応生
成物の約５０％アセトン溶液５００重量部を激しい撹拌
下に約１時間かかってＨ２Ｏ ５００重量部に加えた。
生じた沈殿を濾過し、真空乾燥箱中、６０℃で乾燥させ
た。
【００２３】 ＮＣＯ（遊離） ０.４％ ＮＣＯ（総） １５.１％ 融点 １０７〜１１１℃ Ｈ２Ｏ ＜０.１％ 。
【００２４】例２ 例１のＵＤ−ＤＡをトルエン中で製造した。約４０％の
トルエン溶液５００重量部を、約１時間かかって石油エ
ーテル６００重量部中に滴加した。生じた沈殿を濾過
し、真空乾燥箱中、６０℃で乾燥させた。
トルエン溶液５００重量部を、約１時間かかって石油エ
ーテル６００重量部中に滴加した。生じた沈殿を濾過
し、真空乾燥箱中、６０℃で乾燥させた。
【００２５】 ＮＣＯ（遊離） ０.５％ ＮＣＯ（総） １５.３％ 融点 １０５〜１１０℃ 。
【００２６】例３ ＩＰＤＩ−ウレトジオン１０モル、Ｎ−（２−ヘキシ
ル）−イソホロンジアミン７モル及びＩＰＤ２モルから
の反応生成物の約５０％アセトン溶液５００重量部を激
しい撹拌下に約１時間かかってＨ２Ｏ ５００重量部に
加えた。生じた沈殿を濾過し、真空乾燥箱中、６０℃で
乾燥させた。
ル）−イソホロンジアミン７モル及びＩＰＤ２モルから
の反応生成物の約５０％アセトン溶液５００重量部を激
しい撹拌下に約１時間かかってＨ２Ｏ ５００重量部に
加えた。生じた沈殿を濾過し、真空乾燥箱中、６０℃で
乾燥させた。
【００２７】 ＮＣＯ（遊離） １.０％ ＮＣＯ（総） １４.１％ 融点 １５６〜１６０℃ Ｈ２Ｏ ＜０.１％ 。
Claims (3)
- 【請求項１】 次式： 【化１】 Ｒ１：Ｃ−原子数２〜６を有する２価の炭化水素基； Ｒ２：、Ｈ、Ｃ−原子数１〜１４を有する同一又は異な
る炭化水素基； Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５：同一又は異なるＣ−原子数１〜１４
を有する炭化水素基 を表す］のＩＰＩＤＩ−ウレトジオン及びジオール及び
/又はアミノアルコール及び/又はジアミンからのウレト
ジオン基含有重付加化合物を製造する場合に、このウレ
トジオン基含有重付加化合物（ＵＤ−ＤＡ）を溶液（Ｌ
１）中で製造し、かつ、その中にウレトジオン基含有重
付加化合物が不溶である第２の溶剤（Ｌ２）の添加によ
りこの化合物（ＵＤ−ＤＡ）を沈殿させることを特徴と
する、ウレトジオン基含有重付加化合物の製法。 - 【請求項２】 ＵＤ−ＤＡは、芳香族炭化水素、例えば
トルエン、キシレン、ケトン、例えばアセトン、メチル
イソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノ
ン又はエステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル中に
溶かされている、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 沈殿剤は、脂肪族又は環状脂肪族炭化水
素、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油
エーテル又は水である、請求項１に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19634053A DE19634053A1 (de) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | Ein vereinfachtes Verfahren zur Herstellung von uretdiongruppenhaltigen Polyadditionsverbindungen |
| DE19634053.5 | 1996-08-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1087783A true JPH1087783A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=7803471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9223487A Pending JPH1087783A (ja) | 1996-08-23 | 1997-08-20 | ウレトジオン基含有重付加化合物の製法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5883249A (ja) |
| EP (1) | EP0825215B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1087783A (ja) |
| AT (1) | ATE185155T1 (ja) |
| CA (1) | CA2213593A1 (ja) |
| DE (2) | DE19634053A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19816547A1 (de) * | 1998-04-15 | 1999-10-21 | Degussa | Harnstoff- und uretdiongruppenhaltige Polyisocyanate |
| DE19831307A1 (de) * | 1998-07-13 | 2000-01-20 | Degussa | Harnstoff- und uretdiongruppenhaltige Polyadditionsverbindungen, ein Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung |
| CN114736350B (zh) * | 2022-05-25 | 2023-12-19 | 安徽科瑞达新材料有限公司 | 一种脂肪族二异氰酸酯的二聚体加成产物的制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2420475A1 (de) * | 1974-04-27 | 1975-11-06 | Bayer Ag | Uretdiongruppen aufweisende polyadditionsprodukte |
| US4064107A (en) * | 1976-08-12 | 1977-12-20 | Celanese Corporation | High temperature polyurea resins |
| DE3030572A1 (de) * | 1980-08-13 | 1982-03-18 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Verfahren zur herstellung von uretdiongruppenhaltigen polyadditionsprodukten sowie die danach hergestellten produkte |
| DE3030588A1 (de) * | 1980-08-13 | 1982-03-18 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Verfahren zur herstellung von blockierungsmittelfreien polyurethan-pulverlacken mit hoher lagerstabilitaet, die oberhalb 120(grad) c haertbar sind, sowie die danach hergestellten polyurethan-pulverlacke |
-
1996
- 1996-08-23 DE DE19634053A patent/DE19634053A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-07-03 EP EP97111142A patent/EP0825215B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-03 DE DE59700498T patent/DE59700498D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-07-03 AT AT97111142T patent/ATE185155T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-08-20 JP JP9223487A patent/JPH1087783A/ja active Pending
- 1997-08-21 CA CA002213593A patent/CA2213593A1/en not_active Abandoned
- 1997-08-25 US US08/916,955 patent/US5883249A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2213593A1 (en) | 1998-02-23 |
| US5883249A (en) | 1999-03-16 |
| EP0825215A1 (de) | 1998-02-25 |
| EP0825215B1 (de) | 1999-09-29 |
| ATE185155T1 (de) | 1999-10-15 |
| DE59700498D1 (de) | 1999-11-04 |
| DE19634053A1 (de) | 1998-02-26 |
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