JPH105677A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
- Publication number
- JPH105677A JPH105677A JP18657796A JP18657796A JPH105677A JP H105677 A JPH105677 A JP H105677A JP 18657796 A JP18657796 A JP 18657796A JP 18657796 A JP18657796 A JP 18657796A JP H105677 A JPH105677 A JP H105677A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- substrate
- base plate
- head
- bead
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 大型ガラス基板等の枚葉タイプの被塗布基板
に対して均一な塗布膜の形成が可能であり、かつ、塗布
液の使用効率の高い塗布方法を提供する。 【解決手段】 上方に向って開口するとともに水平方向
に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッドに塗布液を
供給し、この塗布液をスリットから吐出させてビードを
形成し、平面形状が矩形の被塗布基板をその１つの対角
線方向にほぼ沿って塗布ヘッドの上方を斜め上方向に相
対的に移動させ、塗布ヘッドと被塗布基板との間に形成
されたビードから被塗布基板の塗布面に塗布液を付着さ
せる。
に対して均一な塗布膜の形成が可能であり、かつ、塗布
液の使用効率の高い塗布方法を提供する。 【解決手段】 上方に向って開口するとともに水平方向
に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッドに塗布液を
供給し、この塗布液をスリットから吐出させてビードを
形成し、平面形状が矩形の被塗布基板をその１つの対角
線方向にほぼ沿って塗布ヘッドの上方を斜め上方向に相
対的に移動させ、塗布ヘッドと被塗布基板との間に形成
されたビードから被塗布基板の塗布面に塗布液を付着さ
せる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は塗布方法に係り、特
に大型ガラス基板等の枚葉タイプの被塗布基板等に塗布
液を均一、かつ、効率良く塗布するための塗布方法に関
する。
に大型ガラス基板等の枚葉タイプの被塗布基板等に塗布
液を均一、かつ、効率良く塗布するための塗布方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ＬＣＤ用カラーフィルタ等の大
型ガラス基板に塗布液を塗布する方式としては、スピン
塗布方式が多く用いられている。
型ガラス基板に塗布液を塗布する方式としては、スピン
塗布方式が多く用いられている。
【０００３】このスピン塗布方式には大気開放型および
密閉カップ型があるが、何れの方式も、塗布液の使用効
率が１０パーセント程度と低く、しかも基板のコーナ部
分の塗布膜厚が厚くなりすぎるという欠点があり、今後
見込まれる基板サイズの大型化に伴って、塗布液の使用
量、膜厚分布およびスループット等の点において問題が
指摘されている。
密閉カップ型があるが、何れの方式も、塗布液の使用効
率が１０パーセント程度と低く、しかも基板のコーナ部
分の塗布膜厚が厚くなりすぎるという欠点があり、今後
見込まれる基板サイズの大型化に伴って、塗布液の使用
量、膜厚分布およびスループット等の点において問題が
指摘されている。
【０００４】上述のようなスピン塗布方式の欠点を解決
するための方式としては、ナイフ塗布方式、ロール塗布
方式またはダイ塗布方式がある。
するための方式としては、ナイフ塗布方式、ロール塗布
方式またはダイ塗布方式がある。
【０００５】これらの方式は、何れも、基板上に塗布用
クリアランスを設け、その設定値によって塗布膜厚を決
定して塗布面の平滑性を得る方式であるが、この方式で
は、基板表面の平滑度（凹凸度）が塗布精度以上に低い
（凹凸度が大きい）ものに対しては、均一な膜厚を得る
ことが困難である。
クリアランスを設け、その設定値によって塗布膜厚を決
定して塗布面の平滑性を得る方式であるが、この方式で
は、基板表面の平滑度（凹凸度）が塗布精度以上に低い
（凹凸度が大きい）ものに対しては、均一な膜厚を得る
ことが困難である。
【０００６】また、基板表面の凹凸に影響され難い塗布
液の塗布方法としては、一般にディップ塗布方式が知ら
れているが、この方式では、非塗布部を被覆することが
不可欠であり、作業が煩雑なものとなる。
液の塗布方法としては、一般にディップ塗布方式が知ら
れているが、この方式では、非塗布部を被覆することが
不可欠であり、作業が煩雑なものとなる。
【０００７】そこで、上記のような各塗布方式における
欠点を解消して、枚葉基板に塗布液の物性に影響を受け
ることなく安定した状態で均一な塗布膜を形成すること
のできるビード塗布方式の塗布装置が提案されている
（特願平５−１４６７５７号）。
欠点を解消して、枚葉基板に塗布液の物性に影響を受け
ることなく安定した状態で均一な塗布膜を形成すること
のできるビード塗布方式の塗布装置が提案されている
（特願平５−１４６７５７号）。
【０００８】この塗布装置では、上向きに開口する直線
状のスリットを有する塗布ヘッドを備え、基板保持部材
に保持された基板が、その先端部が塗布ヘッドのスリッ
トの直上に所定のクリアランスを介して対向するように
位置される。そして、塗布ヘッドに塗布液が供給される
と、塗布液がスリットから吐出されてビードを形成し、
被塗布基板の先端部下面に付着する。この状態から基板
保持部材が一定速度で斜め上方にスライドされ、ビード
から塗布液が基板の下面に順次付着され、塗布液の層が
形成される。このとき、塗布ヘッドには連続して塗布液
の供給が行われ、ビードにおける塗布液の量が一定に保
たれている。そして、基板が斜め上方に上昇してその後
端部が塗布ヘッドのスリット上に到達すると、基板保持
部材のスライドが停止され、ビードを形成する塗布液が
塗布ヘッド内に吸引されてビードが消滅される。これに
よって、塗布ヘッドと基板上の塗布液の層が分離され
る。
状のスリットを有する塗布ヘッドを備え、基板保持部材
に保持された基板が、その先端部が塗布ヘッドのスリッ
トの直上に所定のクリアランスを介して対向するように
位置される。そして、塗布ヘッドに塗布液が供給される
と、塗布液がスリットから吐出されてビードを形成し、
被塗布基板の先端部下面に付着する。この状態から基板
保持部材が一定速度で斜め上方にスライドされ、ビード
から塗布液が基板の下面に順次付着され、塗布液の層が
形成される。このとき、塗布ヘッドには連続して塗布液
の供給が行われ、ビードにおける塗布液の量が一定に保
たれている。そして、基板が斜め上方に上昇してその後
端部が塗布ヘッドのスリット上に到達すると、基板保持
部材のスライドが停止され、ビードを形成する塗布液が
塗布ヘッド内に吸引されてビードが消滅される。これに
よって、塗布ヘッドと基板上の塗布液の層が分離され
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】図７は、上述のような
ビード塗布方式により矩形の基板に塗布液を塗布する状
態を示す平面図である。図７では、基板Ｓの下方を塗布
ヘッド１がスリットから塗布液を吐出してビードを形成
した状態で相対的に矢印Ａ方向に移動することにより塗
布が行われる。この図７に示されるように、従来は矩形
の基板Ｓの辺方向（図示例では対向する辺Ｓ1 ，Ｓ2 方
向）に沿って塗布が行われる。図８は、図７に示される
ビード塗布方式により塗布が行われた基板Ｓの辺Ｓ1 方
向からの側面図であり、基板Ｓは塗布後に塗布面が上向
き水平の状態にされている。上記のビード塗布方式で
は、基板Ｓの辺Ｓ4 が塗布の終了段階でビードに接触し
ているので、塗布された塗布膜Ｆの塗布終端部のおいて
液残り部Ｆ1 が発生することが避けられない。そして、
このような液残り部Ｆ1 の発生領域は、塗布厚みが不均
一なため非有効領域となり、基板Ｓの使用効率の低下を
来すとともに、液残り部Ｆ1 の発生により塗布液の使用
効率も低くなるという問題がある。
ビード塗布方式により矩形の基板に塗布液を塗布する状
態を示す平面図である。図７では、基板Ｓの下方を塗布
ヘッド１がスリットから塗布液を吐出してビードを形成
した状態で相対的に矢印Ａ方向に移動することにより塗
布が行われる。この図７に示されるように、従来は矩形
の基板Ｓの辺方向（図示例では対向する辺Ｓ1 ，Ｓ2 方
向）に沿って塗布が行われる。図８は、図７に示される
ビード塗布方式により塗布が行われた基板Ｓの辺Ｓ1 方
向からの側面図であり、基板Ｓは塗布後に塗布面が上向
き水平の状態にされている。上記のビード塗布方式で
は、基板Ｓの辺Ｓ4 が塗布の終了段階でビードに接触し
ているので、塗布された塗布膜Ｆの塗布終端部のおいて
液残り部Ｆ1 が発生することが避けられない。そして、
このような液残り部Ｆ1 の発生領域は、塗布厚みが不均
一なため非有効領域となり、基板Ｓの使用効率の低下を
来すとともに、液残り部Ｆ1 の発生により塗布液の使用
効率も低くなるという問題がある。
【００１０】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、大型ガラス基板等の枚葉タイプの被塗布
基板に対して均一な塗布膜の形成が可能であり、かつ、
塗布液の使用効率の高い塗布方法を提供することを目的
とする。
たものであり、大型ガラス基板等の枚葉タイプの被塗布
基板に対して均一な塗布膜の形成が可能であり、かつ、
塗布液の使用効率の高い塗布方法を提供することを目的
とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の塗布方法は、上方に向って開口するととも
に水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッド
に塗布液を供給して前記スリットから吐出させ、平面形
状が矩形の被塗布基板をその１つの対角線方向にほぼ沿
って前記塗布ヘッドの上方を斜め上方向に相対的に移動
させて、前記塗布ヘッドと前記被塗布基板との間に形成
されたビードから被塗布基板の塗布面に塗布液を付着さ
せることによって前記被塗布基板への塗布液の塗布を行
うような構成とした。
に、本発明の塗布方法は、上方に向って開口するととも
に水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッド
に塗布液を供給して前記スリットから吐出させ、平面形
状が矩形の被塗布基板をその１つの対角線方向にほぼ沿
って前記塗布ヘッドの上方を斜め上方向に相対的に移動
させて、前記塗布ヘッドと前記被塗布基板との間に形成
されたビードから被塗布基板の塗布面に塗布液を付着さ
せることによって前記被塗布基板への塗布液の塗布を行
うような構成とした。
【００１２】このような本発明では、１つの対角線方向
にほぼ沿って塗布ヘッドの上方を斜め上方向に被塗布基
板を相対的に移動し、ビードから塗布液を付着させるこ
とによる塗布が終了する段階で、ビードには被塗布基板
の１つの角部のみが接触し、被塗布基板への液残りは極
めて少ないものとなる。
にほぼ沿って塗布ヘッドの上方を斜め上方向に被塗布基
板を相対的に移動し、ビードから塗布液を付着させるこ
とによる塗布が終了する段階で、ビードには被塗布基板
の１つの角部のみが接触し、被塗布基板への液残りは極
めて少ないものとなる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の最も好ましいと思
われる実施の形態について説明する。
われる実施の形態について説明する。
【００１４】図１は本発明の塗布方法に使用可能な塗布
装置の一例を示す概略構成図であり、この塗布装置を参
照しながら本発明の塗布方法を説明する。図１におい
て、塗布装置１０は、装置本体１１の一対の支持フレー
ム１１Ａ間に基板Ｓのスライド方向において下流側の端
部が高くなるように傾斜した状態で取り付けられた直線
状のガイドフレーム１２と、このガイドフレーム１２に
スライド自在に取り付けられた基板保持部材１３と、上
向きに開口する直線状のスリット１ａを有しガイドフレ
ーム１２の軸方向と直交する方向に延びるようにガイド
フレーム１２の下方に配置された塗布ヘッド１とを備え
ている。
装置の一例を示す概略構成図であり、この塗布装置を参
照しながら本発明の塗布方法を説明する。図１におい
て、塗布装置１０は、装置本体１１の一対の支持フレー
ム１１Ａ間に基板Ｓのスライド方向において下流側の端
部が高くなるように傾斜した状態で取り付けられた直線
状のガイドフレーム１２と、このガイドフレーム１２に
スライド自在に取り付けられた基板保持部材１３と、上
向きに開口する直線状のスリット１ａを有しガイドフレ
ーム１２の軸方向と直交する方向に延びるようにガイド
フレーム１２の下方に配置された塗布ヘッド１とを備え
ている。
【００１５】基板保持部材１３は、ガイドフレーム１２
に沿って設置されたボールねじ１５に螺合されていて、
このボールねじ１５がモータＭによって回転されること
によりガイドフレーム１２に沿ってスライドされるよう
になっている。そして、基板保持部材１３の吸引管接続
部１３Ａに接続されている図示しない吸引機構の作動に
より、その下向きの吸着面に被塗布基板Ｓを吸着して保
持するようになっている。本発明では、基板保持部材１
３による平面形状が矩形の基板Ｓの保持において、基板
Ｓの１つの対角線がガイドフレーム１２の軸方向とほぼ
平行となるように保持する。このように基板Ｓを保持す
ることによって、基板Ｓのスライド方向が基板Ｓの１つ
の対角線方向にほぼ沿ったものとなる。図２は、上述の
ように基板保持部材１３に保持された平面形状が矩形の
基板Ｓ（対向する辺Ｓ1 とＳ2 、対向する辺Ｓ3 Ｓ4 を
備える）と塗布ヘッドとの位置関係を示す図である。図
２に示されるように、基板Ｓのスライド方向（図２の矢
印Ａ方向）は、矩形の基板Ｓが有する２つの対角線ｄ
1 、ｄ2 のうち１つの対角線ｄ1 （基板Ｓの角部Ｃ1と
Ｃ2 を結ぶ対角線）とほぼ平行となる。この場合、対角
線ｄ1 が基板Ｓのスライド方向Ａとなす角度θは０〜２
０°、好ましくは０〜１０°の範囲とする。また、辺Ｓ
2 がスライド方向Ａとなる角度θ1 および辺Ｓ3 がスラ
イド方向Ａとなる角度θ2 は３０〜４５°の範囲となる
ことが好ましい。
に沿って設置されたボールねじ１５に螺合されていて、
このボールねじ１５がモータＭによって回転されること
によりガイドフレーム１２に沿ってスライドされるよう
になっている。そして、基板保持部材１３の吸引管接続
部１３Ａに接続されている図示しない吸引機構の作動に
より、その下向きの吸着面に被塗布基板Ｓを吸着して保
持するようになっている。本発明では、基板保持部材１
３による平面形状が矩形の基板Ｓの保持において、基板
Ｓの１つの対角線がガイドフレーム１２の軸方向とほぼ
平行となるように保持する。このように基板Ｓを保持す
ることによって、基板Ｓのスライド方向が基板Ｓの１つ
の対角線方向にほぼ沿ったものとなる。図２は、上述の
ように基板保持部材１３に保持された平面形状が矩形の
基板Ｓ（対向する辺Ｓ1 とＳ2 、対向する辺Ｓ3 Ｓ4 を
備える）と塗布ヘッドとの位置関係を示す図である。図
２に示されるように、基板Ｓのスライド方向（図２の矢
印Ａ方向）は、矩形の基板Ｓが有する２つの対角線ｄ
1 、ｄ2 のうち１つの対角線ｄ1 （基板Ｓの角部Ｃ1と
Ｃ2 を結ぶ対角線）とほぼ平行となる。この場合、対角
線ｄ1 が基板Ｓのスライド方向Ａとなす角度θは０〜２
０°、好ましくは０〜１０°の範囲とする。また、辺Ｓ
2 がスライド方向Ａとなる角度θ1 および辺Ｓ3 がスラ
イド方向Ａとなる角度θ2 は３０〜４５°の範囲となる
ことが好ましい。
【００１６】上記の塗布ヘッド１は、図示しない塗布液
供給機構から供給される塗布液をスリット１ａから上方
に吐出するようになっている。
供給機構から供給される塗布液をスリット１ａから上方
に吐出するようになっている。
【００１７】図３は、上記塗布装置の塗布開始時の状態
を示しており、基板保持部材１３の吸着面に吸着された
基板Ｓが、その角部Ｃ1 近傍を塗布ヘッド１のスリット
１ａの直上に所定のクリアランスを介して対向するよう
に位置されている。
を示しており、基板保持部材１３の吸着面に吸着された
基板Ｓが、その角部Ｃ1 近傍を塗布ヘッド１のスリット
１ａの直上に所定のクリアランスを介して対向するよう
に位置されている。
【００１８】そして、塗布ヘッド１に塗布液供給機構か
ら塗布液Ｒが供給されると、供給された塗布液Ｒがスリ
ット１ａから吐出されてビードＢを形成し、基板Ｓの先
端部下面に付着する。このとき、スリット１ａの開口部
と基板保持部材１３に吸着された基板Ｓの下面との間の
最小クリアランスは、ビードＢから塗布液Ｒが零れ出さ
ないように、塗布液Ｒの粘度や表面張力等の物性を考慮
して設定されている。
ら塗布液Ｒが供給されると、供給された塗布液Ｒがスリ
ット１ａから吐出されてビードＢを形成し、基板Ｓの先
端部下面に付着する。このとき、スリット１ａの開口部
と基板保持部材１３に吸着された基板Ｓの下面との間の
最小クリアランスは、ビードＢから塗布液Ｒが零れ出さ
ないように、塗布液Ｒの粘度や表面張力等の物性を考慮
して設定されている。
【００１９】次に、図３の状態からモータＭが駆動さ
れ、ボールねじ１５が回転されることによって、基板保
持部材１３がガイドフレーム１２に沿って一定速度で斜
め上方にスライドされる。すなわち、基板Ｓは、その１
つの対角線ｄ1 方向にほぼ沿って塗布ヘッド１の上方を
斜め上方向に移動する。
れ、ボールねじ１５が回転されることによって、基板保
持部材１３がガイドフレーム１２に沿って一定速度で斜
め上方にスライドされる。すなわち、基板Ｓは、その１
つの対角線ｄ1 方向にほぼ沿って塗布ヘッド１の上方を
斜め上方向に移動する。
【００２０】これによって、図４に示されるように、ビ
ードＢから塗布液Ｒが基板Ｓの下面に順次付着され、塗
布液Ｒの層Ｒａが形成される。このとき、塗布ヘッド１
には連続して塗布液Ｒの供給が行われ、ビードＢにおけ
る塗布液Ｒの量が一定に保たれている。
ードＢから塗布液Ｒが基板Ｓの下面に順次付着され、塗
布液Ｒの層Ｒａが形成される。このとき、塗布ヘッド１
には連続して塗布液Ｒの供給が行われ、ビードＢにおけ
る塗布液Ｒの量が一定に保たれている。
【００２１】そして、図５に示されるように、基板Ｓが
ガイドフレーム１２に沿って上昇し、基板Ｓの後端部
（角部Ｃ2 ）が塗布ヘッド１のスリット１ａ上に到達す
ると、基板保持部材１３のスライドが停止され、さらに
塗布ヘッド１に接続された図示しないサックバックバル
ブの作動によってビードＢを形成する塗布液Ｒが塗布ヘ
ッド１内に吸引されてビードＢが消滅される。これによ
って、塗布ヘッド１と基板Ｓ上の塗布液Ｒの層Ｒａが分
離される。この段階において、ビードＢには基板Ｓの１
つの角部Ｃ1 のみが接触し、このため基板への液残り領
域が極めて少ないものとなる。
ガイドフレーム１２に沿って上昇し、基板Ｓの後端部
（角部Ｃ2 ）が塗布ヘッド１のスリット１ａ上に到達す
ると、基板保持部材１３のスライドが停止され、さらに
塗布ヘッド１に接続された図示しないサックバックバル
ブの作動によってビードＢを形成する塗布液Ｒが塗布ヘ
ッド１内に吸引されてビードＢが消滅される。これによ
って、塗布ヘッド１と基板Ｓ上の塗布液Ｒの層Ｒａが分
離される。この段階において、ビードＢには基板Ｓの１
つの角部Ｃ1 のみが接触し、このため基板への液残り領
域が極めて少ないものとなる。
【００２２】この後、基板Ｓが基板保持部材１３から取
り外され、上向きまたは下向きの状態で水平に保たれて
図示しない乾燥ユニットに搬送され、遠赤外線ヒータ等
の手段によって乾燥されて、基板Ｓ上に均一な厚さの塗
布膜が形成される。
り外され、上向きまたは下向きの状態で水平に保たれて
図示しない乾燥ユニットに搬送され、遠赤外線ヒータ等
の手段によって乾燥されて、基板Ｓ上に均一な厚さの塗
布膜が形成される。
【００２３】図６は、塗布液Ｒの塗布が終了した状態を
示す基板Ｓの平面図である。図６において、基板Ｓ上に
形成された塗膜Ｆでは、辺Ｓ2 と辺Ｓ3 がなす角部Ｃ2
部分のみに液残り部Ｆ1 が生じており、このため、塗布
膜Ｆの有効領域が大きく基板Ｓの使用効率が高いととも
に、従来の塗布方法に比べて塗布液の使用効率の向上が
可能となる。
示す基板Ｓの平面図である。図６において、基板Ｓ上に
形成された塗膜Ｆでは、辺Ｓ2 と辺Ｓ3 がなす角部Ｃ2
部分のみに液残り部Ｆ1 が生じており、このため、塗布
膜Ｆの有効領域が大きく基板Ｓの使用効率が高いととも
に、従来の塗布方法に比べて塗布液の使用効率の向上が
可能となる。
【００２４】本発明の塗布方法に使用する塗布液には特
に制限はなく、例えば、粘度が３〜５０ｃｐｓ程度の溶
剤系感光性樹脂、水系感光性樹脂、または、これらの感
光性樹脂に顔料等の着色材を分散させた感光性樹脂、各
種接着剤、保護膜等を形成するための樹脂、各種インキ
等を対象とすることができる。
に制限はなく、例えば、粘度が３〜５０ｃｐｓ程度の溶
剤系感光性樹脂、水系感光性樹脂、または、これらの感
光性樹脂に顔料等の着色材を分散させた感光性樹脂、各
種接着剤、保護膜等を形成するための樹脂、各種インキ
等を対象とすることができる。
【００２５】
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
【００２６】幅３００ｍｍ、長さ４００ｍｍ、板厚１．
１ｍｍの長方形のＬＣＤカラーフィルタ用のガラス基板
Ｓを準備し、塗布液として固形分濃度２０％、粘度８ｃ
ｐｓの下記の組成の塗布液を調製した。尚、塗布液の粘
度測定はＢ型粘度計を用いて行った。
１ｍｍの長方形のＬＣＤカラーフィルタ用のガラス基板
Ｓを準備し、塗布液として固形分濃度２０％、粘度８ｃ
ｐｓの下記の組成の塗布液を調製した。尚、塗布液の粘
度測定はＢ型粘度計を用いて行った。
【００２７】 塗布液の組成 ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比７３／２７） …６０重量部 ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート …４３重量部 ・２．４−ビス（トリクロロメチル）−６−Ｐ−メトキシスチリル −Ｓ−トリアジン …２．５重量部 ・イルカジンレッドＢＰＴ …２０重量部 ・メチルセロソルブアセテート …５６０重量部 ・メチルエチルケトン …２８０重量部 また、図１に示されるような塗布装置を準備した。この
塗布装置に重いて、塗布ヘッドのスリット幅は２ｍｍで
あり、基板保持部材の移動速度は３０ｍｍ／秒に設定し
た。また、基板保持部材に保持されたガラス基板Ｓと塗
布ヘッドとの間の相対的角度は２０°となるように設定
した。
塗布装置に重いて、塗布ヘッドのスリット幅は２ｍｍで
あり、基板保持部材の移動速度は３０ｍｍ／秒に設定し
た。また、基板保持部材に保持されたガラス基板Ｓと塗
布ヘッドとの間の相対的角度は２０°となるように設定
した。
【００２８】次に、ガラス基板Ｓを基板保持部材に保持
した。この場合、図２に示される対角線ｄ1 と基板Ｓの
スライド方向Ａとの角度θは、下記の表１に示される数
値に設定した。
した。この場合、図２に示される対角線ｄ1 と基板Ｓの
スライド方向Ａとの角度θは、下記の表１に示される数
値に設定した。
【００２９】次いで、塗布液を塗布ヘッドに供給（４０
０ｃｍ3 ／分）しながらガラス基板Ｓへのビード塗布
（塗布量２２．４ｇ／ｍ2 ）を行った。
０ｃｍ3 ／分）しながらガラス基板Ｓへのビード塗布
（塗布量２２．４ｇ／ｍ2 ）を行った。
【００３０】塗布完了後、直ちにガラス基板Ｓを反転し
て塗布面を上向き水平とした。その後、９０℃で３分間
加熱して塗布膜（試料１〜６）を形成した。
て塗布面を上向き水平とした。その後、９０℃で３分間
加熱して塗布膜（試料１〜６）を形成した。
【００３１】このように塗布膜が形成されたガラス基板
における液残りが発生した領域の面積、塗布液の使用効
率を下記の表１に示した。
における液残りが発生した領域の面積、塗布液の使用効
率を下記の表１に示した。
【００３２】
【表１】 表１に示されるように、対角線ｄ1 と基板Ｓのスライド
方向Ａとの角度θが１５°以下である試料１〜４は、液
残りが発生する領域が小さくガラス基板の使用効率が高
くなるとともに、塗布液の使用効率も高いものであっ
た。
方向Ａとの角度θが１５°以下である試料１〜４は、液
残りが発生する領域が小さくガラス基板の使用効率が高
くなるとともに、塗布液の使用効率も高いものであっ
た。
【００３３】これに対して、対角線ｄ1 と基板Ｓのスラ
イド方向Ａとの角度θが２０°を超える試料５では、液
残りが発生する領域が試料１〜４に比べて大きくなり、
塗布液の使用効率も低下した。さらに、ガラス基板Ｓの
一辺が塗布終了時に塗布ヘッドのスリット上に位置する
ことになる試料６では、液残りが発生する領域がさらに
大きくなり、したがってガラス基板の使用効率が低いと
ともに、塗布液の使用効率も悪いものであった。
イド方向Ａとの角度θが２０°を超える試料５では、液
残りが発生する領域が試料１〜４に比べて大きくなり、
塗布液の使用効率も低下した。さらに、ガラス基板Ｓの
一辺が塗布終了時に塗布ヘッドのスリット上に位置する
ことになる試料６では、液残りが発生する領域がさらに
大きくなり、したがってガラス基板の使用効率が低いと
ともに、塗布液の使用効率も悪いものであった。
【００３４】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば上
方に向って開口するとともに水平方向に延びる帯状のス
リットを有する塗布ヘッドに塗布液を供給し、この塗布
液をスリットから吐出させてビードを形成し、平面形状
が矩形の被塗布基板をその１つの対角線方向にほぼ沿っ
て塗布ヘッドの上方を斜め上方向に相対的に移動させ、
塗布ヘッドと被塗布基板との間に形成されたビードから
被塗布基板の塗布面に塗布液を付着させるので、ビード
から塗布液を付着させることによる塗布が終了する段階
でビードには被塗布基板の１つの角部のみが接触し、従
来の塗布方法における被塗布基板の１つの辺全域が塗布
の終了段階でビードに接触するのに比べて、被塗布基板
とビードとの接触面積が大幅に減少し、このため被塗布
基板への液残りは極めて少ないものとなり、均一な膜厚
を有する塗布膜の形成領域が拡大して被塗布基板の使用
効率が向上するとともに、塗布液の使用効率が高いもの
となる。
方に向って開口するとともに水平方向に延びる帯状のス
リットを有する塗布ヘッドに塗布液を供給し、この塗布
液をスリットから吐出させてビードを形成し、平面形状
が矩形の被塗布基板をその１つの対角線方向にほぼ沿っ
て塗布ヘッドの上方を斜め上方向に相対的に移動させ、
塗布ヘッドと被塗布基板との間に形成されたビードから
被塗布基板の塗布面に塗布液を付着させるので、ビード
から塗布液を付着させることによる塗布が終了する段階
でビードには被塗布基板の１つの角部のみが接触し、従
来の塗布方法における被塗布基板の１つの辺全域が塗布
の終了段階でビードに接触するのに比べて、被塗布基板
とビードとの接触面積が大幅に減少し、このため被塗布
基板への液残りは極めて少ないものとなり、均一な膜厚
を有する塗布膜の形成領域が拡大して被塗布基板の使用
効率が向上するとともに、塗布液の使用効率が高いもの
となる。
【図１】本発明の塗布方法に使用可能な塗布装置の一例
を示す概略構成図である。
を示す概略構成図である。
【図２】図１に示される塗布装置の基板保持部材に保持
された基板と塗布ヘッドとの位置関係を示す図である。
された基板と塗布ヘッドとの位置関係を示す図である。
【図３】塗布開始時の基板とビードとの関係を示す図で
ある。
ある。
【図４】塗布途中の基板とビードとの関係を示す図であ
る。
る。
【図５】塗布終了時の基板とビードとの関係を示す図で
ある。
ある。
【図６】塗布液の塗布が終了した状態を示す基板の平面
図である。
図である。
【図７】従来の塗布方法により矩形の基板に塗布液を塗
布する状態を示す平面図である。
布する状態を示す平面図である。
【図８】図７に示されるように塗布方法により塗布が行
われた基板のスライド方向に平行な辺方向からの側面図
である。
われた基板のスライド方向に平行な辺方向からの側面図
である。
１…塗布ヘッド １ａ…スリット １０…塗布装置 Ｂ…ビード Ｓ…基板 ｄ1 ，ｄ2 …対角線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹本 潤 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 上方に向って開口するとともに水平方向
に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッドに塗布液を
供給して前記スリットから吐出させ、平面形状が矩形の
被塗布基板をその１つの対角線方向にほぼ沿って前記塗
布ヘッドの上方を斜め上方向に相対的に移動させて、前
記塗布ヘッドと前記被塗布基板との間に形成されたビー
ドから被塗布基板の塗布面に塗布液を付着させることに
よって前記被塗布基板への塗布液の塗布を行うことを特
徴とした塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18657796A JP3869497B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18657796A JP3869497B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH105677A true JPH105677A (ja) | 1998-01-13 |
| JP3869497B2 JP3869497B2 (ja) | 2007-01-17 |
Family
ID=16190981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18657796A Expired - Fee Related JP3869497B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3869497B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190139977A (ko) | 2017-04-28 | 2019-12-18 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도포 처리 장치, 도포 처리 방법 및 광학막 형성 장치 |
| US11378728B2 (en) | 2016-06-30 | 2022-07-05 | Tokyo Electron Limited | Coating processing apparatus, coating processing method, and storage medium |
-
1996
- 1996-06-27 JP JP18657796A patent/JP3869497B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11378728B2 (en) | 2016-06-30 | 2022-07-05 | Tokyo Electron Limited | Coating processing apparatus, coating processing method, and storage medium |
| KR20190139977A (ko) | 2017-04-28 | 2019-12-18 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도포 처리 장치, 도포 처리 방법 및 광학막 형성 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3869497B2 (ja) | 2007-01-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20060027164A1 (en) | Method and apparatus for coating a photosensitive material | |
| WO1994007158A1 (fr) | Filtre colore pour affichage a cristaux liquides et appareil de formation de film par tension et expansion | |
| JP2007283181A (ja) | 塗布方法と塗布装置並びに液晶ディスプレイ用部材の製造方法 | |
| JP2001070858A (ja) | 塗料の塗工装置および塗工方法 | |
| JP3139359B2 (ja) | 枚葉塗工方法およびカラーフィルタの製造方法 | |
| JPH05337413A (ja) | ロールコータによる基板表面への塗液塗布方法 | |
| JPH105677A (ja) | 塗布方法 | |
| JP5127127B2 (ja) | 塗膜形成方法 | |
| JP2008136897A (ja) | 塗布用スリットノズルの清掃方法および清掃装置並びに、ディスプレイ用部材の製造方法および製造装置 | |
| JP4197107B2 (ja) | 塗工装置 | |
| CN107894680B (zh) | 一种配向膜涂布方法及装置 | |
| JP2004267992A (ja) | 塗布方法および塗布装置並びにディスプレイ用部材の製造方法 | |
| JP4419303B2 (ja) | 塗布装置および塗布方法、ならびにカラーフィルター製造装置および製造方法 | |
| JP2007260485A (ja) | 塗布方法、塗布装置および液晶ディスプレイ用部材の製造方法 | |
| JP3720906B2 (ja) | 基板保持部材および塗布装置 | |
| JP3135846B2 (ja) | 被膜形成方法 | |
| JPH10202163A (ja) | 基板保持部材および塗布装置 | |
| JPS63313159A (ja) | レジスト塗布装置 | |
| JP2000229258A (ja) | 液体塗布装置及び液体塗布方法 | |
| JP5338071B2 (ja) | 塗布方法および塗布装置並びに液晶ディスプレイ用部材の製造方法 | |
| JPH105690A (ja) | 塗布方法 | |
| JPH08173891A (ja) | 塗膜の製造方法 | |
| JPS59156455A (ja) | 接着剤の塗布方法及びその装置 | |
| JP2002035666A (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
| JPH09290191A (ja) | ロールコーター |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050912 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051018 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051209 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061003 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061013 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091020 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101020 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111020 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121020 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131020 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |