JPH1073577A - ガスクロマトグラフ用試料気化室 - Google Patents
ガスクロマトグラフ用試料気化室Info
- Publication number
- JPH1073577A JPH1073577A JP23066396A JP23066396A JPH1073577A JP H1073577 A JPH1073577 A JP H1073577A JP 23066396 A JP23066396 A JP 23066396A JP 23066396 A JP23066396 A JP 23066396A JP H1073577 A JPH1073577 A JP H1073577A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insert
- sample
- carrier gas
- vaporized
- gas
- Prior art date
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- Pending
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】インサート内壁面に液体試料が付着することに
起因する弊害をなくし、再現性のよい分析が行えるよう
にする。 【解決手段】インサートを通気性を有する材料とし、イ
ンサート外側面から内側面に通過させるようにキャリア
ガスを導入することにより、液体試料の内壁面への付着
を防ぐ。
起因する弊害をなくし、再現性のよい分析が行えるよう
にする。 【解決手段】インサートを通気性を有する材料とし、イ
ンサート外側面から内側面に通過させるようにキャリア
ガスを導入することにより、液体試料の内壁面への付着
を防ぐ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガスクロマトグラフ
装置に用いる試料気化室に関する。
装置に用いる試料気化室に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のガスクロマトグラフ用試料気化室
においては、ガラスインサートを用いてその上部からキ
ャリアガスを供給していた。
においては、ガラスインサートを用いてその上部からキ
ャリアガスを供給していた。
【０００３】従来のガスクロマトグラフ分析装置用試料
気化室の構成を図１に示す。１はキャリアガス流入口、
２はガラスインサート、３はセプタムと呼ばれる注入口
ゴム栓、４は試料を注入する注射器、５は注射器４の注
射針、６はハウジング、７はガラスインサート内壁部
分、８はハウジング６の温度を制御するヒータ、９は分
析カラム、１０はスプリットガス出口、１１は試料保持
部材であるシリカウールである。
気化室の構成を図１に示す。１はキャリアガス流入口、
２はガラスインサート、３はセプタムと呼ばれる注入口
ゴム栓、４は試料を注入する注射器、５は注射器４の注
射針、６はハウジング、７はガラスインサート内壁部
分、８はハウジング６の温度を制御するヒータ、９は分
析カラム、１０はスプリットガス出口、１１は試料保持
部材であるシリカウールである。
【０００４】被分析物である試料は注射器４内に装着さ
れ、セプタム３を貫通した注射針５を通じてハウジング
６内のシリカウール上に付着する。ハウジング６内はヒ
ータ８により、１００Ｃ゜〜３５０Ｃ゜程度に温度制御
されているので、試料は注入された後、迅速に気化し、
キャリアガス流入口１より流入するキャリアガス（通常
ヘリウムあるいは窒素）と共に分析カラム９、スプリッ
ト出口１０へと運ばれる。分析カラム９とスプリット出
口１０へと運ばれる試料の割合は、スプリット比と呼ば
れ、分析カラム９の流路抵抗とスプリット出口１０の下
流の流路抵抗の比によって決まる。ガラスインサート２
はハウジング６内壁への試料の付着を防ぐ事を目的とす
るもので、ガラスが主に用いられている。
れ、セプタム３を貫通した注射針５を通じてハウジング
６内のシリカウール上に付着する。ハウジング６内はヒ
ータ８により、１００Ｃ゜〜３５０Ｃ゜程度に温度制御
されているので、試料は注入された後、迅速に気化し、
キャリアガス流入口１より流入するキャリアガス（通常
ヘリウムあるいは窒素）と共に分析カラム９、スプリッ
ト出口１０へと運ばれる。分析カラム９とスプリット出
口１０へと運ばれる試料の割合は、スプリット比と呼ば
れ、分析カラム９の流路抵抗とスプリット出口１０の下
流の流路抵抗の比によって決まる。ガラスインサート２
はハウジング６内壁への試料の付着を防ぐ事を目的とす
るもので、ガラスが主に用いられている。
【０００５】
【従来の技術の問題点】従来の技術に於いては、試料気
化室内に注入された試料は、全てがシリカウール上に付
着して気化されるわけではなく、注射針５から試料が真
っ直ぐに飛ばなかったり、注射針とシリカウールの距離
が適当でないために、一部はガラスインサートの内壁部
分７に一度付着した後にガラスインサート２の熱で気化
していた。ガラスインサートの内壁部分７においての気
化の仕方は、付着する試料の形状、量、ガラスインサー
ト２内の流れの様子、、試料注入の速度等によって変化
するためにガラスウール１１上での気化に比べ、気化の
仕方が分析の度に異なり、その結果スプリット比の再現
性が悪かった。本発明は、液体試料がインサート壁面に
付着することに起因する再現性悪化の問題を解決するこ
とを目的とする。
化室内に注入された試料は、全てがシリカウール上に付
着して気化されるわけではなく、注射針５から試料が真
っ直ぐに飛ばなかったり、注射針とシリカウールの距離
が適当でないために、一部はガラスインサートの内壁部
分７に一度付着した後にガラスインサート２の熱で気化
していた。ガラスインサートの内壁部分７においての気
化の仕方は、付着する試料の形状、量、ガラスインサー
ト２内の流れの様子、、試料注入の速度等によって変化
するためにガラスウール１１上での気化に比べ、気化の
仕方が分析の度に異なり、その結果スプリット比の再現
性が悪かった。本発明は、液体試料がインサート壁面に
付着することに起因する再現性悪化の問題を解決するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
になされた本発明のガスクロマトグラフ用試料気化室
は、試料気化室内に設けたインサートの内空間にある試
料保持部材に液体試料を導入し、インサート外側に設け
たヒータにより液体試料を加熱して気化するとともに、
気化した試料をキャリアガスとともに分析カラムに送り
込むガスクロマトグラフ用試料気化室において、前記イ
ンサートは通気性を有する材料により構成され、前記キ
ャリアガスが前記インサートの外面側から内面側に通過
させるようにしてインサート内空間に導入させ、インサ
ート内面に試料が付着しないようにしたことを特徴とす
る。
になされた本発明のガスクロマトグラフ用試料気化室
は、試料気化室内に設けたインサートの内空間にある試
料保持部材に液体試料を導入し、インサート外側に設け
たヒータにより液体試料を加熱して気化するとともに、
気化した試料をキャリアガスとともに分析カラムに送り
込むガスクロマトグラフ用試料気化室において、前記イ
ンサートは通気性を有する材料により構成され、前記キ
ャリアガスが前記インサートの外面側から内面側に通過
させるようにしてインサート内空間に導入させ、インサ
ート内面に試料が付着しないようにしたことを特徴とす
る。
【０００７】本発明のガスクロマトグラフ用試料気化室
では、試料が注射針により、試料気化室内に導入される
とき、インサートはその外側面から内側面に向けてキャ
リアガスが流されているので、この流れのために液体試
料はインサート壁面に付着することなく、全量が試料保
持部材に付着することとなり、ここで気化されることと
なる。
では、試料が注射針により、試料気化室内に導入される
とき、インサートはその外側面から内側面に向けてキャ
リアガスが流されているので、この流れのために液体試
料はインサート壁面に付着することなく、全量が試料保
持部材に付着することとなり、ここで気化されることと
なる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて説明する。図２は本発明の実施例である試料気
化室の断面図である。
を用いて説明する。図２は本発明の実施例である試料気
化室の断面図である。
【０００９】１はキャリアガス流入口、２１は通気性を
有する円筒状のインサート、３はセプタム、４は試料を
注入する注射器、５は注射器４の注射針、２２は試料気
化室のハウジング、２３はインサート内壁部分、８はハ
ウジング２２の温度を制御するヒータ、９は分析カラ
ム、１０はスプリットガス出口、１１はシリカウールで
ある。
有する円筒状のインサート、３はセプタム、４は試料を
注入する注射器、５は注射器４の注射針、２２は試料気
化室のハウジング、２３はインサート内壁部分、８はハ
ウジング２２の温度を制御するヒータ、９は分析カラ
ム、１０はスプリットガス出口、１１はシリカウールで
ある。
【００１０】インサート２１は、通気性を有するように
するため、従来一般的に使用されていたガラスではなく
焼結金属が用いられる。もちろんインサート材質として
は焼結金属に限られることなく、通気性がある物質であ
ればよい。
するため、従来一般的に使用されていたガラスではなく
焼結金属が用いられる。もちろんインサート材質として
は焼結金属に限られることなく、通気性がある物質であ
ればよい。
【００１１】そして、インサート２１の外側には空間が
設けられ、この空間にはキャリアガス流路を介してキャ
リアガスが送り込まれる。インサートの上端と下端近辺
は図示しないパッキンを介してハウジング２２に固定さ
れており、これによりインサート内部空間とインサート
外側空間とは仕切られることとなりキャリアガスはイン
サート壁面を介してのみ内側空間に流れるようになる。
すなわちキャリアガスがインサート外側空間に導入され
るとこのキャリアガスはインサート２１の通気部分を通
ってのみインサート２１内側へと流入するようになって
いる。
設けられ、この空間にはキャリアガス流路を介してキャ
リアガスが送り込まれる。インサートの上端と下端近辺
は図示しないパッキンを介してハウジング２２に固定さ
れており、これによりインサート内部空間とインサート
外側空間とは仕切られることとなりキャリアガスはイン
サート壁面を介してのみ内側空間に流れるようになる。
すなわちキャリアガスがインサート外側空間に導入され
るとこのキャリアガスはインサート２１の通気部分を通
ってのみインサート２１内側へと流入するようになって
いる。
【００１２】次に試料の導入について説明する。被分析
物である液体試料は注射器４内に装着され、セプタム３
を貫通した注射針５を通じてハウジング２２のインサー
ト２１内に導入される。このとき、キャリアガス流入口
１より流入するキャリアガス（通常ヘリウムあるいは窒
素）はインサート２１の内壁部分２３から吹き出すよう
にして導入されているので液体試料はインサート内壁２
３には付着せず、全量がシリカウール１１に付着するこ
ととなる。
物である液体試料は注射器４内に装着され、セプタム３
を貫通した注射針５を通じてハウジング２２のインサー
ト２１内に導入される。このとき、キャリアガス流入口
１より流入するキャリアガス（通常ヘリウムあるいは窒
素）はインサート２１の内壁部分２３から吹き出すよう
にして導入されているので液体試料はインサート内壁２
３には付着せず、全量がシリカウール１１に付着するこ
ととなる。
【００１３】ハウジング２２はヒータ８により、１００
Ｃ゜〜３５０Ｃ゜程度に温度制御されているので、液体
試料は注入された後、迅速に気化し、キャリアガス流入
口１より流入し、インサート内壁部分２３を介して送り
込まれたキャリアガスと共に分析カラム９へと導入され
る。従来の技術とは異なり、全ての試料がシリカウール
１１上で気化するために、スプリット比の再現性の良い
分析を行うことが出来る。
Ｃ゜〜３５０Ｃ゜程度に温度制御されているので、液体
試料は注入された後、迅速に気化し、キャリアガス流入
口１より流入し、インサート内壁部分２３を介して送り
込まれたキャリアガスと共に分析カラム９へと導入され
る。従来の技術とは異なり、全ての試料がシリカウール
１１上で気化するために、スプリット比の再現性の良い
分析を行うことが出来る。
【００１４】
【発明の効果】以上、発明したように本発明のガスクロ
マトグラフ装置用試料気化室では、分析者は、インサー
ト内の流れの様子、試料注入の速度等を考慮する必要な
く、簡易な操作で再現性の良い分析を行うことができ
る。また、ガラスインサートを用いたときには内壁に高
沸点物が付着し、分析の障害となることもあったが、そ
のような弊害をも防ぐことが出来る。
マトグラフ装置用試料気化室では、分析者は、インサー
ト内の流れの様子、試料注入の速度等を考慮する必要な
く、簡易な操作で再現性の良い分析を行うことができ
る。また、ガラスインサートを用いたときには内壁に高
沸点物が付着し、分析の障害となることもあったが、そ
のような弊害をも防ぐことが出来る。
【図１】従来のガスクロマトグラフ用試料気化室の断面
図。
図。
【図２】本発明によるガスクロマトグラフ用試料気化室
の断面図。
の断面図。
１：キャリアガス流入口 ３：セプタム ４：注射器 ５：注射針 ８：ヒータ ９：分析カラム １０：スプリット出口 １１：シリカウール ２１：インサート（焼結金属製） ２２：ハウジング ２３：インサート内壁部分
Claims (1)
- 【請求項１】 試料気化室内に設けたインサートの内空
間にある試料保持部材に液体試料を導入し、インサート
外側に設けたヒータにより液体試料を加熱して気化する
とともに、気化した試料をキャリアガスとともに分析カ
ラムに送り込むガスクロマトグラフ用試料気化室におい
て、前記インサートは通気性を有する材料により構成さ
れ、前記キャリアガスが前記インサートの外面側から内
面側に通過させるようにしてインサート内空間に導入さ
せ、インサート内面に試料が付着しないようにしたこと
を特徴とするガスクロマトグラフ用試料気化室。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23066396A JPH1073577A (ja) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | ガスクロマトグラフ用試料気化室 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23066396A JPH1073577A (ja) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | ガスクロマトグラフ用試料気化室 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1073577A true JPH1073577A (ja) | 1998-03-17 |
Family
ID=16911352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23066396A Pending JPH1073577A (ja) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | ガスクロマトグラフ用試料気化室 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1073577A (ja) |
-
1996
- 1996-08-30 JP JP23066396A patent/JPH1073577A/ja active Pending
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