JPH10508901A

JPH10508901A - 残留物の少ないヒドロトロープを含む硬質表面洗浄剤

Info

Publication number: JPH10508901A
Application number: JP9529427A
Authority: JP
Inventors: イルマライクリン、; アーシャッドマリク、
Original assignee: ステパンカンパニー
Priority date: 1996-02-14
Filing date: 1997-02-13
Publication date: 1998-09-02
Anticipated expiration: 2017-02-13
Also published as: ATE307868T1; DE69734427D1; CA2218256A1; AU1955797A; JP3005050B2; BR9702063A; AU728470B2; DE69734427T2; NZ329010A; EP0842251A1; US6281178B1; EP0842251B1; WO1997030140A1; MX9707912A; CA2218256C

Abstract

(57)【要約】洗剤界面活性剤及び洗剤ビルダーと、表面の洗浄後に薄膜形成及び／又は縞形成を防ぐのに十分な量のヒドロトロープとを含む、硬質表面洗浄剤組成物が開示される。

Description

【発明の詳細な説明】残留物の少ないヒドロトロープを含む硬質表面洗浄剤発明の背景発明の分野本発明は、光沢があるか又は滑らかな硬質表面、例えばガラス窓等に用いるのに特に適した、濯ぎの必要がない等方性硬質表面洗浄剤に関する。この洗浄剤は、付着した汚れを除去する一方で、除去されていない汚れ、洗浄剤、又はこれらの組合わせから生じる残留物の量を有意に減少させるものである。より特定すれば本発明は、ヒドロトロープ化合物を含む硬質表面洗浄用組成物、及びこの組成物の製造方法に関する。この発明はさらに、かなりの量のビルダーを含む硬質表面洗浄用組成物にも関する。発明の背景ガラスやセラミックタイルのような表面に付着した汚れを除去するために、典型的な方法は、アルカリ性のアンモニウムをベースとした水性洗浄剤、又は界面活性剤とその他の洗浄用添加剤との様々な混合物を含む、その他の水性洗浄剤を用いることであった。あいにく、アンモニアベースの洗浄剤の多くは、あまり汚れを除去する能力がなく、一方、界面活性剤ベースの洗浄剤では、このような硬質で光沢のある表面にかなり多量の残留物を残す。この残留物は、縞形成現象として見られ、この現象において、汚れ、洗浄剤又はその両方は、ばらばらに表面から滲み出て被膜となるので、現状では、残留物の薄い層が、洗浄したいと望む表面にこびり付いている。次のような硬質表面用の水性洗浄用組成物が開示されている。すなわち、被膜形成や縞形成を減らしつつ、妥当な洗浄性能を得るために、洗浄剤の性能を補助すると言われている様々な特別な成分を含む組成物である。米国特許第４，６０６，８４２号は、ポリアクリル樹脂を含む、ガラス及び同等の光沢硬質表面の洗浄用組成物を開示している。このポリアクリル樹脂は、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸混合物、及び水性組成物中においてビルダーとして用いられる部分を含むホスホネート又は硫黄とのアクリルポリマー錯体から成っていてもよく、これはまた、有機溶媒系及び少なくとも１つの洗浄剤界面活性剤をも含んでいる。米国特許第４，６９０，７７９号は、共に硬質表面洗浄剤として機能する、ある種の非イオン性界面活性剤と組合わされたポリアクリル酸の硬質表面洗浄剤組成物鎖ポリマーを開示している。米国特許第５，１２６，０６８号は、ある種のエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリマー界面活性剤、及び被膜形成／縞形成性が減少した硬質表面洗浄剤における洗浄成分としての、ある種のポリカルボキシルビルダーと組合わされた有機界面活性剤の使用について開示している。米国特許第４，３４３，７２５号は、ガラスの鏡及び反射表面用の水性ベース洗浄剤を開示している。これは、洗浄剤ビルダー及び有機溶媒を含まず、分子量３００，０００〜４，０００，０００の水溶性非イオン性ポリオキシエチレングリコールポリマーを含むものである。米国特許第４，９４３，３９２号は、一般的な目的に使用される家庭用洗浄剤組成物又は硬質表面に適した水性洗浄剤組成物を開示している。この洗浄剤の主成分はブトキシプロパノールである。米国特許第５，２５２，２４５号は、残留物の除去が改善され、被膜形成／縞形成が減少した、水性硬質表面洗浄剤を開示している。この洗浄剤は、Ｃ_1-6アルカノール、Ｃ₃ _〜24アルキレングリコールエーテルから成る群から選ばれる溶媒、両性及びアニオン性界面活性剤、緩衝系及び香料を含んでいる。先行技術の水性洗浄剤組成物には欠点がある。これらは洗浄剤又はビルダー塩をほとんど又はまったく含まないことが多く、従って洗浄性能が低いという傾向が見られる。洗浄性能を高めるために、硬質表面洗浄剤に高レベルのビルダー及び界面活性剤を組み込む必要がある。その一方で、被膜形成／縞形成を低いレベルに維持しなければならない。発明の概要ヒドロトロープは、広い温度範囲に亙って、製品の安定性又は均質性を維持するために、硬質表面洗浄剤に用いられてきた。使用される量は、洗浄剤に必要な安定性又は均質性を得るのに要する最小量である。安定した洗浄剤を提供するのに必要な最小量より過剰な量のヒドロトロープを用いることに関連した、実際的利点も経済的利点もない。好ましくは水性ベースの硬質表面洗浄剤にヒドロトロープ化合物を組み込むと、意外にも、洗浄された表面への被膜形成又は縞形成を減少させることが発見された。これは、ヒドロトロープ化合物を、その他の固形分に対して特別な割合で組成物中に組み込んだ場合である。従って１つの側面として、本発明は、様々な界面活性剤、ビルダー、場合によっては溶媒等、及びヒドロトロープ化合物を、残りの固形分重量の合計量に対するヒドロトロープ化合物重量の比が、少なくとも約１：３．５であるように含んでいる、硬質表面洗浄剤を提供する。もう１つの側面として、本発明はまた、洗浄剤ベース及びヒドロトロープ化合物を含む改良硬質表面洗浄剤をも提供する。この場合、洗浄剤ベース中のビルダー重量に対するヒドロトロープ化合物重量の比は、少なくとも約１：１．８である。本発明の組成物は、乾燥状態、すなわち粉末であってもよく、あるいは液体すなわち水性又は有機溶媒ベースのものであってもよい。乾燥組成物は、硬質表面の洗浄に用いる前に、水又はその他の液体に入れなければならないのはもちろんである。本発明の硬質表面洗浄剤の洗浄剤ベースは、洗浄剤界面活性剤及び洗浄剤ビルダーを含んでいる。場合によって添加される成分には、溶媒、アルカノールアミン、セッケン、並びに香料、着色料、光沢剤等がある。もう１つの側面として、本発明はまた、可視残留物を残さずに硬質表面の優れた洗浄が可能な硬質表面洗浄剤の製造方法をも包含する。これらの方法には、表面への被膜形成又は縞形成を妨げる効果がある量のヒドロトロープを添加することが含まれる。本発明は、洗浄される対象の硬質表面に残っている洗浄剤の残留物、汚れ、又はその両方から生じる被膜形成を減少させる方法及び組成物を提供する。従ってこの発明は、硬質表面洗浄剤の残留物の可視性、つまり被膜形成及び縞形成を減少させるのに効果がある量のヒドロトロープを、硬質表面洗浄剤へ添加することによって、全体的な洗浄性能を改善する。本発明はさらに、事実上被膜形成も縞形成もない、ガラス及びその他の硬質光沢表面用の洗浄剤を提供する。もう１つの側面として、本発明は、抗菌性又は殺菌性四級アンモニウム化合物を含む硬質表面洗浄剤を提供する。このような組成物は、硬質表面を洗浄しうると同時に、バクテリアを除去又は殺菌する。これらの組成物は、硬質表面の優れた洗浄及び殺菌作用を提供する一方で、可視残留物も縞も残さない。図面の簡単な説明図１は、種々の界面活性剤物質をベースとした様々な水性硬質表面洗浄剤調合物へ、発明量のヒドロトロープを添加して生じる改善を示す、１組の棒グラフである。白い棒部分は、被膜形成及び縞形成を妨げるのに必要な、本発明による有効量のヒドロトロープを含む組成物を表わす。黒い棒部分は、このような量のヒドロトロープを含まない調合物を表わす。数字が大きいほど、１〜１０のレベルで表わされた被膜形成の少なさを表わす。発明の詳細な説明硬質表面洗浄剤、好ましくは水性ベースの硬質表面洗浄剤に十分な量のヒドロトロープ化合物を組み込むと、意外にも、洗浄された表面に、被膜形成及び縞形成が減少することが発見された。本発明の組成物において、ヒドロトロープ化合物は、ヒドロトロープ化合物重量対ヒドロトロープ以外のすべての固形分重量比、約１：３．５〜４：１で組み込まれる。さらに、いくつかの組成物において、ヒドロトロープ対ビルダー比は、約１：１．８〜４：１である。本発明のより好ましい実施態様において、ヒドロトロープ対その他の固形分比は、約１：２．５〜２．５：１である。本発明の特に好ましい実施態様において、ヒドロトロープ対その他の固形分比は、約１：２〜２：１である。組成物が抗菌組成物である場合、組成物は好ましくは、四級アンモニウム殺菌剤、アルキルポリグルコシド、及びＣ_8-16アミンオキシドを含んでいる。より好ましくはこのような組成物は、４級アンモニウム殺菌剤０．０１〜５重量％、アルキルポリグルコシド０．５〜５重量％、及びＣ_8-16アミンオキシド０．５〜５重量％を含む。最も好ましくはこのような化合物はまた、エチレンジアミンテトラアセテートをも含む。ここで用いられている「ヒドロトロープ」及び「ヒドロトロープ化合物」という用語は、ベンゼンスルホネート、ナフタレンスルホネート、短鎖（Ｃ_1-11）アルキルベンゼンスルホネート、中鎖（Ｃ_6-11）アルキルスルホネート、中鎖（Ｃ_6-11 ）アルキルスルフェート、アルキルポリグルコシド、中鎖（Ｃ_6-10）アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルジフェニルオキシドジスルホネート、ホスフェートエステルヒドロトロープ、及び中鎖（Ｃ_6-11）アルキルエーテル（エチレンオキシド１０モルまで）スルフェートのことを言う。本発明のヒドロトロープ化合物のカチオンには、アルカリ金属、アンモニウム、及びトリエタノールアンモニウムカチオンがある。従ってこれらの用語には、親水性置換基及び１つ又はそれ以上の疎水性ヒドロカルビル置換基を含む短鎖水溶性界面活性剤が含まれる。ここにおいて、前記ヒドロカルビル置換基のどれかの最大鎖長は約Ｃ₁₁である。短鎖（Ｃ_1-4）アルキルベンゼンスルホネートには、例えばイソプロピルベンゼンスルホネート、キシレンスルホネート、トルエンスルホネート、クメンスルホネート、及びこれらの混合物がある。中鎖（Ｃ_6-8）アルキルスルホネートの非限定的な代表例は、ヘキシルスルホネート、オクチルスルホネート、及びヘキシル／オクチルスルホネート、及びこれらの混合物である。その他のヒドロトロープには、ナフタレンスルホネートがある。「ヒドロトロープ」及び「ヒドロトロープ化合物」という用語はまた、アルキル多糖類、例えばアルキルポリグリコシド、ポリマーヒドロトロープ、Ｃ_8-10アミンオキシド、アルキルジフェニルオキシドジスルホネート、及び、例えばイソプロパノールアルキルホスフェートエステルのようなホスフェートエステル等、その他のことを言う。本発明に用いられる好ましいヒドロトロープは、キシレンスルホネート、クメンスルホネート、アルキル部分に平均約６〜８個の炭素原子を有するアルキルスルホネート、及びアルキル部分に平均約１０個の炭素原子を有するアルキルポリグリコシドである。好ましいアルキルポリグリコシドは、アルキルポリグルコシドである。適切なアルキル多糖類、例えば米国特許第４，５６５，６４７号に開示されているものは、非イオン性界面活性剤であり、疎水基及び多糖類、例えばポリグルコシド、糖類単位約１．３〜約１０、好ましくは約１．３〜約３、最も好ましくは約１．３〜約２．７を含む親水基を有するものが含まれる。５又は６個の炭素原子を有する還元性糖類はすべて用いることができる。例えばグルコース、ガラクトースであり、ガラクトシル部分は、グルコシル部分と置換されていてもよい。（場合によっては疎水性基が、２−、３−、４−位等に結合しており、従ってグルコシド又はガラクトシドに対してグルコース又はガラクトースを生じる。）糖類間結合は、例えば追加糖類単位の１つの位置と、先行糖類単位の２−、３−、４−及び／又は６−位との間にあってもよい。適切なポリマーヒドロトロープは、欧州特許公告第０６３６６８７Ａ２号に記載されており、この特許の開示はこの明細書に全体を組み込む。ここで用いるのに適したポリマーヒドロトロープは、下記式で表わされるものである：ここで、Ｅは親水性官能基であり；ＲはＨ又はＣ_1-10アルキル又は親水性官能基であり；Ｒ₁は低級アルキル基又は芳香族基であり；及びＲ₂はＨ又は環式、アルキル又は芳香族基である。従って本発明は、次の液体洗浄剤組成物を提供する。すなわちこの組成物は、優れた光沢性能を与えると同時に、脂性、油性の汚れ及び無機微粒子汚れの両方に、改善された洗浄特性を与え、洗浄された表面に被膜形成も縞形成をも引起こす傾向がほとんど無いものである。水性液体洗浄剤は、原液として用いても、あるいは広い範囲の硬質表面を洗浄するために、消費者がさらに水で希釈して用いてもよい。このような洗浄液の用途はあまりに数多く、完全に特定することはできないが、このような組成物は、例えば水と組合わせることができ、ペンキ塗りされた表面、壁、床、器具の外部表面、テーブル、いす、窓、鏡等の洗浄に用いることができる。この組成物は、通常、すべての非水性成分の重量として計算して、水中濃度がおよそ１％〜約２０％に調合される。このような組成物は、硬質表面洗浄剤のここでの定義の中に含まれる。本発明の組成物は一般に次の成分及び割合を含む。第一に、このような液体洗浄剤は、適切な界面活性剤を０．０５％〜２０％含んでいる。さらには界面活性剤のさらに好ましい含有範囲は、界面活性剤１％〜１０％であり、そして界面活性剤２％〜５％である。広義には、硬質表面洗浄剤の調合物に用いうる界面活性剤は、下記の幅広い界面活性剤の開示に見られるものである。本発明の洗浄剤、好ましくは水性液体洗浄剤に必要なもう１つの成分は、ビルダー塩０．０１％〜２０％である。下記のビルダー又は無機塩はどれも、ビルダーとしてここで用いることができる。本発明の硬質表面洗浄剤、好ましくは水性洗浄剤は、場合によっては非常に様々な成分を含んでいてもよい。これについては次により詳しく記載する。水性系において、組成物の残り（１〜９９％）は水であり、好ましくは金属イオン封鎖ビルダーへの当初負荷を最小限にするために軟水である。液体洗浄剤の要求事項及び調合物についてのこれ以外の議論は、次のような特許に見られる。１９７２年７月２５日にＡｕｂｅｒｔらに許可された米国特許第３，６７９，６０８号、及び１９７６年７月２０日にＣｌａｙｂａｕｇｈに許可された米国特許第３，９７０，５９４号である。これらの２つの特許をここに引用として組み込む。洗浄剤界面活性剤本発明による液体洗浄剤は、適切な洗浄剤界面活性剤を約０．１％〜約４０％含んでいる。さらには、より好ましい界面活性剤の含有範囲は、界面活性剤約１％〜約１０％であり、界面活性剤約２％〜約５％である。広義には、水性液体洗浄剤の調合物に用いうる界面活性剤は、硬質表面洗浄剤に通常用いられているものである。特別な界面活性剤には、１９８１年９月１日に許可されたＳｉｋｌｏｓｉの米国特許第４，２８７，０２０号に開示された広い範囲の界面活性剤がある。この特許もここに全体を引用として組み込む。洗浄剤界面活性剤は、次の種類のものである。アニオン性、カチオン性、非イオン性、双性イオン性及び両性界面活性剤、及びこれらの混合物である。カチオン性、双性イオン性、非イオン性及び両性界面活性剤は、この技術においてよく知られている。このような界面活性剤の例は、前記のように引用として明細書に組み込まれる、Ｓｉｋｌｏｓｉの米国特許第４，２８７，０８０号に記載されている。このような洗浄剤に用いるのに適した界面活性剤は、例えば次の１つ又はそれ以上のものである：ナトリウム直鎖状アルキルベンゼンスルホネート（ＬＡＳ）、特にＣ_12-14ＬＡＳ；エチレンオキシド３モルを含むココナツアルキルエーテルスルフェートのナトリウム塩；アルキル鎖長の範囲が炭素原子数１１〜１５であり、エチレンオキシド部分が平均２〜１２である１級、２級、及び３級アルコールのアダクト体；ココナツ脂肪酸のナトリウム及びカリウム塩類（ココナツセッケン）；炭素原子数約８〜約１６であり、平均炭素鎖長が約８〜約１２である直鎖又は枝分れ鎖アルコールと、アルコール１モルあたり約２〜約８モルのエチレンオキシドとの縮合生成物；下記の好ましい式のうちの１つで表わされるアミドである：ここで、Ｒは、炭素原子数約７〜約１５、平均炭素鎖長約９〜約１３の直鎖アルキル基であり、各Ｒ¹は、炭素原子数約１〜約３のヒドロキシアルキル基であるか、又は約６モルまでのエチレンオキシドでエトキシル化されたヒドロキシアルキル基；前記開示の広い範囲の界面活性剤における好ましい式の１つで表わされる双性イオン性界面活性剤；又は半極性非イオン性界面活性剤の広い範囲の開示における好ましい式のうちの１つで表わされるホスフィンオキシド界面活性剤である。もう１つの好ましい種類の界面活性剤は、フルオロカーボン界面活性剤である。例えばＦＣ−１２９、すなわちカリウムフッ化アルキルカルボキシレート、及びＦＣ−１７０−Ｃ、すなわちフッ化アルキルポリオキシエチレンエタノールの混合物であり、これらはどちらも３Ｍ社(3ＭＣorporation)から販売されている。同様に、デュポン社（ＤuＰont Ｃorporation）から販売されているゾニルフルオロ界面活性剤（Ｚonyl fluorosurfactant）もある。様々な界面活性剤の混合物を用いることができると考えられる。本発明に用いられる界面活性剤の適切な例には、α−スルホン化アルキルエステルもある。これらの物質は、純粋なアルキルエステルであってもよく、又は（１）エステルを形成するアルキル部分が炭素原子数１〜６の直鎖、又は枝分れ鎖アルキルである炭素原子数８〜２０の脂肪酸のα−スルホン化アルキルエステルのモノ塩と、（２）α−スルホン化脂肪酸のジ塩とのブレンドであって、ジ塩に対するモノ塩の比が少なくとも約２：１であろものであってもよい。本発明に用いろのに適したα−スルホン化アルキルエステルは一般に、脂肪酸のアルキルエステルを、スルホン化剤例えばＳＯ₃でスルホン化することによって調製される。α−スルホン化アルキルエステルは、このようにして調製された場合、通常、エステルの加水分解の結果生じたα−スルホン化脂肪酸のジ塩を過半量以下、すなわち３３重量％を超えない量で含んでいる。好ましいα−スルホン化アルキルエステルは、対応α−スルホン化脂肪酸のジ塩を約１０重量％より少ない量で含んでいる。 α−スルホン化アルキルエステル、すなわちアルキルエステルスルホネート界面活性剤は、Ｃ_8-20カルボン酸（すなわち脂肪酸）の直鎖状エステルを含んでいる。これらは、“Ｔhe Ｊoumal of Ａmerican Ｏil Ｃhemists Ｓociety”５２巻（1975年）、３２３〜３２９ページによれば、気体ＳＯ₃でスルホン化されるものである。適切な出発材料は、牛脂、ヤシ油、ココナツ等に由来する天然の脂肪物質などであろう。好ましいアルキルエステルスルホネート界面活性剤は、次の構造式のアルキルエステルスルホネート界面活性剤から成る：ここで、Ｒ₃は、Ｃ₈−Ｃ₂₀ヒドロカルビル基、好ましくはアルキル、又はこれらの組合わせであり、Ｒ₄は、直鎖又は枝分れ鎖Ｃ₁−Ｃ₆ヒドロカルビル、好ましくはアルキル、又はこれらの組合わせであり、Ｍはカチオンであり、これはアルキルエステルスルホネートと共に水溶性塩を形成する。適切な塩形成カチオンには、金属、例えばカルシウム、マグネシウム、ナトリウム、カリウム、及びリチウムがあり、置換又は非置換アンモニウムカチオン、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンがある。好ましくはＲ₃は、Ｃ₁₀−Ｃ₁₆アルキルであり、Ｒ₄はメチル、エチル又はイソプロピルである。より好ましくは、平均炭素原子数１２〜１６の脂肪酸の混合物のα−スルホン化メチルエステルである。最も好ましくは、平均炭素原子数１２〜１４の脂肪酸の混合物のα−スルホン化メチル及びエチルエステルである。特に好ましい混合物は、脂肪酸部分に平均約１３．６個の炭素原子を有する。多くの用途に対して合成（例えば非セッケン）洗浄剤界面活性剤が望ましい。適切な合成界面活性剤は、米国特許第４，２８７，０８０号に記載されている。この特許はここに全体が組み込まれる。両性電解質洗浄剤及び両性洗浄剤もここで用いることができる。両性電解質合成洗浄剤は、広義には脂肪族アミンの誘導体として記載されうる。これらは、炭素原子数約８〜１８の長鎖、及びアニオン性水溶性化基、例えばカルボキシ、スルホ又はスルファト基を含んでいる。この定義の中に入る化合物の例には、ナトリウム−３−ドデシルアミノ−プロピオネート、ナトリウム−３−ドデシルアミノ−プロパンスルホネート、及びドデシルジメチルアンモニウムヘキサノエートがある。その他の両性電解質界面活性剤及び両性界面活性剤の例は、１９６７年５月９日にＣｕｎｎｉｎｇｈａｍに許可された米国特許第３，３１８，８１７号に記載されている。この特許はここに引用として組み込まれる。この組成物において用いうる双性イオン性界面活性剤は、広義には脂肪族４級アンモニウム、ホスホニウム及び３級スルホニウム化合物の内部中和誘導体として記載されている。これらの化合物において、脂肪族基は、直鎖又は枝分れ鎖であってもよく、脂肪族置換基の１つは、約８〜１８個の炭素原子を有し、あるものはアニオン性水溶性化基、例えばカルボキシ、スルホ、スルファト、ホスファト又はホスホノ基を含んでいる。これらの双性イオン性界面活性剤のいくつかは、米国特許第２，１２９，２６４号、第２，１７８，３５３号、第２，７７４，７８６号、第２，８１３，８９８号、及び第２，８２８，３３２号に記載されている。約８〜約２１個の炭素原子を有するアンモニオ−プロパンスルホネートは、比較的低いカルシウムイオン（硬度）感受性のために、ここでは好ましい界面活性剤化合物の１種である。双性イオン性界面活性剤の特に好ましい例は、次の式で表わされるものである：ここで、Ｒ²は、約８〜約１６個の炭素原子を有し、平均約１０〜約１３個の炭素原子を有し、各Ｒ³は、炭素原子数１〜約３のアルキル及びヒドロキシアルキル基から成る群から選ばれ、Ｒ⁴は炭素原子数２〜約５の飽和アルキレン又はヒドロキシアルキレン基であり、前記ヒドロキシアルキレン基におけるヒドロキシ基は、少なくとも１つのメチレン基によって窒素原子から離されている炭素原子に結合している。水溶性ベタイン界面活性剤は、ここで用いうる双性イオン性界面活性剤のもう１つの例である。これらの物質は、下記一般式で表わされる：ここで、Ｒ¹は、炭素原子数約８〜１８のアルキル基であり；Ｒ²及びＲ³は各々、炭素原子数約１〜４の低級アルキル基であり、Ｒ⁴は、メチレン、プロピレン、ブチレン及びペンチレンから成る群から選ばれるアルキレン基である。この種類の適切なベタイン化合物の例には、ドデシルジメチルアンモニウムアセテート、テトラデシルジメチルアンモニウムアセテート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムアセテート、長さ平均が炭素原子約１４．８であるアルキル基を有するアルキルジメチルアンモニウムアセテート、ドデシルジメチルアンモニウムブタノエート、テトラデシル−ジメチルアンモニウムブタノエート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムブタノエート、ドデシルジメチルアンモニウムヘキサノエート、ヘキサデシル−ジメチル−アンモニウムヘキサノエート、テトラデシルジメチルアンモニウムペンタノエート及びテトラ−デシルジプロピルアンモニウムペンタノエートがある。特に好ましいベタイン界面活性剤には、ドデシルジメチルアンモニウムアセテート、ドデシルジメチルアンモニウムヘキサノエート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムアセテート、及びヘキサデシルジメチルアンモニウムヘキサノエートがある。適切なカチオン性洗浄剤は、式ＲＮ（Ｒ₂）₃“Ｘ”で表わされるものである。この式中、Ｒは炭素原子数約８〜約２０のアルキル鎖であり、各Ｒ₂は炭素原子数１〜４のアルキル、アルカノール基およびベンジル基から成る群から選ばれる。ここにあるベンジル基は、通常１つのベンジル基にすぎない。２つの基Ｒ₂は、炭素−炭素エーテルか、又はイミノ結合のどちらかによって結合して環構造を形成してもよい。Ｘはハロゲン原子、スルフェート基、ニトレート基、又はその他の擬似ハロゲン基を表わす。特別な例としては、ココナツアルキルトリメチルアミンクロライド、ドデシルジメチルベンジルブロマイド、及びドデシルメチルモルホリノクロライドがある。洗剤ビルダー洗剤ビルダー、即ちビルダー塩は、本明細書に記載した水性クレンザーに必須であり、組成物の約０．０１重量％〜約３０重量％、好ましくは１重量％〜約２０重量％、更に好ましくは水性組成物の約５重量％〜約２０重量％を構成する。適当なビルダーは、実際に水溶性又は水分散性であり、有機塩及び無機塩を含む。有機塩と無機塩との混合物を使用することができる。単独で又は混合物で本発明に於いて使用することができる適当な無機アルカリ性ビルダーには、アルカリ金属の炭酸塩、ホウ酸塩、ピロリン酸塩、オルトリン酸塩、ポリリン酸塩、ホスホン酸塩、重炭酸塩、ポリ酢酸塩、カルボン酸塩、ポリカルボン酸塩、ポリアセチルカルボン酸塩、カルボキシメチルオキシコハク酸塩、カルボキシメチルオキシマロン酸塩、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ−ジコハク酸塩、ポリエポキシコハク酸塩、オキシジ酢酸塩、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸塩、Ｎ−アルキルイミノジ酢酸塩又はジプロピオン酸塩、α−スルホ脂肪酸塩、ジピコリン酸塩、酸化多糖類、ポリヒドロキシスルホン酸塩、ケイ酸塩及びこれらの混合物が含まれる。ビルダーの特別の例には、トリポリリン酸、リン酸及びヘキサメタリン酸のナトリウム塩及びカリウム塩が含まれる。これらの物質のアンモニウム塩又は置換アンモニウム塩、例えば、トリエタノールアンモニウム塩も使用することができる。適当な塩の他の特別の例は、セスキ炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、重炭酸ナトリウム及び重炭酸カリウムである。本発明による好ましいアルカリ性ビルダーは、アルカリ金属のリン酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、ポリリン酸塩及びセスキ炭酸塩である。トリポリリン酸ナトリウム、リン酸三ナトリウム、セスキ炭酸ナトリウム及びこれらの混合物が最も好ましい。（単独で又は混合物で）本発明で使用される適当な有機アルカリ性ビルダー塩は、アミノカルボン酸のアルカリ金属塩、アンモニウム塩又は置換アンモニウム塩、例えば、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム及びカリウム、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン三酢酸ナトリウム及びカリウム、ニトリロ三酢酸ナトリウム及びカリウム、並びにＮ−（２−ヒドロキシエチル）−ニトリロ二酢酸ナトリウム、カリウム及びトリエチルアンモニウムである。クエン酸のアルカリ金属塩、アンモニウム塩及びアルカノールアンモニウム塩を、適当に使用することができる。フィチン酸のアルカリ金属塩、例えば、そのナトリウム塩も、有機アルカリ金属イオン封鎖剤ビルダー塩として適している。特に、エタン−１−ヒドロキシ−１，１−ジホスホン酸のナトリウム塩及びカリウム塩、メチレンジホスホン酸のナトリウム塩及びカリウム塩並びにエタン− １，１，２−トリホスホン酸のナトリウム塩及びカリウム塩を含むポリリン酸塩も、本発明に関して価値のあるビルダーである。他の例には、エタン−２−カルボキシ−１，１−ジホスホン酸、ヒドロキシメタンジホスホン酸、カルボニルジホスホン酸、エタン−１−ヒドロキシ−１，１，２−トリホスホン酸、エタン− １−ヒドロキシ−１，１，２−トリホスホン酸、プロパン−１，１，３，３−テトラホスホン酸、プロパン−１，１，２，３−テトラホスホン酸及びプロパン− １，２，２，３−テトラホスホン酸のアルカリ金属塩が含まれる。汚染物除去の観点からリン酸塩含有組成物が好ましいが、有用なビルダーは、リン酸塩含有又はリン酸塩非含有クリーニング組成物を与えるように配合することができる。適当なアルカリ性洗剤性ビルダーの他の例には、米国特許第３，３０９，３１９号、第４欄第４４行〜第５欄第９行に記載されているものが含まれる。この特許の開示を、引用して本明細書に組み込む。任意の成分本発明の配合物には、例えば、ココナツ脂肪酸のモノ又はジエタノールアンモニウム、ナトリウム及びカリウム塩のような脂肪酸のアンモニウム塩及びアルカリ金属塩が含有されていてよい。使用することができる共溶媒には、Ｃ_1-6アルコールや、例えば、ブトキシプロポキシプロパノール、ブチルジグキシルジグリコール（ヘキシルカルビトール（Ｈexyl Ｃarbit キレングリコールエーテル及びこれらの混合物が含まれる。共溶媒のレベルは、典型的に約０．２％〜約２０％、好ましくは約１％〜約１５％、更に好ましくは約２％〜約１０％である。一般的に、本発明で使用するために適している溶媒は、芳香族部分に約６〜１２個の炭素原子を有する芳香族炭化水素、約１０〜１１個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖の炭化水素、約２〜６個の炭素原子を有するアルキレングリコール、直鎖又は分枝鎖の低級アルキルアルコール、グリセリン、炭酸プロピレン、アルキレングリコールモノアルキルエーテル（但し、アルキレン部分は約２〜６個の炭素原子を有し、アルキル部分は約１〜６個の炭素原子を有する）、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル（但し、各アルキレン部分は約２〜６個の炭素原子を有し、アルキル部分は約１〜６個の炭素原子を有する）、酢酸アルキル（但し、アルキル部分は約１〜６個の炭素原子を有する）、松根油、テルペン類及びこれらの混合物からなる群から選択することができる。このような溶媒の例は、下記のものである。ドデカン炭酸プロピレントルエンエチレングリコールモノエチルエーテルナフタレンジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルイソプロピルアルコール酢酸ブチルグリセリン松根油ヘキシレングリコールオレンジテルペンクリーナーが浴室タイルをクリーニングするようなある種の用途のために意図されるとき、殺菌剤を本発明の組成物に含有させることができる。代表的な殺菌剤は、米国特許第３，８８２，０３８号に記載されている。抗菌性又は殺菌性配合物に於いて、４級アンモニウム殺菌剤の目的は、例えば、台所環境で遭遇するグラム陽性生物及びグラム陰性生物の生殖速度を低下させるか又はこれらに接触して殺すことである。これらの殺菌剤はまた、カビ、酵母及び菌類を殺す上で有用で有効である。有用なこのような殺菌剤には、イリノイ州、Ｎorthfieldのステパン社（Ｓtepan Ｃompany）から市販されている、Ｎ− アルキル（Ｃ₁₄が５０％、Ｃ₁₂が４０％、Ｃ₁₆が１０％）ジメチルベンジルアンモニウムクロライドであるＢＴＣ８３５８が含まれる。他の４級アンモニウム化合物は、式：［ただし、式中、基Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄（「Ｒ基」）の少なくとも１個は、炭素数６〜２６の疎水性の脂肪族基、アリール脂肪族基又は脂肪族アリール基であり、分子のカチオン部分全体は少なくとも１６５の分子量を有し、そして残りのＲ基は炭素数６〜２６の疎水性の脂肪族基、アリール脂肪族基又は脂肪族アリール基である。］によって特徴付けられる４級アンモニウム殺菌剤の公知の種類の何れであってもよい。疎水性の基は、実際に、長鎖アルキル、長鎖アルコキシアリール、長鎖アルキルアリール、ハロゲン置換長鎖アルキルアリール、長鎖アルキルフェノキシアルキル、アリールアルキル等あってよい。疎水性基以外の窒素原子上の残りの基は、普通合計で１２個以下の炭素原子を含有する炭化水素構造の置換基である。上記の式中の基Ｘは、どのような塩形成アニオン性基であってもよい。上記内の適当な４級アンモニウム化合物には、セチルトリメチルアンモニウムブロミドのようなアルキルアンモニウムハライド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミドのようなアルキルアリールアンモニウムハライド、Ｎ− セチルピリジニウムブロミドのようなＮ−アルキルピリジニウムハライド等が含まれる。他の適当な種類の４級アンモニウム塩には、オクチルフェノキシエトキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ−（ラウリルココアミノホルミルメチル）−ピリジニウムクロライド等のような、分子にアミド又はエステル結合が含有されているものが含まれる。他の非常に有効な種類の４級アンモニウム殺菌剤は、ラウリルオキシフェニルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルアミノフェニルトリメチルアンモニウムメトサルフェート、ドデシルフェニル−トリメチルアンモニウムメトサルフェート、ドデシルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、塩素化ドデシルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド等の場合のような、疎水性基が置換芳香核によって特徴付けられるものである。上記の一般的な種類の好ましい４級アンモニウム殺菌剤は、長鎖アルキルジメチルベンジル４級アンモニウム塩、アルキルフェノキシアルコキシアルキルジメチルベンジル４級アンモニウム塩、Ｎ−（アシルココアミノホルミルメチル）ピリジニウムハライド、長鎖アルキルトリメチルアンモニウムハライド、長鎖アルキルベンジルジメチルベンジルアンモニウムハライド及び長鎖アルキルベンジルジエチルエタノールアンモニウムハライド（但し、アルキル基は８〜１８個の炭素原子を含有する）である。適当な４級アンモニウム殺菌剤の更に他の例は、ジオクチルジメチルアンモニウムクロライド、オクチルデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、（Ｃ_12-18）ｎ−アルキルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、（Ｃ_12-18）ｎ−アルキルジメチルエチルベンジルアンモニウムクロライド及び（Ｃ_12-18）ｎ−アルキルジメチルベンジルアンモニウムサッカリナートである。これは網羅的なリストではなく、殺菌活性を有するその他の４級アンモニウム塩が満足されるであろう。本発明に於ける４級アンモニウムは単独で存在する必要はなく、２種又は３種以上の４級アンモニウムの混合物であってもよい。単一の存在又は混合されているものとして、この４級アンモニウム塩の、重量パーセントでの量は、典型的に約０．１％〜２．０％である。好ましい４級アンモニウム殺菌剤は、約３４重量％のＣ₁₂及び１６重量％のＣ₁₄ のｎ−アルキルジメチルエチルベンジルアンモニウムクロライドと約３０重量％のＣ₁₄、１５重量％のＣ₁₆、２．５重量％のＣ₁₂及び２．５重量％のＣ₁₈のｎ−アルキルジメチルベンジルアンモニウムクロライドとの混合物である。他の任意の成分には、約０．０１〜１０重量％の、１〜４個の炭素原子を有するモノアルキルアミン、各アルキルに１〜４個の炭素原子を有するジアルキルアミン、各アルキル基に１〜４個の炭素原子を有するトリアルキルアミン、各アルキル基に２〜４個の炭素原子を有するモノ−、ジ−及びトリアルカノールアミン、シクロアルキルアミン及びモルホリンが含まれる。多くの適用に於いて、任意の成分として石鹸水泡抑制剤を本発明の水性液体洗浄剤の中に含有させることが非常に望ましいであろう。この成分の目的は、界面活性剤の全ての可視痕跡を除去するためにそれを洗浄した後、表面を別々に濯ぐ必要性を除くことである。それを使用する場合には、この組成物には約１〜３％の石鹸水泡抑制剤を含有させるべきである。適当な石鹸水泡抑制剤の一つの例は、炭素数約１１〜約１５の鎖長を有し、炭素数約１２〜約１５の平均長を有する直鎖ランダム２級アルコールと約０〜約３モルのエチレンオキシドとの縮合生成物である界面活性剤である。主界面活性剤の量と使用すべき石鹸水泡抑制剤の量との間の明確な関係が存在している。組成物中に約１％〜約３％、好ましくは約１％〜約２％の石鹸水泡抑制剤が存在し、主界面活性剤の石鹸水泡抑制剤に対する比は、約４：１〜約０．７：１、好ましくは約２：１〜約１：１、最も好ましくは約１．５：１〜約１：１の範囲内である。上記に又は下記に引用する全ての文書、例えば、特許及び雑誌論文を、その全部を引用して本明細書に組み込む。当業者は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、本発明に於いて修正を行うことができることを認めるであろう。本発明を下記の実施例によって更に説明するが、実施例は、本発明又は本明細書に記載した特別の方法の範囲を限定するものとして解釈すべきではない。下記の実施例に於いて、全ての量は他に示さない限り活性物質の重量パーセントで示す。本明細書の或る実施例に於いて、配合物の成分を規定するために下記の名称を使用する。Ｎinol 11-ＣＭ変性ココジエタノールアミドＢio-Ｔerge ＰＡＳ-8Ｓオクタンスルホン酸ナトリウムＮa₄ＥＤＴＡエチレンジアミン四酢酸ナトリウムＡmidox Ｃ-5 エトキシル化ココモノエタノールアミド（５ＥＯ）Ｓtepanate ＳＸＳキシレンスルホン酸ナトリウムＰolystep Ｂ-29 オクチル硫酸ナトリウムＳＭＥＭＣ-48 α−スルホン化メチルココ酸(cocoa te)のナトリウム塩Ｎinol 1301 エトキシル化アルカノールアミド（５ＥＯ）ＢＴＣ 885 イリノイ州、ＮorthfieldのＳtepan Ｃ ompanyから販売されている４級アンモニウム化合物製造方法組成物は、室温で成分の全てを、任意に適当量の水と一緒にすることによって単純に製造される。この組成物は乾燥粉末、水性系であってよく又は有機溶媒中で配合してもよい。薄膜形成及び縞形成として可視残留物の定量分析評価する配合物（約２〜４固形分重量％の濃度）の１０滴を、４．５×４．５インチの寸法の黒色セラミックタイルの上に置く。柔らかいティッシュペーパーを使用して手で、１０回の擦りサイクルを実施する。このタイルを１０分間乾燥させる。次いで、タイルの上の全ての可視残留物を、１（多い薄膜形成及び／又は縞形成）から１０（可視薄膜形成及び／又は縞形成無し）までの等級を使用して、目で見て評価する。実施例種々の界面活性剤系と共に有効量の本発明によるヒドロトロープによって提供される改良を、図１に示す。水性硬質表面洗浄剤配合物は、十分なヒドロトロープ（キシレンスルホン酸ナトリウム）の有り又は無しで、配合物の重量基準で、１．５４％の有機グリコールエーテル溶媒、１．０３％の洗剤界面活性剤、０．５％の洗剤ビルダー（クエン酸ナトリウム）を含有するように製造した。これらの配合物を、前記のようにして目で見て評価した。比較例配合物Ａ及びＢを前記のようにして評価した。両配合物は厳しい薄膜形成／縞形成をもたらし、それぞれで１より小さい値が得られた。続いて、これらの配合物のそれぞれを脱イオン水で１：１０に希釈し、評価した。それで、配合物Ａは３．３７の固形分重量％に希釈し、配合物Ｂは３．３２の固形分重量％に希釈した。希釈した後、配合物Ａ及びＢは、それぞれ３及び４の薄膜形成／縞形成値をもたらした。配合物Ａ及びＢのそれぞれに、追加の３重量％のクメンスルホン酸ナトリウム（ＳＣＳ）を添加し、得られた配合物（下記の表のＣ及びＤ）を脱イオン水で１：１０に希釈し、評価した。３％の追加のＳＣＳを含有する配合物Ａ（配合物Ｃ）は薄膜形成／縞形成試験で７の値をもたらし、一方、３％の追加のＳＣＳを含有する配合物Ｂ（配合物Ｄ）は８の値をもたらした。比較例上記のことから、本発明の特別の態様を例示の目的のために本明細書に記載したけれども、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、種々の修正を行うことができることが認められるであろう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims

【特許請求の範囲】１．少なくとも１種の洗剤界面活性剤を含有する硬質表面をクリーニングするための組成物に於いて、クリーニングした後の表面の縞形成又は薄膜形成を抑制するために十分な量のヒドロトロープを含有する改良。２．ヒドロトロープの量が、クリーニングした後に表面上に残留する残留物を目に見えないようにするために有効である、請求項１に記載の組成物。３．少なくとも１種の洗剤界面活性剤を含有する硬質表面をクリーニングするための組成物に於いて、少なくとも約１：３．５の、ヒドロトロープの重量の他の固形分の重量に対する比でヒドロトロープを含有する改良。４．ヒドロトロープの重量のビルダーの重量に対する比が、約１：１．８〜４：１である請求項３に記載の組成物。５．少なくとも１種の洗剤界面活性剤及び少なくとも１種の洗剤ビルダーを含有する硬質表面をクリーニングするための組成物に於いて、少なくとも約１：３．５の、ヒドロトロープの重量の他の固形分の一緒にした重量に対する比でヒドロトロープを含有する改良。６．ヒドロトロープの重量のビルダーを除外した全ての固形分の重量に対する比が、約１：３．５〜４：１である請求項５に記載の組成物。７．ヒドロトロープが、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、短鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、中間鎖（Ｃ_6-8）アルキルスルホン酸塩、アルキルポリグリコシド、中間鎖（Ｃ_6-10）アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルジフェニルオキシドジスルホン酸塩及びリン酸エステルヒドロトロープ類からなる群から選択される、請求項６に記載の組成物。８．ヒドロトロープが、キシレンスルホン酸塩、アルキル部分に平均約６〜８個の炭素原子を有するアルキルスルホン酸塩又はアルキル部分に平均約１０個の炭素原子を有するアルキルポリグリコシドである、請求項６に記載の組成物。９．可視残留物を有する表面を与えることなく、硬質表面をクリーニングすることができる硬質表面洗浄剤組成物の製造方法であって、（ａ）少なくとも１種の洗剤界面活性剤を含有する水性ベースを作成する工程、及び（ｂ）前記水性ベースに、ヒドロトロープを、この組成物で表面をクリーニングした後に硬質表面上の薄膜又は縞として可視残留物を防止するために有効な量で添加する工程からなる方法。１０．薄膜又は縞として可視残留物を有する表面を実質的に与えることなく、硬質表面をクリーニングすることができる硬質表面洗浄剤組成物の製造方法であって、（ａ）少なくとも１種の洗剤界面活性剤及び少なくとも１種のビルダーを含有する水性ベースを作成する工程、及び（ｂ）前記水性ベースに、ヒドロトロープを、少なくとも約１：３．５の、ヒドロトロープの重量の他の固形分の一緒にした重量に対する比で添加する工程からなる方法。１１．ヒドロトロープが、キシレンスルホン酸塩、アルキル部分に平均約６〜８個の炭素原子を有するアルキルスルホン酸塩又はアルキル部分に平均約１０個の炭素原子を有するアルキルポリグリコシドである、請求項１０に記載の方法。１３．組成物に、約０．０１〜５重量％の４級アンモニウム殺菌剤、約０．５〜５重量％のアルキルポリグリコシド及び約０．５〜５重量％のＣ_10-16アミンオキシドが含有されている、請求項１に記載の硬質表面クリーニング組成物。１４．組成物に更に、エチレンジアミン四酢酸塩が含有されている請求項１３に記載の組成物。１５．ヒドロトロープが、アルキル部分に平均約１０個の炭素原子を有するアルキルポリグリコシドである、請求項６記載の組成物。１６．ヒドロトロープが、アルキル部分に平均約１０個の炭素原子を有するアルキルポリグリコシドである、請求項１０に記載の方法。