JPH1076595A - 積層フィルムおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
に、下式（ａ）を満たすシリコンマグネシウム複合酸化
物薄膜層を有してなることを特徴とする積層フィルム。 ２．１≦Ｄ−０．０１１Ｗ≦２．３ （ａ） 〔式中、Ｄはシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層の
比重を、Ｗはシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層中
の酸化マグネシウム含有率（重量％）を示す。〕 【効果】 本発明の積層フィルムは、優れた層間密着力
およびガスバリア性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、その表面に透明電
極を形成させるための積層フィルムおよびその製造方
法、特に液晶セルや液晶表示パネル製造のために用いら
れる積層フィルムおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在の液晶表示パネル用の基板にはガラ
ス基板が使用されており、携帯型情報端末機やパームト
ップコンピューター等の表示部としての使用には適して
いる。しかし、ガラス基板は、重い、破損しやすい、薄
型にできない、曲がらない等の欠点を有している。その
ため、軽量化、薄型化、ペン入力時に破損しにくいこと
が要求される用途の液晶表示パネルには、ガラス基板を
用いると不都合な点が多い。そこで最近では、ガラス基
板に代わり、プラスチックフィルム基板を用いた液晶表
示パネルが実用化されつつある。

【０００３】液晶表示パネル用基板としてプラスチック
フィルム基板を用いる場合には、以下の特性が要求され
る。 １．可視光領域において透明であること。 ２．表面が平滑であり、かつ硬いこと。 ３．光等方性を有すること。 ４．液晶表示パネルの製造工程に耐え得る１００℃以上
の耐熱性を有すること。 ５．液晶表示パネルの製造工程に使用する薬品に耐える
こと。 ６．液晶表示パネルの製造工程中にかかるストレスに対
して、層間剥離しないこと。 ７．ガスバリア性が十分であること。 ８．優れた防湿性を有すること。 ９．耐液晶性を有すること。

【０００４】このような要求特性を満足するために、プ
ラスチックフィルムの少なくとも片面にアンカーコート
層を形成し、この上にエチレン−ビニルアルコール共重
合体もしくはポリビニルアルコールからなる層を形成
し、さらに硬化性樹脂硬化物層を積層した積層フィルム
（特開昭６１−８６２５２号公報）；プラスチックフィ
ルムの少なくとも片面に塩化ビニリデン樹脂からなる層
を形成し、さらに硬化性樹脂硬化物層を積層した積層フ
ィルム（特開昭６０−１３４２１５号公報）；プラスチ
ックフィルムの少なくとも片面に蒸着法によるＳｉＯ_x
（ただし、１＜ｘ＜２）薄膜層と硬化性樹脂硬化物層と
を積層した積層フィルム（特開平６−１７５１４３号公
報）等が知られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開昭６１−８６２５２号公報や特開昭６０−１３４２
１５号公報に記載の積層フィルムは、プラスチックフィ
ルム上にエチレン−ビニルアルコール共重合体（接着性
に関与する官能基が少ない）や硬化性樹脂硬化物等をコ
ーティングしており、それぞれの層間の密着力は不十分
である。そのため、液晶表示パネルの製造工程中にかか
るストレスにより、これらの積層フィルムは層間剥離を
生じてしまうことがあり、液晶表示パネル製造の歩留り
を低いものにしていた。

【０００６】また、エチレン−ビニルアルコール共重合
体もしくはポリビニルアルコールからなる層を用いたも
のは、ガスバリア性および防湿性が十分満足できるもの
ではない。このような積層シートを用いた液晶表示パネ
ルは、液晶が劣化して駆動電力が増加したり、長時間使
用後に液晶表示部に黒色の泡が発生してしまい使用不可
能となる。

【０００７】特開昭６０−１３４２１５号公報に記載の
ような塩化ビニリデン樹脂は、ガスバリア性、防湿性が
不十分であるばかりでなく、紫外線により劣化し、黄色
に着色するため、液晶表示パネルに用いるには適さな
い。

【０００８】特開平６−１７５１４３号公報に記載のよ
うなＳｉＯ_x （ただし、１＜ｘ＜２）薄膜を用いたもの
は、その着色のために液晶表示パネルには不適である。
さらに通常の蒸着法で作製したＳｉＯ_x （ただし、１＜
ｘ＜２）薄膜は、下地であるプラスチックフィルムとの
密着力が十分ではなく、この積層フィルムは層間剥離を
生じてしまうことがあり、液晶表示パネル製造の歩留り
を低いものにしていた。

【０００９】本発明は、このような背景下において、層
間密着力およびガスバリア性が顕著に改善された積層フ
ィルム、（特に透明電極形成用の積層フィルム、液晶セ
ルや液晶表示パネル製造のための積層フィルム）および
その製造方法を提供することを目的とするものである。

【００１０】

〔式中、Ｄはシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層の比重を、Ｗはシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層中の酸化マグネシウム含有率（重量％）を示す。〕

【００１１】また、本発明は、シリコンマグネシウム複
合酸化物薄膜層中の酸化マグネシウム含有率が２５〜９
０重量％であることを特徴とする上記積層フィルム；シ
リコンマグネシウム複合酸化物薄膜層の厚さが３０〜８
０００Åであることを特徴とする上記積層フィルム；プ
ラスチックフィルムのリターデーション値が３０ｎｍ以
下または５０００ｎｍ以上であることを特徴とする上記
積層フィルムに関する。

【００１２】さらに、本発明は、シリコンマグネシウム
複合酸化物薄膜層上に硬化性樹脂硬化物層が積層されて
なることを特徴とする上記積層フィルム；各層の層間密
着力が３００ｇ／ｉｎｃｈ以上であることを特徴とする
上記積層フィルム；酸素透過度が３cc/m² ・atm ・day
以下であることを特徴とする上記積層フィルムに関す
る。

【００１３】また、本発明は、シリコンマグネシウム複
合酸化物薄膜層を、５×１０^-5Ｔｏｒｒ以下の水蒸気
分圧中で電子ビーム蒸着法で製膜する工程、あるいは
イオンビームを照射しながら電子ビーム蒸着法で製膜す
る工程を含むことを特徴とする上記積層フィルムの製造
方法に関する。

【００１４】さらに、本発明は、上記積層フィルムの表
面に透明電極を有してなることを特徴とする電極基板；
上記積層フィルムを有してなる液晶セル；上記積層フィ
ルムを有してなる液晶表示パネルに関する。

【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１６】プラスチックフィルムとしては、例えば、
ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リエステルフィルム、ポリ−４−メチルペンテンフィル
ム、ポリフェニレンオキサイドフィルム、ポリアミドイ
ミドフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリア
リレートフィルム、アモルファスポリオレフィン、ノル
ボルネン系ポリマーフィルム、ポリビニルアルコールフ
ィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィル
ム、セルロースフィルム（セルローストリアセテート、
セルロースジアセテート、セルロースアセテートプチレ
ート等）等が挙げられる。好ましくはポリカーボネート
フィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリエーテルス
ルホンフィルム、ポリアリレートフィルム、ノルボルネ
ン系ポリマーフィルムである。また、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィル
ム等の一軸延伸フィルム等も用いることができる。さら
に、当該プラスチックフィルムは単層でも、複層にして
もよい。

【００１７】当該プラスチックフィルムのリターデーシ
ョン値は、好ましくは３０ｎｍ以下または５０００ｎｍ
以上、より好ましくは０．２〜２０ｎｍまたは８０００
〜４００００ｎｍである。リターデーション値が３０ｎ
ｍ以下であれば、液晶表示パネルに用いた際に、可視光
線の干渉縞が生じることがなく、表示品位が良好であ
る。また、５０００ｎｍ以上であれば、可視光線領域に
おいて干渉縞の間隔が十分に広がるため、液晶表示パネ
ル内に干渉縞が現れず、表示品位が良好である。

【００１８】リターデーション値とは、フィルム上の直
交する二軸の屈折率の異方性（△Ｎ＝Ｎx −Ｎy ）〔Ｎ
x ：最大屈折率を有する軸方向の屈折率、Ｎy ：Ｎx 軸
に対して垂直軸の屈折率〕と、フィルム厚さｄとの積
（△Ｎ×ｄ）を意味する。

【００１９】当該リターデーション値は、エリプソメー
タ（AEP-100B、（株）島津製作所製）を用いて測定した
ものである。なお、リターデーション値は、プラスチッ
クフィルムを製膜する速度および温度等により調節する
ことができる。延伸フィルムの場合には、延伸倍率によ
っても調節することができる。

【００２０】また、プラスチックフィルムの可視光線透
過率は、液晶表示パネルの視認性の点から、好ましくは
７５％以上、より好ましくは８０％以上である。当該可
視光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠した積分
球式光線透過率測定装置（NDH-1001DP、日本電色工業
（株）製）を用いて測定したものである。なお、可視光
線透過率は、プラスチックフィルム製膜時の熱処理温度
を変化させること等により調節することができる。

【００２１】プラスチックフィルムは、機械的強度の点
から、引張強度が２００kgf/cm² 以上、引張伸度が５％
以上であることが好ましい。

【００２２】プラスチックフィルムは、機械的強度が十
分で、かつ薄いことが好ましい点から、その厚さは５０
〜５００μｍが好ましい。当該厚さはミリトロン1254D
（Mahr社製）を用いて測定したものである。なお、厚さ
は、押出機からの吐出量やプラスチックフィルム製膜時
のフィルム送り速度を変えること等により調節すること
ができる。

【００２３】当該プラスチックフィルムは、一般的には
流延法（コーティング法）で製膜することにより得られ
るが、押出法等、他の成形法を用いることもできる。な
お、リターデーション値、可視光線透過率等が上記範囲
を満足するように製膜条件を設定することが好ましい。

【００２４】本発明において用いられるシリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層は、下式（ａ）を満たすことが
必要である。 ２．１≦Ｄ−０．０１１Ｗ≦２．３ （ａ） 〔式中、Ｄはシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層の
比重を、Ｗはシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層中
の酸化マグネシウム含有率（重量％）を示す。〕好まし
くは２．１５≦Ｄ−０．０１１Ｗ≦２．３である。

【００２５】Ｄ−０．０１１Ｗ＜２．１であれば、ガス
バリア性、層間密着力が不十分となる。また、後述する
ように、Ｄ−０．０１１Ｗ＞２．３となることはない。

【００２６】ところで、通常の溶融急冷法により作成さ
れたバルクのシリコンマグネシウム複合酸化物ガラス
（以下バルクのガラスともいう）は、理想的な三次元網
目構造を有し、高い比重を有する。これは、溶融急冷法
では、真空蒸着法やスパッタリング法等の薄膜作成法に
比べて、はるかに遅い速度で複合酸化物が形成されるか
らである（しかし、溶融急冷法で作成された複合酸化物
はバルクとなり、薄膜とはならない）。このようなバル
クのガラスは、その理想的な三次元網目構造のため、高
いガスバリア性を有する。また、当該バルクのガラス表
面には、シラノール基等の反応基が多数存在し、密着性
にも影響を与える。そこで、シリコンマグネシウム複合
酸化物薄膜層の物性をバルクのガラスの物性に近づける
ことが好ましい。

【００２７】なお、溶融急冷法により作成されたバルク
のシリコンマグネシウム複合酸化物ガラスにおいては、
そのＤおよびＷの関係が、Ｄ−０．０１１Ｗ＝２．３で
表されることが、『ガラスハンドブック；１９８７年；
作花、境野、高橋編；朝倉書店』に記載されている。ま
た、シリコンマグネシウム複合酸化物においては、当該
複合酸化物がどのような方法で作成され、どのような状
態である場合にも、Ｄ−０．０１１Ｗの最大値は２．３
であることも記載されている。

【００２８】つまり、式（ａ）を満たすシリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層は、本発明の積層フィルムにガ
スバリア性を付与し、各層間密着力（後述するように、
プラスチックフィルムと薄膜層との密着力、薄膜層と硬
化物層の密着力）を向上させることができる。また、防
湿性、耐薬品性、耐熱性、耐液晶性等を付与することも
できる。

【００２９】ここで、本発明でいう比重とは、ある温度
で、ある体積を占める物質の質量と、それと同体積の標
準物質（４℃における水）の質量との比をいう。

【００３０】比重の測定は、通常物体の質量と体積を測
り、同体積の４℃の水の質量との比を求めればよいが、
本発明における薄膜では体積の測定が困難である。そこ
で、本発明においては、シリコンマグネシウム複合酸化
物薄膜層の比重（Ｄ）は、プラスチックフィルム／シリ
コンマグネシウム複合酸化物薄膜層の積層フィルムか
ら、プラスチックフィルムのみを溶媒で溶解させること
により、薄膜のみからなる単独膜の状態とした後、ＪＩ
Ｓ Ｋ ７１１２の浮沈法により測定したものである。
つまり、試料を比重既知の溶液（四塩化炭素とヨウ化メ
チレンの混合液）の中に浸漬させ、その浮沈状態から薄
膜の比重を測定する。

【００３１】なお、当該比重は、後述するように製膜条
件等により調節することができる。例えば、シリコンマ
グネシウム複合酸化物薄膜層を電子ビーム蒸着法で製膜
する場合、水蒸気分圧を５×１０^-5Ｔｏｒｒ以下とす
るか、あるいはイオンビームを照射しながら製膜する
こと等により調節することができる。

【００３２】シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層
（これを１００重量％とする）中の酸化マグネシウムの
含有率（Ｗ）は、好ましくは２５〜９０重量％、より好
ましくは３０〜８０重量％である。この酸化マグネシウ
ムの含有率が２５重量％未満の場合、本発明の積層フィ
ルムのガスバリア性が十分でなくなり易い傾向があり、
９０重量％を越える場合、可撓性が不十分となり易い傾
向がある。

【００３３】当該酸化マグネシウムの含有率とは、薄膜
中のシリコン（Ｓｉ）とマグネシウム（Ｍｇ）の原子比
をＩＣＰ発光分析装置（ICPS-2000;（株）島津製作所
製）で求め、シリコンとマグネシウムとが完全酸化物
（ＳｉＯ₂ 、ＭｇＯ）であると仮定して、完全酸化マグ
ネシウムの含有率を算出した値である。なお、酸化マグ
ネシウムの含有率は、例えば電子ビーム蒸着法において
製膜する際に、電子ビームの加熱時間比を変えること等
により調節することができる。

【００３４】上記シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜
層の製膜方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法（物理
的蒸着法）、あるいはＣＶＤ法（化学的蒸着法）等が挙
げられる。生産性の点からは真空蒸着法が好ましいが、
下地であるプラスチックフィルムとの密着力向上のため
には電子ビーム蒸着法が好ましい。

【００３５】シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層を
製膜する際の蒸着材料としては、Ｍｇ、ＭｇＯ、Ｓｉ、
ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 等が挙げられる。

【００３６】以下、電子ビーム蒸着法で製膜する場合に
ついて説明する。電子ビーム蒸着法で製膜する際の蒸着
材料としては、好ましくはＭｇＯとＳｉＯ₂ や、Ｍｇと
ＳｉＯ₂ 等が用いられる。

【００３７】電子ビーム蒸着法で製膜する際、その圧力
は３×１０^-4Ｔｏｒｒ以下であることが好ましい。ま
た、この圧力中の水蒸気分圧が５×１０^-5Ｔｏｒｒ以下
であることが好ましく、より好ましくは４×１０^-5Ｔｏ
ｒｒ以下である。水蒸気分圧が５×１０^-5Ｔｏｒｒを越
える場合は、複合酸化物薄膜の比重が低く、ガスバリア
性が十分ではなく、またプラスチックフィルムとの密着
力も不十分となり易い傾向がある。また、圧力が３×１
０^-4Ｔｏｒｒを越える場合も、同様のことがいえる。

【００３８】なお、水蒸気分圧が上がると、蒸着粒子と
水分子とが衝突し、薄膜中に水を含有するようになる。
その結果、薄膜の三次元網目構造が不均一になり、比重
が低下する。この構造不均一のために、ガスバリア性が
良好でなくなる。また、蒸着粒子と水分子が衝突するこ
とにより、蒸着粒子のエネルギーが失われ、プラスチッ
クフィルム表面との結合（密着力）が弱くなる。

【００３９】圧力は、電離真空計（MIG-821 、日電アネ
ルバ（株）製）を用いて測定したものである。また、水
蒸気分圧は、残留ガス分析計（AQA-100R、日電アネルバ
（株）製）を用いて測定したものである。なお、圧力、
水蒸気分圧はそれぞれ、真空排気時間を変えたり、水蒸
気を優先的に排気できるクライオパネルを用いること等
により調節することができる。

【００４０】また、イオンビームを照射しながら電子ビ
ーム蒸着法で製膜することによっても、シリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層の比重を上げることができ、プ
ラスチックフィルムとシリコンマグネシウム複合酸化物
薄膜層の密着力を向上させることができる。

【００４１】イオンビームのイオン種としては、アルゴ
ン、ヘリウム、クリプトン等の希ガスや酸素等の反応性
ガス等が好適に挙げられる。

【００４２】イオンビーム電流密度は０．０２〜５．０
ｍＡ／ｃｍ² 、イオンビームエネルギーは３０〜３００
０Ｖの範囲が好ましい。イオンビーム電流密度が０．０
２ｍＡ／ｃｍ² 未満ではイオンビーム照射の効果（蒸着
粒子のエネルギーを高める効果）が発揮されにくい傾向
があり、５．０ｍＡ／ｃｍ² を越えると照射量が多す
ぎ、下地であるプラスチックフィルムが熱変形し易い傾
向がある。また、イオンビームエネルギーが３０Ｖ未満
ではイオンビーム照射の効果が発揮されにくい傾向があ
り、３０００Ｖを越えるとエネルギーが高すぎ、プラス
チックフィルムが熱変形し易い傾向がある。

【００４３】以上のような条件で製膜する（電子ビーム
蒸着法で製膜する場合、水蒸気分圧を５×１０^-5Ｔｏ
ｒｒ以下とするか、あるいはイオンビームを照射しな
がら製膜する）と、蒸着粒子のエネルギーが非常に高
く、プラスチックフィルムとシリコンマグネシウム複合
酸化物薄膜層の界面に混合層が形成される（プラスチッ
クフィルムと薄膜層との間に物理的結合が生じる）と考
えられる。このために、プラスチックフィルムとシリコ
ンマグネシウム複合酸化物薄膜層の密着力は非常に強く
なり、３００ｇ／ｉｎｃｈ以上の値を示す。

【００４４】また、プラスチックフィルムの温度を上げ
たり（加熱）下げたり（冷却）してもよい。

【００４５】シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層の
厚さは、特に限定されるものではないが、好ましくは３
０〜８０００Å、より好ましくは７０〜５０００Åであ
る。厚さが３０Å未満の場合、本発明の積層フィルムの
ガスバリア性が不十分となり易い傾向があり、８０００
Åを越える場合、可撓性が不十分となり易い傾向があ
る。

【００４６】当該薄膜層の厚さは、薄膜中のシリコンと
マグネシウムの原子比をＩＣＰ発光分析装置（ICPS-200
0;（株）島津製作所製）で求め、シリコンとマグネシウ
ムとが完全酸化物（ＳｉＯ₂ 、ＭｇＯ）であると仮定
し、これら（ＳｉＯ₂ とＭｇＯ）のバルク比重を用いて
算出したものである。なお、厚さは、例えば電子ビーム
蒸着法において製膜する際に、電子ビームの投入電力を
変えたり、プラスチックフィルムの送り速度を変えるこ
と等により調節することができる。

【００４７】上記シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜
層中には、特性が損なわれない範囲で微量（全成分に対
して５重量％くらいまで）の他の成分を含有してもよ
い。また、シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜の結晶
性は、その特性を損なわない限り、光学的等方性の点か
ら、非晶質状態であることが好ましい。

【００４８】本発明の積層フィルムにおいては、上記シ
リコンマグネシウム複合酸化物薄膜層上に、さらに硬化
性樹脂硬化物層を積層させることができる。硬化性樹脂
硬化物層を設けることにより、本発明の積層フィルムを
液晶パネルに用いた場合、シリコンマグネシウム複合酸
化物薄膜層は液晶によりさらに劣化されにくくなる。

【００４９】硬化性樹脂硬化物層としては、例えば、加
熱硬化型樹脂（フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポ
キシ系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルシリコーン樹
脂、シリコーン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、メラミン
系樹脂、フェノール系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹
脂等）、紫外線硬化型樹脂（紫外線硬化型アクリル系樹
脂、ポリアミドイミド系樹脂、ホスファゼン系樹脂
等）、電子線硬化型樹脂等からなる硬化物層が挙げられ
る。

【００５０】硬化性樹脂硬化物層は、後述のようなウエ
ットプロセスでの製膜が容易で、かつ薄いことが好まし
い点から、その厚さは０．５〜５０μｍが好ましい。当
該硬化物層の厚さは、ミリトロン1254D （Mahr社製）を
用いて測定したものである。なお、厚さは、ダイからの
硬化性樹脂組成物の吐出量やフィルム送り速度を変える
こと等により調節することができる。

【００５１】この硬化性樹脂硬化物層も光等方性を有す
ることが好ましい。

【００５２】硬化性樹脂硬化物層を形成させる場合に
は、形成した硬化性樹脂硬化物層の表面粗度（シリコン
マグネシウム複合酸化物薄膜層と接していない表面にお
ける表面粗度）を、好ましくはＲmax で０．５μｍ以
下、Ｒa で０．０１μｍ以下、より好ましくはＲmax で
０．２μｍ以下、Ｒa で０．００７μｍ以下、さらに好
ましくはＲmax で０．１μｍ以下、Ｒa で０．００５μ
ｍ以下となるようにすることが望ましい。表面粗度を上
記範囲内にすれば、本発明の積層フィルムを液晶表示パ
ネルに用いた場合、表示品質が良好である。

【００５３】なお、本発明の積層フィルムにおける最外
層が上記表面粗度を満たすことが好ましく、硬化物層を
形成させない場合は、薄膜層が当該値を満たすことが好
ましい。

【００５４】Ｒmax とはＪＩＳ Ｂ ０６０１記載の最
大高さを、Ｒa とはＪＩＳ Ｂ ０６０１記載の中心線
平均粗さを示す。表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６５１に
準じた触針式表面粗度測定器（サーフコム304B、（株）
東京精密社製）を用いて測定したものである。

【００５５】硬化性樹脂硬化物層の表面粗度をこのよう
に小さくする方法としては、例えば、以下に述べる第１
または第２の方法が挙げられる。

【００５６】第１の方法としては、まず、プラスチック
フィルム／シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層と、
平滑化鋳型材（Ｆ）を用い、両者の間隙に、加熱硬化型
樹脂組成物、紫外線硬化型樹脂組成物または電子線硬化
型樹脂組成物をダイにより供給して、該樹脂組成物が両
者間に層状に挟持されるようにする。この場合、プラス
チックフィルム／シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜
層が一つの製膜用ロールに、平滑化鋳型材（Ｆ）がもう
一つの製膜用ロールにそれぞれ供給されるようにしてお
き、両製膜ロール間の間隙は所定の値に調整しておく。
次いで、加熱、紫外線照射または電子線照射により上記
の挟持層（硬化型樹脂組成物層）を硬化させて、プラス
チックフィルム／シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜
層／硬化性樹脂硬化物層／平滑化鋳型材（Ｆ）よりなる
積層フィルムを得る。さらに、その後の適当な段階で、
その積層フィルムから平滑化鋳型材（Ｆ）を剥離除去す
る。

【００５７】上記における平滑化鋳型材（Ｆ）は、硬化
物層の表面粗度を小さくするために用いられ、例えば、
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延
伸ポリエチレンナフタレートフィルム等の二軸延伸ポリ
エステルフィルムや、二軸延伸ポリプロピレンフィルム
等が用いられる。

【００５８】平滑化鋳型材（Ｆ）は、その表面粗度が好
ましくはＲmax で０．１５μｍ以下、Ｒa で０．００８
μｍ以下、より好ましくはＲmax で０．０５μｍ以下、
Ｒaで０．００５μｍ以下、さらに好ましくはＲmax で
０．０１μｍ以下、Ｒa で０．００２μｍ以下であるも
のを用いる。なお、当該表面粗度も上記と同様にして測
定したものである。

【００５９】第２の方法は、プラスチックフィルム／シ
リコンマグネシウム複合酸化物薄膜層、または平滑化鋳
型材（Ｆ）の一方に、加熱硬化型樹脂組成物、紫外線硬
化型樹脂組成物または電子線硬化型樹脂組成物を流延
（コーティング）しておき、該流延層上に平滑化鋳型材
（Ｆ）、またはプラスチックフィルム／シリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層を被覆させながら、ロールの間
隙により挟持層（硬化型樹脂組成物層）の厚さを制御し
つつ、加熱、紫外線照射または電子線照射によりその挟
持層を硬化させて、硬化性樹脂硬化物層となす方法であ
る。さらに、その後の適当な段階で、その積層フィルム
から平滑化鋳型材（Ｆ）を剥離除去する。

【００６０】ところで、シリコンマグネシウム複合酸化
物薄膜層が式（ａ）を満たせば、シリコンマグネシウム
複合酸化物薄膜層と硬化性樹脂硬化物層との密着力は３
００ｇ／ｉｎｃｈ以上となり、十分強い。特にＤ−０．
０１１Ｗ＝２．３の場合には、シリコンマグネシウム複
合酸化物薄膜層の比重は、バルクのガラスと同じ比重で
あり、このとき薄膜層と硬化物層の層間密着力は１００
０ｇ／ｉｎｃｈ以上の非常に強いものとなる。

【００６１】薄膜層が式（ａ）を満たせば、シリコンマ
グネシウム複合酸化物薄膜層の表面に、通常の溶融急冷
法で作成したバルクのガラスと同様に、シラノール基等
の反応基が多数存在し、この表面反応基と硬化性樹脂硬
化物とが強固に化学結合するために、硬化性樹脂硬化物
層とシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層との密着力
は極めて強くなる。

【００６２】しかしながら、複合酸化物薄膜中の酸化マ
グネシウムの含有率が同じ薄膜においても、シリコンマ
グネシウム複合酸化物薄膜の比重が低下するに伴い、表
面反応基数が低下する。薄膜の比重が低下する物理的意
味合いは、単位体積中に存在するシリコン、マグネシウ
ムおよび酸素の原子数が少なくなることであり、薄膜表
面においてもシリコン、マグネシウムおよび酸素の原子
数が少なくなる。このため、シリコン、マグネシウムお
よび酸素による三次元網目構造を終端している反応基
（Ｓｉ−Ｏ−Ｈ、Ｍｇ−Ｏ−Ｈ）の数が表面に少なくな
る。つまり、複合酸化物薄膜中の酸化マグネシウムの含
有率が同じでも、比重が低くなるのに伴い、薄膜層と硬
化性樹脂硬化物層との密着力は低下する。

【００６３】上記のようにして得られた本発明の積層フ
ィルム全体において、そのリターデーション値は好まし
くは３０ｎｍ以下または５０００ｎｍ以上、より好まし
くは２０ｎｍ以下または８０００ｎｍ以上であり、可視
光線透過率は好ましくは７０％以上、より好ましくは７
５％以上である。なお、積層フィルム全体を用い、前記
と同様にしてリターデーション値、可視光線透過率を測
定することができる。

【００６４】積層フィルム全体のリターデーション値、
可視光線透過率は、上記範囲内の値を有する各層（プラ
スチックフィルム、薄膜層、硬化物層）を用いること等
により、上記範囲内に調節することができる。

【００６５】当該積層フィルムの酸素透過度は、好まし
くは３cc/m² ・atm ・day 以下、より好ましくは１cc/m
² ・atm ・day 以下である。酸素透過度が３cc/m² ・at
m ・day を越えると、積層フィルムのガスバリア性が不
十分となり易い傾向がある。

【００６６】当該酸素透過度は、酸素透過度測定装置
（OX-TRAN100、モダンコントロールズ社製）を用い、２
５℃、８０％ＲＨで測定したものである。なお、酸素透
過度は、上式（ａ）を満たすようにすることにより調節
することができる。

【００６７】当該積層フィルムの各層の層間密着力は、
好ましくは３００ｇ／ｉｎｃｈ以上、より好ましくは５
００ｇ／ｉｎｃｈ以上である。いずれかの層間密着力が
３００ｇ／ｉｎｃｈ未満であると、液晶表示パネルの製
造工程中に層間剥離が生じ易くなる傾向がある。

【００６８】本発明の積層フィルムの各層の層間密着力
のうち、最も密着力の弱い層間の密着力の測定方法を以
下に示す。まず、積層フィルムの最外層（シリコンマグ
ネシウム複合酸化物薄膜層、または平滑化鋳型材を有し
ているものはこれを剥離除去した後の露出した硬化性樹
脂硬化物層）上に、ポリエステルポリウレタン系接着剤
（武田薬品（株）製：Ａ−３１０）１００部にイソシア
ネート系硬化剤（武田薬品（株）製：Ａ−３）１０部を
加えた熱硬化型接着剤を、厚さ３μｍに塗布する。この
接着剤層上に、コロナ処理を施した厚さ１００μｍの二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績
（株）製：Ｅ５１００）をラミネートし、４５℃、４日
間の条件で接着剤を硬化させる。このようにして作製し
た二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム／熱硬
化型接着剤層／積層フィルムからなる積層体において、
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムと、積層
フィルムの部分をつかみ、ＪＩＳ Ｋ ６８５４に準拠
した９０度Ｔ型剥離法にて剥離強度を測定する。上記測
定方法によれば、最も密着力の弱い層間から剥離が起こ
る。

【００６９】なお、層間密着力は、上式（ａ）を満たす
ようにすることにより調節することができる。

【００７０】本発明の積層フィルムの構造としては、例
えば、プラスチックフィルム（１１）／シリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層（１２）；（１１）／（１２）
／硬化性樹脂硬化物層（１３）；（１２）／（１１）／
（１２）；（１３）／（１２）／（１１）／（１２）／
（１３）；（１２）／（１３）／（１２）／（１１）／
（１２）／（１３）／（１２）等が挙げられる。好まし
くは（１３）／（１２）／（１１）／（１２）／（１
３）である。

【００７１】このようにして得られた本発明の積層フィ
ルムを用い、その最外層（シリコンマグネシウム複合酸
化物薄膜層または硬化性樹脂硬化物層）上に、真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の手
段により透明電極を形成して、電極基板を得ることがで
きる。

【００７２】透明電極としては、例えば、インジウムス
ズ複合酸化物、インジウム亜鉛複合酸化物、インジウム
カドミウム複合酸化物等が好適に挙げられるが、他の導
電性金属酸化物を用いることもできる。

【００７３】透明電極の厚さは、好ましくは１００〜３
０００Åである。厚さが１００Å未満の場合は導電性が
十分ではなくなり易い傾向があり、３０００Åを越える
場合は透明性が損なわれ易い傾向がある。

【００７４】液晶分子の配向のために、必要に応じて、
形成した透明電極の上に配向膜を形成させることができ
る。配向膜としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリア
ミドイミド樹脂等が挙げられる。

【００７５】さらに、このようにして作製した電極基板
２枚を、それぞれの透明電極側が対向する状態で所定の
間隔をあけて配置すると共に、その間隙に液晶を封入
し、その周囲をシール材でシールすると、液晶セルが得
られる。シール材としては、例えば、エポキシ樹脂等が
挙げられる。

【００７６】液晶表示パネルは、上記液晶セルの片面に
偏光板を、他面に位相差板を介して偏光板を積層するこ
とにより作製する。なお、位相差板を省略したり、位相
差板に代えて補償用液晶セルを用いることもできる。ま
た、上記電極基板は、偏光板または位相差板と一体化さ
せた一体型基板とすることもできる。

【００７７】図１は、本発明の積層フィルムの一例を模
式的に示した断面図である。図２は、積層フィルムに透
明電極を付した電極基板の一例を模式的に示した断面図
である。図３は、電極基板を用いて作製した液晶セルの
一例を模式的に示した断面図である。図４は、液晶セル
を用いて作製した液晶表示パネルの一例を模式的に示し
た断面図である。

【００７８】

【実施例】次に実施例を挙げて本発明をより詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以
下、「部」とあるのは重量部のことを示す。

【００７９】実施例１（１−１〜１−３） プラスチックフィルム（１１）としてポリアリレートフ
ィルムを用いた。このプラスチックフィルムは、塩化メ
チレンを溶媒とする２０重量％濃度のポリアリレート溶
液から流延法により製膜した。厚さは７５μｍ、リター
デーション値は５ｎｍ、可視光線透過率は９１％であっ
た。

【００８０】このプラスチックフィルム（１１）上に、
シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）を電子
ビーム蒸着法で製膜した。この時、蒸着材料として、３
〜５ｍｍの大きさの粒子状のＭｇＯ（純度９９．５％）
とＳｉＯ₂ （純度９９．９％）を用いた。これらの蒸着
材料は混合せずに、水冷銅ハース内を水冷した銅製の板
で２つに仕切り、加熱源として一台の電子銃を用い、Ｍ
ｇＯとＳｉＯ₂ のそれぞれを時分割で加熱した。その時
の電子銃のエミッション電流は２．５Ａとし、薄膜中の
酸化マグネシウムの含有率を変化させるために、加熱時
間比を表１のように変えた。また、酸素ガスを２０sccm
供給し、センターロール温度は−１５℃、フィルム送り
速度は１２０ｍ／分とした。さらに、真空排気装置とし
て油拡散ポンプとクライオパネルを用いた。これによ
り、蒸着時の圧力は２．５×１０^-4Ｔｏｒｒ、水蒸気分
圧は３×１０^-5Ｔｏｒｒであった。以上のような製膜条
件で、膜厚２００Åのシリコンマグネシウム複合酸化物
薄膜層（１２）を製膜した。また、当該薄膜の比重を測
定し、その結果を表１に示した。

【００８１】わずかの間隔をあけて平行に配置した一対
の製膜ロールの一方に、上記で得られた積層フィルム
（プラスチックフィルム（１１）上にシリコンマグネシ
ウム複合酸化物薄膜層（１２）を積層したフィルム）を
供給しながら走行させ、もう一方の製膜ロールには平滑
用鋳型剤（Ｆ）として、厚さ５０μｍ、表面粗度Ｒa ＝
０．００４μｍ、Ｒmax ＝０．０５μｍのコロナ処理し
ていない二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム
（東洋紡績（株）製：Ａ４１００）をその平滑面が上面
となるように供給しながら走行させた。この両製膜用ロ
ールの間隙に向けて、エポキシアクリル樹脂１００部に
ベンゾフェノン４部を加えた紫外線硬化型樹脂組成物
を、ダイから吐出した。吐出された紫外線硬化型樹脂組
成物は、プラスチックフィルム（１１）のシリコンマグ
ネシウム複合酸化物薄膜層（１２）形成側の面と、平滑
化鋳型材（Ｆ）の平滑面との間に挟持されたので、この
状態で走行させながら、高圧水銀灯、２００ｗ／ｃｍ、
１灯、照射時間１０秒、水銀灯と平滑化鋳型材（Ｆ）と
の距離２００ｍｍの条件で紫外線照射した。これにより
挟持層は硬化し、厚さ２０μｍの硬化性樹脂硬化物層
（１３）となった。

【００８２】プラスチックフィルム（１１）の他面にも
上記と同様の操作を実施し、厚さ２００Åのシリコンマ
グネシウム複合酸化物薄膜層（１２）と厚さ２０μｍの
硬化性樹脂硬化物層（１３）を形成させた。これによ
り、平滑化鋳型材（Ｆ）／硬化性樹脂硬化物層（１３）
／シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）／プ
ラスチックフィルム（１１）／シリコンマグネシウム複
合酸化物薄膜層（１２）／硬化性樹脂硬化物層（１３）
／平滑化鋳型材（Ｆ）の層構成を有する積層フィルムが
得られた。次いで、平滑化鋳型材（Ｆ）を剥離除去し、
（１３）／（１２）／（１１）／（１２）／（１３）の
層構成を有する積層フィルム（１）を得た〔図１参
照〕。

【００８３】硬化性樹脂硬化物層（１３）の表面粗度
は、いずれもＲa ＝０．００５μｍ以下、Ｒmax ＝０．
１μｍ以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、
そのリターデーション値は５ｎｍ、可視光線透過率は８
４％、厚さは１１５μｍであった。積層フィルム（１）
の層間密着力（剥離強度）を測定し、その結果を表１に
示した。いずれも十分強い剥離強度を示し、剥離界面は
硬化性樹脂硬化物層（１３）とシリコンマグネシウム複
合酸化物薄膜層（１２）の界面であった。この結果よ
り、本発明の積層フィルム（１）は十分強い層間密着力
を有していた。積層フィルム（１）のガスバリア性を評
価するために、酸素透過度を測定した。結果は表１に示
したとおり、極めて高いガスバリア性を示した。

【００８４】次いで、片方の硬化性樹脂硬化物層（１
３）の上に、スパッタリング法により、厚さ５００Åの
インジウムスズ複合酸化物からなる透明電極（２）を形
成し、電極基板（５）〔透明電極（２）付きの積層フィ
ルム（１）〕を得た〔図２参照〕。この透明電極（２）
の表面抵抗率は１００Ω／□であった。

【００８５】液晶セル（６）は、上記電極基板（５）の
透明電極（２）面に、配向膜を形成した後、電極基板
（５）２枚をそれぞれの透明電極（２）が対向する状態
で所定の間隔をあけて配置すると共に、その間隙に液晶
（３）を封入し、周囲をシール材（４）でシールするこ
とにより作製した〔図３参照〕。

【００８６】液晶表示パネル（７）は、この片面に偏光
板（８）、他面に位相差板（９）を介して偏光板（８）
を積層することにより作製した〔図４参照〕。このよう
にして製作された液晶表示パネルは、積層フィルム
（１）の層間密着力が十分強いため、製造プロセス中に
積層フィルム（１）が層間剥離をすることはなかった。

【００８７】比較例１（１−１〜１−３） 実施例１と同様のポリアリレートフィルムをプラスチッ
クフィルム（１１）として用い、この上にシリコンマグ
ネシウム複合酸化物薄膜層（１２）を形成した。その
際、真空排気装置としてクライオパネルを用いず、油拡
散ポンプのみを用いた以外は実施例１と同様にして、厚
さ２００Åのシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層
（１２）を形成した。このとき、圧力は５×１０^-4Ｔｏ
ｒｒ、水蒸気分圧は１．０×１０^-4Ｔｏｒｒであった。
また、薄膜の比重を測定し、その結果を表１に示した。

【００８８】このプラスチックフィルム（１１）／シリ
コンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）の積層フィ
ルムの薄膜層（１２）上に、実施例１と同様にして硬化
性樹脂硬化物層（１３）を形成した。また、プラスチッ
クフィルム（１１）の他面にも上記と同様の手法で、シ
リコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）と硬化性
樹脂硬化物層（１３）を積層し、積層フィルム（１）を
得た。

【００８９】硬化性樹脂硬化物層（１３）の表面粗度
は、いずれもＲa ＝０．００５μｍ以下、Ｒmax ＝０．
１μｍ以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、
そのリターデーション値は５ｎｍ、可視光線透過率は８
４％、厚さは１１５μｍであった。上記積層フィルム
（１）の層間密着力（剥離強度）を測定し、結果を表１
に示した。いずれも剥離強度は低かった。剥離界面は、
いずれも硬化性樹脂硬化物層（１３）とシリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層（１２）の界面であった。上記
積層フィルム（１）の酸素透過度の測定結果を表１に示
すが、液晶表示パネルに使用するのには不十分であっ
た。

【００９０】上記積層フィルム（１）上に実施例１と同
様の透明電極（２）を形成した後、実施例１と同様にし
て液晶表示パネル（７）を作製した。しかし、積層フィ
ルム（１）の層間密着力が不十分であるため、製造プロ
セス中に積層フィルム（１）が層間剥離することがあっ
た。

【００９１】実施例２（２−１〜２−４） プラスチックフィルム（１１）としてポリアミドイミド
フィルムを用いた。厚さは１００μｍ、リターデーショ
ン値は５ｎｍ、可視光線透過率は９０％であった。

【００９２】このプラスチックフィルム（１１）の片面
に、シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）
を、イオンビームを照射しながら電子ビーム蒸着法で製
膜した。この時、蒸着材料として、３〜５ｍｍの大きさ
の粒子状のＭｇＯ（純度９９．５％）とＳｉＯ₂ （純度
９９．９％）を用いた。これらの蒸着材料は混合せず
に、水冷銅ハース内を水冷した銅製の板で２つに仕切
り、加熱源として一台の電子銃を用い、ＭｇＯとＳｉＯ
₂ のそれぞれを時分割で加熱した。その時の電子銃のエ
ミッション電流は２．６Ａとし、薄膜中の酸化マグネシ
ウムの含有率を変化させるために、加熱時間比を表２の
ように変えた。また、酸素ガスを５sccm供給し、センタ
ーロール温度は−１５℃、フィルム送り速度は１８０ｍ
／分とした。真空排気装置として油拡散ポンプを用い
た。この時の圧力は４．５×１０^-4Ｔｏｒｒ、水蒸気分
圧は８×１０^-5Ｔｏｒｒであった。なお、イオンビーム
のイオン種として、酸素イオンを用い、イオンビーム電
流密度１．０ｍＡ／ｃｍ² 、イオンビームエネルギーを
２００Ｖとした。またプラスチックフィルム（１１）へ
のイオンビームの入射角は４５度とした。以上のような
製膜条件のもとで、厚さ３００Åのシリコンマグネシウ
ム複合酸化物薄膜層（１２）を積層した。また、当該薄
膜の比重を測定し、その結果を表２に示した。

【００９３】フェノキシエーテル樹脂３５部、メチルエ
チルケトン３５部、セロソルブアセテート３０部、トリ
レンジイソシアネートとトリメチロールプロパンとのア
ダクト体の７５％溶液（日本ポリウレタン工業（株）製
のコロネートＬ）５０部からなる組成の硬化性樹脂組成
物を用意した。次いで、上記シリコンマグネシウム複合
酸化物薄膜層（１２）付きのプラスチックフィルム（１
１）を走行させながら、その薄膜層（１２）の上に、上
記硬化性樹脂組成物をダイにより塗布し、１００℃で３
分間乾燥させた。その上に実施例１で用いたのと同じ平
滑化鋳型材（Ｆ）を被覆し、ロール群間を通して圧着し
ながら１５０℃で５分間加熱した。これにより塗布層は
硬化し、厚さ２０μｍの硬化性樹脂硬化物層（１３）と
なった。

【００９４】プラスチックフィルム（１１）の他面にも
上記と同様にして、厚さ３００Åのシリコンマグネシウ
ム複合酸化物薄膜層（１２）と厚さ２０μｍの硬化性樹
脂硬化物層（１３）を形成させた。これにより、（Ｆ）
／（１３）／（１２）／（１１）／（１２）／（１３）
／（Ｆ）の層構成を有する積層フィルムが得られた。次
いで、平滑化鋳型材（Ｆ）を実施例１と同様にして剥離
除去し、積層フィルム（１）を得た。

【００９５】硬化性樹脂硬化物層（１３）の表面粗度
は、いずれもＲa ＝０．００４μｍ以下、Ｒmax ＝０．
１μｍ以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、
そのリターデーション値は５ｎｍ、可視光線透過率は８
２％、厚さは１４０μｍであった。積層フィルム（１）
の層間密着力（剥離強度）を測定し、その結果を表２に
示した。いずれも十分強い剥離強度を示し、剥離界面は
硬化性樹脂硬化物層（１３）とシリコンマグネシウム複
合酸化物薄膜層（１２）の界面であった。この結果よ
り、本発明の積層フィルム（１）は十分強い層間密着力
を有していた。積層フィルム（１）のガスバリア性を評
価するために、酸素透過度を測定した。結果は表２に示
したとおり、極めて高いガスバリア性を示した。

【００９６】次いで、片方の硬化性樹脂硬化物層（１
３）の上に、スパッタリング法により厚さ５００Åのイ
ンジウムスズ複合酸化物からなる透明電極（２）を形成
し、電極基板（５）を得た。この透明電極（２）の表面
抵抗率は８０Ω／□であった。

【００９７】電極基板（５）を用い、実施例１と同じ方
法で液晶表示パネルを作製したが、いずれの積層フィル
ム（１）もプロセス中に層間剥離することはなかった。

【００９８】比較例２（２−１〜２−４） 実施例２と同様のポリアミドイミドフィルムをプラスチ
ックフィルム（１１）として用い、この上にシリコンマ
グネシウム複合酸化物薄膜層（１２）を形成した。この
時、イオンビームを用いなかった以外は実施例２と同様
にして、厚さ３００Åのシリコンマグネシウム複合酸化
物薄膜層（１２）を積層した。真空排気装置として油拡
散ポンプを用いた。この際、蒸着時の圧力は４．３×１
０^-4Ｔｏｒｒ、水蒸気分圧は８×１０^-5Ｔｏｒｒであっ
た。また、当該薄膜の比重を測定し、その結果を表２に
示した。

【００９９】このプラスチックフィルム（１１）／シリ
コンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）からなる積
層フィルムの薄膜層（１２）上に、実施例２と同様の硬
化性樹脂硬化物層（１３）を形成した。さらに、プラス
チックフィルム（１１）の他面にも上記と同様の方法
で、シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）と
硬化性樹脂硬化物層（１３）を積層し、積層フィルム
（１）を得た。

【０１００】硬化性樹脂硬化物層（１３）の表面粗度
は、いずれもＲa ＝０．００４μｍ以下、Ｒmax ＝０．
１μｍ以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、
そのリターデーション値は５ｎｍ、可視光線透過率は８
２％、厚さは１４０μｍであった。上記積層フィルム
（１）の層間密着力（剥離強度）を測定し、結果を表２
に示した。いずれも剥離強度は低かった。剥離界面は、
いずれも硬化性樹脂硬化物層（１３）とシリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層（１２）の界面であった。この
積層フィルム（１）の酸素透過度の測定結果を表２に示
すが、いずれも液晶表示パネルに使用するのには不十分
であった。

【０１０１】積層フィルム（１）上に、実施例１と同様
の透明電極（２）を形成した後、実施例１と同様にして
液晶表示パネル（７）を作製した。しかし、積層フィル
ム（１）の層間密着力が不十分であるため、製造プロセ
ス中に積層フィルム（１）が層間剥離することがあっ
た。

【０１０２】実施例３（３−１〜３−３） プラスチックフィルム（１１）として一軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムを用いた。厚さは１００μ
ｍ、リターデーション値は１０２００ｎｍ、可視光線透
過率は９１％であった。

【０１０３】このプラスチックフィルム（１１）上に、
シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）を電子
ビーム蒸着法で製膜した。この時、蒸着材料として、３
〜５ｍｍの大きさの粒子状のＭｇＯ（純度９９．５％）
とＳｉＯ₂ （純度９９．９％）を用いた。これらの蒸着
材料は混合せずに、水冷銅ハース内を水冷した銅製の板
で２つに仕切り、加熱源として一台の電子銃を用い、Ｍ
ｇＯとＳｉＯ₂ のそれぞれを時分割で加熱した。その時
の電子銃のエミッション電流は２．３Ａとし、薄膜中の
酸化マグネシウムの含有率を変化させるために、加熱時
間比を表３のように変えた。また、酸素ガスを１５sccm
供給し、センターロール温度は−１０℃、フィルム送り
速度は１００ｍ／分とした。さらに、真空排気装置とし
て油拡散ポンプとクライオパネルを用いた。これによ
り、蒸着時の圧力は３．０×１０^-4Ｔｏｒｒ、水蒸気分
圧は２．５×１０^-5Ｔｏｒｒであった。以上のような製
膜条件で、膜厚２００Åのシリコンマグネシウム複合酸
化物薄膜（１２）を製膜した。また、当該薄膜の比重を
測定し、その結果を表３に示した。

【０１０４】わずかの間隔をあけて平行に配置した一対
の製膜ロールの一方に、上記で得られた積層フィルム
（プラスチックフィルム（１１）上にシリコンマグネシ
ウム複合酸化物薄膜層（１２）を積層したフィルム）を
供給しながら走行させ、もう一方の製膜ロールには平滑
用鋳型剤（Ｆ）として、厚さ７５μｍ、表面粗度Ｒa ＝
０．００５μｍ、Ｒmax ＝０．０５μｍのコロナ処理し
ていない二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム
（東洋紡績（株）製：Ａ４１００）をその平滑面が上面
となるように供給しながら走行させた。この両製膜用ロ
ールの間隙に向けて、エポキシアクリル樹脂１００部に
ベンゾフェノン１部を加えた紫外線硬化型樹脂組成物
を、ダイから吐出した。吐出された紫外線硬化型樹脂組
成物は、プラスチックフィルム（１１）のシリコンマグ
ネシウム複合酸化物薄膜層（１２）形成側の面と、平滑
化鋳型材（Ｆ）の平滑面との間に挟持されたので、この
状態で走行させながら、高圧水銀灯、２００ｗ／ｃｍ、
１灯、照射時間１０秒、水銀灯と平滑化鋳型材（Ｆ）と
の距離２００ｍｍの条件で紫外線照射した。これにより
挟持層は硬化し、厚さ２５μｍの硬化性樹脂硬化物層
（１３）となった。

【０１０５】プラスチックフィルム（１１）の他面にも
上記と同様の操作を実施し、厚さ２００Åのシリコンマ
グネシウム複合酸化物薄膜層（１２）と厚さ２５μｍの
硬化性樹脂硬化物層（１３）を形成させた。これによ
り、（Ｆ）／（１３）／（１２）／（１１）／（１２）
／（１３）／（Ｆ）の層構成を有する積層フィルムが得
られた。次いで、平滑化鋳型材（Ｆ）を剥離除去し、
（１３）／（１２）／（１１）／（１２）／（１３）の
層構成を有する積層フィルム（１）を得た。

【０１０６】硬化性樹脂硬化物層（１３）の表面粗度
は、いずれもＲa ＝０．００５μｍ以下、Ｒmax ＝０．
１μｍ以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、
そのリターデーション値は１０２００ｎｍ、可視光線透
過率は８２％、厚さは１５０μｍであった。積層フィル
ム（１）の層間密着力（剥離強度）を測定し、その結果
を表３に示した。いずれも十分強い剥離強度を示し、剥
離界面は硬化性樹脂硬化物層（１３）とシリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層（１２）の界面であった。この
結果より、本発明の積層フィルム（１）は十分強い層間
密着力を有していた。積層フィルム（１）のガスバリア
性を評価するために、酸素透過度を測定した。結果は表
３に示したとおり、極めて高いガスバリア性を示した。

【０１０７】次いで、片方の硬化性樹脂硬化物層（１
３）の上に、スパッタリング法により、厚さ２００Åの
インジウムスズ複合酸化物からなる透明電極（２）を形
成し、電極基板（５）を得た。この透明電極（２）の表
面抵抗率は８０Ω／□であった。

【０１０８】液晶セル（６）は、上記電極基板（５）の
透明電極（２）面に、配向膜を形成した後、電極基板
（５）２枚をそれぞれの透明電極（２）が対向する状態
で所定の間隔をあけて配置すると共に、その間隙に液晶
（３）を封入し、周囲をシール材（４）でシールするこ
とにより作製した。

【０１０９】液晶表示パネル（７）は、この片面に偏光
板（８）、他面に位相差板（９）を介して偏光板（８）
を積層することにより作製した。このようにして製作さ
れた液晶表示パネルは、積層フィルム（１）の層間密着
力が十分強いため、製造プロセス中に積層フィルム
（１）が層間剥離をすることはなかった。

【０１１０】比較例３（３−１〜３−３） 実施例３と同様の一軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムをプラスチックフィルム（１１）として用い、
この上にシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１
２）を形成した。その際、真空排気装置としてクライオ
パネルを用いず、油拡散ポンプのみを用いた以外は実施
例３と同様にして、厚さ２００Åのシリコンマグネシウ
ム複合酸化物薄膜層（１２）を形成した。このとき、圧
力は５．５×１０^-4Ｔｏｒｒ、水蒸気分圧は１．５×１
０^-4Ｔｏｒｒであった。また、薄膜の比重を測定し、そ
の結果を表３に示した。

【０１１１】このプラスチックフィルム（１１）／シリ
コンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）の積層フィ
ルムの薄膜層（１２）上に、実施例３と同様にして硬化
性樹脂硬化物層（１３）を形成した。また、プラスチッ
クフィルム（１１）の他面にも上記と同様の手法で、シ
リコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）と硬化性
樹脂硬化物層（１３）を積層し、積層フィルム（１）を
得た。

【０１１２】硬化性樹脂硬化物層（１３）の表面粗度
は、いずれもＲa ＝０．００５μｍ以下、Ｒmax ＝０．
１μｍ以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、
そのリターデーション値は１０２００ｎｍ、可視光線透
過率は８２％、厚さは１５０μｍであった。上記積層フ
ィルム（１）の層間密着力（剥離強度）を測定し、結果
を表３に示した。いずれも剥離強度は低かった。剥離界
面は、いずれも硬化性樹脂硬化物層（１３）とシリコン
マグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）の界面であっ
た。上記積層フィルム（１）の酸素透過度の測定結果を
表３に示すが、液晶表示パネルに使用するのには不十分
であった。

【０１１３】上記積層フィルム（１）上に実施例３と同
様の透明電極（２）を形成した後、実施例３と同様にし
て液晶表示パネル（７）を作製した。しかし、積層フィ
ルム（１）の層間密着力が不十分であるため、製造プロ
セス中に積層フィルム（１）が層間剥離することがあっ
た。

【０１１４】実施例４（４−１〜４−４） プラスチックフィルム（１１）として一軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムを用いた。厚さは１２５μ
ｍ、リターデーション値は１１５００ｎｍ、可視光線透
過率は９０％であった。

【０１１５】このプラスチックフィルム（１１）の片面
に、シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）
を、イオンビームを照射しながら電子ビーム蒸着法で製
膜した。この時、蒸着材料として、３〜５ｍｍの大きさ
の粒子状のＭｇＯ（純度９９．５％）とＳｉＯ₂ （純度
９９．９％）を用いた。これらの蒸着材料は混合せず
に、水冷銅ハース内を水冷した銅製の板で２つに仕切
り、加熱源として一台の電子銃を用い、ＭｇＯとＳｉＯ
₂ のそれぞれを時分割で加熱した。その時の電子銃のエ
ミッション電流は２．６Ａとし、薄膜中の酸化マグネシ
ウムの含有率を変化させるために、加熱時間比を表４の
ように変えた。また、酸素ガスを５sccm供給し、センタ
ーロール温度は−１５℃、フィルム送り速度は１８０ｍ
／分とした。真空排気装置として油拡散ポンプを用い
た。この時の圧力は５．３×１０^-4Ｔｏｒｒ、水蒸気分
圧は９×１０^-5Ｔｏｒｒであった。なお、イオンビーム
のイオン種として、酸素イオンを用い、イオンビーム電
流密度１．０ｍＡ／ｃｍ² 、イオンビームエネルギーを
２００Ｖとした。またプラスチックフィルム（１１）へ
のイオンビームの入射角は４５度とした。以上のような
製膜条件のもとで、厚さ３００Åのシリコンマグネシウ
ム複合酸化物薄膜層（１２）を積層した。また、当該薄
膜の比重を測定し、その結果を表４に示した。

【０１１６】フェノキシエーテル樹脂４５部、メチルエ
チルケトン４５部、セロソルブアセテート１０部、トリ
レンジイソシアネートとトリメチロールプロパンとのア
ダクト体の７５％溶液（日本ポリウレタン工業（株）製
のコロネートＬ）５０部からなる組成の硬化性樹脂組成
物を用意した。次いで、上記シリコンマグネシウム複合
酸化物薄膜層（１２）付きのプラスチックフィルム（１
１）を走行させながら、その薄膜層（１２）の上に、上
記硬化性樹脂組成物をダイにより塗布し、１００℃で５
分間乾燥させた。その上に実施例３で用いたのと同じ平
滑化鋳型材（Ｆ）を被覆し、ロール群間を通して圧着し
ながら１５０℃で７分間加熱した。これにより塗布層は
硬化し、厚さ２５μｍの硬化性樹脂硬化物層（１３）と
なった。

【０１１７】プラスチックフィルム（１１）の他面にも
上記と同様にして、厚さ３００Åのシリコンマグネシウ
ム複合酸化物薄膜層（１２）と厚さ２５μｍの硬化性樹
脂硬化物層（１３）を形成させた。これにより、（Ｆ）
／（１３）／（１２）／（１１）／（１２）／（１３）
／（Ｆ）の層構成を有する積層フィルムが得られた。次
いで、平滑化鋳型材（Ｆ）を実施例３と同様にして剥離
除去し、積層フィルム（１）を得た。

【０１１８】硬化性樹脂硬化物層（１３）の表面粗度
は、いずれもＲa ＝０．００４μｍ以下、Ｒmax ＝０．
１μｍ以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、
そのリターデーション値は１１５００ｎｍ、可視光線透
過率は８１％、厚さは１７５μｍであった。積層フィル
ム（１）の層間密着力（剥離強度）を測定し、その結果
を表４に示した。いずれも十分強い剥離強度を示し、剥
離界面は硬化性樹脂硬化物層（１３）とシリコンマグネ
シウム複合酸化物薄膜層（１２）の界面であった。この
結果より、本発明の積層フィルム（１）は十分強い層間
密着力を有していた。積層フィルム（１）のガスバリア
性を評価するために、酸素透過度を測定した。結果は表
４に示したとおり、極めて高いガスバリア性を示した。

【０１１９】次いで、片方の硬化性樹脂硬化物層（１
３）の上に、スパッタリング法により厚さ２５０Åのイ
ンジウムスズ複合酸化物からなる透明電極（２）を形成
し、電極基板（５）を得た。この透明電極（２）の表面
抵抗率は１５０Ω／□であった。

【０１２０】電極基板（５）を用い、実施例３と同じ方
法で液晶表示パネル（７）を作製したが、いずれの積層
フィルム（１）もプロセス中に層間剥離することはなか
った。

【０１２１】比較例４（４−１〜４−４） 実施例４と同様の一軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムをプラスチックフィルム（１１）として用い、
この上にシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１
２）を形成した。この時、イオンビームを用いなかった
以外は実施例４と同様にして、厚さ３００Åのシリコン
マグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）を積層した。真
空排気装置として油拡散ポンプを用いた。この際、蒸着
時の圧力は５．１×１０^-4Ｔｏｒｒ、水蒸気分圧は９×
１０^-5Ｔｏｒｒであった。また、当該薄膜の比重を測定
し、その結果を表４に示した。

【０１２２】このプラスチックフィルム（１１）／シリ
コンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）からなる積
層フィルムの薄膜層（１２）上に、実施例４と同様の硬
化性樹脂硬化物層（１３）を形成した。さらに、プラス
チックフィルム（１１）の他面にも上記と同様の方法
で、シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）と
硬化性樹脂硬化物層（１３）を積層し、積層フィルム
（１）を得た。

【０１２３】硬化性樹脂硬化物層（１３）の表面粗度
は、いずれもＲa ＝０．００４μｍ以下、Ｒmax ＝０．
１μｍ以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、
そのリターデーション値は１１５００ｎｍ、可視光線透
過率は８１％、厚さは１７５μｍであった。上記積層フ
ィルム（１）の層間密着力（剥離強度）を測定し、結果
を表４に示した。いずれも剥離強度は低かった。剥離界
面は、いずれも硬化性樹脂硬化物層（１３）／シリコン
マグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）であった。この
積層フィルム（１）の酸素透過度の測定結果を表４に示
すが、いずれも液晶表示パネルに使用するのには不十分
であった。

【０１２４】積層フィルム（１）上に、実施例３と同様
の透明電極（２）を形成した後、実施例３と同様にして
液晶表示パネル（７）を作製した。しかし、積層フィル
ム（１）の層間密着力が不十分であるため、製造プロセ
ス中に積層フィルム（１）が層間剥離することがあっ
た。

【０１２５】実施例５（５−１〜５−４） プラスチックフィルム（１１）としてノルボルネン系ポ
リマーフィルムを用いた。厚さは１００μｍ、リターデ
ーション値は２ｎｍ、可視光線透過率は９１％であっ
た。

【０１２６】このプラスチックフィルム（１１）の片面
に、シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）
を、イオンビームを照射しながら電子ビーム蒸着法で製
膜した。この時、蒸着材料として、２〜４ｍｍの大きさ
の粒子状のＭｇＯ（純度９９．７％）とＳｉＯ₂ （純度
９９．９％）を用いた。これらの蒸着材料は混合せず
に、水冷銅ハース内を水冷した銅製の板で２つに仕切
り、加熱源として一台の電子銃を用い、ＭｇＯとＳｉＯ
₂ のそれぞれを時分割で加熱した。その時の電子銃のエ
ミッション電流は２．３Ａとし、薄膜中の酸化マグネシ
ウムの含有率を変化させるために、加熱時間比を表５の
ように変えた。また、酸素ガスを３sccm供給し、センタ
ーロール温度は−１０℃、フィルム送り速度は２０ｍ／
分とした。真空排気装置としてターボ分子ポンプを用い
た。この時の圧力は４．３×１０^-4Ｔｏｒｒ、水蒸気分
圧は７×１０^-5Ｔｏｒｒであった。なお、イオンビーム
のイオン種として、酸素イオンを用い、イオンビーム電
流密度３．５ｍＡ／ｃｍ² 、イオンビームエネルギーを
７０Ｖとした。またプラスチックフィルム（１１）への
イオンビームの入射角は３０度とした。以上のような製
膜条件のもとで、厚さ４００Åのシリコンマグネシウム
複合酸化物薄膜層（１２）を積層した。また、当該薄膜
の比重を測定し、その結果を表５に示した。

【０１２７】プラスチックフィルム（１１）の他面にも
上記と同様にして、厚さ４００Åのシリコンマグネシウ
ム複合酸化物薄膜層（１２）を形成させた。これによ
り、（１２）／（１１）／（１２）の層構成を有する積
層フィルム（１）が得られた。

【０１２８】この積層フィルム（１）の表面粗度は、い
ずれもＲa ＝０．００４μｍ以下、Ｒmax ＝０．１μｍ
以下であった。いずれの積層フィルム（１）も、そのリ
ターデーション値は２ｎｍ、可視光線透過率は９０％、
厚さは１００μｍであった。積層フィルム（１）の層間
密着力（剥離強度）を測定し、その結果を表５に示し
た。いずれも十分強い剥離強度を示し、剥離界面は熱硬
化型接着剤層とシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層
（１２）の界面であった。この結果より、シリコンマグ
ネシウム複合酸化物薄膜層（１２）とプラスチックフィ
ルム（１１）は、これらの剥離強度以上の密着力を有し
ており、十分強い層間密着力である。積層フィルム
（１）のガスバリア性を評価するために、酸素透過度を
測定した。結果は表５に示したとおり、極めて高いガス
バリア性を示した。

【０１２９】次いで、片方のシリコンマグネシウム複合
酸化物薄膜層（１２）の上に、スパッタリング法によ
り、厚さ１０００Åのインジウムスズ複合酸化物からな
る透明電極（２）を形成し、電極基板（５）を得た。こ
の透明電極（２）の表面抵抗率は３０Ω／□であった。

【０１３０】電極基板（５）を用い、実施例１と同じ方
法で液晶表示パネルを作製したが、いずれの積層フィル
ムも層間剥離することはなかった。

【０１３１】上記実施例および比較例における各物性
は、以下のようにして測定した。

【０１３２】a.フィルム厚さ ミリトロン1254D （Mahr社製）を用いて測定した。 b.薄膜層厚さ 薄膜中のシリコンとマグネシウムの原子比をＩＣＰ発光
分析装置（ICPS-2000;（株）島津製作所製）で求め、シ
リコンとマグネシウムとが完全酸化物（ＳｉＯ ₂ 、Ｍｇ
Ｏ）であると仮定し、これら（ＳｉＯ₂ とＭｇＯ）のバ
ルク比重を用いて算出した。

【０１３３】c.リターデーション値 エリプソメータ（AEP-100B、（株）島津製作所製）を用
いて測定した。 d.可視光線透過率 ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠した積分球式光線透過率測
定装置（NDH-1001DP、日本電色工業（株）製）を用いて
測定した。

【０１３４】e.比重（Ｄ） 上記実施例および比較例で得られたプラスチックフィル
ム（１１）／薄膜層（１２）の積層フィルムの一部を切
り出し、プラスチックフィルム（１１）を溶媒で溶解
し、薄膜（１２）のみの単独膜を得た。この単独膜の比
重を、ＪＩＳ Ｋ７１１２に記載の浮沈法（試料を比重
既知の溶液（四塩化炭素とヨウ化メチレンの混合液）の
中に浸漬させ、その浮沈状態から薄膜の比重を測定）に
より測定した。

【０１３５】f.酸化マグネシウム含有率（Ｗ） 当該酸化マグネシウム含有率は、薄膜中のシリコンとマ
グネシウムの原子比をＩＣＰ発光分析装置（ICPS-2000;
（株）島津製作所製）で求め、シリコンとマグネシウム
とが完全酸化物（ＳｉＯ₂ 、ＭｇＯ）であると仮定し
て、完全酸化マグネシウムの含有率を算出した。

【０１３６】g.表面粗度 ＪＩＳ Ｂ ０６５１に準じた触針式表面粗度測定器
（サーフコム304B、（株）東京精密社製）を用いて測定
した。

【０１３７】h.剥離強度（層間密着力） 上記で得られた積層フィルム（１）の最外層（シリコン
マグネシウム複合酸化物薄膜層（１２）または硬化性樹
脂硬化物層（１３））の片面上に、ポリエステルポリウ
レタン系接着剤（武田薬品（株）製：Ａ−３１０）１０
０部にイソシアネート系硬化剤（武田薬品（株）製：Ａ
−３）１０部を加えた熱硬化型接着剤を、厚さ３μｍに
塗布した。この接着剤層上に、コロナ処理を施した厚さ
１００μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（東洋紡績（株）製：Ｅ５１００）をラミネート
し、４５℃、４日間の条件で接着剤を硬化させた。この
ようにして作製した二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルム／熱硬化型接着剤層／積層フィルム（１）か
らなる積層体において、二軸延伸ポリエチレンテレフタ
レートフィルムと、積層フィルムの部分をつかみ、ＪＩ
Ｓ Ｋ ６８５４に準拠した９０度Ｔ型剥離法にて剥離
強度を測定した。

【０１３８】i.酸素透過度（ガスバリア性） 酸素透過度測定装置（OX-TRAN100、モダンコントロール
ズ社製）を用い、２５℃、８０％ＲＨの条件下で、積層
フィルム（１）の酸素透過度を測定した。

【０１３９】j.表面抵抗率 ＪＩＳ Ｋ ７１９４に記載の４探針法による抵抗率計
（ロレスタ AP MCP-1400、三菱油化（株）製）を用いて
測定した。

【０１４０】

【表１】

【０１４１】

【表２】

【０１４２】

【表３】

【０１４３】

【表４】

【０１４４】

【表５】

【０１４５】

【発明の効果】本発明の積層フィルムは、プラスチック
フィルムの利点（可撓性、薄い、軽量等）を有する他
に、積層フィルムの層間密着力が極めて強く、液晶表示
パネルを製造する際に層間剥離することがない。また、
金属酸化物であるシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜
層を用いているため、ガスバリア性も極めて優れてい
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の積層フィルムの一例を模式的に示した
断面図である。

【図２】本発明の電極基板の一例を模式的に示した断面
図である。

【図３】本発明の液晶セルの一例を模式的に示した断面
図である。

【図４】本発明の液晶表示パネルの一例を模式的に示し
た断面図である。

【符号の説明】

１ 積層フィルム １１ プラスチックフィルム １２ シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層 １３ 硬化性樹脂硬化物層 ２ 透明電極 ３ 液晶 ４ シール材 ５ 電極基板 ６ 液晶セル ７ 液晶表示パネル ８ 偏光板 ９ 位相差板

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
   に、下式（ａ）を満たすシリコンマグネシウム複合酸化
   物薄膜層を有してなることを特徴とする積層フィルム。 ２．１≦Ｄ−０．０１１Ｗ≦２．３ （ａ） 〔式中、Ｄはシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層の
   比重を、Ｗはシリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層中
   の酸化マグネシウム含有率（重量％）を示す。〕
2. 【請求項２】 シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層
   中の酸化マグネシウム含有率が２５〜９０重量％である
   ことを特徴とする請求項１記載の積層フィルム。
3. 【請求項３】 シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層
   の厚さが３０〜８０００Åであることを特徴とする請求
   項１または２記載の積層フィルム。
4. 【請求項４】 プラスチックフィルムのリターデーショ
   ン値が３０ｎｍ以下または５０００ｎｍ以上であること
   を特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の積層フィ
   ルム。
5. 【請求項５】 シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層
   上に硬化性樹脂硬化物層が積層されてなることを特徴と
   する請求項１〜４のいずれかに記載の積層フィルム。
6. 【請求項６】 各層の層間密着力が３００ｇ／ｉｎｃｈ
   以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに
   記載の積層フィルム。
7. 【請求項７】 酸素透過度が３cc/m² ・atm ・day 以下
   であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載
   の積層フィルム。
8. 【請求項８】 シリコンマグネシウム複合酸化物薄膜層
   を、５×１０^-5Ｔｏｒｒ以下の水蒸気分圧中で電子ビ
   ーム蒸着法で製膜する工程、あるいはイオンビームを
   照射しながら電子ビーム蒸着法で製膜する工程を含むこ
   とを特徴とする請求項１に記載の積層フィルムの製造方
   法。
9. 【請求項９】 請求項１〜７のいずれかに記載の積層フ
   ィルムの表面に透明電極を有してなることを特徴とする
   電極基板。
10. 【請求項１０】 請求項１〜７のいずれかに記載の積層
    フィルムを有してなる液晶セル。
11. 【請求項１１】 請求項１〜７のいずれかに記載の積層
    フィルムを有してなる液晶表示パネル。