JPH1060668A - 金属ストリップのレジスト剥離設備列 - Google Patents
金属ストリップのレジスト剥離設備列Info
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- JPH1060668A JPH1060668A JP21580696A JP21580696A JPH1060668A JP H1060668 A JPH1060668 A JP H1060668A JP 21580696 A JP21580696 A JP 21580696A JP 21580696 A JP21580696 A JP 21580696A JP H1060668 A JPH1060668 A JP H1060668A
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- Japan
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- equipment
- resist
- metal strip
- cleaning
- chemical treatment
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課 題】 エッチング後の金属ストリップ表面に固着
したレジストを工業的・連続的に剥離除去し次いで表面
を清浄にできる金属ストリップのレジスト剥離設備列を
提供する。 【解決手段】 金属ストリップ表面に固着したレジスト
を化学的処理により次工程で除去可能な状態にする化学
的処理設備１、レジストを除去する除去設備４、金属ス
トリップ表面を洗浄する洗浄設備６をこの順に配置して
なり、とくに、化学的処理設備が処理液を入れた浸漬槽
であること、除去設備が物理的除去設備さらに好ましく
はブラシ設備であること、さらに化学的処理設備と物理
的除去設備とが分離して配置されることが好ましい。
したレジストを工業的・連続的に剥離除去し次いで表面
を清浄にできる金属ストリップのレジスト剥離設備列を
提供する。 【解決手段】 金属ストリップ表面に固着したレジスト
を化学的処理により次工程で除去可能な状態にする化学
的処理設備１、レジストを除去する除去設備４、金属ス
トリップ表面を洗浄する洗浄設備６をこの順に配置して
なり、とくに、化学的処理設備が処理液を入れた浸漬槽
であること、除去設備が物理的除去設備さらに好ましく
はブラシ設備であること、さらに化学的処理設備と物理
的除去設備とが分離して配置されることが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属ストリップの
レジスト剥離設備列に関し、特に低鉄損方向性電磁鋼板
の製造に適した金属ストリップのレジスト剥離設備列に
関する。
レジスト剥離設備列に関し、特に低鉄損方向性電磁鋼板
の製造に適した金属ストリップのレジスト剥離設備列に
関する。
【０００２】
【従来の技術】低鉄損方向性電磁鋼板を得る方法とし
て、磁区細分化のために鋼板に線状溝を導入する方法が
提案されている（例えば、特公平8-6140号公報あるいは
特開平6-108300号公報参照）。これは、最終冷延後の金
属ストリップ表面にエッチングレジスト（以下単にレジ
ストという）を塗布したのち、エッチング処理を施して
該金属ストリップ表面に線状溝を形成し、しかるのち該
レジストを除去するという方法である。
て、磁区細分化のために鋼板に線状溝を導入する方法が
提案されている（例えば、特公平8-6140号公報あるいは
特開平6-108300号公報参照）。これは、最終冷延後の金
属ストリップ表面にエッチングレジスト（以下単にレジ
ストという）を塗布したのち、エッチング処理を施して
該金属ストリップ表面に線状溝を形成し、しかるのち該
レジストを除去するという方法である。
【０００３】しかしながら、金属ストリップ表面のレジ
ストを工業的・連続的に剥離除去し次いで該表面を清浄
化するための設備に関してはこれまでに適当なものが見
当たらない。
ストを工業的・連続的に剥離除去し次いで該表面を清浄
化するための設備に関してはこれまでに適当なものが見
当たらない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、エッ
チング後の金属ストリップ表面に固着したレジストを工
業的・連続的に剥離除去し次いで該表面を清浄化できる
金属ストリップのレジスト剥離設備列を提供することを
目的とする。
チング後の金属ストリップ表面に固着したレジストを工
業的・連続的に剥離除去し次いで該表面を清浄化できる
金属ストリップのレジスト剥離設備列を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、金属ストリッ
プ表面に固着したレジストを化学的処理により次工程で
除去可能な状態にする化学的処理設備、レジストを除去
する除去設備、金属ストリップ表面を洗浄する洗浄設備
をこの順に配置してなることを特徴とする金属ストリッ
プのレジスト剥離設備列である。前記設備列において好
ましい形態は、化学的処理設備が処理液を入れた浸漬槽
であること、除去設備が物理的除去設備さらに好ましく
はブラシ設備であること、さらに化学的処理設備と物理
的除去設備とが分離して配置されることである。
プ表面に固着したレジストを化学的処理により次工程で
除去可能な状態にする化学的処理設備、レジストを除去
する除去設備、金属ストリップ表面を洗浄する洗浄設備
をこの順に配置してなることを特徴とする金属ストリッ
プのレジスト剥離設備列である。前記設備列において好
ましい形態は、化学的処理設備が処理液を入れた浸漬槽
であること、除去設備が物理的除去設備さらに好ましく
はブラシ設備であること、さらに化学的処理設備と物理
的除去設備とが分離して配置されることである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明によれば、金属ストリップ
はまず化学処理設備に導かれて、その表面に固着したレ
ジストを化学的処理により次工程で除去可能な状態すな
わち剥離しやすい状態にされ、次いで除去設備に導かれ
て、既に除去可能状態にあるレジストを容易に除去さ
れ、次いで洗浄設備に導かれて、後工程で有害となる表
面の残留物（化学的処理液等）を洗浄除去されるので、
金属ストリップのレジストを工業的・連続的に剥離除去
し次いで表面を清浄にすることが可能となる。
はまず化学処理設備に導かれて、その表面に固着したレ
ジストを化学的処理により次工程で除去可能な状態すな
わち剥離しやすい状態にされ、次いで除去設備に導かれ
て、既に除去可能状態にあるレジストを容易に除去さ
れ、次いで洗浄設備に導かれて、後工程で有害となる表
面の残留物（化学的処理液等）を洗浄除去されるので、
金属ストリップのレジストを工業的・連続的に剥離除去
し次いで表面を清浄にすることが可能となる。
【０００７】化学的処理設備としては、処理液を入れた
浸漬槽が処理の安定性・設備の保全性等の観点から最適
である。除去設備としては、物理的なものと化学的なも
のとが挙げられるが、化学的除去設備とした場合、現在
用いられている除去用処理液（例えば水酸化ナトリウ
ム、オルソ珪酸ソーダ等）では除去時間が長くかかりす
ぎ、また、設備長が長くなって除去されたレジスト滓の
排出機構も複雑化することから実際的でないため、物理
的除去設備とするのが好ましい。
浸漬槽が処理の安定性・設備の保全性等の観点から最適
である。除去設備としては、物理的なものと化学的なも
のとが挙げられるが、化学的除去設備とした場合、現在
用いられている除去用処理液（例えば水酸化ナトリウ
ム、オルソ珪酸ソーダ等）では除去時間が長くかかりす
ぎ、また、設備長が長くなって除去されたレジスト滓の
排出機構も複雑化することから実際的でないため、物理
的除去設備とするのが好ましい。
【０００８】さらに物理的除去設備としては、ブラシに
よるもの、スクレーパによるもの、水ジェットによるも
のが挙げられるが、これらのうち、ブラシによるもの
が、除去効率（除去時間）、金属ストリップ表面のカキ
疵防止、ランニングコスト等の観点からして最適であ
る。また、浸漬槽内で物理的除去を行うと、除去された
レジスト滓が浸漬槽内に堆積してしまい、槽の清掃や液
交換の頻度が高くなり操業能率が低下する。そのため、
化学的処理設備と物理的除去設備とは分離して配置する
ことが好ましい。なお、除去設備底に堆積するレジスト
滓はフィルタ等を設置して取り去ることが望ましい。
よるもの、スクレーパによるもの、水ジェットによるも
のが挙げられるが、これらのうち、ブラシによるもの
が、除去効率（除去時間）、金属ストリップ表面のカキ
疵防止、ランニングコスト等の観点からして最適であ
る。また、浸漬槽内で物理的除去を行うと、除去された
レジスト滓が浸漬槽内に堆積してしまい、槽の清掃や液
交換の頻度が高くなり操業能率が低下する。そのため、
化学的処理設備と物理的除去設備とは分離して配置する
ことが好ましい。なお、除去設備底に堆積するレジスト
滓はフィルタ等を設置して取り去ることが望ましい。
【０００９】
【実施例】図１は、本発明設備列の実施例を示す模式図
である。図１において、１は浸漬槽（化学的処理設
備）、２および７はデフレクタロール、３および８はシ
ンクロール、４はブラシ設備（（物理的）除去設備）、
５はブラシロール、６は洗浄槽（洗浄設備）、９は金属
ストリップ、10は水噴射ノズルである。
である。図１において、１は浸漬槽（化学的処理設
備）、２および７はデフレクタロール、３および８はシ
ンクロール、４はブラシ設備（（物理的）除去設備）、
５はブラシロール、６は洗浄槽（洗浄設備）、９は金属
ストリップ、10は水噴射ノズルである。
【００１０】図示のように、金属ストリップ９が入側の
デフレクタロール２に巻回されて浸漬槽１内の処理液
（ここでは水酸化ナトリウム水溶液）中に搬入浸漬され
てからシンクロール３を経て出側のデフレクタロール２
に巻回されて処理液外に搬出される間に、その表面に固
着したレジスト（ここでは樹脂）が膨潤して除去されや
すい状態になる。
デフレクタロール２に巻回されて浸漬槽１内の処理液
（ここでは水酸化ナトリウム水溶液）中に搬入浸漬され
てからシンクロール３を経て出側のデフレクタロール２
に巻回されて処理液外に搬出される間に、その表面に固
着したレジスト（ここでは樹脂）が膨潤して除去されや
すい状態になる。
【００１１】浸漬槽１内ではレジストは膨潤するだけで
金属ストリップ９表面から剥離しないので、浸漬槽１底
にレジスト滓が堆積することはなく、よって約１５ｍも
の長大な浸漬槽１をレジスト滓除去のために清掃する必
要がないから、本発明は生産能率面、作業工数面で大い
に有利である。次いで、金属ストリップ９は、浸漬槽１
とは分離して独立に配置されたブラシ設備４内を通過
し、この通過時にブラシ設備４内に上下二対に設けられ
た駆動回転するブラシロール５によって金属ストリップ
９表面に膨潤状態で付着しているレジストがブラッシン
グ除去される。これらブラシロール５は金属ストリップ
９に対する押圧力の制御が自在に設けられており、かか
る押圧力を調整することにより当該設備を通過中の金属
ストリップ９表面にカキ疵をつけずにそこからレジスト
を完全に除去できる。
金属ストリップ９表面から剥離しないので、浸漬槽１底
にレジスト滓が堆積することはなく、よって約１５ｍも
の長大な浸漬槽１をレジスト滓除去のために清掃する必
要がないから、本発明は生産能率面、作業工数面で大い
に有利である。次いで、金属ストリップ９は、浸漬槽１
とは分離して独立に配置されたブラシ設備４内を通過
し、この通過時にブラシ設備４内に上下二対に設けられ
た駆動回転するブラシロール５によって金属ストリップ
９表面に膨潤状態で付着しているレジストがブラッシン
グ除去される。これらブラシロール５は金属ストリップ
９に対する押圧力の制御が自在に設けられており、かか
る押圧力を調整することにより当該設備を通過中の金属
ストリップ９表面にカキ疵をつけずにそこからレジスト
を完全に除去できる。
【００１２】なお、図示しないが、ブラシ設備４の底部
にはフィルタを備えた循環系統が設けられて、ブラッシ
ング除去されたレジスト滓を効率よく系外に排出できる
ようになっており、レジスト滓は設備運転中に自動排出
されるので、清掃のためのライン停止は不要である。次
いで、金属ストリップ９は洗浄槽６に搬入される。ここ
では洗浄槽６の入側と出側にデフレクタロール７、槽内
の洗浄水中にシンクロール８を設けて、これらロールに
金属ストリップ９を巻回して通過させながら、デフレク
タロール７とシンクロール８との間に設けた水噴射ノズ
ル10から金属ストリップ９表面に水を噴射するとともに
洗浄水中を潜らせることによって洗浄するように構成し
ている。これにより、該表面に残留した水酸化ナトリウ
ム水溶液が効率よく除去されて表面が清浄化されるの
で、後工程に悪影響を及ぼすことがない。
にはフィルタを備えた循環系統が設けられて、ブラッシ
ング除去されたレジスト滓を効率よく系外に排出できる
ようになっており、レジスト滓は設備運転中に自動排出
されるので、清掃のためのライン停止は不要である。次
いで、金属ストリップ９は洗浄槽６に搬入される。ここ
では洗浄槽６の入側と出側にデフレクタロール７、槽内
の洗浄水中にシンクロール８を設けて、これらロールに
金属ストリップ９を巻回して通過させながら、デフレク
タロール７とシンクロール８との間に設けた水噴射ノズ
ル10から金属ストリップ９表面に水を噴射するとともに
洗浄水中を潜らせることによって洗浄するように構成し
ている。これにより、該表面に残留した水酸化ナトリウ
ム水溶液が効率よく除去されて表面が清浄化されるの
で、後工程に悪影響を及ぼすことがない。
【００１３】図１に示した設備列を電磁鋼板のエッチン
グ処理ラインの出側に設置して操業に供したところ、金
属ストリップ表面に固着したレジストを連続的に完全に
剥離除去することができ、また、洗浄槽出側の金属スト
リップ表面に水酸化ナトリウムの残留は認められなかっ
た。なお、本発明がこの実施例の開示内容のみに限定さ
れるものでないことはいうまでもない。すなわち、ここ
では、化学的処理液に水酸化ナトリウム水溶液を用いた
が、これ以外に例えば各種有機溶剤等も使用でき、除去
設備として好適な物理的除去設備のうちで最善のブラシ
設備を用いたが、前述のスクレーパ、水ジェット等も次
善の方式として適用可能であり、ブラシ設備の構成を上
下二対のブラシロールを有する形態としたが、適宜別の
形態も採用でき、洗浄設備にしても、状況に応じてこの
実施例以外の形態を種々選択して使用可能である。
グ処理ラインの出側に設置して操業に供したところ、金
属ストリップ表面に固着したレジストを連続的に完全に
剥離除去することができ、また、洗浄槽出側の金属スト
リップ表面に水酸化ナトリウムの残留は認められなかっ
た。なお、本発明がこの実施例の開示内容のみに限定さ
れるものでないことはいうまでもない。すなわち、ここ
では、化学的処理液に水酸化ナトリウム水溶液を用いた
が、これ以外に例えば各種有機溶剤等も使用でき、除去
設備として好適な物理的除去設備のうちで最善のブラシ
設備を用いたが、前述のスクレーパ、水ジェット等も次
善の方式として適用可能であり、ブラシ設備の構成を上
下二対のブラシロールを有する形態としたが、適宜別の
形態も採用でき、洗浄設備にしても、状況に応じてこの
実施例以外の形態を種々選択して使用可能である。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、金属ストリップのレジ
ストを工業的・連続的に剥離除去し次いで表面を清浄に
することが可能となるので、低鉄損方向性電磁鋼板を円
滑に製造できるという優れた効果を奏する。
ストを工業的・連続的に剥離除去し次いで表面を清浄に
することが可能となるので、低鉄損方向性電磁鋼板を円
滑に製造できるという優れた効果を奏する。
【図１】本発明設備列の実施例を示す模式図である。
１ 浸漬槽（化学的処理設備） ２，７ デフレクタロール ３，８ シンクロール ４ ブラシ設備（（物理的）除去設備） ５ ブラシロール ６ 洗浄槽（洗浄設備） ９ 金属ストリップ 10 水噴射ノズル
Claims (5)
- 【請求項１】 金属ストリップ表面に固着したレジスト
を化学的処理により次工程で除去可能な状態にする化学
的処理設備、レジストを除去する除去設備、金属ストリ
ップ表面を洗浄する洗浄設備をこの順に配置してなるこ
とを特徴とする金属ストリップのレジスト剥離設備列。 - 【請求項２】 化学的処理設備が処理液を入れた浸漬槽
である請求項１記載の金属ストリップのレジスト剥離設
備列。 - 【請求項３】 除去設備が物理的除去設備である請求項
１または２に記載の金属ストリップのレジスト剥離設備
列。 - 【請求項４】 物理的除去設備がブラシ設備である請求
項３記載の金属ストリップのレジスト剥離設備列。 - 【請求項５】 化学的処理設備と物理的除去設備とが分
離して配置された請求項３または４に記載の金属ストリ
ップのレジスト剥離設備列。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21580696A JP3334785B2 (ja) | 1996-08-15 | 1996-08-15 | 方向性電磁鋼板の製造に用いる金属ストリップのレジスト剥離設備列 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21580696A JP3334785B2 (ja) | 1996-08-15 | 1996-08-15 | 方向性電磁鋼板の製造に用いる金属ストリップのレジスト剥離設備列 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1060668A true JPH1060668A (ja) | 1998-03-03 |
| JP3334785B2 JP3334785B2 (ja) | 2002-10-15 |
Family
ID=16678572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21580696A Expired - Fee Related JP3334785B2 (ja) | 1996-08-15 | 1996-08-15 | 方向性電磁鋼板の製造に用いる金属ストリップのレジスト剥離設備列 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3334785B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002341130A (ja) * | 2001-05-21 | 2002-11-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂膜除去装置およびその方法 |
-
1996
- 1996-08-15 JP JP21580696A patent/JP3334785B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002341130A (ja) * | 2001-05-21 | 2002-11-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂膜除去装置およびその方法 |
| JP4564683B2 (ja) * | 2001-05-21 | 2010-10-20 | 大日本印刷株式会社 | 樹脂膜除去装置およびその方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3334785B2 (ja) | 2002-10-15 |
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