JPH1073740A - 光学装置およびその製造方法 - Google Patents

光学装置およびその製造方法

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JPH1073740A
JPH1073740A JP9153430A JP15343097A JPH1073740A JP H1073740 A JPH1073740 A JP H1073740A JP 9153430 A JP9153430 A JP 9153430A JP 15343097 A JP15343097 A JP 15343097A JP H1073740 A JPH1073740 A JP H1073740A
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cte
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seal
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JP9153430A
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Gaylord Lee Francis
リー フランシス ゲイロード
Robert Michael Morena
マイケル モレナ ロバート
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 溶融シールにより互いに張り付けられた支持
体および光学部材からなる光学装置において、温度変化
に対して鈍感にする。 【解決手段】 ゼロに近いまたは負の熱膨張係数を有す
る支持体22および溶融シールによりこの支持体22に貼り
付けられた光ファイバ24からなる。シールが、正のCT
Eを有する低融点ガラスフリットおよび効果的な負のC
TEを有するガラスセラミックを含有するミル添加物の
溶融製品である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、負またはゼロに近
い膨張の支持体からなる光学装置および溶融シールによ
りそれにシールされる光学部材に関するものである。
【0002】
【従来の技術】構造部品を接合する手段として溶融シー
ルを用いて複合体製品を形成することが通常行われてい
る。現在まで、電球、陰極線管、および他の表示装置の
ような製品を製造するのに、溶融シールが用いられてき
た。
【0003】これらの製品を製造する上での重要な用件
は、熱膨張係数(CTE)が調和することである。この
ことには、最終的なシールが、シールされる構成部品の
CTEとかなり近く調和しているCTEを有することが
必要である。例えば、陰極線管において、通常はガラス
部材は約95-105×10-7/℃のCTEを有する。
【0004】本発明は、プレーナ導波管、導波管回折格
子、連結器、およびフィルタのような光学製品または装
置に関するものである。このような製品において、光フ
ァイバを、ゼロに近い、または比較的大きい負のCTE
を有する支持体に取り付けることがある。この目的のた
めに、溶融シールは、支持体とファイバの両方にしっか
りと付着しなければならない。この付着性は、フリット
シールを、すなわち、支持体とファイバとの間を横切っ
て歪みが伝わるほど十分でなければならない。
【0005】シリカファイバおよびゲルマニアシリカフ
ァイバのような光ファイバにおいて、紫外線により屈折
率が変化することがある。そのように変更されたファイ
バは、フィルタおよびチャンネルアド/ドロップ装置(c
hannel add/drop device)のような複雑な狭帯域光学部
材の製造に有用である。これらの装置は、多重波長通信
システムの重要な部品となることができる。反射回折格
子(またはブラッグ回折格子)が狭い波長帯に亘り光を
反射する感光性装置である。典型的に、これらの装置
は、ナノメーターで測定されるチャンネル間隔を有して
いる。
【0006】波長を選択的にフィルタリングするのにブ
ラッグ効果を用いる光ファイバの様々な構成が知られて
いる。フィルタを構成するある方法には、光ファイバの
コア内に少なくとも1つの周期的回折格子を押印するこ
とが含まれる。コアはクラッディングを通して2種類の
紫外線ビームの干渉パターンに露出される。これによっ
て、ファイバの軸に対して垂直に向けられるかもしれな
い反射回折格子が形成される。
【0007】シリカおよびゲルマニアシリカファイバの
反射回折格子において、温度により屈折率が変化するこ
とにより、中心波長の変動が抑えられる。ファイバ回折
格子により反射される光の周波数が、回折格子領域の温
度により変動する。その結果、そのようなフィルタは、
反射光の周波数が温度に対して独立している必要がある
用途において、使用することができない。
【0008】温度変化に対して鈍感なシステムを発明す
ることが明らかに望ましい。1996年1月16日に出願され
た米国特許出願第60/010,058号には、正のCTEを有す
る感温性部材が負のCTEを有する支持体の上側表面の
2つの間隔の離れた位置に取り付けられている無熱装置
が記載されている。そのような装置に使用する支持体と
して、ベータユークリプタイトである、ケイ酸リチウム
アルミニウムガラスセラミックが提案されている。光フ
ァイバのような、支持体に取り付けられる製品を、有機
高分子セメント、無機フリット、または金属により取り
付けてもよいことも教示されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ゼロ
に近いまたは負のCTEを有する支持体と組み合わせ
て、負のCTEを有する光学部材からなる光学装置を提
供することにある。本発明のさらなる目的は、部材が溶
融シールにより支持体に取り付けられているそのような
製品を提供することにある。本発明の別の目的は、良好
な封止性を有し、小さいCTEを有し、光学部材と支持
体との間に付着シールを形成するシーリング材を提供す
ることにある。本発明のさらなる目的は、溶融シールを
施した光学装置を製造する方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の製品は、ゼロに
近い、または負のCTEを有する支持体および溶融シー
ルによりこの支持体に貼り付けられた光学部材からなる
光学装置であって、このシールが、正のCTEを有する
低融点ガラスフリットおよび負のCTEを有するガラス
セラミックのミル添加物の溶融生成物である光学装置で
ある。
【0011】本発明はさらに、そのような光学装置を製
造する方法であって、正のCTEを有する低融点ガラス
フリットを正のCTEを有するガラスセラミックのミル
添加物とブレンドし、このブレンドによりシーリングペ
ーストを形成し、このペーストを支持体の表面に施し
て、シーリングペーストの上に光学部材を配置し、部材
と支持体との間にシールを形成する時間に亘りこのシー
ルを形成する温度まで、ペーストを加熱する各工程から
なることを特徴とする方法にある。
【0012】本発明は、光ファイバをCTEが非常に小
さい支持体に付着により貼り付ける効果的な手段を発明
する過程で生じたものである。その結果、本発明は、そ
のような製品および開発に関して記載されている。しか
しながら、本発明はそのようなものには限定されず、光
学装置における溶融シール全般に適用される。
【0013】溶融型のシールを製造する際に、シーリン
グ材は、シールすべき表面を濡らして、接着層を形成す
るほど十分に柔らかくなる温度まで加熱しなければなら
ない。多くの用途に関して、シーリング温度をできるだ
け低く維持することが望ましい。したがって、500℃未
満、好ましくは、400-500℃の温度でシールを形成する
ガラスフリットがしばしば、低融点、または中温のシー
リングガラスと称されている。
【0014】溶融シールを製造するのに用いられるガラ
ス質材料は、通常粉末形態で用いられ、ガラスフリット
と呼ばれている。シーリングガラスフリットは通常、酢
酸アミルのような有機ビヒクルと混合されて、流動性ペ
ースト、または押出用ペーストを形成している。次い
で、このペーストは、装置の支持体の場合には、シーリ
ング表面に施される。シールされる部材のCTEとシー
リングガラスフリットのCTEとの間には、しばしば差
がある。ミル添加を行って、フリットと部材との間の膨
張を調和させてもよい。
【0015】流動および膨張の調和性に加えて、シーリ
ングガラスフリットは望ましくは、他にも多くの好まし
い特徴を有している。これらの特徴としては、シールさ
れる部品の湿潤性、および有機ビヒクルとの相溶性が挙
げられる。特に、フリットは、通常のビヒクルおよびニ
トロセルロース並びに酢酸アミルの結合剤と相溶性がな
ければならない。
【0016】結晶化または非結晶化のいずれかである鉛
−亜鉛−ボレートシーリングガラスが長い期間に亘り、
溶融シールを製造するのに商業的に用いられている。一
般的に、この種のガラスは、68-82%のPbO、8-16%
のZnO、6-12%のB23、および必要に応じて5%ま
でのSiO2、BaOおよびAl23から実質的にな
る。このようなガラスは一般的に、約430-500℃のシー
リング温度に有用である。
【0017】ごく最近、鉛を含まないスズ−亜鉛−ホス
フェートシーリングガラスが開発された。このようなガ
ラスが米国特許第5,246,890号(Aitken等)および同第5,2
81,560号(Francis等)に詳細に記載されている。これら
の特許に記載されたガラスは、鉛を含まず、400-450℃
の範囲のいくぶん低いシーリング温度を有している。
【0018】Aitken等のガラスは、酸化スズの含有量が
比較的少ないので、陰極線管エンベロープのシールの製
造に使用するのに特に興味が持たれている。鉛を含まな
いことに加えて、これらのガラスは、25-50モル%のP2
5およびSnO:ZnOのモル比が1:1から5:1
までの範囲内となるような量のSnOとZnOを含有す
る組成を有している。このガラス組成物はさらに、5モ
ル%までのSiO2、20モル%までのB23、および5モ
ル%までのAl23を含む、20モル%までの改質酸化物
を含有してもよい。これらのガラス組成物はまた、1-5
モル%までのジルコンおよび/または酸化ジルコニウム
および1-15モル%のR2Oから選択される1つ以上の結
晶化促進剤を含有してもよい。さらに、組成物は、5モ
ル%までのWO3、5モル%までのMoO3、0.10モル%
までのAg金属および混合物から選択されるシール付着
促進剤を含んでいてもよい。
【0019】Francis等のガラスには、5:1より大き
いモル比でSnOおよびZnOを用いている。これらの
ガラスは、その組成中に、25%までのR2O、20%まで
のB23、5%までのAl23、5%までのSiO2、お
よび5%までのWO3からなる群より選択された少なくと
も1つの安定化酸化物を含有している。
【0020】本発明の目的のために、適切な組成のガラ
スバッチを溶融することによってシーリングガラスフリ
ットを調製してもよい。溶融されたガラスは、好ましく
は冷却により冷やされて破壊片が形成され、次いで、破
壊されてガラス粉末(フリット)が形成される。次い
で、ガラスフリットは本発明によるミル添加物とブレン
ドされる。ブレンドは、ビヒクルおよび結合剤と混合さ
れ、シーリング表面に塗布するのに適した粘度を有する
ペーストが形成される。
【0021】陰極線管をシールするのに使用する従来の
ビヒクルおよび結合剤は、ニトロセルロースおよび酢酸
アミルの混合物であった。最近、揮発性有機化合物を含
まないビヒクルが開発されてきた。セルロース系高分子
の水溶液であるこのビヒクルが、米国特許出願第60/01
2,330号に開示されている。この特許出願は1996年2月27
日に出願されたものであり、ここに引用する。本発明を
実施するにおいて、他の適切なビヒクルと同様に、いず
れのビヒクルを用いてもよい。
【0022】本発明は、ゼロに近い、または負の膨張の
支持体に結合される回折格子のような導波路用途への使
用に関して開発されたものである。ゼロに近いとは、0-
300℃の温度範囲に亘り0±10×10-7/℃のCTE値を意
味する。典型的な材料は、溶融シリカである。負のCT
Eは、膨張が負の傾斜を有することを意味する。
【0023】支持体は、ベータユークリプタイトガラス
セラミックから形成してもよい。その場合には、使用す
るミル添加物は、少なくとも主にピロリン酸塩である。
適切なピロリン酸塩は、一般化学式2(Co,Mg)O
・P25を有する。この結晶では、70-300℃の範囲の温
度で転相が行われる。正確な温度はCoレベルに依存す
る。
【0024】転相を除いて、この材料は、0-300℃の範
囲に亘り正のCTEを有する。しかしながら、容積変化
は転相に起因する。このことには、系のCTEを負まで
低下させる正味の効果がある。ベータユークリプタイト
の支持体に用いる特定の材料は28カチオン%のCoOを
含有している。
【0025】あるいは、支持体が溶融シリカであっても
よい。その場合には、シーリングガラスブレンドには、
ガラスセラミックミル添加物として、非常に小さい、ま
たは負の膨張係数を有する材料と共にピロリン酸塩を用
いてもよい。例えば、この材料は、支持体との差が小さ
いまたはゼロのシールにおいて効果的なゼロに近いCT
Eを提供する、ベースユークリプタイト、ベータユウ輝
石、またはベータ石英であってよい。これらの材料は、
通常の添加様式で効果的なCTEを低下させる。ベータ
ユークリプタイトは、好ましい添加物であり、混合物中
で優位を占める。これは、適切なガラスを4時間に亘り
1250-1350℃の温度でセラミック化することにより製造
される。測定したCTEは、-50から-75×10-7/℃の範
囲にある。
【0026】両方のミル添加物はガラスセラミックであ
る。これら添加物は、従来のガラス溶融技術によりガラ
スとして溶融され、結晶化され、次いで、ボールミル粉
砕により20-25ミクロンの粉末に細かく粉砕される。ボ
ールミル粉砕後に、大きな粒子は、風力分級、または40
0Mの篩を通す篩分けにより各々の充填剤から除去され
る。
【0027】本発明の目的のために、鉛−亜鉛−ボレー
ト、またはスズ−亜鉛−ホスフェートフリットのいずれ
かを用いてもよい。しかしながら、シーリングの目的
に、ペーストを加熱するレーザビームが多くの用途に必
要とされる。その場合には、鉛を含まないスズ−亜鉛−
ホスフェートフリットとのブレンドが、良好に機能し、
好ましいフリットである。
【0028】スズ−亜鉛−ホスフェートガラスの群が前
述したAitken等およびFrancis等の特許に記載されてい
る。これらの特許の教示をここに引用する。本発明の目
的のためには、オルトリン酸塩およびピロリン酸塩の化
学量論の間、すなわち、25-33モル%のP25、0-15モ
ル%のZnO、0-5モル%の、SiO2、Al23、B2
3およびWO3を含む必要に応じての酸化物を含有し、
残りの量は、SnO:ZnOのモル比が好ましくは1-1
0:1となるSnOを含有する組成を有するガラスが好ま
しい。
【0029】
【発明の実施の形態】以下、図面に示す実施の形態を参
照して、本発明を詳細に説明する。
【0030】本発明の作業において、オルトリン酸塩の
組成に近いベースガラスを用いた。このガラス組成物
は、モル基準で、28.5%のP25、1%のB23、0.5%
のAl 23およびモル比が10:1のSnOおよびZnOか
ら実質的になる。このガラスを950℃で溶融し、圧延に
より冷却し、次いで、20-25ミクロンの平均粒径までボ
ールミル粉砕した。
【0031】秤量した粉末をローラミル内でドライブレ
ンドすることにより、ベースガラスと充填剤との様々な
ブレンドを調製した。このブレンドを粗い篩にかけて、
さらにブレンドした。6gの円柱流動ペレットを手動プ
レスし、このペレットを顕微鏡スライド上に配置し、所
望の熱サイクルで焼成することにより、流動を評価し
た。酢酸アミルおよびニトロセルロースを含むフリット
ブレンドのペーストから不調和試料を作成することによ
り熱膨張を測定した。このペーストを用いて、2つのシ
リカ支持体による逆のサンドイッチシールを作成した。
この不調和試料を乾燥させ、次いで、所望の熱サイクル
で焼成した。支持体における膨張不調和歪を旋光計で測
定した。
【0032】以下の表はいくつかのフリットブレンドの
データを列記している。また、張力または圧縮に関し
て、溶融シリカによる逆のサンドイッチシールにおける
各々のブレンドに関して観察されたRT不調和も列記さ
れている。使用した熱サイクルは1時間に亘り425℃で
あった。各々のブレンドの組成が重量パーセントで示さ
れている。フリットブレンド1および3は、溶融シリカ
により中位または非常に軽い張力のいずれかである。ブ
レンド1および3の流動は、試料に用いた425℃のシー
リング温度で非常に良好であった。これらのブレンド
は、溶融シリカ支持体へのシーリングに有用であるよう
に思われる。
【0033】フリットブレンド5および6は、溶融シリ
カのサンドイッチシールにおいて非常に大きい圧縮の状
態にあった。これらのブレンドは、非常に小さい膨張支
持体であるベータユークリプタイトへのシーリングに有
用である。
【0034】これらのフリットを用いて、回折格子装置
を作成した。フリット6を用いてある長さのファイバを
ベータユークリプタイトに450℃でシールした。旋光計
の表示は導波路ファイバについて行われた。これらによ
り、フリット6がベータユークリプタイトに良好に結合
して、負の膨張の支持体から正の膨張にファイバに不調
和歪を伝達したことか示された。
【0035】
【表1】
【0036】図1は、本発明による無熱光ファイバ回折
格子装置20の概略図である。装置20は、ベータユークリ
プタイトのような負の膨張材料の平らなブロックから形
成された支持体22を有している。その内部に少なくとも
1つの紫外線誘発回折格子26が書き込まれた光ファイバ
24が支持体22の表面28上に搭載されている。ファイバ24
は、地点30および32での表面28のいずれかに取り付けら
れている。地点30および32でのファイバ24の支持体22へ
の取付けは、本発明によるシーリングガラス材料の小さ
なボタンにより行われる。
【0037】図示した回折格子装置において、ファイバ
24が常に真っ直ぐであり、負の膨張の結果として圧縮に
さらされないことが重要である。このように、ファイバ
24は常に張力下に搭載されている。取付前に、重り34を
使用することにより、図示したように、ファイバ24は制
御された張力下に配置される。適切に張力を選択するこ
とにより、予測される使用温度でファイバが圧縮の状態
にならないようにする。
【0038】本発明により用途が見出された別の装置
は、光波光回路である。これは、その上にいくつかの光
機能が形成された溶融シリカ支持体を有する装置であ
る。集積回路において電気接続が必要であるように、各
々の機能に別々の外部ファイバを接続しなければならな
い。本発明により、各々の接続ファイバを微量のシーリ
ング材にシールして、整合した状態に保持しなければな
らない。表のブレンド1または3をこの用途に用いても
よい。
【0039】そのような光学装置における溶融シールは
極めて小さい傾向にある。これには、シーリング工程を
注意深く制御する必要がある。その結果、従来のバーナ
ーの炎よりもむしろ、レーザのような制御可能な熱源を
使用することがしばしば望ましい。このように、レーザ
ビームの焦点をぼかして、すなわち、標的から短距離だ
け離れたヶ所に焦点を当てたり、その前方に焦点を当て
たりしてもよい。このことにより、点収束に生じること
がある過熱が避けられる。
【0040】また、多くの用途に関して、間接加熱が望
ましいことが分かった。例えば、ファイバを支持体に固
定する際に、1滴以上のシーリングペーストを支持体の
前方表面に施してもよい。次いで、図1の実施例に示し
たように、ファイバを搭載する。
【0041】次いで、バーナーの炎またはレーザビーム
いずれかの熱源を背面、すなわち、支持体の反対側の表
面に施す。このようにして、直接加熱よりもむしろ、支
持体を通した熱によりシーリングペーストを熱的に軟化
させる。このことにより、シーリング工程をより良好に
制御することができ、装置に損傷を与える危険が少なく
なる。レーザを使用する場合には、焦点をぼかして、支
持体に損傷を与えないようにする。
【0042】図2は、溶融シリカによりサンドイッチシ
ールを製造する際に2つの異なるブレンドを用いたとき
に遭遇する不調和を示している。温度が横軸にプロット
されており、支持体に関して部/百万(ppm)で表し
た不調和が縦軸にプロットされている。フリットブレン
ドに関する不調和値は、支持体に関して同一の数値を有
しているが、符号が正から負に変化している。図2の正
の値は、支持体が張力下の状態にあり、フリットブレン
ドが圧縮の状態にあることを示している。
【0043】曲線Aは、ブレンド1と溶融シリカとの間
のシールに関して様々な温度で測定した不調和値を示し
ている。曲線Bは、フリットが高い圧縮の状態にある、
ブレンド6と溶融シリカとの間で測定された厳しい不調
和を示している。ブレンド6は、溶融シリカよりも熱膨
張係数(CTE)が非常に小さい支持体に使用すること
を意図したものである。これは、例えば、約-50×10-7
/℃のCTEを有するベータユークリプタイト支持体に
使用する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光学装置の1つの実施の形態を示
す概略図
【図2】シール内で遭遇する不調和を示すグラフ
【符号の説明】
20 回折格子装置 22 支持体 24 ファイバ 26 回折格子 28 表面 30,32 地点 34 重量
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート マイケル モレナ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14858 リンドレイ ブラウンタウン ロード 438

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ゼロに近いまたは負の熱膨張係数を有す
    る支持体および溶融シールにより該支持体に貼り付けら
    れた光学部材からなる光学装置であって、該シールが、
    正のCTEを有する低融点ガラスフリットおよび効果的
    な負のCTEを有するガラスセラミックを含有するミル
    添加物の溶融製品であることを特徴とする光学装置。
  2. 【請求項2】 前記ガラスセラミックミル添加物が、単
    体のピロリン酸塩、または非常に小さい膨張または負の
    膨張のガラスセラミックとの混合物であることを特徴と
    する請求項1記載の光学装置。
  3. 【請求項3】 前記支持体がベータユークリプタイトで
    あり、前記ミル添加物が少なくとも大部分が、負のCT
    Eを有するピロリン酸塩ガラスセラミックであることを
    特徴とする請求項1記載の光学装置。
  4. 【請求項4】 前記支持体が溶融シリカであり、前記ミ
    ル添加物がピロリン酸塩およびベータユークリプタイト
    の混合物であることを特徴とする請求項1記載の光学装
    置。
  5. 【請求項5】 前記低融点ガラスフリットがホウ酸鉛ま
    たはスズ−亜鉛−リン酸塩であることを特徴とする請求
    項1記載の光学装置。
  6. 【請求項6】 前記光学部材が光ファイバであることを
    特徴とする請求項1記載の光学装置。
  7. 【請求項7】 前記溶融シールが、ガラスフリットおよ
    びミル添加物からなるボタンであり、前記支持体の表面
    のスポットに溶融されていることを特徴とする請求項1
    記載の光学装置。
  8. 【請求項8】 ゼロに近いまたは負の熱膨張係数を有す
    る支持体および該支持体に貼り付けられた光学部材から
    なる光学装置を製造する方法であって、正のCTEを有
    する低融点ガラスフリットを効果的な負のCTEを有す
    るガラスセラミックのミル添加物とブレンドし、該ブレ
    ンドによりシーリングペーストを形成し、該ペーストを
    前記支持体の表面に施し、前記シーリングペースト上に
    前記光学部材を配置し、所定の温度まで所定の時間に亘
    り該ペーストを加熱して、該部材と該支持体との間にシ
    ールを形成する各工程からなることを特徴とする方法。
  9. 【請求項9】 前記シーリングペーストに関して焦点の
    ぼかされたレーザビームにより該シーリングペーストを
    加熱する工程を含むことを特徴とする請求項81記載の
    方法。
  10. 【請求項10】 熱源を前記支持体の背面に施して、そ
    れによって、該反対側の表面のシーリングペーストが、
    該支持体を通して伝導される熱により軟化することを特
    徴とする請求項8記載の方法。
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