JPH10503231A - 塩素化およびクロロスルホン化された弾性の実質的に線状のオレフィンポリマー - Google Patents

塩素化およびクロロスルホン化された弾性の実質的に線状のオレフィンポリマー

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JPH10503231A JP8505743A JP50574396A JPH10503231A JP H10503231 A JPH10503231 A JP H10503231A JP 8505743 A JP8505743 A JP 8505743A JP 50574396 A JP50574396 A JP 50574396A JP H10503231 A JPH10503231 A JP H10503231A
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Abstract

(57)【要約】 塩素化されたおよびクロロスルホン化されたポリエチレンは、溶融流比I10/I2≧5.63、式Mw/Mnにより定義される分子量分布Mw/Mn≦(I10/I2)−4.63、ほぼ同一のI2およびMw/Mnを有する線状オレフィンポリマーの表面溶融破壊の開始における臨界剪断速度より少なくとも50%大きい表面溶融破壊の開始における臨界剪断速度、少なくとも約0.01長鎖枝分れ/1000炭素原子、および約1.5〜2.5の分子量分布を有する実質的に線状のオレフィンポリマーを塩素化することにより製造され、その製造方法が開示される。クロロスルホン化されたポリエチレンは、塩素化されたポリエチレンを気体の塩素と二酸化硫黄の混合物により処理することによって製造される。

Description

【発明の詳細な説明】 塩素化およびクロロスルホン化された弾性の実質的に線状のオレフィンポリマー 本発明は、塩素化およびクロロスルホン化されたポリオレフィンに関し、詳細 には、高い剪断応力押出条件下においてさえ、改良された加工性、例えば、溶融 破壊に対する低い感受性を有する、弾性の実質的に線状のオレフィンポリマーの 新しいファミリーから製造された塩素化およびクロロスルホン化されたポリオレ フィンに関する。これらの新規な塩素化およびクロロスルホン化された実質的に 線状のオレフィンポリマーを製造する方法も開示し、そしてある種の最終用途も 記載する。 塩素化およびクロロスルホン化されたポリオレフィンの組成物は既知であり、 そして多年にわたって工業的に製造されてきている。すぐれた耐薬品性および耐 摩耗性および同等またはよりすぐれた耐衝撃性を有するこのような材料の性質は 、多くの領域、例えば、単一層の屋根膜、ワイヤおよびケーブルの外被、自動車 のボンネット下の成形部品、例えば、トランクおよび配線において、および他の 熱可塑性物質または熱硬化性物質の用途において有用である。多くの場合におい て、塩素または塩素と硫黄の添加はベースのポリオレフィンの性質を非常に変化 させるので、満足すべき使用および他の熱可塑性材料および熱硬化性材料を越え た増大した実用性を提供する新規な組成物が生じた。しかしながら、塩素化また はクロロスルホン化されたポリオレフィンポリマーの最終特性は大部分において ベースのポリオレフィン樹脂の特性により決定される。 塩素化またはクロロスルホン化されたとき、このような塩素化ま たはクロロスルホン化された実質的に線状のオレフィンポリマーの新規な組成物 を形成する、予期および予測されない性質を提供する、実質的に線状のオレフィ ンポリマーの新規なファミリーが、今回、見出された。最近、新規な実質的に線 状のオレフィンポリマーを開示する多数の特許、例えば、米国特許第5,272 ,236号(1993年12月21日発行)および米国特許第5,278,27 2号(1994年1月11日発行)(それらの双方は引用することによって本明 細書の一部とされる)が発行された。 少なくともマグネシウム、チタンおよび有機アルミニウム化合物を含有する固 体触媒を含む触媒の存在下にエチレンと3〜12個の炭素原子を有するα−オレ フィンとの共重合により製造された、0.860〜0.910g/cm3の範囲の 密度を有する線状超低密度ポリエチレンを塩素化することによって製造された塩 素化超低密度ポリエチレンは、米国特許第4,704,439号に教示されてい る。この生成物は望ましくない高いレベルの結晶化度を有しており、応用または 用途の分野を制限し、慣用の触媒系を使用している。米国特許第4,433,1 05号は、約85/15〜約95/5のエチレン/1−ブテンのモル比を有する エチレン/1−ブテンのコポリマーゴムの塩素化から誘導された塩素化ゴムを教 示している。1−ブテンのモル比が15より大きいか、または5より小さい場合 、物理的性質は低下しかつ許容されえないようになる。米国特許第4,433, 105号の請求項6は、エチレンと1−ブテンとの出発コポリマーのMw/Mn 比が3より小さいことを教示している。この請求の範囲が何に基づくかを決定す る方法が存在しないので、この請求の範囲は明細書において裏付けられていない 。 我々は、多数の改良された性質を有する塩素化またはクロロスルホン化された 実質的に線状のオレフィンポリマーの新規なファミリ ーおよびそれらの製造方法を今回特徴づけた。この新規な材料は、 a)溶融流比I10/I2≧5.63 b)式Mw/Mnにより定義される分子量分布Mw/Mn≦(I10/I2)− 4.63、および c)ほぼ同一のI2およびMw/Mnを有する線状オレフィンポリマーの表面 溶融破壊の開始における臨界剪断速度より少なくとも50%大きい表面溶融破壊 の開始における臨界剪断速度、 を有することを特徴とする実質的に線状のオレフィンポリマーを塩素化すること によって製造された生成物を含む塩素化ポリオレフィンを特徴とする。この塩素 化またはクロロスルホン化された実質的に線状のオレフィンポリマーは以下の性 質を有する。(1)高い溶融弾性、(2)例外的にすぐれた加工性を有すると同 時にすぐれた機械的および化学的性質を維持する、比較的狭い分子量分布および (3)従来入手可能なポリエチレンからの塩素化およびクロロスルホン化された 生成物とは異なるハロゲン化性質。これらの性質は、特定の加工添加剤を使用し ないで得られる。 本発明の他の態様は、100重量部のポリ塩化ビニルと、少なくとも2重量部 の、10〜48重量%の塩素含量を有する塩素化ポリオレフィンとを含むポリ塩 化ビニルの組成物であり、前記塩素化ポリエチレンは a)溶融流比I10/I2≧5.63 b)式Mw/Mnにより定義される分子量分布Mw/Mn≦(I10/I2)− 4.63、および c)ほぼ同一のI2およびMw/Mnを有する線状オレフィンポリマーの表面 溶融破壊の開始における臨界剪断速度より少なくとも50%大きい表面溶融破壊 の開始における臨界剪断速度、 を有することを特徴とする実質的に線状のオレフィンポリマーを塩 素化することによって製造されたものである。この実質的に線状のオレフィンポ リマーは、また、エチレンのホモポリマーまたはエチレンと少なくとも1種のC3 〜C20α−オレフィンとのコポリマーを包含する。 本発明においてベースのポリオレフィン樹脂として使用する実質的に線状のポ リオレフィンポリマーは、下記の新規な性質を有する。 a)溶融流比I10/I2≧5.63 b)式Mw/Mnにより定義される分子量分布Mw/Mn≦(I10/I2)− 4.63、および c)ほぼ同一のI2およびMw/Mnを有する線状オレフィンポリマーの表面 溶融破壊の開始における臨界剪断速度より少なくとも50%大きい表面溶融破壊 の開始における臨界剪断速度。実質的に線状のポリマーの他の性質は、下記の性 質を包含する。 d)0.85グラム/立方センチメートル(g/cc)〜0.97g/ccの 密度(ASTM D−792に従い試験した)、および e)0.01グラム/10分〜1000グラム/10分のメルトインデックス 、MI。 好ましくは、溶融流比、I10/I2は7〜20である。 分子量分布(すなわち、Mw/Mn)は好ましくは約5より小さく、特に約3 .5より小さく、最も好ましくは1.5〜2.5である。 この開示を通じて、「メルトインデックス」または「I2」はASTM D− 1238(190/2.16)に従い測定し、「I10」はASTM D−123 8(190/10)に従い測定する。これらの新規な実質的に線状のポリオレフ ィンポリマーの溶融張力 は、また、特に非常に狭い分子量分布(すなわち、1.5〜2.5のMw/Mn )を有するポリマーについて、驚くべきほどにすぐれ、例えば、約2グラムまた はそれ以上程度に高い。 本発明において有用である実質的に線状のポリオレフィンポリマーは、C2〜 C20オレフィン、例えば、エチレン、プロピレン、4−メチル−1−ペンテンな どのホモポリマーであることができるか、またはエチレンと少なくとも1種のC3 〜C20α−オレフィンおよび/またはC2〜C20アセチレン系不飽和モノマーお よび/またはC4〜C18ジオレフィンとのインターポリマーであることができる 。本発明において有用な実質的に線状のポリマーは、また、エチレンと、上記の C3〜C20α−オレフィン、ジオレフィンおよび/またはアセチレン系不飽和モ ノマーの少なくとも1種および他の不飽和モノマーの組み合わせとのインターポ リマーであることができる。 有効に重合されるモノマーは、例えば、エチレン系不飽和モノマー、アセチレ ン系化合物、共役または非共役のジエン、ポリエン、一酸化炭素などを包含する 。好ましいモノマーは、C2〜C10α−オレフィン、特にエチレン、1−プロピ レン、イソプレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、お よび1−オクテンを包含する。他の好ましいモノマーは、スチレン、ハローまた はアルキル置換スチレン、テトラフルオロエチレン、ビニルベンゾシクロブタン 、1,4−ヘキサジエン、およびナフテン系モノマー(例えば、シクロペンテン 、シクロ−ヘキセンおよびシクロ−オクテン)を包含する。 用語「実質的に線状の」ポリマーは、ポリマー主鎖が3までの長鎖枝分れ/1 000炭素原子で置換されていることを意味する。好ましいポリマーは、0.0 1の長鎖枝分れ/1000炭素原子〜3 の長鎖枝分れ/1000炭素原子、より好ましくは0.01の長鎖枝分れ/10 00炭素原子〜1の長鎖枝分れ/1000炭素原子、特に0.3の長鎖枝分れ/ 1000炭素原子〜1の長鎖枝分れ/1000炭素原子で置換されている。 用語「線状オレフィンポリマー」は、オレフィンポリマーが長鎖枝分れをもた ないことを意味する。すなわち、線状オレフィンポリマーは、チーグラー重合法 を使用して製造された伝統的な線状低密度ポリエチレンポリマーまたは線状高密 度ポリエチレンポリマー(例えば、米国特許第4,076,698号または米国 特許第3,645,992号、それらの開示は引用することによって本明細書の 一部とされる)のように、長鎖枝分れをもたない。用語「線状オレフィンポリマ ー」は、多数の長鎖枝分れを有することが当業者に知られている、高圧枝分れポ リエチレン、エチレン/酢酸ビニルコポリマー、またはエチレン/ビニルアルコ ールコポリマーを意味しない。 長鎖枝分れは、少なくとも6つの炭素原子の鎖長として定義され、それより長 い鎖長は13C核磁気共鳴分光学を使用して区別することができない。長鎖枝分れ は、ポリマー主鎖の長さとほぼ同一の長さ程度に長くあることができる。 長鎖枝分れは、13C核磁気共鳴(NMR)分光学を使用することによって決定 され、そしてRandallの方法(Rev.Macromol.Chem.P hys.、C29(2&3)、p.285−297)(その開示は引用すること によって本明細書の一部とされる)を使用して定量される。 「溶融張力」は特別に設計されたプーリートランスデューサーとメルトインデ ックサーとの組み合わせによって測定される。溶融張力は、30rpmの標準的 速度においてプーリーの上を通過する間 の押出物またはフィラメントが発揮する負荷である。溶融張力の測定は、「溶融 張力テスター」(トーヨーセイキ製)に類似し、そしてJohn Dealy、 ¨Rheometers for Molten Plastics¨、Van nostrand Reinhold Co.発行(1982)、p.250 −251、に記載されている。 SCBDI(短鎖枝分れ分布指数)またはCDBI(組成分布枝分れ指数)は 、メジアン合計モルコモノマー含量の50%内のコモノマー含量を有するポリマ ー分子の重量%として定義される。ポリマーのCDBIは、この分野において知 られている技術、例えば、Wild et al.Journal of Po lymer Science,Poly.Phys.Ed.、Vol.20、p .441(1982)または米国特許第4,798,081号(それらの双方は 引用することによって本明細書の一部とされる)に記載されているように、温度 上昇溶離画分(本明細書において「TREF」と略す)から得られたデータから 容易に計算される。本発明において有用な新規なポリマーについてのSCBDI またはCDBIは、好ましくは約30%より大きく、特に約50%より大きい。 実質的に線状のポリオレフィンポリマーの独特の特性は高度に予期されない流 れ性質であり、ここでI10/I2値は多分散指数(すなわち、Mw/Mn)に対 して本質的に独立である。これは、多分散指数が増加するとき、I10/I2も増 加するような、流動学的性質を有する普通のポリエチレン樹脂と対照的である。 本発明におけるエチレンまたはエチレン/α−オレフィンの実質的に線状のオ レフィンポリマーの密度はASTM D−792に従い測定され、そして一般に 0.85g/cm3〜0.97g/cm3、好ましくは0.85g/cm3〜0.9g/c m3、特に0.85g/cm3〜0.8 8g/cm3である。 本発明におけるエチレンまたはエチレン/α−オレフィンの実質的に線状のオ レフィンポリマーの分子量は、好都合にはASTM D−1238に従いメルト インデックスの測定を使用して示される。条件は192℃/2.16kgである (以前には「条件E」として知られており、そしてまたI2として知られている )。メルトインデックスはポリマーの分子量に逆比例する。したがって、分子量 が高くなるほど、メルトインデックスは低くなるが、この関係は線形ではない。 本明細書おいて使用するエチレンまたはエチレン/α−オレフィンの実質的に線 状のポリマーについてのメルトインデックスは、一般に0.01グラム/10分 (g/10分)〜1000g/10分、好ましくは0.01g/10分〜100 g/10分、特に0.01g/10分〜10g/10分である。 添加剤、例えば、酸化防止剤(例えば、ヒンダードフェノール類(例えば、I rganox(商標)1010)、ホスファイト(例えば、Irgafos(商 標)168)、粘着添加剤(例えば、PIB)、粘着防止剤、および顔料をポリ エチレン組成物の中に、出願人が発見した増強された性質を妨害しない程度に、 含めることもできる。 実質的に線状のオレフィンポリマーを含む組成物は、任意の好都合な方法、例 えば、個々の成分の乾式ブレンドおよび引き続く溶融混合により、仕上げられた 製品(例えば、フィルム)の製造に使用する押出機において直接、または別の押 出機における溶融前の混合により、形成される。ポリエチレン組成物は、また、 多数の反応器重合法により製造することができる。例えば、直列または並列の作 業において、1つの反応器は拘束された配置の触媒を添加したポリエチレンを重 合し、そして他の反応器は不均質触媒添加のポリエチ レンを重合することができる。 実質的に線状のポリマーの改良された溶融弾性および加工性は、それらの製造 方法から生ずると考えられる。ポリマーは少なくとも1つの反応器を使用する連 続的なコントロールされた重合法により製造することができるが、また、所望の 性質を有するインターポリマーを生成するために十分な重合温度および圧力にお いて多数の反応器を使用して(例えば、米国特許第3,914,342号(引用 することによって本明細書の一部とされる)に記載するように多数の反応器を使 用して)製造することができる。記載される方法の1つの態様に従うと、ポリマ ーは、バッチ式方法と反対に、連続的方法において製造される。好ましくは、重 合温度は、拘束された配置の触媒技術を使用するとき、約20℃〜約250℃で ある。より高いI10/I2比(例えば、約7またはそれ以上、好ましくは少なく とも約8、特に少なくとも約9のI10/I2)を有する狭い分子量分布のポリマ ー(1.5〜2.5のMw/Mn)を望む場合、反応器におけるエチレン濃度は 好ましくは反応器内容物の約8重量%以下、特に反応器内容物の約4重量%以下 である。好ましくは、重合は溶液重合法において実施される。一般に、本明細書 において記載する新規な実質的に線状のポリオレフィンポリマーを製造するため にMw/Mnを比較的低く保持しながらI10/I2を操作することは、反応器温 度および/またはエチレン濃度の関数である。低いエチレン濃度およびより高い 温度は一般により高いI10/I2を生成する。 実質的に線状のポリオレフィンポリマーは、140℃のシステム温度において 操作される、3つの線状混合ベッドのカラム(Polymer Laborat ories(10ミクロンの粒度))を装備したウォーターズ(Waters) 150℃の高温クロマトグ ラフィーユニットのゲル透過クロマトグラフィー(GPC)により分析される。 溶媒は1,2,4−トリクロロベンゼンであり、これから試料の約0.5重量% の溶液を注入のために調製する。流速は1.0ml/分であり、そして注入量は 100μlである。 分子量の決定は、狭い分子量分布のポリスチレン標準(Polymer La boratoriesから)とそれらの溶離体積との組み合わせを使用して推定 される。等価ポリエチレン分子量は、ポリエチレンおよびポリスチレンについて のマーク−ホウウィンク(Mark−Houwink)係数(Williams およびWord、Journal of Polymer Science、P olymer Letters、Vol.6、(621)1968(引用するこ とによって本明細書の一部とされる)に記載されているように)を使用して下記 の方程式を誘導する: Mポリエチレン=(a)(Mポリスチレン)b この方程式において、aは0.4316であり、かつbは1.0である。重量 平均分子量Mwは、下記式に従い通常の方法において計算される: Mw=(R)(wi)(Mi) ここでwiおよびMiはGPCカラムから溶離される画分の、それぞれ、重量分率 および分子量である。「流動学的加工指数」は、気体押出レオメーター(GER )により測定される。GERはM.Shida、R.N.ShroffおよびL .V.Cancio、Polymer Engineering Scienc e、Vol.17、no.11、p.770(1977)、および¨Rheom eter for Molten Plastics¨、John Dealy 著、Van Norstrand Reinhold Co.発行(1982) 、p.97−99(それらの双方の 刊行物は引用することによって本明細書の一部とされる)に記載されている。す べてのGER実験は、0.0296インチの直径、180°の入口角度を有する 20:1L/Dのダイを使用して、190℃の温度、2500psigの窒素圧 力において実施する。GER加工指数は、下記の方程式を使用してミリポアズ単 位で計算される。 PI=2.15×106ダイン/cm2/(1000×剪断速度)ここで2.15 ×106ダイン/cm2は2500psiにおける剪断速度であり、そして剪断速度 は下記の方程式により表される壁における剪断速度である。 32Q’/(60秒/分)(0.745)(直径×2.54cm/インチ)3 ここで、 Q’は押出速度(g/分)であり、 0.745はポリエチレンの溶融密度(g/cm3)であり、そして 直径は毛管のオリフィス直径(インチ)である。PIはほぼ同一のI2および Mw/Mnにおける比較線状オレフィンポリマーのPIの70%より小さいか、 またはそれに等しい。 見掛けの剪断応力/見掛けの剪断速度のプロットを使用して、溶融破壊の現象 を同定する。Ramanurthy、Journal of Rheology 、30(2)、337−357、1986に従い、ある臨界流速以上において、 観測される押出物の不規則性は2つの主要なタイプ、すなわち表面溶融破壊およ び総溶融破壊に広く分類することができる。表面溶融破壊は明らかに定常流の条 件下に起こり、そして詳細には鏡面光沢の喪失から「サメ肌」のいっそう重大な 形態の範囲である。この開示において、表面溶融破壊 の開始は、押出物の表面の粗さが40倍の拡大で初めて検出できる、押出物の光 沢の喪失の開始として特徴づけられる。実質的に線状のオレフィンポリマーの表 面溶融破壊の開始における臨界剪断速度は、ほぼ同一の12およびMw/Mnを 有する線状オレフィンポリマーの表面溶融破壊の開始における臨界剪断速度より 少なくとも50%大きい。総溶融破壊は非定常流の条件下に起こり、そして詳細 には規則的(交互する粗いおよび平滑、螺旋など)から不規則的変形の範囲であ る。商業的受容性のために、(例えば、吹込成形フィルム製品において)、表面 の欠陥は、存在する場合においても、最小であるべきである。表面溶融破壊の開 始における臨界剪断速度(OSMF)および総溶融破壊の開始における臨界剪断 速度(OGMF)は、GERにより押出された押出物の表面粗さおよび立体配置 に基づいて本発明において使用されるであろう。 本発明において使用するために適当な触媒は、好ましくは、拘束された配置の 触媒を包含し、それらの1つの種は、また、架橋したモノシクロペンタジエニル 金属触媒として知られている。このような触媒の例およびそれらの製造方法は、 米国特許出願第545,403号(1990年7月3日提出)(欧州特許出願( EP−A)第416,815号);米国特許出願第547,718号(1990 年7月3日提出)(欧州特許出願(EP−A)第468,651号);米国特許 出願第702,475号(1991年5月20日提出)(欧州特許出願(EP− A)第514,828号);米国特許出願第876,268号(1992年5月 1日提出)(欧州特許出願(EP−A)第520,732号);米国特許出願第 8,003号(1993年1月21日提出)(WO−93−19104)、およ び米国特許出願第08/241,523号(1994年5月13日提出)、なら びに米国特許第5,055,438号、米国特許第5 ,057,475号、米国特許第5,064,802号、米国特許第5,096 ,867号および米国特許第5,132,380号(それらのすべては引用する ことによって本明細書の一部とされる)に開示されている。 前述の触媒は、元素の周期律表の第3〜10族またはランタニド系列の金属、 M、と、拘束誘導部分で置換された非局在化π−結合部分とを含んでなる金属配 位錯体、CG、を含んでなるとしてさらに記載され、前記錯体は金属原子の回り に拘束された配置を有し、そして2以上の非局在化、置換π−結合部分を含んで なるこのような錯体について、錯体の各金属原子についてその1つのみが環状の 非局在化、置換π−結合部分であることをさらに条件とする。触媒は活性化助触 媒をさらに含む。用語「拘束された配置」は、本明細書おいて使用するとき、非 局在化π−結合部分上の1または2以上の置換基が金属原子を含む環構造の一部 分を形成するために、金属配位錯体およびまた生ずる触媒中の金属原子が活性触 媒部位に大きい程度に強制的に暴露されることを意味し、ここで金属は隣接する 共有原子価の部分に結合しかつη5または他のπ−結合相互作用を通して非局在 化π−結合基に関連して保持される。金属原子とπ−結合部分の構成成分の原子 との間の各それぞれの結合は同等である必要はないことが理解される。すなわち 、金属は対称的または非対称的にそれにπ−結合することができる。 元素の周期律表についてのすべての言及は、Periodic Table of the Elements、CRC Press,Inc.発行および版 権所有、1989、に関係する。また、1または2以上の族に対する言及は、族 に番号をつけるIUPAC系を使用してこの元素の周期律表において反映される 1または2以上の族に関する。 非局在化π−結合部分の例は、以後において定義するCp*、ならびに非局在 化アリルまたはジエン基を包含する。拘束誘導部分の例は、以後において定義す る−Z−または−Z−Y−、ならびに2官能性ヒドロカルビルまたはシリル基、 それらの混合物、および前述のものと、OR*、SR*、NR* 2またはPR* 2から 成る群より選択される中性の2つの電子ドナー配位子との混合物を包含し、ここ でR*は以後において定義される通りである。好ましい金属は第4族であり、チ タンは最も好ましい。 拘束誘導部分が中性の2つの電子ドナー配位子を含んでなるとき、それとMと の間の結合は配位−共有結合結合であることに注意すべきである。また、錯体は ダイマーまたは高級オリゴマーとして存在できることに注意すべきである。中性 のルイス塩基、例えば、エーテルまたはアミン化合物は、また、所望ならば錯体 と会合することができるが、このようなものは一般に好ましくない。 さらに詳しくは、好ましい金属配位錯体は下記式に相当する。 式中、 Mは元素の周期律表の第3〜10族の金属、またはランタニド系列、ことに第 4族、特にチタンであり、Cp*はMにη5モードにおいて結合したシクロペンタ ジエニル基であるか、またはヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロ、ヒドロ カルビルオキシ、アミン、およびそれらの混合物から成る群より選択される1〜 4つの置換基で置換された、このようなシクロペンタジエニル基であり、 Z’はシクロペンタジエニル基または置換シクロペンタジエニル 基以外の2価の部分であり、前記Z’は、ホウ素、元素の周期律表の第14族の 構成員、および必要に応じて窒素、リン、硫黄または酸素を含んでなり、前記部 分は20個までの非水素原子を有し、そして必要に応じてCp*およびZ’は一 緒になって融合環系を形成し、 Xは各々独立して50個までの非水素原子を有するアニオン配位子基(シクロ ペンタジエニル基または置換シクロペンタジエニル基以外)であり、そして nはMの原子価に依存して0、1、2、3または4である。 前の説明に従い、Mは好ましくは第4族の金属、ことにチタンであり、nは1 または2であり、そしてXは30個までの非水素原子の1価の配位子、より好ま しくはC1〜C20ヒドロカルビルである。 用語「置換シクロペンタジエニル」は、詳しくは、インデニル、テトラヒドロ インデニル、フルオレニル、およびオクタヒドロフルオレニル基を包含する。 なおより好ましくは、このような金属配位錯体は下記式に相当する。 式中、 R’は各々独立して水素、アルキル、アリール、シリル、ゲルミル、シアノ、 ハロおよび20個までの非水素原子を有するそれらの組み合わせから成る群より 選択されるか、または2つのR’基は一 緒になって2価のそれらの誘導体を形成し、 Xは各々独立して水素化物、ハロ、アルキル、アリール、シリル、ゲルミル、 アリールオキシ、アルコキシ、アミド、シロキシ、および20個までの非水素原 子を有するそれらの組み合わせから成る群より選択され、 Yは窒素、リン、酸素または硫黄を含みかつ20個までの非水素原子を有する 2価のアニオン配位子であり、前記Yは前記窒素、リン、酸素または硫黄を通し てZおよびMに結合しており、そして必要に応じてYおよびZは一緒になって融 合環系を形成し、 Mは第4族の金属、ことにチタンであり、 ZはSiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、C R* 2SiR* 2、GeR* 2、BR*、またはBR* 2であり、 ここで、 R*は各々独立して水素、アルキル、アリール、シリル、ハロゲン化アルキル 、20個までの非水素原子を有するハロゲン化アリール基、およびそれらの混合 物から成る群より選択されるか、またはZからの2またはそれ以上のR*、また はZからのR*基およびYは融合環系を形成し、そして nは1または2である。 さらに,より好ましくは、Yは−O−、−S−、−NR*−、−PR*−である 。高度に好ましくは、Yは−N(R’)−または−P(R’)−に相当する窒素 またはリンを含有する基であり、ここでR’は上記において定義したとおりであ り、すなわち、Yはアミドまたはホスフィド基である。 最も高度に好ましい金属配位錯体は下記式に相当する。 式中、 Mはη5モードにおいてシクロペンタジエニル基に結合したチタンであり、 R’は各々独立して水素、シリル、アルキル、アリール、および10個までの 炭素またはケイ素原子を有するそれらの組み合わせから成る群より選択されるか 、または2つのR’基は一緒になって2価のそれらの誘導体を形成し、 Eはケイ素または炭素であり、 Xは各々独立して水素化物、ハロ、10個までの炭素原子のアルキル、アリー ル、アリールオキシまたはアルコキシであり、 mは1または2であり、そして nは1または2である。 上記の最も高度に好ましい金属配位錯体の例は、アミド基上のR’がメチル、 エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、(異性体を包含する)、ノル ボルニル、ベンジル、フェニルなどである化合物、シクロペンタジエニル基がシ クロペンタジエニル、インデニル、テトラヒドロインデニル、フルオレニル、オ クタヒドロフルオレニルなどである化合物、前記シクロペンタジエニル基上のR ’が各独立して水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル 、(異性体を包含する)、ノルボルニル、ベンジル、フェニルなどである;そし てXがクロロ、ブロモ、ヨード、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル 、ヘキシル、(異性体を包含する)、ノルボルニル、ベンジル、フェニルなどで ある化合物を 包含する。 特定の高度に好ましい化合物は下記のものを包含する。(t−ブチルアミド) (テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)−1,2−エタンジイルチタニ ウムジメチル、(t−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエ ニル)−1,2−エタンジイルチタニウムジベンジル、(t−ブチルアミド)( テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシランチタニウムジメチ ル、(t−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメ チルシランチタニウムジベンジル、(メチルアミド)(テトラメチル−η5−シ クロペンタジエニル)ジメチルシランチタニウムジメチル、(メチルアミド)( テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシランチタニウムジベン ジル、(フェニルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメ チルシランチタニウムジメチル、(フェニルアミド)(テトラメチル−η5−シ クロペンタジエニル)ジメチルシランチタニウムジベンジル、(ベンジルアミド )(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシランチタニウムジ メチル、(ベンジルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジ メチルシランチタニウムジベンジル、(t−ブチルアミド)(η5−シクロペン タジエニル)−1,2−エタンジイルチタニウムジメチル、(t−ブチルアミド )(η5−シクロペンタジエニル)−1,2−エタンジイルチタニウムジベンジ ル、(t−ブチルアミド)(η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシランチタ ニウムジメチル、(t−ブチルアミド)(η5−シクロペンタジエニル)ジメチ ルシランチタニウムジベンジル、(メチルアミド)(η5−シクロペンタジエニ ル)ジメチルシランチタニウムジメチル、(t−ブチルアミド)(η5−シクロ ペンタジエニル)ジメチルシランチタニウムジベンジ ル、(t−ブチルアミド)インデニルジメチルシランチタニウムジメチル、(t −ブチルアミド)インデニルジメチルシランチタニウムジベンジル、(ベンジル アミド)インデニルジメチルシランチタニウムジベンジル、および対応するジル コニウムまたはハフニウムの配位錯体。 錯体は、式:MXn(X’)2(式中M、X、およびnは上記において定義し たとおりであり、そしてX’は適当な脱離基、ことにハロである)の金属反応成 分を、拘束誘導部分をそれに結合して有する非局在化π−結合基の組み合わせで ある化合物の二重の第I族金属誘導体または二重のグリニャール誘導体、すなわ ち、L−Cp−Z−L(すなわち、Lは第I族の金属またはグリニャールである )と接触させることによって製造することができる。この反応は適当な溶媒中で 実施され、そして塩または他の副生物が分離する。金属錯体を製造するとき使用 するために適当な溶媒は、脂肪族または芳香族の液体、例えば、シクロヘキサン 、メチルシクロヘキサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、テトラヒドロフラン 、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなど、ま たはそれらの混合物である。 好ましい製造方法において、所望の最終錯体におけるより低い酸化状態の金属 化合物を、それ以外は前述の方法と同一の方法において使用する。その後、非妨 害性酸化剤、好ましくは有機ハライドを使用して、金属の酸化状態を所望の値に 上昇させる。酸化は、錯体それ自体の製造において使用した溶媒および反応条件 を利用して、反応成分を単に接触させることによって達成される。用語「非妨害 性酸化剤」とは、所望の錯体の形成または引き続く重合プロセスを妨害しないで 、金属の酸化状態を上昇させるために十分な酸化能力を有する化合物を意味する 。特に適当な非妨害性酸化剤はAgCl または有機ハライド、例えば、塩化メチレンである。前述の技術は米国特許出願 第545,403号(1990年7月3日提出)、米国特許出願第642,11 1号(1991年1月16日提出)、現在米国特許第5,189,192号、お よび米国特許出願第967,365号(1992年10月28日提出)(それら のすべての教示は引用することによって本明細書の一部とされる)に開示されて いる。 前述したように、錯体は活性化助触媒との組み合わせにより触媒的に活性とさ れる。本発明において使用するために適当な助触媒は、ポリマーまたはオリゴマ ーのアルモキサン、ことにメチルアルモキサン、ならびに非ポリマー、不活性、 適合性の非配位、イオン形成性化合物を包含する。好ましい助触媒は不活性、非 配位、イオン形成性、ホウ素化合物である。 イオン、活性触媒種、すなわち、金属配位錯体とイオン形成性助触媒との組み 合わせから生ずる触媒は、好ましくは下記式に相当する: (CG+)dAd- 式中、 CG+は上記において定義した金属配位錯体のカチオン誘導体であり、Ad-は dの電荷を有する非配位の適合性アニオンであり、そして dは1〜3の整数である。 好ましいイオン触媒は下記式に相当する。 式中、 Cp*、Z’、M、X、およびnは上記式Iに関して定義したとおりであり、 そして A-は1価の非配位の適合性アニオンである。 より高度に好ましいイオン触媒は、下記式に相当する。 式中、 R’、Z、Y、M、X、およびnは上記式IIに関して定義したとおりであり 、そして A-は1価の非配位の適合性アニオンである。 最も高度に好ましいイオン触媒は、下記式に相当する。 式中、 R’、E、M、X、mおよびnは上記式IIIに関して定義したとおりであり 、そして A-は1の非配位の適合性アニオンである。 これらのイオン触媒を製造する1つの方法は、 a1)第2化合物のカチオンと結合する少なくとも1つの置換基を含有する従 来開示された金属配位錯体、および b1)ブレンスデッド酸と非配位の適合性アニオンとの塩である少なくとも1 種の第2成分、 を組み合わせることを包含する。 さらに詳しくは、ブレンスデッド酸塩の非配位の適合性アニオンは、電荷を有 する金属または非金属のコアを含む単一の、非親核性、配位錯体を含むことがで きる。好ましいアニオンは、アルミニウム、ケイ素、ホウ素、またはリンを含む 。 前述の反応のために好ましい金属錯体は、少なくとも1つの水素化物、ヒドロ カルビルまたは置換ヒドロカルビル基を含有するものである。この反応は不活性 液体、例えば、テトラヒドロフラン、C5〜C10アルカン、またはトルエン中で 実施される。 ステップb1)におけるイオン触媒の前述の製造において第2成分として有用 な化合物は、プロトンを付与することができるブレンスデッド酸である触媒、お よびアニオンA-を含むであろう。好ましいアニオンは負の電荷を有するコアを 含む単一の配位錯体を含有するものであり、前記コアのアニオンは、2つの成分 を組み合わせるとき、形成する活性触媒種(金属カチオン)を安定化することが できる。また、前記アニオンはオレフィン系、ジオレフィン系およびアセチレン 系不飽和化合物または他の中性ルイス塩基、例えば、エーテル、ニトリルなどと 置換するために十分に不安定であるべきである。単一のコア原子を含有する配位 錯体を含むアニオンを含有する化合物は、もちろん、よく知られており、そして 多数の、特にアニオン部分中に単一のホウ素原子を含有するこのような化合物は 商業的に入手可能である。これに照らして、単一のホウ素原子を含有する配位錯 体を含むアニオンを含有する塩は好ましい。 本発明において使用するイオン触媒のこの製造において有用な第2成分は、下 記の一般式により表すことができる。 (L−H)+ d[A]d- VII 式中、 Lは中性ルイス塩基であり、 (L−H)+はブレンスデッド酸であり、そして Ad-は上記において定義したとおりである。 より好ましくは、Ad-は下記式に相当する。 [M’m+nd 式中、 mは1〜7の整数であり、 nは2〜8の整数であり、 n−mはdであり、 M’は元素の周期律表の第5〜13族から選択される原子であり、そして Qは各々独立して水素化物、ジアルキルアミド、ハライド、アルコキシド、ア リールオキシド、ヒドロカルビル、および20個までの炭素原子の置換ヒドロカ ルビル基であり、ただし1以下のQはハライドである。 本発明において使用する触媒の製造において特に有用なホウ素を含んでなる第 2成分は、下記の一般式により表すことができる。 [L−H]+[BQ4- 式中、 Lは中性ルイス塩基であり、 [L−H]+はブレンスデッド酸であり、 Bは3の原子価状態のホウ素であり、そして QはC1〜C20フッ素化ヒドロカルビル基である。最も好ましくは、Qは各々 独立してパーフルオロアリール基、ことにテトラキス−ペンタフルオロフェニル ボレートである。 本発明の改良された触媒の製造において第2成分として使用できるホウ素化合 物の例は、下記の通りであるが、これらは例示であり、これらに限定されない。 テトラキスアンモニウム塩またはトリアリールアンモニウム塩、例えば、トリメ チルアンモニウムテトラフェニルボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテト ラフェニルボレート、トリメチルアンモニウムテトラキスパーフルオロフェニル ボレート、トリエチルアンモニウムテトラキスパーフルオロフェニルボレート、 トリプロピルアンモニウムテトラキスパーフルオロフェニルボレート、トリ(n −ブチル)アンモニウムテトラキスパーフルオロフェニルボレート、トリ(t− ブチル)アンモニウムテトラキスパーフルオロフェニルボレート、N,N−ジメ チルアニリニウムテトラキスパーフルオロフェニルボレート、N,N−ジエチル アニリニウムテトラキスパーフルオロフェニルボレート、N,N−(2,4,6 −ペンタメチル)アニリニウムテトラキスパーフルオロフェニルボレート、トリ メチルアンモニウムテトラキス−(2,−3,4,6−テトラフルオロフェニル ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス−(2,3,4,6−テト ラフルオロフェニルボレート、N,N−(2,4,6−ペンタメチル)アニリニ ウムテトラキス−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニルボレートなど;ジ アルキルアンモニウム塩、例えば、ジ−(i−プロピル)アンモニウムテトラキ ス−ペンタフルオロフェニルボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキ ス−ペンタフルオロフェニルボレートなど;およびトリアリール置換ホスホニウ ム塩、例えば、 トリフェニルホスホニウムテトラキス−ペンタフルオロフェニルボレート、トリ (o−トリル)ホスホニウムテトラキス−ペンタフルオロフェニルボレート、ト リ(2,6−ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラキス−ペンタフルオロフェ ニルボレートなど。 イオン触媒を製造する他の方法は、 a2)前に開示した金属配位錯体(第1成分)、および b2)カルベニウムおよび前に開示した非配位の適合性アニオン、A-の塩であ る少なくとも1種の第2成分、 を組み合わせることを包含する。 イオン触媒を製造する他の技術は、 a3)金属が仕上げられた錯体における金属の酸化状態より少なくとも1つ低 い酸化状態にある、所望の金属配位錯体の還元された金属誘導体、および b3)カチオン酸化剤および非配位の適合性アニオンの塩である少なくとも1 種の第2成分、を組み合わせることを包含する。 本発明において使用するイオン触媒のこの製造において有用な第2成分は、下 記の一般式により表すことができる: (Oxe+d(Ad-e VIII 式中、 Oxe+は+eの電荷を有するカチオン酸化剤であり、そして Ad-は上記において定義したとおりである。 好ましいカチオン酸化剤は下記のものを包含する。フェロセニウム、ビスイン デニルFe(III)、置換フェロセニウムのカチオン誘導体、Ag+、Pd+2 、Pt+2、Hg-2、Hg2 -2、Au+、またはCu+。Ad-の好ましい態様は、上 記において定義した非イオン、ことにテトラキスパーフルオロフェニルボレート である。 イオン触媒を製造するなお他の方法は、 a4)金属が仕上げられた錯体における金属の酸化状態より少なくとも1つ低 い酸化状態にある、所望の金属配位錯体の還元された金属誘導体、および b4)ルイス酸の緩和剤と組み合わせた中性の酸化剤である少なくとも1種の 第2成分、を組み合わせることを包含する。適当なルイス酸の緩和剤はトリスフ ルオロフェニルボランを包含する。この技術は米国特許出願第08/34,43 4号(1993年3月19日提出)(その教示は本明細書において引用すること によって本明細書の一部とされる)にさらに詳しく開示されている。 イオン触媒を製造する最後の方法は、 a5)前に開示した金属配位錯体(第1成分)、および b5)金属配位錯体のアニオン配位子の抽出を引き起こすために十分ルイス酸 性度を有し、これによりカチオン誘導体を形成するルイス酸、 を組み合わせることを包含する抽出技術である。 前述の抽出反応のために好ましい金属配位錯体は、ルイス酸により抽出される ことができる少なくとも1つの水素化物、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル ビル基を含有するものである。好ましいルイス酸はトリス(パーフルオロフェニ ル)ボランである。この技術は前述の米国特許出願第876,268号(199 2年5月1日提出)(欧州特許出願(EP−A)第520,732号)(その教 示は本明細書において引用することによって本明細書の一部とされる)にさらに 詳しく開示されている。 後者の抽出技術から生ずるイオン触媒は、下記式に相当する制限電荷分離構造 を有する。 CG’+(XL)- IX 式中、 CG’は、その最も広い、好ましいおよび最も好ましい態様において上記にお いて定義した、金属錯体からのX基の抽出により形成された誘導体であり、 Xは金属配位錯体から抽出されたアニオン配位子であり、そして Lはルイス酸の残部である。好ましくはXはC1〜C10ヒドロカルビル、より 好ましくはメチルである。 上記式は制限電荷分離構造として言及される。しか しながら、特に固体の形態において、触媒は電荷を完全に分離することができな いことを理解すべきである。すなわち、X基は金属原子Mに結合した部分的共有 結合を保持することができる。したがって、触媒は下記式を有するとして別に描 写することができる。 CG”・・X・・A 式中CG”は部分的に電荷分離されたCG基である。 本発明において有用なポリマーを製造するための触媒組成物として有用である 他の触媒は、ことに他の第4族の金属を含有する化合物は、もちろん、当業者に とって明らかであろう。 本発明のポリマー製造するための重合条件は一般に溶液重合法において有用な 条件であるが、本発明の応用はそれに限定されない。適切な触媒および重合を用 いるかぎり、スラリーおよび気相重合法も有用であると考えられる。 多反応器重合法、例えば、米国特許第3,914,342号(引用することに よって本明細書の一部とされる)に開示されている方法は、また、本発明におい て有用である。多反応器は直列または並列で操作することができ、少なくとも1 種の拘束された配置の触媒を反応器の少なくとも1つにおいて用いる。 一般に、本発明の開示に従う重合はチーグラー・ナッタまたはカミンスキー・ シン型重合反応についてこの分野においてよく知られ ている条件、すなわち、0〜250℃の温度および大気圧から100MPa(1 000気圧)までの圧力において達成することができる。所望ならば、懸濁、溶 液、スラリー、気相または他の方法の条件を使用することができる。支持体を使 用できるが、好ましくは触媒は均質的方法において使用される。触媒および助触 媒の成分を重合法に直接添加する場合、活性触媒系、ことに非イオン触媒がその 場で形成し、そして凝縮モノマーを包含する適当な溶媒または希釈剤を前記重合 法において使用することは、もちろん、理解されるであろう。しかしながら、適 当な溶媒中で別の工程において活性触媒を形成した後、それを重合混合物に添加 することが好ましい。 本発明において有用である実質的に線状のポリオレフィンポリマーを製造する 重合条件は、一般に、溶液重合法において有用な条件であるが、適用はそれに限 定されない。適切な触媒および重合を用いるかぎり、スラリーおよび気相重合法 も有用であると考えられる。 すべての手順は窒素またはアルゴンの不活性雰囲気下に実施された。溶媒の選 択は、例えば、ほとんどの場合においてしばしば任意であり、ペンタンまたは3 0−60石油エーテルを互換的に使用することができる。アミン、シラン、リチ ウム試薬、およびグリニャール試薬はアルドリッヒ・ケミカル・カンパニー(A ldrich Chemical Company)から購入した。テトラメチ ルシクロペンタジエン(C5Me42)およびリチウムテトラメチルシクロペン タジエニド(Li(C5Me4H)を製造する発表された方法は、C.M.Fen drick et al.、Organometallics、3、819(1 984)を包含する。リチウム化置換シクロペンタジエニル化合物は、典型的に は、対応するシクロペンタジエンおよびリチウム試薬、例えば、n−ブチル リチウムから製造することができる。三塩化チタン(TiCl3)はアルドリッ ヒ・ケミカル・カンパニーから購入した。三塩化チタンのテトラヒドロフラン付 加物、TiCl3(THF)3、は、L.E.Manzer、Inorg.Syn .21、135(1982)の手順に従い、THF中でTiCl3を一夜撹拌し 、冷却し、青色固体状生成物を単離することによって製造した。 ポリオレフィン製造実施例1〜4 実施例1のための金属錯体溶液は下記のようにして調製した。 パート1:Li(C5Me4H)の製造 乾燥ボックス中で、3リットルの3口フラスコに18.34gのC5Me42 、800mlのペンタン、および500mlのエーテルを供給した。このフラス コの上部に還流冷却器、機械的撹拌機、および63mlのヘキサン中の2.5M のn−BuLiを含有する一定滴下漏斗を装備した。BuLiを数時間かけて滴 加した。非常に濃厚な沈澱が形成した。撹拌を続けるために、ほぼ1000ml の追加のペンタンを反応過程にわたって添加しなくてはならなかった。添加が完 了後、混合物を一夜撹拌した。次の日に物質を濾過し、固体状物をペンタンでよ く洗浄し、次いで減圧下に乾燥した。14.89gのLi(C5Me4H)が得ら れた(78%)。 パート2:C5Me4HSiMe2Clの製造 乾燥ボックス中で、250mlのTHFおよび大きな磁磁気撹拌棒を有する5 00mlのシュレンク(Schlenk)フラスコの中に30.0gのLi(C5e4H)を入れた。注射器に30mlのMe2SiCl2を供給し、フラスコお よび注射器を乾燥ボックスから取り出した。アルゴンの流れ下にシュレンクのラ イン上において、フラスコを−78℃に冷却し、Me2SiCl2を1回の急速な 添加において添加した。反応混合物を室温にゆっくり加温し 、一夜撹拌した。次に朝、揮発性物質を減圧下に除去し、フラスコを乾燥ボック スの中に入れた。油状物質をペンタンで抽出し、濾過し、ペンタンを減圧下に除 去すると、C5Me4HSiMe2Clが透明な黄色液体として残った(46.8 3g;92.9%)。 パート3:C5Me4HSiMe2NHtBuの製造 乾燥ボックス中で、3口の2リットルのフラスコに37.4gのt−ブチルア ミンおよび210mlのTHFを供給した。この溶液にC5Me4HSiMe2C l(25.47g)を3〜4時間かけてゆっくり滴下した。この溶液は曇り、黄 色となった。この混合物を一夜撹拌し、揮発性物質を減圧下に除去した。残留物 をジエチルエーテルで抽出し、この溶液を濾過し、エーテルを減圧下に除去する と、C5Me4HSiMe2NHtBuが透明な黄色液体として残った(26.9 6g;90.8%)。 パート4:[MgCl]2[Me45SiMe2NtBu](THF)xの製造 乾燥ボックス中で、14.0mlのエーテル中の2.0Mの塩化イソプロピル マグネシウムを250mlのフラスコの中に注射器で注入した。エーテルを減圧 下に除去すると、無色の油状物が残った。50mlの4:1(容量による)トル エン:THF混合物を添加し、次いで3.50gのMe4HC5SiMe2NtH Buを添加した。この溶液を加熱還流させた。2日間還流させた後、この溶液を 冷却し、揮発性物質を減圧下に除去した。白色固体状残留物をペンタン中でスラ リー化し、濾過すると、白色粉末が残り、これをペンタンで洗浄し、減圧下に乾 燥した。 白色粉末は[MgCl]2[Me45SiMe2NtBu](THF)xとして同 定された(収量:6.7g)。 パート5:[C5Me4(SiMe2NtBu)]TiCl2の 製造 乾燥ボックス中で、0.50gのTiCl3(THF)3を10mlのTHF中 に懸濁させた。0.69gの固体状[MgCl]2[Me45SiMe2NtBu ](THF)xを添加し、淡い青色から深い紫色への色変化が起こった。15分 後、この溶液に0.35gのAgClを添加した。色は直ちに淡い緑黄色に明る くなった。1.5時間後、THFを減圧下に除去すると、黄緑色の固体状物が残 った。トルエン(20ml)を添加し、この溶液を濾過し、トルエンを減圧下に 除去すると、黄緑色の固体状物、0.51g(定量的収率)が残り、1H NM Rにより[C5Me4(SiMe2NtBu)]TiCl2として同定された。 パート6:[C5Me4(SiMe2NtBu)]TiMe2の製造 不活性雰囲気のグローブボックス中で、9.031gの[C5Me4(Me2S iNtBu)]TiCl2を250mlのフラスコ中に供給し、100mlのT HF中に溶解した。この溶液をグローブボックスのフリーザー中に入れることに よって約−25℃に15分間冷却した。冷却した溶液に、35mlのトルエン/ THF(75/25)中の1.4MのMeMgBr溶液を添加した。反応混合物 を20〜25分間撹拌し、次いで溶媒を減圧下に除去した。生成物をペンタン( 4×50ml)で抽出し、濾過した。濾液を一緒にし、ペンタンを真空下に除去 すると、触媒は麦藁黄色の固体状物として得られた。 実施例2および3のための金属錯体[C5Me4(SiMe2NtBu)]Ti Me2の溶液を下記のようにして調製した。 不活性雰囲気のグローブボックス中で、10.6769gの三塩化チタンのテ トラヒドロフラン付加物TiCl3(THF)3を1 リットルのフラスコに入れ、約300mlのTHFの中に撹拌して入れた。この スラリーに、室温において、17.402gの[MgCl]2[Nt BuSiM e25Me4](THF)xを固体として添加した。追加の200mlのTHFを 使用して反応フラスコの中へのこの固体の洗浄を促進した。 この添加により、直ちの反応が起こり、深い紫色の溶液が形成した。5分間撹 拌した後、9.23mlのTHF中のCH2Cl2の1.56Mの溶液を添加する と、暗い黄色への急速な色変化が起こった。反応のこの段階において、約20〜 30分間撹拌した。次に、61.8mlのトルエン/THF(75/25)中の 1.4MのMeMgBr溶液を注射器で添加した。約20〜30分間撹拌した後 、溶媒を減圧下に除去し、固体状物を乾燥した。生成物をペンタン(8×50m l)で抽出し、濾過した。濾液を一緒にし、ペンタンを真空下に除去すると、金 属錯体は黄褐色固体状物として得られた。 実施例4のための金属錯体[C5Me4(SiMe2Nt Bu)]TiMe2の溶 液を下記のようにして調製した。 不活性雰囲気のグローブボックス中で、4.8108gのTiCl3(THF )3を500mlのフラスコに入れ、約130mlのTHFの中に撹拌して入れ た。別のフラスコにおいて、8.000gの[MgCl]2[NtBuSiMe2 5Me4](THF)xを150mlのTHF中に溶解した。これらのフラスコ をグローブボックスから取り出し、真空ラインに取り付け、内容物を−30℃に 冷却した。[MgCl]2[Nt BuSiMe25Me4](THF)xを、Ti Cl3(THF)3スラリーを含有するフラスコにカニューレを介して移した(1 5分かけて)。この反応混合物を1.5時間撹拌し、その時間にわたって除去を 0℃に上昇させ 、この溶液は深い紫色に変化した。反応混合物−30℃に冷却し戻し、4.16 mlのTHF中の1.56MのCH2Cl2溶液を添加した。反応のこの段階にお いて、さらに1.5時間撹拌し、温度を−10℃に上昇させた。次に、反応混合 物を再び−40℃に冷却し、27.81mlのトルエン/THF(75/25) 中の1.4MのMeMgBr溶液を注射器で添加し、反応混合物をここで室温に 3時間かけてゆっくり上昇させた。次いで、溶媒を減圧下に除去し、固体状物を 乾燥した。この時点において、反応フラスコをグローブボックスの中に戻し、こ こで生成物をペンタン(4×50ml)で抽出し、濾過した。濾液を一緒にし、 ペンタンを真空下に除去すると、触媒が固体状物として得られた。次いで金属錯 体をC8〜C10飽和炭化水素の混合物(例えば、IsoparTME、Exxon 製)中に溶解し、重合において使用される状態となる。 実施例1〜4のポリマー生成物は、連続的に撹拌される反応器を使用する溶液 重合法において製造した。添加剤(例えば、酸化防止剤、顔料など)を、ペレッ ト化工程の間に、または製造後に、引き続く再押出とともに、インターポリマー 生成物中に混入することができる。実施例1〜4の各々を1250ppmのステ アリン酸カルシウム、200ppmのIrganox(商標)1010、および 1600ppmのIrgafos(商標)168で安定化した。Irgafos (商標)168はホスファイト安定剤であり、そしてIrganox(商標)1 010はヒンダードポリフェノール安定剤(例えば、テトラキス[メチレン3− (3,5−ジt−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルプロピオネート)]メタン である。双方はチバ−ガイギー・コーポレーション(Ciba−Geigy C orporation)により製造され、その商標である。 エチレンおよび水素を1つの流れに一緒にした後、希釈剤混合物 の中に導入する。典型的には、希釈剤混合物はC8〜C10飽和炭化水素の混合物 (例えば、Isopar(商標)E、Exxon製)および1種または2種以上 のコモノマーを含んでなる。実施例1〜4について、コモノマーは1−オクテン である。反応器の供給混合物を反応器の中に連続的に注入した。金属錯体および 助触媒(実施例1〜4について、助触媒はトリス(ペンタフルオロフェニル)ボ ランであり、その場でイオン触媒を形成する)を一緒にして単一の流れにし、そ してまた反応器の中に連続的に注入した。十分な滞留時間を使用して、金属錯体 および助触媒を重合反応において使用するために所望の程度に、少なくとも約1 0秒間反応させた。実施例1〜4の重合反応のために、反応器の圧力を約490 psigに保持した。反応器のエチレン含量は、定常状態に到達した後、約8% 以下に維持した。 重合後、反応器の出口流をセパレーターの中に導入し、ここで溶融ポリマーを 未反応の1種または2種以上のコモノマー、未反応のエチレン、未反応の水素、 および希釈剤混合物の流れから分離した。溶融ポリマーを引き続いてストランド に細断するか、またはペレット化し、次いで水浴またはペレット化装置中で冷却 し、固体状ペレットを集めた。重合条件および生ずるポリマーの性質を表Iに記 載する。 実施例3(エチレンのホモポリマー)の13C NMRスペクトルはピークを示 し、これらのピークはαδ+、βδ+、および長鎖枝分れに関連するメチン炭素 に帰属させることができる。長鎖枝分れはこの開示の最初において記載されたR andallの方法を使用して検出され、ここで彼は「1−オレフィンを重合の 間に添加しな かった場合の高密度ポリエチレン中のこれらの共鳴の検出は、長鎖枝分れの存在 を強く示すであろう」と述べている。Randallからの方程式141(p. 292)、 枝分れ/10,000炭素=[1/3α/TTot)]×104 (式中αは枝分れ(αδ+)炭素の平均強度であり、TTotは合計の炭素強度で ある) を使用して、この同一の試料における長鎖枝分れの数は3.4/10,000炭 素原子、または0.34長鎖枝分れ/1000炭素原子であると決定された。ポリオレフィンの実施例5、6および比較例7〜9 同一メルトインデックスを有する実施例5、6および比較例7〜9をレオロジ ーの比較のために試験した。実施例5および6は、実施例1〜4に記載するよう に、拘束された配置の触媒により製造された実質的に線状のポリエチレンであっ た。実施例5および6は実施例1〜4のように安定化された。 比較例7、8お よび9は、それぞれ、普通の不均質チーグラー重合の吹込成形フィルムの樹脂D owlex(商標)2054A、Attane(商標)4201、およびAta tne(商標)4403であり、それらのすべてはザ・ダウ・ケミカル・カンパ ニー(The Dow Chemical Company)により製造された エチレン/1−オクテンコポリマーである。比較例7は200ppmのIrga nox(商標)1010、および1600ppmのIrgafos(商標)16 8で安定化したが、実施例8および9は8は200ppmのIrganox(商 標)1010および800ppmのPEPQ(商標)で安定化した。PEPQ( 商標)はサンド・ケミカル(Sandoz Chemical)の商標であり、 その主要成分はテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4’ −ビフェニル ホスホナイトである。 各実施例および比較例の物理的性質の比較を表IIに記載する。 驚くべきことには、ポリオレフィンの実施例5および6の分子量分布は狭く( すなわち、Mw/Mnは低い)、I10/I2値は比較例7〜9と比較してより高 かった。この記載の新規な実質的に線状のポリオレフィンポリマーについてのI10 /I2値は分子量分布、Mw/Mn、に対して本質的に独立であり、これは普 通のチーグラー重合した樹脂について真実ではなかった。 同様なメルトインデックスおよび密度を有するポリオレフィンの実施例5およ び比較例7(表II)を、また、ガス押出レオメーター(GER)を通して19 0℃において0.0296”直径、20L/Dダイを使用して押出した。前述し たように、加工指数(P.I.)を2.15×106ダイン/cm2の見掛けの剪 断応力において測定した。総溶融破壊の開始前における剪断応力および対応する 剪断速度の比較を表IIIに記載する。ポリオレフィンの実施例5のPIが比較 例7のPIより20%低いこと、およびポリオレフィンの実施例5についての溶 融破壊の開始またはサメ肌は、また、比較例7と比較して有意により高い剪断応 力および剪断速度において であったことは特に興味あることである。さらに、実施例5の溶融張力(MT) ならびに弾性率は比較例7のそれより高かった。 ポリオレフィンの実施例6および比較例9は同様なメルトインデックスおよび 密度を有するが、実施例6はより低いI10/I2を有していた(表IV)。これ らのポリマーをガス押出レオメーター(GER)を通して190℃において0. 0296”直径、20:1L/Dダイを使用して押出した。前述したように、加 工指数(PI)を2.15×106ダイン/cm2の見掛けの剪断応力において測定 した。 総溶融破壊の開始前の剪断応力および対応する剪断速度の比較を表IVに記載 する。I10/I2はポリオレフィンの実施例6についてより低かったとはいえ、 ポリオレフィンの実施例6のPIは驚くべきことには比較例9とほぼ同一であっ た。ポリオレフィンの実施例6についての溶融破壊の開始またはサメ肌は、また 、比較例9と比較して有意に高い剪断応力および剪断速度においてであった。さ らに、また、予期されない比較例9のそれより、ポリオレフィンの実施例6につ いてのメルトインデックスはわずかに高く、そしてI10/I2はわずかに低かっ たとはいえ、ポリオレフィンの実施例6の溶融張力(MT)は比較例9のそれよ り高かった。 実質的に線状のポリオレフィンポリマーの改良された性質は、改良された溶融 弾性および熱成形法、例えば、押出、および射出成形における加工性を包含する 。 本発明の塩素化されたポリエチレン樹脂は、前述の実質的に線状のオレフィン ポリマーの塩素化により製造される。塩素化は、塩素化ポリエチレンの先行技術 の文献に記載されている任意の既知の手法により達成することができる。換言す ると、塩素化は懸濁、溶液、スラリー、塊状または流動床の手法により達成する ことができる。例えば、懸濁塩素化は米国特許第3,454,544号(その教 示は引用することによって本明細書の一部とされる)に開示されている。その特 許の教示によると、ポリオレフィン、例えば、ポリエチレンの樹脂の水性スラリ ーの中に、所望の化学的に結合された塩素含量を獲得するために十分なスラリー 温度において、塩素ガスを導入することによって、有益な結果が得られる。スラ リーは樹脂および水を含有するだけでよい。所望ならば、加工助剤として、少量 のタルクおよび少量の界面活性剤を添加することができる。塩素化後、塩素化さ れた樹脂を単に洗浄し、乾燥する。 米国特許第3,454,544号に開示されているように、微細な実質的に線 状のポリエチレンおよび少なくとも約70モル%のエチレンおよび残部の1種ま たは2種以上のエチレン系不飽和コモノマーを含有するインターポリマーを不活 性媒質中で、所望の合計の結合した塩素含量に、懸濁塩素化することを塩素化手 法は包含し、ここでこのようなポリマーをまずその凝集温度以上の温度において 、ポリマーの合計重量に基づいて、約2〜23%の塩素の塩素含量を提供するた めに十分な時間の間塩素化し、次いでこのようなポリマーを、粒子の形態におい て、その凝集温度以上であるが、その結晶融点より少なくとも2℃低い温度にお いて、ポリマーの合計重量に基づいて、約75%までの塩素含量を提供するため に十分な時間の間順次に塩素化する。 驚くべきことには、第1段階において約2重量%程度にわずかの塩素化は、有 利には、塩素化温度を増加するより速い速度においてポリオレフィン系物質を塩 素化してその結晶化度を喪失させることが発見された。この結果の可能な説明は 、低温において暴露された小結晶表面の塩素化により、ポリオレフィンの小結晶 の中にひずみが誘導され、そしてそのように塩素化された小結晶が非塩素化小結 晶より低い温度において溶融する傾向があることである。 これに関して、第1段階の間の2重量%から10重量%より少ない塩素の導入 は、ことに約35重量%より低い合計の塩素含量において、予期されない程に高 い柔軟度を有する塩素化生成物を形成するので、望ましい。 通常ポリマーの凝集に導く塩素化の温度は、塩素化すべきポリオレフィンの特 質および分子量に高度に依存する。1メチル基/100炭素原子より小さい鎖の 枝分れおよび少なくとも0.94の密度を有する結晶質および主として直鎖状の ポリエチレンの場合におい て、前述の温度は95℃以上、特に100℃以上、またはさらに110℃以上で ある。 さらに、本明細書において記載する望ましい性質の組み合わせを有する材料を 得るためには、引き続く塩素化は第1塩素化のために用いられる温度より高いが 、ポリオレフィンの出発物質の結晶融点より低い温度において実施しなくてはな らないことが発見された。これに関して、過剰の望ましくない結晶化度を保持し 、その結果不均質の塩素化ポリマーの形成を防止するために、このような引き続 く塩素化における温度は初期の塩素化において用いられる温度より必然的に高く なくてはならないことが発見された。さらに、このような温度が塩素化されるポ リマーの結晶融点より高い場合、特にGPCにより約20,000〜300,0 00の重量平均分子量を有するポリマー使用するとき、粒度の成長は大きく加速 され、その結果ポリマー材料の望ましくない凝集の発生することが発見された。 したがって、本明細書に記載する引き続く懸濁塩素化において使用する温度は、 粒子の成長と結晶化度の破壊との間の所望のバランスが得られる温度である。こ のような温度は有利には使用するポリオレフィン、そのように形成したポリマー 材料の所望の塩素含量および所望の物理的性質に関して個々に決定される。さら に説明すると、第2段階の温度は狭い範囲内に入り、この範囲は塩素化されたポ リマーの特徴を示し、そして個々に決定しなくてはならない。例えば、少なくと も0.960の密度および2m2/gより小さい比表面積を有するエチレンポリ マーについての第2段階の温度のこの範囲は、約150,000〜約300,0 00の分子量を有するポリマーについての結晶融点より2〜11℃の間、および 約20,000〜約150,000の分子量を有するポリマーについての結晶融 点より約3〜13℃の間で低下することが発見された。さらに、前 述のポリマーが約2m2/gより大きい比表面積を有する場合、これらの温度は 示した範囲より3℃程度に大きく低下することがある。約0.960より小さい 密度は、また、温度範囲を前に示したより3℃程度まで低くさせることがある。 しかしながら、化学的特質が無機または有機の不活性物質の存在下に塩素化を 実施することが特別に有利であることが発見され、前記不活性物質は粒子の凝集 を阻止するバリアーとして機能することができるように、塩素化の間、ポリオレ フィンの表面上に吸収する親和性を有するような物質である。これに関して、ケ イ酸マグネシウムは、一般にその形態の大部分において粒子の成長の阻止する多 少の傾向を示すが、板状タルクの形態で使用するとき、驚くべきことにはかつ予 期されないことには有効であることが発見された。他方において、微細なシリカ はポリマーに対して非常に不活性であるので、事実上吸収されず、すべての実際 的目的に対して、有効性が低い。他の有用な不活性物質の例は、カーボンブラッ クおよび二酸化チタンなどである。このような物質は、ポリマーの高度に望まし いエラストマーの性質を有意に低下させないで、所望の目的に使用することがで きる。前に示したように、このような充填剤の添加は塩素化の間の粒子の成長を 阻止する働きをし、こうして望ましくない凝集物の発生を効果的に阻止する働き をする。比較すると、充填剤、例えば、シリカ、硫酸バリウム、および塩素化さ れるポリマー上への吸収の親和性をわずかにもつ他の物質は、この方法における 粒子の成長の阻止剤として無効である。さらに、凝集を阻止するためにポリ塩化 ビニルを使用することは、また、実際的ではない。なぜなら、それを粒子の成長 を効果的に阻止するために十分な濃度で使用する場合、それはこの方法から生ず る柔軟性物質の剛性化および熱の有害作用に対する抵抗の喪失を引き起こすから である。 本発明の懸濁塩素化法において微細なポリマーを懸濁させるために使用する不 活性液体は、ポリマーに対して不活性でありかつ感知可能な程度に影響を受けな いか、またはポリマーを湿潤させる間に、それに対して感知しうる溶媒作用をも たない、任意の液体であることができる。水は塩素化すべきポリオレフィンのた めの不活性懸濁液体として特に有利に使用できるが、ポリマーはまた他の不活性 液体の中に懸濁させることができる。 スルホネート、サルフェート、ポリホスフェートおよび他の種類のイオンおよ び非イオン界面活性剤を包含する種々の湿潤剤は、所望ならば、特に不活性液体 が水であるとき、それがポリマーを湿潤するのを促進するために使用するのに適 当であることがある。ラウリル硫酸ナトリウムおよびアルキルアリールポリエー テルアルコールのような物質は、利用できる特定の湿潤剤の例である。湿潤剤の 使用は、塩素化の間におけるポリマーの懸濁および均一な分布を促進する。しか しながら、ある場合において、ことに製造後未乾燥である新しく製造されたポリ マーを使用するとき、またはポリマーのスラリーの調製および維持のために効率 よい撹拌を利用できるとき、湿潤剤の使用は不必要であろう。 塩素化速度を加速しようとする場合、少量の触媒、例えば、遊離基型および/ または紫外線を使用することによって、反応を促進することができる。遊離基触 媒を使用するとき、触媒の助けにより達成される反応速度は、触媒の濃度、触媒 を溶解する懸濁媒質の温度、溶液のpHおよび塩素の圧力のような因子に依存す るであろう。種々のアゾ型化合物およびt−ブチルペルオキシド、t−ブチルヒ ドロペルオキシドなどからなる遊離基触媒の群から選択されるペルオキシドを有 利に使用することができる。好ましくは、触媒を使用するとき、このような触媒 はそれが要求される温度範囲において溶 解する懸濁媒質中で効率よい分解速度を有するものであるべきである。これに関 して、このような触媒の混合物を使用することが有利であることがあり、混合物 の1つの触媒は最適な初期の塩素化温度またはその付近において効率よい分解温 度を有し、他の触媒は最適な引き続く塩素化温度またはその付近において効率よ い分解温度を有する。このような触媒は反応条件および使用する触媒に依存して 単一の工程でまたは連続的に添加することができる。 また、安定剤を組成物の中に含めて、加工の熱によるか、または気候条件およ び使用の環境条件への製作されたシート物質の引き続く暴露により、起こりうる 分解に対して塩素化オレフィンポリマーを保護することができる。適当な安定剤 は、ビニルポリマーおよびコポリマーのシート組成物の製造において普通に使用 されている物質、例えば、鉛、錫、バリウム、カドミウム、亜鉛、ナトリウムな どの有機錯体および/または塩を包含し、そして特にアルキル錫メルカプチドな らびにジブチル錫ラウレートおよびジブチル錫マレエートを包含する硫黄含有有 機錫化合物および種々のエポキシド化合物、例えば、なかでもエポキシ化脂肪酸 および油を包含する。安定剤は好ましくは塩素化オレフィンポリマー構成成分の 100重量部当たり約1〜10重量部を提供するために十分量で使用される。他 の慣用の添加剤、例えば、非エポキシ化脂肪酸および油、および低分子量ポリマ ーおよびワックスを、所望ならば、使用することもできる。 本発明の目的に使用される塩素化オレフィンポリマーは本来耐燃性であるが、 ある場合において、少量の、すなわち、100部の塩素化オレフィンポリマー当 たり約1〜10部の1種または2種以上の難燃剤、例えば、アンチモンの酸化物 および/または種々のハロゲン化物質、例えば、多数のなかでも、テトラブロモ フタル酸無水 物、パークロロペンタシクロデカン、トリス(2,3−ジブロモプロピル)ホス フェート、テトラブロモビスフェノール−Aを混入することは有利であることが ある。 本発明の他の態様は、米国特許第4,425,206号(これは引用すること によって本明細書の一部とされる)に記載されているように、塩素化ポリオレフ ィンを無水的に製造する方法である。米国特許第4,425,206号に開示さ れているように、非晶質塩素化、固体の、微細なポリエチレン粒子を製造する無 水遊離基法は、遊離基開始剤、塩素ガスの流れおよび前記粒子の一般にすべてを 塩素ガスの流れに暴露するために十分な粒子の撹拌を使用し、この方法は、下記 の1系列の順次の工程を含む。 (a)多孔質の、微細なポリエチレン粒子の撹拌した塊への塩素ガスの添加を 開始し、粒子は遊離基開始剤に暴露され、その間前記塊は25〜50℃の温度範 囲内の温度であり、 (b)撹拌された物質への塩素ガスの添加を続けると同時に遊離基開始剤への 塊の暴露を続けかつ前記塊の温度を50℃〜105℃の温度範囲にわたって増加 し、そして撹拌された塊の塩素化レベルが前記塊の5〜15重量%になるまで、 温度を前記温度範囲内に維持し、 (c)撹拌された物質への塩素ガスの添加を続けると同時に遊離基開始剤への 塊の暴露を続けかつ前記塊の温度を125℃〜132℃の温度にさらに増加し、 前記温度は撹拌された塊の焼結を排除するために十分に遅い速度で増加させ、そ して (d)撹拌された物質への塩素ガスの添加を続けると同時に遊離基開始剤への 塊の暴露を続けかつ前記塊の温度を約130℃より高く、しかも撹拌された塊の 焼結が起こる温度より低い温度に増加し、そして前もって決定した塩素化レベル および前もって決定した相 対結晶化度を獲得するために十分な時間の間前記温度を維持する。 そのように製造された非晶質の塩素化された固体の微細なポリエチレンは、予 期されないことには、非常に低いブロッキング値を有する。本明細書おいて使用 するとき、用語「ブロッキング」は、粉末状塩素化ポリマー樹脂がかたまり、ケ ークまたは凝集物になる傾向を意味する。慣用の粘着防止剤を添加しないで、低 いブロッキング値が得られる。 本発明の目的のために、このようなオレフィンポリマーの粉末の塩素化は種々 の方法で実施することができる。例えば、酸素の実質的に非存在において、塩素 (塩素は好ましくは予熱されている)の流れの作用に粒状ポリマーを暴露しなが ら、撹拌装置により粒状ポリマーを撹拌することができる。効率よい撹拌手段を 装備した種々の装置を使用して、このような撹拌および塩素への暴露を達成する ことができる。例示的装置は、櫂型撹拌機または他の撹拌手段を有する反応器、 および内部の混合そらせ板または他の撹拌手段を有することができる回転シリン ダーを包含する。この装置は垂直または水平に配置することができるか、または 水平に対して傾斜させて、作業を通じて固体状物質の内部の連続的通過を促進す ることができる。別法として、よく知られた流動床技術に従い反応を実施するこ とによって、物質をハロゲン雰囲気に完全に暴露しかつ効果的に撹拌することが できる。流動床技術を使用するとき、ハロゲン雰囲気の流れをハロゲン化すべき 物質の微細な、自由流動性層(流動床)に通過させる。流動床を通るハロゲン雰 囲気の通過または強制は、ハロゲン化される物質の完全な撹拌および暴露を達成 するために十分な速度で実施される。ポリマーの自由流動性の塊を所望の温度に おいてまたは所望の温度範囲にわたってハロゲン雰囲気に完全に暴露することが できる任意の装置は、本発明による反応を実施するた めに適当に使用することができる。フッ素および蒸発した臭素、またはこれらの 混合物は、塩素ガスと組み合わせて本発明のハロゲン雰囲気を構成するために、 有利に使用することができる。有益には、本発明のハロゲン雰囲気は主として塩 素ガスを含む。ある場合において、ハロゲン雰囲気は不活性ガスおよび蒸気を希 釈剤または担体として含有することが望ましいことがある。不活性ガスを含める と、反応のすぐれたコントロールが可能となる。ある場合において、また、連続 的方法を使用しているとき、ハロゲン雰囲気の一部分のみ使用すること、または バッチ式反応において特定の間隔の間にのみハロゲン雰囲気を希釈することは有 利であることがある。この方法において、特定のハロゲン化反応の過程において 、種々のハロゲン含量において、ハロゲン化されるオレフィンポリマー粉末の変 化する反応性に適合するように反応条件を調節することができる。 反応条件下に、ハロゲン雰囲気およびハロゲン化されるオレフィンポリマー粉 末の双方に対して不活性である、任意の適合性のガスまたは蒸気を、ハロゲン雰 囲気のための希釈剤として使用することができる。ヘリウムおよび不活性ガス、 窒素、ハロゲン化水素、およびパークロロ、パーフルオロ、またはフルオロ−ク ロロ炭化水素は適当な希釈剤の例である。反応の間に形成したハロゲン化水素の 再循環は、また、ハロゲン雰囲気を希釈する適当な手段を提供するであろう。時 には、反応の間に形成するハロゲン化水素を希釈剤として再循環させるとき、そ れを外部から冷却することが望ましいことがある。これは反応温度を所望の範囲 内にコントロールする有効な手段を提供するであろう。 ポリマーおよびハロゲン雰囲気は有益には物理化学的意味において無水である か、または乾燥している。無水条件が維持されない場合、存在する水は蒸発し、 水蒸気に変換されるであろう。水蒸気は 反応器に圧力を加え、腐蝕の問題を引き起こすであろう。したがって、反応器の 設計および構築は、水が存在する場合、変化させなくてはならない。さらに、下 記において詳述する塩素化反応の開始は、水が存在する場合、変更されるであろ う。 オレフィンポリマー粉末のハロゲン化に適当な温度は、種々の因子および条件 に依存して限界内で変化するであろう。温度は、一般に、使用される特定のオレ フィンポリマー粉末およびハロゲン雰囲気の相互の反応性、および所望のハロゲ ン化の程度により支配されるであろう。ハロゲン雰囲気の反応性は、その中に含 有される特定の1種または2種以上のハロゲン、前記1種または2種以上のハロ ゲンの有効濃度に直接依存する。ハロゲン化されるポリマーの反応性は親物質の 特性により最初に固定されるが、所定の反応の過程において、このようなポリマ ーにおける変化するハロゲン含量とともに変化することがある。ハロゲン化され るポリマーの粒度または形状は、また、反応に影響を及ぼすことがある。より大 きい表面積を有する粒子、特により小さい大きさの粒子または狭間のある、そう でなければ不規則な形状を有する粒子は一般にハロゲン化反応に対して助けとな る。所定の温度における反応速度は、また、ハロゲン雰囲気からハロゲン化され るポリマーの中へのハロゲンの拡散速度、およびこのような温度において関係す る特定のハロゲンを吸収するポリマーの能力に大きく依存する。 非晶質ハロゲン化オレフィンポリマー、特に非晶質塩素化ポリエチレンは、少 なくとも4工程を含む方法により製造されることが発見された。第1工程におい て、例えば、塩素化ポリエチレンを使用して、多孔質の微細なポリエチレン粒子 の撹拌された塊(粒子は開始剤と混合されている)への塩素ガスの添加は開始し 、その間前記塊は25〜50℃の温度範囲内の温度にある。ポリエチレン粒子の 撹拌された塊が約50℃より高い温度に加熱されてしまうまで塩素の添加を遅延 すると、望ましくない結果が生成することがわかった。望ましくない結果の1つ は、ポリマー粒子を流動または撹拌された状態に維持することができないことで ある。流動状態の喪失はポリマー粉末のケーク化により証明される。第1工程の 間にハロゲン化は、起こったとしても、実際にわずかであることがわかった。し かしながら、前述したように、第1工程は重大である。第2工程において、撹拌 された塊への塩素ガスの添加を続けると同時に、撹拌された塊の5〜15重量% の前記塊の塩素化レベルが達成されるまで、前記物質の温度を維持する。約5重 量%より低い塩素化レベルでは、より高い温度における塩素化を試みるとき、ポ リエチレン粒子の撹拌された塊が凝集する傾向があることがわかった。また、第 2工程において前記物質の約15重量%より高い塩素化レベルでは、いったん塩 素化が完結したとき、望ましくなほどに剛性の塩素化ポリエチレン生成物を生ず ることがわかった。線状高密度ポリエチレンの公称融点は130℃である。ポリ マーが塩素化されるつれて、塩素化ポリマーの約12重量%の塩素化レベルにお いて融点は約106℃の最小に減少することがわかった。塩素化レベルが塩素化 ポリマーの約12重量%を越えて増加するにつれて、融点は前記最小を越えて増 加し始める。融点を越えるとき、ポリマー粒子が凝集し始めるために十分な溶融 がポリマー粒子の少なくとも表面部分において起こる。撹拌された塊の約15重 量%の最大塩素化レベルが第2工程の間に発生するとき、約105℃を越えるべ きではない。第3工程において、撹拌された塊の温度をさらに125℃〜132 ℃に増加しながら、撹拌された塊への塩素ガスの添加を続ける。前記塊の温度は 、経済的であるために十分に速く、しかも多孔質粒子構造を一般に保持しかつ部 分的に塩素化されたポリエチレン粒子の 焼結を一般に防止するために十分に遅い、特定の速度で増加させる。急速過ぎる 加熱速度は、塩素化が停止された後、非晶質でない塩素化ポリエチレン生成物を 一般に生ずることがわかった。用語「非晶質」は、本明細書おいて使用するとき 、適当には約2%より低い、有益には約0.5%より低い、望ましくは約0.3 %より低い、相対結晶化%を有する塩素化ポリマーを記載する。急速過ぎる加熱 速度は、また、部分的に塩素化されたポリエチレン粒子を凝集させることがある 。部分的に塩素化されたポリエチレン粒子の凝集または焼結した塊は、実際的用 途をもたない。前述に照らして、適当な加熱速度は0.15〜0.36℃/分で ある。有益には、加熱速度は0.20〜約0.36℃/分である。望ましくは、 加熱速度は0.25〜約0.32℃/分である。第4工程において、塩素化ポリ エチレンの塩素化は完結する。撹拌された塊への塩素ガスの添加を続けると同時 に、前記塊の温度を約130℃より高いが、前記粒子が凝集し始める温度より低 い温度にさらに増加する。温度は、一般にすべての残留結晶化度を破壊すること によって、本明細書において定義する非晶質ポリマーを生成するために十分に高 くなくてはならない。温度は、また、粒子の大きいかたまりまたは凝集物の形成 を排除するために十分に低くなくてはならない。凝集物の存在は生成物を一般に 商業的用途に望ましくないものとする。約145℃までの温度を損傷を与えない で第4工程において使用できることがわかった。当業者は認識するように、14 5℃の十分に越える温度は1または2以上のかたまりに粒子を融合するであろう 。 ハロゲン化速度は温度とともに増加するが、ポリマーを焼結、融合または炭化 することがある高温を回避するように注意を払うべきである。これが起こるとき 、微細なポリマーを撹拌のために適切な状態に保持することがいっそう困難にな り、そして生成物において 非均一性を引き起こすことがある。さらに、暴露される粒子表面は焼結により顕 著に減少するので、ハロゲン化反応は焼結ポリマーによりひどく妨害される。 本発明のハロゲン化反応は任意の適当な圧力下に実施することができる。有益 には、ハロゲン化反応は大気圧において実施される。しかしながら、この反応は 反応速度を速めるために過圧下に実施することができる。化学量論的要求量を越 えた量のハロゲンを含有するハロゲン雰囲気を使用することによって、反応を大 気圧下に実施するとき、満足すべき結果をまた得ることができる。反応を過圧下 に実施するとき、生成する副生物を適切に排出して、ハロゲン雰囲気の中に有効 ハロゲンレベル維持するように注意を払うべきである。 本発明のハロゲン化反応は、遊離基開始剤の存在下に実施することができる。 遊離基開始剤は、化学的遊離基形成開始剤、遊離基形成放射線および遊離基形成 放射線と1種または2種以上の化学的遊離基形成開始剤との組み合わせから成る 群より適当に選択される。 遊離基形成放射線は、ハロゲンを活性化するために十分な波長をもたなくては ならない。一般に、3,000〜4,500オングストローム(Å)の範囲の波 長を有する紫外線を使用することによって、適当な結果が得られる。3,350 〜3,650Åの波長を有する紫外線を使用することによって、有益な結果が得 られた。 適当な化学的遊離基形成開始剤は下記の通りである。ペルオキシドおよびヒド ロペルオキシド、例えば、ベンゾイルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシ ド、ラウロイルペルオキシドなど、アゾ化合物、特にアゾ窒素原子に隣接する炭 素原子にニトリル基を有するアゾ化合物、例えば、ジメチルおよびジエチル、α ,α’−アゾビス(α,ε−ジメチルバレロニトリル)。他の既知の開始剤を本 発明による方法において使用することができる。 本発明のなお他の態様は、米国特許第3,110,709号(これは引用する ことによって本明細書の一部とされる)に記載されているように、塩素化ポリオ レフィンを製造する溶液法である。この方法において、ポリエチレンを溶媒、例 えば、四塩化炭素の中に、溶媒の通常の沸点以上の温度および溶媒を液相に維持 するために十分な過圧、例えば、80〜120℃および5〜100psigにお いて溶解する。次いで、部分的に塩素化された生成物、通常約15重量%の塩素 を含有する生成物が得られるまで、元素状塩素を溶液の中に通過させる。この中 間生成物は、大気圧および四塩化炭素の沸点までの温度において、四塩化炭素中 に溶解する。次いで温度を50〜70℃に、圧力を大気圧に低下させ、そして塩 素化を所望の程度まで続ける。溶媒は揮発により除去し、塩素化ポリマーは残留 物として回収することができるか、またはアンチソルベント(antisolv ent)、例えば、メタノールを添加して塩素化ポリマーを沈澱させることがで き、この沈澱は濾過により回収することができる。また、1,1,2,2−テト ラクロロエタンを溶液法において溶媒として使用することができる。 本発明によれば、ハロゲン化ポリマーの20〜50重量%のハロゲンレベルを 得ることができる。有益には、塩素化ポリマーの重量に基づいて25〜45重量 %の塩素含量を有する非晶質塩素化ポリエチレンが得られる。当業者は認識する ように、60重量%またはそれ以上の塩素含量を有する塩素化ポリエチレンは、 ゴム状材料よりむしろガラス状材料である傾向を有する。 また、本発明の一面として、米国特許第4,584,351号(これは引用す ることによって本明細書の一部とされる)に記載されているような、クロロスル ホン化ポリオレフィンは重要である。米 国特許第4,584,351号に開示されているように、塩素化ポリオレフィン 、例えば、塩素化ポリエチレン、出発物質を二酸化硫黄と塩素との気体混合物で 処理して、ポリマー上のスルホニル基を置換する。この処理は、適当には、流動 床反応器におけるように、塩素の遊離基発生剤の存在下に、塩素化ポリエチレン 粒子に気体混合を通過させることによって20〜100℃において実施される。 出発物質を処理するときの温度は、有益には、20〜80℃の温度範囲内であ る。望ましくは、温度は20〜50℃の温度範囲内である。好ましくは、温度は 20〜45℃の温度範囲内である。25〜35℃の温度は特に好ましい。すべて の他の反応パラメーターが等しい場合、より低い反応温度はより高い反応温度よ りスルホン化速度の増加に助けとなることがわかった。 気体混合は適当には1:1〜8:1、好ましくは1:1〜4:1である二酸化 硫黄/塩素の比を有する。1:1〜8:1の比において、スルホン化速度は8: 1より大きい比におけるより大きいことがわかった。所望ならば、32:1程度 に大きい、さらにそれより高い比を使用することができる。しかしながら、それ らは、スルホン化速度がより低い比において大きいので、反生産的である。約1 :1より小さい比を使用することができるが、このような比は、スルホン化より 塩素化に好適であるので、望ましくない。 加速されたクロロスルホン化速度を望む場合、紫外線および/または少量の塩 素の遊離基発生触媒を使用することによって、反応を促進することができる。紫 外線は塩素の遊離基の発生に適当な波長を有する。紫外線単独は満足すべき結果 を生成するために一般に十分である。 触媒は、使用するとき、本発明の目的に適当であるためには、ある種の特性を もたなくてはならない。第1に、触媒は塩素化ポリエ チレン出発物質と接触するか、またはそれと均質に混合することができなくては ならない。第2に、出発物質を気体混合で処理するために使用する温度範囲の少 なくとも一部分にわたって、触媒は活性でなくてはならない。第3に、触媒はそ の合理的量の使用を可能とするために十分に活性でなくてはならない。種々のア ゾ型化合物およびペルオキシド、例えば、t−ブチルペルオキシドなどは適当な 遊離基触媒である。 クロロスルホン化ポリエチレン材料の製造は、有益には15〜120、望まし くは15〜70、好ましくは15〜35分である時間内に達成される。約15分 より短い時間は、所望の硫黄含量を獲得するために不十分である。120分を越 える時間を使用することができる。しかしながら、それは不必要であり、また非 経済的である。 本発明に従い製造されたクロロスルホン化ポリエチレンは、ポリマーの有益に は20〜50重量%、好ましくは25〜42重量%の塩素含量を有する。 本発明に従い製造されたクロロスルホン化ポリエチレンは、ポリマーの有益に は0.8〜2.5重量%、望ましくは0.9〜1.4重量%、好ましくは1.0 〜1.2重量%の硫黄含量を有する。 本発明に従い製造されたクロロスルホン化ポリエチレンは、有益には40,0 00〜300,000、望ましくは90,000〜250,000、好ましくは 120,000〜180,000の重量平均分子量を有する。 本発明の組成物が加硫パッケージを含有するとき、パッケージは毒物学的理由 で酸化マグネシウムおよび、必要に応じて、1種または2種以上の硫黄含有促進 剤、例えば、メルカプトベンゾチアゾール、ベンゾチアジルジサルファイドまた はジペンタメチレンチウラ ムテトラサルファイドを含むことができる。酸化マグネシウムは、使用するとき 、3〜7重量部の量で存在する。硫黄含有促進剤は一般に0.5〜3重量部の量 で使用される。すべての重量部はポリマーの100重量部に基づく。クロロスル ホン化ポリエチレンを加硫するために適当であると当業者に知られている他の加 硫パッケージを、また、使用することができる。 また、米国特許第3,296,222号は、連続的にクロロスルホン化する方 法を教示しており、この方法において、Cl2+SO2を不活性の揮発性溶媒、例 えば、ポリエチレンと85〜105℃においてすべての成分を液相に維持するた めに十分な圧力下に急速にかつ均質に混合し、この混合物を90〜250℃にお いて前述の圧力下に混合している間にCl2の1/5より多くが反応してしまう 前に反応器に通過させ、そしてすべてのCl2が反応してしまう前に、より低い 圧力のチャンバーに入れることによって、反応を140℃において阻止し、前記 チャンバーにおいて未反応のCl2およびSO2を蒸発させる。 本発明の組成物は、また、充填剤、例えば、カーボンブラック、鉱物の充填剤 またはカーボンブラック−鉱物の充填剤の混合物、種々の加工助剤および酸化防 止剤を含有することができる。カーボンブラック以外の充填剤の例は、二酸化チ タン、硫酸バリウム、カオリン粘土、ケイ藻土、タルク粉末および硫酸カルシウ ムである。適当な加工助剤は、よく知られている可塑剤および柔軟剤、例えば、 低分子量ポリエチレン、芳香族炭化水素油などを包含する。酸化防止剤はこの分 野においてよく知られているもの中から容易に選択することができる。 追加の凝集防止添加剤を、所望ならば、塩素化クロロスルホン化ポリマーとと もに使用することができる。例えば、米国特許第4, 263,200号、米国特許第4,481,333号または米国特許第4,56 2,224号(それらの各々は引用することによって本明細書の一部とされる) によれば、熱分解法により製造された酸化アルミニウム、シラン化二酸化ケイ素 、シラン化および焼成されたケイ酸アルミニウム、シラン化カオリンを包含する 種々の無機化合物を、ポリオレフィンを水またはHCl懸濁液中で塩素化する方 法に添加することができる。さらに、微細なフルオロポリマーはある種の型のシ リカと一緒に塩素化液に添加された。なおさらに、ポリ−N−ビニルピロリドン および疎水性ケイ酸の分散系の存在下に実施する塩素化は、塩素化ポリエチレン が凝集する傾向を減少するように実施することができる。さらに詳しくは、水ま たは塩酸の懸濁液中の塩素化は、少量のケイ酸およびシリコーンオイルの存在下 に実施して塩素化ポリエチレンを製造することができる。 本発明を下記の実施例によりさらに説明するが、本発明はこれらの実施例に限 定されない。 下記表Vに記載する性質を有するエチレン−1−オクテンコポリマー材料を、 室温において、機械的に粉砕して250μmの区域において樹脂粒子製造した。 次いで、これらの粉末状材料を表VIに示す塩素化プログラムを使用して水性懸 濁液中で塩素化した。塩素化プログラムに使用した温度は、ポリマーの融点、T m、に基づいた。第1段階の開始温度は、Tmよりほぼ33℃低いように選択し 、そして最終のラインアウトは(Tm−3°)±3℃であるように選択した。 次いで10ポンド(4.5kg)のポリエチレン樹脂は、100ポンド(45 .36kg)の水および界面活性剤を含有する撹拌機を有する反応器中で、目標 とする第1段階の開始温度に加熱した。この温度において、表VIに記載するプ ログラムに従い塩素化プロ グラムを開始し、進行させた。塩素化ポリエチレンを洗浄して残留塩素および塩 酸を除去し、次いで流動床乾燥器中で乾燥した。チーグラー・ナッタ触媒を使用 して製造されたポリエチレン樹脂を使用する塩素化されたポリエチレン材料を対 照材料として使用した。また、これらを表Vの中に含める。これらのポリエチレ ン樹脂の粒度は100〜150μm程度であった。 生ずる塩素化生成物を熱重量分析(TGA)により塩素の重量%および灰の重 量%について分析し、そしてASTM D3418に従い示差走査熱量計(DS C)により残留ポリエチレン結晶化度について分析した。 また、比較の目的で、商用塩素化ポリエチレン製品、例えば、それぞれ、フィ ードストックHおよびJから製造されたTyrin(商標)CM0136および Tyrin(商標)3615Pを含めた。結果を下記表VIIに記載する。 次いで、塩素化生成物をa)熱可塑性組成物、b)ペルオキシドおよびチアジ アゾールの硬化系を使用して架橋したまたはエラストマー組成物、において、お よびc)剛性PVC組成物における耐衝撃性改良剤として評価した。使用した組 成物を表VIII、IX、およびXに記載し、そして性質を表XI、XII、X III、XIVおよびXVに記載する。表VIIIに記載する処方に従い177 ℃(350°F)に加熱した二本ロール機で製造したモジュラスブランケットか ら、物理的性質を測定した。ブランケットから圧縮成形したプラックから、試験 片をダイ切断した。テフロン(Teflon(商標))シートとフェロプレート との間で190℃において14MPaの圧力(5”のラム上で20トン)を使用 して、成形を実施した。15.24cm×25.4cm×0.1542cm(6 ”×10”×0.060”)のスペーサープレートを使用して、同一の公称厚さ のプラックを得た。成形は3分の予熱、圧力下に3分、および14MPaの圧力 における周囲水冷却の定盤の間で3分であった。ASTM D412に従いAS TM D1708に記載されているマイクロ引張試験片を使用して、引張性質の 測定を実施した。190℃(374°F)において40/1L/Dダイを使用し て、毛管レオロジーを実施した。剪断速度の範囲は3.5/秒〜350/秒であ った。圧縮成形したプラックから切断したストリップを5分間予熱した後、毛管 ダイを通して押出した。ASTM D4440に従い圧縮成形したプラックから 切断した直径5.08cm(2”)のディスクを使用して、動力学的機械的分析 (DMA)を実施した。粘度の情報はプレート−プレートのモードにおいて実施 したDMAから得た。Cox−Merzルールを使用してを使用して、DMAか らの粘度の結果を毛管データで合同させた。剪断応力(τ)/剪断速度(y)の プロット、および見掛けの粘度(ηa )/剪断速度(y)のプロットを構成し、そして下記の形の力の法則の回帰に適 合させた: τ=kyn ηa =ky(n-l) ここでnは剪断減粘性指数であり、そしてkは定数である。 また、塩素化ポリエチレンをエラストマー配合物において、そしてPVCの耐 衝撃性改良剤として評価した。エラストマーの場合において、塩素化生成物をペ ルオキシドおよびチアジアゾールの双方の硬化配合物において使用した。基本的 エラストマー配合物についての詳細を表IXに記載する。表IX中のエラストマ ー配合物をファレルBRバンバリー(Farrel BR BanburyTM) 中の低速度において混合し、121℃(250°F)においてバンバリーから排 出した。常温二本ロール機上に5回通過させて混合を続け、次いでブランケット をシートにし、周囲実験室条件下に冷却した。 物理的試験の前に、配合シートをASTM D1646を使用してムーニイ粘 度について、そしてASTM D2084に従い振動ディスクレオメーター(O DR)により硬化度について試験した。121℃(250°F)において、小型 ローターを使用して、1分の予熱を使用して、25分間、または最小粘度から5 ムーニイ単位の粘度の上昇が得られるまで、ムーニイ粘度計を作動させた。報告 した値は最小粘度、3単位の粘度上昇までの時間、および5回の小さい上昇まで の時間である。ODRはペルオキシド硬化配合物について204℃(400°F )において12分間、そしてチアジアゾール硬化配合物について177℃(35 0℃)において12分間実施した。報告した結果は最大トルク値、変化または△ トルクおよび硬化の90%の時間T90である。 物理的性質の試験のために、圧縮成形したプラックを予熱スラブ金型中で9. 7MPa(1400psi)において、コンパウンドについていくらかでもT90 値が存在する時間の間プレスした。ペルオキシド硬化配合物は204℃(400 °F)においてプレスしたが、チアジアゾール硬化配合物は177℃(350° F)においてプレスした。引張試験はASTM D412により特定されるよう に標準的ダンベルを使用して実施した。DMAはモジュラスブランケットについ て特定された方法に従い実施した。硬化した配合物の引裂強さは、ASTM D 624に従いC型試験片を使用して実施した。空気炉の老化はASTM D57 3に従い実施した。圧縮永久歪の試験は100℃(212°F)においてAST M D395を使用して22時間実施した。 PVCの耐衝撃性改良に使用した配合物は表Xに記載されている。180℃( 356°F)に加熱した二本ローターのハーケ・トルク・レオメーター(Haa ke Torque Rheometer)において、60rpmのローター速 度を使用して、10の合計したトルクまで、配合物を混合した。次いで、混合し た配合物をローターから取り出し、フェロプレートの間で200℃(392°F )および14MPa(12.7cm(5”)のラム上で20トン)において10 .1×15.2×0.318cm(4”×6”3×0.125”)のスペーサー プレートを使用して2分間プレスした。次いで、14MPaの圧力下に周囲水冷 の定盤の間で5分間冷却した。アイゾッド試験はASTM D256法に従い実 施し、そして23℃(74°F)において実施した。また、毛管レオロジーを配 合物について実施して、これらの配合物の加工において差が観察されるかどうか を決定した。毛管レオロジーの手順は前述のもとと同一である。表VIIは塩素 化樹脂についての基本的生成物の性質を 示す。 驚くべきことには、モジュラスブランケットの配合された塩素化メタロセンポ リマー生成物は、チーグラー・ナッタ触媒のポリエチレンから作られたCPEに 比較して非常にすぐれていた。これはメタロセンに基づくポリマーのフィードス トックについてのMwが実施例Iのについてのそれの1/2に近く、そしてほと んど実施例HのフィードストックのMwの1/3に近いという事実にかかわらず 真実である。モジュラスブランケットのこれらの結果は表XIに要約されている 。表Vから、実施例AおよびBは、それぞれ、72,200および85,600 g/molのMwを有するが、実施例Iは157,000g/mol、すなわち 、実施例AのMwのほぼ2.2倍および実施例Bのほぼ1.8倍のMwを有する 。しかしながら、実施例AおよびBについての100%モジュラス値(0.81 および1.01MPa)は実施例Iのそれ(0.74MPa)より大きく、そし て実施例Bの究極引張(10.5MPa)は実施例Iのそれ(9.21MPa) を越えた。実施例EおよびFの100%および200%モジュラス値は、Eおよ びFについての出発フィードストックについてのMwが有意に低いにもかかわら ず、実施例H1、およびTyrin(商標)CM0136およびTyrin(商 標)3615Pのそれらに比較してすぐれた。事実、実施例EおよびFのマイク ロ引張試験片は引張試験のフレームの限界(2350%を越える)まで伸張する ことができたので、実施例EおよびFは異常な性能を示した。 架橋したエラストマー配合物について、モジュラスブランケット配合物におい て観察された、類似の傾向が見られた。本発明の塩素化ポリエチレンの物理的性 質は、実質的に線状のポリエチレンのフィードストックのMwの2または3倍の Mwのチーグラー・ナッタ のフィードストックから作られたCPEに等しいか、またはそれよりすぐれてい た。これは表XI〜XIVを概観すると観察することができる。前述したように 、実施例IのMwは実施例Aのそれよりほぼ2.2倍大きく、しかも実施例Aは 実施例Iより有意に高い△トルク、モジュラス、引張および引裂強さを示し、ム ーニイ最小粘度がわずかにのみ増加した。表XIIから、実施例Aについてのム ーニイ最小粘度および究極引裂強さは、それぞれ、19ムーニイ単位および12 .3MPaであったが、実施例Iについて、それは15ムーニイ単位および11 .3MPaであった。なおさらに低いMwの実質的に線状のポリエチレンのフィ ードストックから作られた実施例CおよびDは、実施例Iに対して匹敵する機械 的性質およびムーニイ最小粘度を有した。フィードストックのMwが72,20 0〜85,600の範囲である実施例A、B、E、およびFは、実施例H1、H 2および公称215,000のフィードストックから作られたTyrin(商標 )CM0136製品に比較して非常にすぐれていた。であるかどうかを表XII から、実施例Eは実施例H2およびTyrin(商標)CM0136の双方を越 える100%および200%モジュラス値を有したが、Tyrin(商標)CM 0136のそれの約60%のムーニイ粘度を有した。事実、本発明の塩素化ポリ エチレンにより達成される高い△トルク値は非常に効率よい架橋の網状構造を示 し、この網状構造は、実質的に線状のポリエチレンのフィードストックの狭い分 子量分布のために、より低い分子量の部分が存在しないことにより発生したと思 われる。本発明の塩素化ポリエチレンのすぐれた硬化効率は、標準的チーグラー ・ナッタフィードストックのCPEに匹敵する物理的性質を達成するために必要 とする硬化剤の量を少なくできることを意味する。 モジュラスブランケットおよびエラストマー配合物についての場 合のように、PVC耐衝撃性改良配合物における本発明の塩素化ポリエチレンは 、より高い分子量のチーグラー・ナッタフィードストックに基づくCPEと同等 にすぐれるか、またはそれよりすぐれる性能を有した。表XVから、実施例Aは 277J/mのアイゾッド衝撃エネルギーを有したが、実施例Iは256J/m の衝撃エネルギーを有し、そしてTyrin(商標)3615P、221,00 0g/molのMwは246J/mの衝撃エネルギーを有した。また、フィード ストックがより低いレベルの長鎖枝分れを含有する本発明の塩素化ポリエチレン から、よりすぐれた衝撃性能が達成された。11.1のI10/I2フィードスト ックから作られた実施例Cを含有するPVC配合物は224J/mのアイゾッド 衝撃エネルギーを有したが、9.50のI10/I2フィードストックから作られ た実施例Dを有するPVC配合物は240J/mのアイゾッド衝撃エネルギーを 有した。 非ステアリン酸化塩素化ポリエチレン、例えば、実施例H1およびIに比較し て、本発明の塩素化ポリエチレンで改良したPVCの流動学的性質は、チーグラ ー・ナッタフィードストックから作られたCPEを使用して場合と同程度にすぐ れるか、またはそれよりすぐれていた。実施例Aは、実施例H1およびIについ ての520,000および448,000ポアズの値に非常に匹敵する491, 000ポアズの値を有した。実施例Cは261,000ポアズのk値ならびに2 40J/mのアイゾッド衝撃エネルギーを有し、これにより、本発明の非ステア リン酸化塩素化ポリエチレンはステアリン酸化チーグラー・ナッタ触媒のポリエ チレン、例えば、Tyrin(商標)3615Pより非常に低い粘度において、 同等の耐衝撃性を有するポリ塩化ビニル配合物を生成できることが証明された。 より低い粘度の配合物は、羽目および窓の輪郭の押出ライン上にお いて、より速い加工速度を可能とする。また、長鎖枝分れを有するフィードスト ックから作られた本発明の塩素化ポリエチレンの粘度は、力法則の前因子kによ り見られるように、より低い粘度を示した。11.1110/12から作られた実施 例Cはk値261,000ポアズを有したが、実施例Dについて、9.50110 /12フィードストックは497,000ポアズのk値を有した。したがって、フ ィードストック材料における長鎖枝分れのレベルを変化させることによって、耐 衝撃性の性能の処理のためにPVC配合物を設計することができる。 下記の略号、商品名および商標はこの出願において使用され、そして一般的化学 的組成および製造業者により識別する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI C08L 67/00 9042−4J C08L 67/00 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG), AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,CA,C H,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB ,GE,HU,IS,JP,KE,KG,KR,KZ, LK,LR,LT,LU,LV,MD,MG,MN,M W,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD ,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,TT,UA, UG,UZ (72)発明者 ベラード,マーク ティー. アメリカ合衆国,ルイジアナ 70817,ベ ートン ルージュ,ブレマン ドライブ 17626 (72)発明者 ライト,ジョージ ディー. アメリカ合衆国,ルイジアナ 70810,ベ ートン ルージュ,オーク クリフ ドラ イブ 2224

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.a)溶融流比I10/I2≧5.63 b)式Mw/Mnにより定義される分子量分布Mw/Mn≦(I10/I2)− 4.63、および c)ほぼ同一のI2およびMw/Mnを有する線状オレフィンポリマーの表面 溶融破壊の開始における臨界剪断速度より少なくとも50%大きい表面溶融破壊 の開始における臨界剪断速度、 を有することを特徴とする実質的に線状のオレフィンポリマーを塩素化すること により製造された生成物を含む塩素化されたポリオレフィン。 2.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが約3.5より小さい、 請求項1に記載の塩素化されたポリオレフィン。 3.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが1.5〜2.5である 、請求項1に記載の塩素化されたポリオレフィン。 4.塩素含量が10〜48重量%である、請求項1に記載の塩素化されたポリ オレフィン。 5.100%引張弾性率が0.2〜2.0MPaの範囲であり、そして実質的 に2倍の重量平均分子量を有するチーグラー・ナッタ触媒化されたポリエチレン の塩素化から製造された材料の100%引張弾性率に匹敵する、請求項1に記載 の塩素化されたポリオレフィン。 6.実質的に線状のオレフィンポリマーがエチレンとC3〜C20α−オレフィ ンとのインターポリマーを含む、請求項1に記載の塩素化されたポリオレフィン 。 7.実質的に線状のオレフィンインターポリマーのMw/Mnが約3.5より 小さい、請求項6に記載の塩素化されたポリオレフィ ン。 8.実質的に線状のオレフィンインターポリマーのMw/Mnが1.5〜2. 5である、請求項6に記載の塩素化されたポリオレフィン。 9.塩素含量が10〜48重量%である、請求項6に記載の塩素化されたポリ オレフィン。 10.100%引張弾性率が0.2〜2.0MPaの範囲であり、そして実質 的に2倍の重量平均分子量を有するチーグラー・ナッタ触媒化されたポリエチレ ンの塩素化から製造された材料の100%引張弾性率に匹敵する、請求項6に記 載の塩素化されたポリオレフィン。 11.実質的に線状のオレフィンポリマーがポリマー主鎖に沿って1000炭 素原子当たり0.01〜3の長鎖枝分れを有することを特徴とする、請求項1に 記載の塩素化されたポリオレフィン。 12.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが約3.5より小さい 、請求項11に記載の塩素化されたポリオレフィン。 13.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが1.5〜2.5であ る、請求項11に記載の塩素化されたポリオレフィン。 14.塩素含量が10〜48重量%である、請求項11に記載の塩素化された ポリオレフィン。 15.実質的に線状のオレフィンポリマーが1000炭素原子当たり0.01 〜1の長鎖枝分れを有することを特徴とする、請求項1に記載の塩素化されたポ リオレフィン。 16.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが約3.5より小さい 、請求項15に記載の塩素化されたポリオレフィン。 17.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが1.5 〜2.5である、請求項15に記載の塩素化されたポリオレフィン。 18.塩素含量が10〜48重量%である、請求項15に記載の塩素化された ポリオレフィン。 19.実質的に線状のオレフィンポリマーが1000炭素原子当たり0.3〜 1の長鎖枝分れを有することを特徴とする、請求項1に記載の塩素化されたポリ オレフィン。 20.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが約3.5より小さい 、請求項19に記載の塩素化されたポリオレフィン。 21.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが1.5〜2.5であ る、請求項19に記載の塩素化されたポリオレフィン。 22.塩素含量が10〜48重量%である、請求項19に記載の塩素化された ポリオレフィン。 23.(i)、(i)および(ii)の合計重量に基づいて、1〜100部の 10〜48重量%の塩素含量を有する塩素化されたポリエチレン、この塩素化さ れたポリエチレンは a)溶融流比I10/I2≧5.63 b)式Mw/Mnにより定義される分子量分布Mw/Mn≦(I10/I2)− 4.63、および c)ほぼ同一のI2およびMw/Mnを有する線状オレフィンポリマーの表面 溶融破壊の開始における臨界剪断速度より少なくとも50%大きい表面溶融破壊 の開始における臨界剪断速度、 を有することを特徴とする実質的に線状のオレフィンポリマーを塩素化すること により製造される、および (ii)、(i)および(ii)の合計重量に基づいて、100〜1部の線状 ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ハロゲン化ポリ塩 化ビニル、ポリエステル、ポリアミド、およびポリカーボネートからなる群より 選択されるポリマー、 を含むブレンド組成物。 24.前記ブレンドが約100重量部のポリ塩化ビニルと、少なくとも2重量 部の10〜48重量%の塩素含量を有する塩素化されたポリオレフィンとを含み 、前記塩素化ポリエチレンは a)溶融流比I10/I2≧5.63 b)式Mw/Mnにより定義される分子量分布Mw/Mn≦(I10/I2)− 4.63、および c)ほぼ同一のI2およびMw/Mnを有する線状オレフィンポリマーの表面 溶融破壊の開始における臨界剪断速度より少なくとも50%大きい表面溶融破壊 の開始における臨界剪断速度、 を有することを特徴とする実質的に線状のオレフィンポリマーを塩素化すること により製造される、請求項23に記載のブレンド組成物。 25.実質的に線状のオレフィンポリマーがエチレンとC3〜C20α−オレフ ィンとのインターポリマーを含む、請求項24に記載のブレンド組成物。 26.塩素化されたポリエチレンが約3.5より小さいMw/Mnを有する実 質的に線状のオレフィンポリマーを塩素化することによって製造される、請求項 25に記載のブレンド組成物。 27.塩素化されたポリエチレンが1.5〜2.5のMw/Mnを有する実質 的に線状のオレフィンポリマーを塩素化することによって製造される、請求項2 5に記載のブレンド組成物。 28.塩素化されたポリエチレンが15〜42重量%の塩素含量を有する、請 求項25に記載のブレンド組成物。 29.塩素化されたポリエチレンが25〜38重量%の塩素含量 を有する、請求項25に記載のブレンド組成物。 30.ポリ塩化ビニルの耐衝撃性改良が、ASTM D−256により測定し て、2〜30ft−lbs.Izodの範囲であり、そして実質的に2倍の重量 平均分子量を有するチーグラー・ナッタ触媒化されたポリエチレンの塩素化から 製造された材料により改良されたPVC耐衝撃性のIZOD耐衝撃性に匹敵する 、請求項25に記載のブレンド組成物。 31.実質的に線状のオレフィンポリマーを塩素化することによって製造され た生成物を含む塩素化されたポリオレフィンをペルオキシドまたは硫黄含有硬化 剤で硬化することによって製造された塩素化されたポリオレフィンエラストマー 組成物であって、前記実質的に線状のオレフィンポリマーは、 a)溶融流比I10/I2≧5.63 b)式Mw/Mnにより定義される分子量分布Mw/Mn≦(I10/I2)− 4.63、および c)ほぼ同一のI2およびMw/Mnを有する線状オレフィンポリマーの表面 溶融破壊の開始における臨界剪断速度より少なくとも50%大きい表面溶融破壊 の開始における臨界剪断速度、 を有することを特徴とし、前記エラストマーが2〜12ニュートン−メートルの 範囲の△トルク有するまで前記硬化を実施し、そして二酸化硫黄△トルクは実質 的に2倍の重量平均分子量を有するチーグラー・ナッタ触媒化されたポリエチレ ンの塩素化から製造された材料の△トルクに匹敵することを特徴とする塩素化さ れたポリオレフィンエラストマー組成物。 32.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが約3.5より小さい 、請求項31に記載の塩素化されたポリオレフィン。 33.実質的に線状のオレフィンポリマーのMw/Mnが1.5 〜2.5である、請求項31に記載の塩素化されたポリオレフィン。 34.塩素含量が10〜48重量%である、請求項31に記載の塩素化された ポリオレフィン。 35.100%引張弾性率が0.2〜2.0MPaの範囲であり、そして実質 的に2倍の重量平均分子量を有するチーグラー・ナッタ触媒化されたポリエチレ ンの塩素化から製造された材料の100%引張弾性率に匹敵する、請求項31に 記載の塩素化されたポリオレフィン。 36.実質的に線状のオレフィンポリマーがエチレンとC3〜C20α−オレフ ィンとのインターポリマーを含む、請求項31に記載の塩素化されたポリオレフ ィン。 37.実質的に線状のオレフィンインターポリマーのMw/Mnが約3.5よ り小さい、請求項36に記載の塩素化されたポリオレフィン。 38.実質的に線状のオレフィンインターポリマーのMw/Mnが1.5〜2 .5である、請求項36に記載の塩素化されたポリオレフィン。 39.塩素含量が10〜48重量%である、請求項36に記載の塩素化された ポリオレフィン。 40.前記方法を前記実質的に線状のオレフィンポリマーの水性懸濁液中で実 施する、請求項1に記載の塩素化されたポリオレフィン。 41.前記方法を実質的に線状のオレフィンポリマーを溶解することができる ハロゲン化炭化水素溶媒中の前記実質的に線状のオレフィンポリマーの溶液中で 実施する、請求項1に記載の塩素化されたポリオレフィン。 42.請求項1に記載の塩素化されたポリオレフィンを、それぞれ、1:1〜 8:1のモル比の気体の二酸化硫黄と塩素との混合物と、遊離基発生剤の存在下 に、接触させることによって製造されたクロロスルホン化ポリオレフィン。
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