JPH1082861A - 放射線強度分布計測装置 - Google Patents
放射線強度分布計測装置Info
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- JPH1082861A JPH1082861A JP8234919A JP23491996A JPH1082861A JP H1082861 A JPH1082861 A JP H1082861A JP 8234919 A JP8234919 A JP 8234919A JP 23491996 A JP23491996 A JP 23491996A JP H1082861 A JPH1082861 A JP H1082861A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の目的はシンチレーション光を光ファイ
バで伝送して放射線分布を計測する装置において、放射
線の入射位置を正確に弁別する、簡素で経済的な、より
実用的な放射線分布計測装置を提供することにある。 【解決手段】シンチレーション方式放射線センサにセン
サ位置情報を持った二重発光を発生機能を持たせ、両パ
ルスの時間幅を識別することによって放射線センサを容
易に識別する。 【効果】精密なＴＡＣ処理を必要とせず、片道１系統で
放射線分布計測が可能になり、簡素で経済的な、より実
用的な放射線分布計測装置を実現できる。
バで伝送して放射線分布を計測する装置において、放射
線の入射位置を正確に弁別する、簡素で経済的な、より
実用的な放射線分布計測装置を提供することにある。 【解決手段】シンチレーション方式放射線センサにセン
サ位置情報を持った二重発光を発生機能を持たせ、両パ
ルスの時間幅を識別することによって放射線センサを容
易に識別する。 【効果】精密なＴＡＣ処理を必要とせず、片道１系統で
放射線分布計測が可能になり、簡素で経済的な、より実
用的な放射線分布計測装置を実現できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は放射線強度分布を計
測する装置に関し、特に、放射線検出センサにシンチレ
ータやシンチレーションファイバを用い、そのシンチレ
ーション光を光ファイバで伝送して計測する放射線強度
分布計測装置に関する。
測する装置に関し、特に、放射線検出センサにシンチレ
ータやシンチレーションファイバを用い、そのシンチレ
ーション光を光ファイバで伝送して計測する放射線強度
分布計測装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】シンチレーション光を光ファイバで伝送
して放射線分布を計測する放射線分布計測装置に係わる
例として特開平6−258446号，特開平6−109848号があ
る。前者の公知例はシンチレータのシンチレーション光
を波長変換ファイバで波長変換する複数のシンチレータ
を連鎖状に伝送用ファイバで連結し、シンチレータで発
光する両端方向の光の到達時間差から放射線の入射位置
を決定し、その到達頻度から強度を決定する構成であ
る。後者はシンチレーションファイバの一端にシンチレ
ーション光の反射器を設け、他の一端に設けた光検出器
で放射線の入射で発光した最初の光と、反射器で戻る光
の到達時間差から放射線の入射位置と放射線強度を決定
する構成である。これらの公知例のごとく、放射線の入
射位置とその強度が分かれば放射線強度分布が求められ
る。
して放射線分布を計測する放射線分布計測装置に係わる
例として特開平6−258446号，特開平6−109848号があ
る。前者の公知例はシンチレータのシンチレーション光
を波長変換ファイバで波長変換する複数のシンチレータ
を連鎖状に伝送用ファイバで連結し、シンチレータで発
光する両端方向の光の到達時間差から放射線の入射位置
を決定し、その到達頻度から強度を決定する構成であ
る。後者はシンチレーションファイバの一端にシンチレ
ーション光の反射器を設け、他の一端に設けた光検出器
で放射線の入射で発光した最初の光と、反射器で戻る光
の到達時間差から放射線の入射位置と放射線強度を決定
する構成である。これらの公知例のごとく、放射線の入
射位置とその強度が分かれば放射線強度分布が求められ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図１０に従来の放射線
分布計測装置の一例を示す。従来の方式は複数のシンチ
レータ５０を連鎖状に光ファイバ５１で連結する。この
シンチレータ５０には波長変換ファイバ５４を設け、波
長変換ファイバ５４で再発光した両端方向の光を時間波
高変換器５２（以下、ＴＡＣ：Time−to−Amplitude Co
nvertor と略称）で到達時間差を求め放射線の入射位置
を決定する。このため２系統の光検出系５３ａ，５３ｂ
が必要になる。さらに、両端方向の光の到達時間差を求
めるため、放射線センサ部の両端に２系統の光ファイバ
５１ａ，５１ｂを布設する必要がある。また、到達時間
差を正確に求めるためには上記２系統の一方の光検出系
に遅延回路５５が必要となる。この遅延回路はＴＡＣ処
理の到達時間差を測定するためのスタート，ストップ信
号を発生させる。この遅延回路の遅延時間は上記２系統
の１系統分に相当する。この遅延時間は放射線計測の不
感時間となり、放射線計測系の最大計数率を低下させる
大きな要因となる。このように精密分析のＴＡＣ処理が
必要になることやシステム全体の構成が複雑になる問題
があった。また、複数のシンチレータを連鎖状に連結す
る構成では放射線の入射で発光するシンチレーション光
が他の波長変換ファイバ５４を通過して伝送することに
なる。このため、その波長変換ファイバ通過による伝送
損失が大きく、伝送距離が長くなる大規模な分布測定シ
ステムは困難になる。
分布計測装置の一例を示す。従来の方式は複数のシンチ
レータ５０を連鎖状に光ファイバ５１で連結する。この
シンチレータ５０には波長変換ファイバ５４を設け、波
長変換ファイバ５４で再発光した両端方向の光を時間波
高変換器５２（以下、ＴＡＣ：Time−to−Amplitude Co
nvertor と略称）で到達時間差を求め放射線の入射位置
を決定する。このため２系統の光検出系５３ａ，５３ｂ
が必要になる。さらに、両端方向の光の到達時間差を求
めるため、放射線センサ部の両端に２系統の光ファイバ
５１ａ，５１ｂを布設する必要がある。また、到達時間
差を正確に求めるためには上記２系統の一方の光検出系
に遅延回路５５が必要となる。この遅延回路はＴＡＣ処
理の到達時間差を測定するためのスタート，ストップ信
号を発生させる。この遅延回路の遅延時間は上記２系統
の１系統分に相当する。この遅延時間は放射線計測の不
感時間となり、放射線計測系の最大計数率を低下させる
大きな要因となる。このように精密分析のＴＡＣ処理が
必要になることやシステム全体の構成が複雑になる問題
があった。また、複数のシンチレータを連鎖状に連結す
る構成では放射線の入射で発光するシンチレーション光
が他の波長変換ファイバ５４を通過して伝送することに
なる。このため、その波長変換ファイバ通過による伝送
損失が大きく、伝送距離が長くなる大規模な分布測定シ
ステムは困難になる。
【０００４】後者の従来例の放射線分布計測装置はシン
チレーションファイバの一端に直接反射器を設け、他の
一端に光検出器を設ける構成である。この従来例はシン
チレーションファイバを全長にわたって用いる構成のた
め、最初の発光と反射器で戻る光信号の時間差から放射
線の入射位置を決定する。この処理は前者のＴＡＣ処理
と全く同一となる。この構成ではシンチレーションファ
イバ自体の伝送損失が極めて大きく、１０ｍ以上の放射
線分布計測が困難になり、実用的な放射線分布計測シス
テム（伝送距離２００ｍ以上）の提供は難しい。また、
この従来例は光伝送系を兼ねたシンチレーションファイ
バだけで構成しているため、放射線の入射源が複数にな
るとその入射位置を決定する位置分解能が著しく低下す
ることになる。隣接して放射線が入射する場合には入射
位置の識別が困難になる問題がある。
チレーションファイバの一端に直接反射器を設け、他の
一端に光検出器を設ける構成である。この従来例はシン
チレーションファイバを全長にわたって用いる構成のた
め、最初の発光と反射器で戻る光信号の時間差から放射
線の入射位置を決定する。この処理は前者のＴＡＣ処理
と全く同一となる。この構成ではシンチレーションファ
イバ自体の伝送損失が極めて大きく、１０ｍ以上の放射
線分布計測が困難になり、実用的な放射線分布計測シス
テム（伝送距離２００ｍ以上）の提供は難しい。また、
この従来例は光伝送系を兼ねたシンチレーションファイ
バだけで構成しているため、放射線の入射源が複数にな
るとその入射位置を決定する位置分解能が著しく低下す
ることになる。隣接して放射線が入射する場合には入射
位置の識別が困難になる問題がある。
【０００５】本発明の目的はシンチレーション光を光フ
ァイバで伝送して放射線分布を計測する装置において、
放射線の入射位置を正確に弁別するとともに、簡素で経
済的な構成でより、実用的な放射線分布計測装置を提供
することにある。
ァイバで伝送して放射線分布を計測する装置において、
放射線の入射位置を正確に弁別するとともに、簡素で経
済的な構成でより、実用的な放射線分布計測装置を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】従来の分布計測装置は放
射線の入射で発光する光に発光位置情報が含まれないた
め、複数のシンチレータを連鎖状に光ファイバで連結
し、両端の発光時間差をＴＡＣ分析して発光位置情報を
求める必要があった。本発明ではシンチレーション式放
射線センサを分散配置し、各センサにあらかじめ所定の
位置情報を持った光信号を発生させる構成にすることに
よって、簡素で実用的な放射線強度分布計測装置を容易
に実現することができる。本発明の各シンチレーション
式放射線センサは一つの放射線入射による発光毎、セン
サの位置情報を持った二重発光（ダブルパルス光）を発
生させるように構成する。即ち、各センサのシンチレー
タに２本の波長変換ファイバを挿入し、第１の発光を時
間遅れなく直接光検出系（計測系）に伝送し、他の第２
の発光を一定の遅延時間を持って同一の光検出系へ伝送
することによってダブルパルス光を単純に発生させるこ
とができる。第２の発光の一定遅延時間は光伝送路に一
定長さのファイバを設けるだけでよい。このダブルパル
ス光を光検出し、両パルスの時間幅を識別することによ
って放射線が入射したセンサの識別が可能になる。一定
の遅延時間は各センサ毎、あらかじめ、独立既知に設け
るため、単純な遅延同期回路でセンサの識別が容易に可
能となる。本発明では従来法に比べ、精密なＴＡＣ処理
を必要とせず、また、両方向の光を検出するための２系
統の伝送ファイバを必要とせず、片道１系統で放射線分
布計測が可能になる。さらに、ＴＡＣのスタート，スト
ップ信号を設定するための遅延回路も不要となり、従来
方式に比べて放射線計測の不感時間を小さくすることが
でき、簡素で実用的な放射線分布計測装置を実現でき
る。
射線の入射で発光する光に発光位置情報が含まれないた
め、複数のシンチレータを連鎖状に光ファイバで連結
し、両端の発光時間差をＴＡＣ分析して発光位置情報を
求める必要があった。本発明ではシンチレーション式放
射線センサを分散配置し、各センサにあらかじめ所定の
位置情報を持った光信号を発生させる構成にすることに
よって、簡素で実用的な放射線強度分布計測装置を容易
に実現することができる。本発明の各シンチレーション
式放射線センサは一つの放射線入射による発光毎、セン
サの位置情報を持った二重発光（ダブルパルス光）を発
生させるように構成する。即ち、各センサのシンチレー
タに２本の波長変換ファイバを挿入し、第１の発光を時
間遅れなく直接光検出系（計測系）に伝送し、他の第２
の発光を一定の遅延時間を持って同一の光検出系へ伝送
することによってダブルパルス光を単純に発生させるこ
とができる。第２の発光の一定遅延時間は光伝送路に一
定長さのファイバを設けるだけでよい。このダブルパル
ス光を光検出し、両パルスの時間幅を識別することによ
って放射線が入射したセンサの識別が可能になる。一定
の遅延時間は各センサ毎、あらかじめ、独立既知に設け
るため、単純な遅延同期回路でセンサの識別が容易に可
能となる。本発明では従来法に比べ、精密なＴＡＣ処理
を必要とせず、また、両方向の光を検出するための２系
統の伝送ファイバを必要とせず、片道１系統で放射線分
布計測が可能になる。さらに、ＴＡＣのスタート，スト
ップ信号を設定するための遅延回路も不要となり、従来
方式に比べて放射線計測の不感時間を小さくすることが
でき、簡素で実用的な放射線分布計測装置を実現でき
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下本発明の詳細な説明を実施例
を用いて説明する。図１は、放射線強度分布測定装置の
構成を示す。放射線センサ１はシンチレータ２とその内
部に挿入する波長変換ファイバ３および各波長変換ファ
イバに接続した光伝送用のファイバ４，５で構成する。
センサ１に放射線が入射するシンチレーション光を発光
し、その光の波長変換ファイバ３を励起し、光伝送に適
した方向性のある光を発光する。この光の一方（第１の
光）は直接伝送ファイバ５，６を介して光検出系７と測
定回路系８へ伝送する。もう一つの光（第２の光）は遅
延ファイバ４と同じ伝送ファイバ６を経由して、光検出
系７と測定回路系８へ伝送する。伝送ファイバ６を通過
する光パルスは第１と第２のダブルパルス９となって伝
送される。そのパルス幅は遅延ファイバ４の長さに依存
（遅延時間：Δｔ（Ｌ））する。光ファイバ中の光速は
約２×１０8ｍ／ｓ であり、遅延ファイバ４とファイバ
５との長さの差が２０cmで１ｎｓの遅延時間となる。こ
の遅延ファイバ４とファイバ５との長さの差を、例えば
２０，４０，…，２００cmと異なって各センサに設ける
ことによって、１ｎｓの倍数となるダブルパルス間隔を
持った任意の位置情報を持ったセンサを設計することが
できる。図２に測定回路系８の詳細な構成を示した。ダ
ブルパルス９を前置増幅器１０，線形増幅器１１，ディ
スクリミネータ１２を介して時間情報を持った電気的な
矩形波のダブルパルス１３に変換する。このダブルパル
ス１３は上述の各センサ１の遅延時間を設定した電気的
な遅延回路１４と同期回路１６を通過させる。同期回路
１６には遅延回路１４を通過しないパルスも入力１５
し、その同期処理で一致する点からセンサを識別する。
識別した各センサアドレスのメモリー１７に放射線入力
頻度を加算する。この加算データは分布計測のデータと
して処理装置に伝送する。
を用いて説明する。図１は、放射線強度分布測定装置の
構成を示す。放射線センサ１はシンチレータ２とその内
部に挿入する波長変換ファイバ３および各波長変換ファ
イバに接続した光伝送用のファイバ４，５で構成する。
センサ１に放射線が入射するシンチレーション光を発光
し、その光の波長変換ファイバ３を励起し、光伝送に適
した方向性のある光を発光する。この光の一方（第１の
光）は直接伝送ファイバ５，６を介して光検出系７と測
定回路系８へ伝送する。もう一つの光（第２の光）は遅
延ファイバ４と同じ伝送ファイバ６を経由して、光検出
系７と測定回路系８へ伝送する。伝送ファイバ６を通過
する光パルスは第１と第２のダブルパルス９となって伝
送される。そのパルス幅は遅延ファイバ４の長さに依存
（遅延時間：Δｔ（Ｌ））する。光ファイバ中の光速は
約２×１０8ｍ／ｓ であり、遅延ファイバ４とファイバ
５との長さの差が２０cmで１ｎｓの遅延時間となる。こ
の遅延ファイバ４とファイバ５との長さの差を、例えば
２０，４０，…，２００cmと異なって各センサに設ける
ことによって、１ｎｓの倍数となるダブルパルス間隔を
持った任意の位置情報を持ったセンサを設計することが
できる。図２に測定回路系８の詳細な構成を示した。ダ
ブルパルス９を前置増幅器１０，線形増幅器１１，ディ
スクリミネータ１２を介して時間情報を持った電気的な
矩形波のダブルパルス１３に変換する。このダブルパル
ス１３は上述の各センサ１の遅延時間を設定した電気的
な遅延回路１４と同期回路１６を通過させる。同期回路
１６には遅延回路１４を通過しないパルスも入力１５
し、その同期処理で一致する点からセンサを識別する。
識別した各センサアドレスのメモリー１７に放射線入力
頻度を加算する。この加算データは分布計測のデータと
して処理装置に伝送する。
【０００８】図３は上記各センサ１（Ｌ1からＬn）を分
散接続した本発明の放射線強度分布計測システムの構成
例を示す。上記各センサ１のダブルパルス光は幹線ファ
イバ２０を介して光検出系７と測定回路系８へ伝送す
る。位置情報を識別したデータはデータ処理装置２１，
放射線分布表示装置２２へ伝送出力する。本発明による
放射線分布計測装置は従来のＴＡＣ処理で計測する方式
と異なり、光検出系が片道１系統で済み、光伝送ファイ
バも往復２系統の布設が不要となる。また、簡便で単純
な遅延同期回路でセンサの位置情報を識別できることな
ど簡素で経済的な放射線分布計測装置を実現できる。ま
た、作用の項で述べたとおり、ＴＡＣ処理を行わないた
め、ＴＡＣのスタート，ストップ信号を発生させる遅延
回路も不要となり、放射線計測の不感時間を５０％以上
向上することができる。
散接続した本発明の放射線強度分布計測システムの構成
例を示す。上記各センサ１のダブルパルス光は幹線ファ
イバ２０を介して光検出系７と測定回路系８へ伝送す
る。位置情報を識別したデータはデータ処理装置２１，
放射線分布表示装置２２へ伝送出力する。本発明による
放射線分布計測装置は従来のＴＡＣ処理で計測する方式
と異なり、光検出系が片道１系統で済み、光伝送ファイ
バも往復２系統の布設が不要となる。また、簡便で単純
な遅延同期回路でセンサの位置情報を識別できることな
ど簡素で経済的な放射線分布計測装置を実現できる。ま
た、作用の項で述べたとおり、ＴＡＣ処理を行わないた
め、ＴＡＣのスタート，ストップ信号を発生させる遅延
回路も不要となり、放射線計測の不感時間を５０％以上
向上することができる。
【０００９】図４は本発明の放射線強度分布測定装置の
変形例を示す。この変形例はシンチレータ３０に１本の
波長変換ファイバ３１を挿入し、この波長変換ファイバ
３１の出力光を分岐して遅延ファイバ３２を設け、再度
幹線ファイバ３３に連結する構成である。幹線ファイバ
３３にはセンサの位置情報を持ったダブルパルス９が同
様に出力される。
変形例を示す。この変形例はシンチレータ３０に１本の
波長変換ファイバ３１を挿入し、この波長変換ファイバ
３１の出力光を分岐して遅延ファイバ３２を設け、再度
幹線ファイバ３３に連結する構成である。幹線ファイバ
３３にはセンサの位置情報を持ったダブルパルス９が同
様に出力される。
【００１０】図５は本発明の放射線強度分布測定装置の
変形例を示す。波長変換ファイバ３１の幹線ファイバ３
３と反対側に遅延ファイバ３２を設け、このファイバを
幹線ファイバ３３と合流させる構成である。この変形例
は波長変換ファイバ３１で両方向に出力する光を効率よ
く利用する構成である。
変形例を示す。波長変換ファイバ３１の幹線ファイバ３
３と反対側に遅延ファイバ３２を設け、このファイバを
幹線ファイバ３３と合流させる構成である。この変形例
は波長変換ファイバ３１で両方向に出力する光を効率よ
く利用する構成である。
【００１１】図６は本発明の放射線強度分布測定装置の
変形例を示す。この変形例はシンチレーションファイバ
で放射線を検出する方式で、幹線ファイバと反対側に遅
延ファイバと光反射器を設ける構成である。放射線が入
射してシンチレーションファイバ４０で発光した光は幹
線ファイバ３３側と遅延ファイバ３２側に伝わる。遅延
ファイバ３２側には反射器４１を設け、遅延ファイバ３
２を通過した光を、再度、遅延ファイバ３２を通過させ
て幹線ファイバ３３に戻す。この構成は遅延ファイバ３
２を２度通過するため、その長さを１／２にすることが
でき、よりコンパクトなダブルパルス光出力センサを実
現できる。この変形例は上述のシンチレータと波長変換
ファイバを用いる構成にも容易に採用することができ
る。なお、光反射器４１はファイバの端面を垂直に切断
研磨し、その面に金属蒸着あるいは多層幕表面処理する
ことによって１００％近い光反射を実現できる。
変形例を示す。この変形例はシンチレーションファイバ
で放射線を検出する方式で、幹線ファイバと反対側に遅
延ファイバと光反射器を設ける構成である。放射線が入
射してシンチレーションファイバ４０で発光した光は幹
線ファイバ３３側と遅延ファイバ３２側に伝わる。遅延
ファイバ３２側には反射器４１を設け、遅延ファイバ３
２を通過した光を、再度、遅延ファイバ３２を通過させ
て幹線ファイバ３３に戻す。この構成は遅延ファイバ３
２を２度通過するため、その長さを１／２にすることが
でき、よりコンパクトなダブルパルス光出力センサを実
現できる。この変形例は上述のシンチレータと波長変換
ファイバを用いる構成にも容易に採用することができ
る。なお、光反射器４１はファイバの端面を垂直に切断
研磨し、その面に金属蒸着あるいは多層幕表面処理する
ことによって１００％近い光反射を実現できる。
【００１２】図７は本発明の放射線強度分布測定装置の
変形例を示す。この変形例は図６の反射器に変えてファ
イバを単にＵターン（ループ状に戻す）させる構成であ
る。放射線が入射してシンチレーションファイバ４０で
発光した幹線ファイバ３３と反対方向の光はカップラ４
２を介してループ状の遅延ファイバ３２に到達し、再
度、カップラ４２を介して幹線ファイバ３３に戻し、ダ
ブルパルス光を発生させる。ループ状の遅延ファイバ３
２の長さを変えることによって、センサの位置情報であ
るパルス幅を変える。幹線ファイバ３３自体はφ１mm程
度であり、１系統の光検出系に多数のセンサを個別に直
接接続することができ、光伝送損失の小さい高性能放射
線分布計測装置を実現することができる。この変形例
も、上述のシンチレータと波長変換ファイバを用いる構
成にも容易に採用することができる。同様に、図６の反
射器を設ける方式も容易に採用することができる。
変形例を示す。この変形例は図６の反射器に変えてファ
イバを単にＵターン（ループ状に戻す）させる構成であ
る。放射線が入射してシンチレーションファイバ４０で
発光した幹線ファイバ３３と反対方向の光はカップラ４
２を介してループ状の遅延ファイバ３２に到達し、再
度、カップラ４２を介して幹線ファイバ３３に戻し、ダ
ブルパルス光を発生させる。ループ状の遅延ファイバ３
２の長さを変えることによって、センサの位置情報であ
るパルス幅を変える。幹線ファイバ３３自体はφ１mm程
度であり、１系統の光検出系に多数のセンサを個別に直
接接続することができ、光伝送損失の小さい高性能放射
線分布計測装置を実現することができる。この変形例
も、上述のシンチレータと波長変換ファイバを用いる構
成にも容易に採用することができる。同様に、図６の反
射器を設ける方式も容易に採用することができる。
【００１３】図８は本発明の放射線強度分布測定装置の
変形例を示す。この変形例は幹線ファイバ３３に複数の
シンチレーションファイバ４０を間隔を保って配置し、
ループ状の遅延ファイバ３２でダブルパルス光を発生さ
せる構成である。伝送損失は若干大きくなるが、シンチ
レーションファイバ４０と幹線ファイバ３３の長さ比
（シンチレーションファイバ長／幹線ファイバ）を小さ
くすることによって、最も単純な放射線分布計測装置を
実現することができる。当然、上述のシンチレータと波
長変換ファイバを用いる方式や反射器を設ける方式も容
易に採用することができる。
変形例を示す。この変形例は幹線ファイバ３３に複数の
シンチレーションファイバ４０を間隔を保って配置し、
ループ状の遅延ファイバ３２でダブルパルス光を発生さ
せる構成である。伝送損失は若干大きくなるが、シンチ
レーションファイバ４０と幹線ファイバ３３の長さ比
（シンチレーションファイバ長／幹線ファイバ）を小さ
くすることによって、最も単純な放射線分布計測装置を
実現することができる。当然、上述のシンチレータと波
長変換ファイバを用いる方式や反射器を設ける方式も容
易に採用することができる。
【００１４】図９は計測回路内に設ける遅延同期回路の
変形例を示す。この変形例は光検出系から送信される位
置情報を持ったダブルパルス光をシフトレジスタで識別
する方式である。ダブルパルス９はシフトレジスタ６０
とセンサ数だけ設けたＡＤＮ回路６１，６２へ伝送す
る。例えば、放射線センサの遅延時間が１０ｎｓ毎に設
定した場合、検出されるダブルパルスの時間幅は１０ｎ
ｓ毎になる。従って、１００ＭＨｚのシフトレジスタと
各ＡＮＤ回路の一致するラインが自動的に各センサを識
別したメモリレジスタ６３（Ｒ1〜Ｒn）となる。この構
成は本発明に用いる極めて単純なセンサ位置弁別器を提
供することになる。
変形例を示す。この変形例は光検出系から送信される位
置情報を持ったダブルパルス光をシフトレジスタで識別
する方式である。ダブルパルス９はシフトレジスタ６０
とセンサ数だけ設けたＡＤＮ回路６１，６２へ伝送す
る。例えば、放射線センサの遅延時間が１０ｎｓ毎に設
定した場合、検出されるダブルパルスの時間幅は１０ｎ
ｓ毎になる。従って、１００ＭＨｚのシフトレジスタと
各ＡＮＤ回路の一致するラインが自動的に各センサを識
別したメモリレジスタ６３（Ｒ1〜Ｒn）となる。この構
成は本発明に用いる極めて単純なセンサ位置弁別器を提
供することになる。
【００１５】以上は、本発明のセンサが明瞭なダブルパ
ルス光を発生することを前提にしている。放射線分布計
測装置のファイバ伝送距離が極端に長くなると、この第
１，第２のパルス幅も広がり、明瞭なダブルパルス光を
得られなくなる。この場合は複合パルス（第１と第２の
パルス）を１パルスとみなし、そのパルス幅からセンサ
位置を識別することができる。この構成も、本発明のフ
ァイバ伝送距離が極端に長くなる場合に対処できる変形
例となる。
ルス光を発生することを前提にしている。放射線分布計
測装置のファイバ伝送距離が極端に長くなると、この第
１，第２のパルス幅も広がり、明瞭なダブルパルス光を
得られなくなる。この場合は複合パルス（第１と第２の
パルス）を１パルスとみなし、そのパルス幅からセンサ
位置を識別することができる。この構成も、本発明のフ
ァイバ伝送距離が極端に長くなる場合に対処できる変形
例となる。
【００１６】以上説明したごとく、本発明によれば放射
線の入射位置を簡便な方法で正確に弁別するとともに、
簡素で経済的な構成で、より実用的な分布計測装置を提
供することができる。
線の入射位置を簡便な方法で正確に弁別するとともに、
簡素で経済的な構成で、より実用的な分布計測装置を提
供することができる。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、ＴＡＣ処理を講じず、
片道１系統の光検出系の単純で簡便な構成で、経済的か
つ実用的な放射線強度分布計測を提供することができ
る。また、本発明により、放射線計測の不感時間を５０
％以上向上する高性能放射線強度分布計測装置を実現で
きる。
片道１系統の光検出系の単純で簡便な構成で、経済的か
つ実用的な放射線強度分布計測を提供することができ
る。また、本発明により、放射線計測の不感時間を５０
％以上向上する高性能放射線強度分布計測装置を実現で
きる。
【図１】本発明の放射線強度分布測定装置の構成を示す
図である。
図である。
【図２】測定回路を示すブロック図である。
【図３】放射線強度分布計測システムの構成例を示す図
である。
である。
【図４】本発明の放射線強度分布測定装置の変形例を示
す図である。
す図である。
【図５】本発明の放射線強度分布測定装置の変形例を示
す図である。
す図である。
【図６】本発明の放射線強度分布測定装置の変形例を示
す図である。
す図である。
【図７】本発明の放射線強度分布測定装置の変形例を示
す図である。
す図である。
【図８】放射線強度分布測定装置の変形例を示す図であ
る。
る。
【図９】計測回路内に設ける遅延同期回路の変形例を示
す図である。
す図である。
【図１０】従来の放射線分布計測装置の構成例を示す図
である。
である。
１…放射線センサ、２，３０，５０…シンチレータ、
３，３１，５４…波長変換ファイバ、４，５，６，５１
…光ファイバ、７，５３ａ，５３ｂ…光検出系、８…測
定回路系、９，１３…ダブルパルス、１０…前置増幅
器、１１…線形増幅器、１２…デイスクリミネータ、１
４，５５…遅延回路、１５…遅延回路を通過しないパル
ス、１６…同期回路、１７…センサアドレスのメモリ
ー、２０，３３…幹線ファイバ、２１…データ処理装
置、２２…放射線分布表示装置、３２…遅延ファイバ、
４０…シンチレーションファイバ、４１…光反射器、４
２…カップラ、５２…時間波高変換器、６０…シフトレ
ジスタ、６１，６２…ＡＮＤ回路、６３…メモリレジス
タ。
３，３１，５４…波長変換ファイバ、４，５，６，５１
…光ファイバ、７，５３ａ，５３ｂ…光検出系、８…測
定回路系、９，１３…ダブルパルス、１０…前置増幅
器、１１…線形増幅器、１２…デイスクリミネータ、１
４，５５…遅延回路、１５…遅延回路を通過しないパル
ス、１６…同期回路、１７…センサアドレスのメモリ
ー、２０，３３…幹線ファイバ、２１…データ処理装
置、２２…放射線分布表示装置、３２…遅延ファイバ、
４０…シンチレーションファイバ、４１…光反射器、４
２…カップラ、５２…時間波高変換器、６０…シフトレ
ジスタ、６１，６２…ＡＮＤ回路、６３…メモリレジス
タ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 海原 明久 茨城県日立市大みか町五丁目２番１号 株 式会社日立製作所大みか工場内 (72)発明者 渋谷 徹 茨城県日立市大みか町五丁目２番１号 株 式会社日立製作所大みか工場内
Claims (2)
- 【請求項１】放射線の入射でシンチレーション光を発生
する放射線センサと、そのシンチレーション光を光伝送
ファイバで伝送収集する光検出系と、その光検出系に接
続された計測回路及びその演算表示装置からなる放射線
強度分布計測装置において、前記光検出系に一定時間の
遅延ファイバを設け一定時間幅を持ったダブルパルス光
あるいはダブルパルスの複合パルス光を発生させ、その
ダブルパルス光の時間間隔あるいはそのダブルパルスの
複合パルス幅から放射線センサを識別する回路を設けて
なる放射線強度分布計測装置。 - 【請求項２】請求項１において、放射線の入射で波長変
換ファイバあるいはシンチレーションファイバで両方向
に発光伝送する一方の伝送路に遅延ファイバを設け、そ
の終端を他の一方の発光を伝送する光伝送系に接続して
なる放射線強度分布計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23491996A JP3309728B2 (ja) | 1996-09-05 | 1996-09-05 | 放射線強度分布計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23491996A JP3309728B2 (ja) | 1996-09-05 | 1996-09-05 | 放射線強度分布計測装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1082861A true JPH1082861A (ja) | 1998-03-31 |
| JP3309728B2 JP3309728B2 (ja) | 2002-07-29 |
Family
ID=16978348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23491996A Expired - Lifetime JP3309728B2 (ja) | 1996-09-05 | 1996-09-05 | 放射線強度分布計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3309728B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003014716A3 (en) * | 2001-08-06 | 2003-11-06 | Hrl Lab Llc | System, assembly and methods for sensing |
Citations (8)
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| US3978337A (en) * | 1975-01-29 | 1976-08-31 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Three-dimensional time-of-flight gamma camera system |
| JPS60218934A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-01 | Hitachi Ltd | γ線計測装置 |
| JPH05249247A (ja) * | 1992-03-09 | 1993-09-28 | Hamamatsu Photonics Kk | シンチレーション検出装置 |
| JPH0659044A (ja) * | 1992-06-12 | 1994-03-04 | Fujitsu Ltd | 電磁波検出装置 |
| JPH07311269A (ja) * | 1994-03-23 | 1995-11-28 | Toshiba Corp | 放射線測定装置 |
| JPH0894758A (ja) * | 1994-09-26 | 1996-04-12 | Mitsubishi Electric Corp | シンチレーションファイバを用いた分布型検出器 |
| JPH08248140A (ja) * | 1995-03-15 | 1996-09-27 | Toshiba Corp | 放射線測定システム |
| JPH0990047A (ja) * | 1995-09-19 | 1997-04-04 | Hitachi Ltd | 放射線強度分布測定装置 |
-
1996
- 1996-09-05 JP JP23491996A patent/JP3309728B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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|---|---|---|---|---|
| WO2003014716A3 (en) * | 2001-08-06 | 2003-11-06 | Hrl Lab Llc | System, assembly and methods for sensing |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3309728B2 (ja) | 2002-07-29 |
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