JPH1070114A - 有機材料コーティング方法 - Google Patents

有機材料コーティング方法

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JPH1070114A
JPH1070114A JP22626196A JP22626196A JPH1070114A JP H1070114 A JPH1070114 A JP H1070114A JP 22626196 A JP22626196 A JP 22626196A JP 22626196 A JP22626196 A JP 22626196A JP H1070114 A JPH1070114 A JP H1070114A
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JP
Japan
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coupling agent
silane coupling
organic material
film
inorg
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Application number
JP22626196A
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English (en)
Inventor
Shinichi Omokawa
真一 面川
Tsutomu Kato
勉 加藤
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1070114A publication Critical patent/JPH1070114A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】有機材料コーティング膜と無機材料表面の間に
水分が存在しない有機材料コーティング方法を提供す
る。 【解決手段】各種半導体素子等のような無機材料表面に
シランカップリング剤処理を施してから有機材料膜を形
成する有機材料コーティング方法において、前記シラン
カップリング剤処理をシランカップリング剤の蒸気に無
機材料表面を晒すことによって施す。シランカップリン
グ剤の気相法処理実験装置を用いて、デシケータ4の底
に、シランカップリング剤2を所定量溜め、支持台7の
上に無機材料1としてシリコンウエハを置き、排気後、
ヒートプレート9によりシランカップリング剤を加熱蒸
発させる。前記有機材料膜は、蒸着重合法により形成さ
れたポリ−パラ−キシリレンおよびその誘導体である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種半導体素子等
のような無機材料表面にシランカップリング剤処理を施
してから有機材料膜を形成する有機材料コーティング方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】各種半導体素子表面には、一般に電気絶
縁、防湿、防塵、耐磨耗等を目的として有機材料コーテ
ィング膜が形成されることが多い。その中で、蒸着重合
法により形成されたポリ−パラ−キシリレン膜は、高い
絶縁性や防湿性を有することで知られているが、基板と
の密着性が低いため、シランカップリング剤による前処
理を施した後に膜形成することにより、密着性の向上が
図られている。
【0003】図3は従来のシランカップリング剤前処理
方法を示す模式図である。シランカップリング剤を、水
−アルコール混合溶媒で所定の濃度に希釈した溶液2l
にコーティング対象物1を浸漬し、引き上げて乾燥工程
を行う。こうしてシランカップリング剤前処理が施され
た表面に、有機材料膜がコーティングされる。
【0004】図4は有機材料コーティングを有する無機
材料の断面図である。コーティング対象物1のコーティ
ング膜2の界面にシランカップリング剤の層2が設けら
れている。シランカップリング剤のメトキシ基やエトキ
シ基が水中解離した後シラノール基が無機材料表面と結
合し、他の側のエポキシ基やアミノ基が有機材料膜と結
合して、密着力が向上している。
【0005】有機材料としては、シリコーン系樹脂、ア
クリル樹脂またはポリイミド樹脂が用いられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
半導体素子の表面には、電極パッドや配線が配置されて
おり、水溶液による処理が好ましくない場合が多いこと
から、シランカップリング剤の水溶液による前処理方法
は、適用範囲が限定されている。半導体素子の大多数
は、その構成中に電極パッドや配線等の金属部を有し、
これらの金属部に対して水溶液による前処理を行った場
合、水分の除去のために乾燥工程を充分に行っても、吸
着水が残ることがある。有機材料コーティングを行って
も、部品内に残存した水分や吸着水の影響により、金属
部の腐食や絶縁性能の低下を引き起こすことがある。
【0007】また、乾燥工程では処理した部品に対し
て、埃やゴミ等による汚染が発生するので、作業中の防
塵対策に充分注意を払わなければならない。半導体素子
の多くは、はんだ付けや接着により組立られているが、
水−アルコール混合溶媒による処理により、これら接合
部から不純物またははんだフラックスや接着剤中の成分
が溶出し、絶縁性能や製品特性への影響が発生する。
【0008】上記の問題点に鑑み、本発明の目的は有機
材料コーティング膜と無機材料表面の間に水分が存在し
ない有機材料コーティング方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、各種半導体素子等のような無機材料表面にシラン
カップリング剤処理を施してから有機材料膜を形成する
有機材料コーティング方法において、前記シランカップ
リング剤処理はシランカップリング剤の蒸気に無機材料
表面を晒すことによって施されることとする。
【0010】前記有機材料膜は、蒸着重合法により形成
されたポリ−パラ−キシリレンおよびその誘導体である
と良い。本発明によれば、シランカップリング剤を気化
してから、無機材料表面に付着させるため、従来の水−
アルコール溶液とした処理方法と同様に、その構成分子
のシラノール基は無機材料表面と結合するので、他端の
エポキシ基やアミノ基は有機材料と結合しやすく、有機
材料コーティング膜の密着力は高い。
【0011】さらに、水を用いないので、有機材料コー
ティング膜の下には水分子は存在せず、半導体素子の金
属部は腐食せず、信頼性が高いことが期待できる。ま
た、減圧下の密閉容器中で処理を行うので、汚染は少な
い。
【0012】
【発明の実施の形態】
実施例1 図1は本発明に係るシランカップリング剤の気相法処理
実験装置を示す模式図である。ガラス製のデシケータ4
の底に、シランカップリング剤(例えば商品名 KBM
−503〔信越化学製〕)2を所定量溜め、ステンレス
製の支持台7の上に無機材料1としてシリコンウエハを
置き、コック6付きの蓋5を被せ密閉した。
【0013】先ず、コック6を開放し接続されている真
空ポンプ8で排気を行い、デシケータの中を約13Pa
まで減圧してから、コック6を占めて密閉した。デシケ
ータ4を100℃に加熱したヒートプレート9上に置い
て、シランカップリング剤2を蒸発させ、シランカップ
リング剤2の蒸気中にシリコンウエハを24時間放置
し、その表面を処理した。その後、デシケータ4を室温
まで自然冷却してからシリコンウエハを取り出した。
【0014】次に、蒸発源としてジクロロ(2,2)パ
ラシクロファン粉末(例えば、ユニオンカ−バイド社
製、パリレンC)を用い、一旦熱分解させた後、上記シ
リコンウエハ表面で重合させる真空蒸着重合法により、
厚さ5μm のポリ−パラ−キシリレン膜をコーティング
した。この無機材料上のシランカップリング剤層および
有機材料コーティング膜の層構成は図4に同じである。
【0015】この様にして得たコーティング膜のシリコ
ンウエハに対する密着力の評価を行った。図2は本発明
に係る有機材料コーティング方法による有機材料膜の密
着力を示すグラフである。図には、比較のため、従来の
水−アルコール処理を施した場合と、シランカップリン
グ剤による表面処理を施さなかった場合の同じポリ−パ
ラ−キシリレンの密着力も付記してある。
【0016】図2から、無処理のシリコンウエハに対す
る密着力と比較して、約70%の密着力の向上が認めら
れ、従来技術である水−アルコール溶液を用いて処理さ
れたシリコンウエハに対する密着と比較しても遜色のな
い密着力が得られることが判る。
【0017】
【発明の効果】本発明によれば、各種半導体素子等のよ
うな無機材料表面にシランカップリング剤処理を施して
から有機材料膜を形成する有機材料コーティング方法に
おいて、前記シランカップリング剤処理をシランカップ
リング剤の蒸気に無機材料表面を晒すことによって施す
こととしたため、その構成分子のシラノール基は無機材
料表面と結合するので、他端のエポキシ基やアミノ基は
有機材料と結合しやすく、有機材料コーティング膜の密
着力は高い。また、水を使用しないので、半導体素子の
金属部の腐食や、接合部の溶出等による特性低下は起こ
らず、本発明を適用した半導体素子は信頼性が高い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るシランカップリング剤の気相法処
理実験装置を示す模式図
【図2】本発明に係る有機材料コーティング方法による
有機材料コーティング膜の密着力を示すグラフ
【図3】従来のシランカップリング剤前処理方法を示す
模式図
【図4】有機材料コーティングを有する無機材料の断面
【符号の説明】
1 無機材料 2 シランカップリング剤 2s シランカップリング剤層 2l シランカップリング剤の水−アルコール溶液 3 有機材料コーティング膜 4 デシケータ 5 蓋 6 コック 7 支持台 8 真空ポンプ 7 ヒートプレート

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】各種半導体素子等のような無機材料表面に
    シランカップリング剤処理を施してから有機材料膜を形
    成する有機材料コーティング方法において、前記シラン
    カップリング剤処理はシランカップリング剤の蒸気に無
    機材料表面を晒すことによって施されることを特徴とす
    る有機材料コーティング方法。
  2. 【請求項2】前記有機材料膜は、蒸着重合法により形成
    されたポリ−パラ−キシリレンおよびその誘導体である
    ことを特徴とする請求項1に記載の有機材料コーティン
    グ方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100468319B1 (ko) * 2002-03-12 2005-01-27 (주)누리셀 파릴렌 고분자막 코팅 장치
JP2006231134A (ja) * 2005-02-22 2006-09-07 Ulvac Japan Ltd 有機材料膜の形成方法
JP2010024484A (ja) * 2008-07-17 2010-02-04 Seiko Epson Corp 表面処理装置および表面処理方法
JP5161299B2 (ja) * 2008-03-25 2013-03-13 東京エレクトロン株式会社 表面処理装置、及び表面処理方法
US11967454B2 (en) 2016-11-02 2024-04-23 Abiomed Europe Gmbh Intravascular blood pump comprising corrosion resistant permanent magnet

Cited By (6)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100468319B1 (ko) * 2002-03-12 2005-01-27 (주)누리셀 파릴렌 고분자막 코팅 장치
JP2006231134A (ja) * 2005-02-22 2006-09-07 Ulvac Japan Ltd 有機材料膜の形成方法
JP4617174B2 (ja) * 2005-02-22 2011-01-19 株式会社アルバック 有機材料膜の形成方法
JP5161299B2 (ja) * 2008-03-25 2013-03-13 東京エレクトロン株式会社 表面処理装置、及び表面処理方法
JP2010024484A (ja) * 2008-07-17 2010-02-04 Seiko Epson Corp 表面処理装置および表面処理方法
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