JPH1048454A - 光ファイバの位置決め・保持方法及び装置 - Google Patents

光ファイバの位置決め・保持方法及び装置

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JPH1048454A
JPH1048454A JP9119900A JP11990097A JPH1048454A JP H1048454 A JPH1048454 A JP H1048454A JP 9119900 A JP9119900 A JP 9119900A JP 11990097 A JP11990097 A JP 11990097A JP H1048454 A JPH1048454 A JP H1048454A
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adhesive
holding
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Pierre Labeye
ピエール・ラバイエ
Patrick Pouteau
パトリック・ポートー
Claude Chabrol
クロード・シャブロール
Herve Denis
エルヴェイ・デニー
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Commissariat a lEnergie Atomique CEA
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ファイバを基板上に精確に位置決めし、光
ファイバと基板との間への接着剤のデポジットを改善
し、かつこれらの位置決め及び接着操作を行う間の光フ
ァイバの保持をより良好なものとすることを可能とす
る。 【解決手段】 光ファイバ28と、基板20と、光ファ
イバを受け入れる溝22と、溝の長手方向に沿って該溝
に形成された少なくとも一つの第一及び第二の拡幅部2
4,26と、を備え、接着剤が二つの拡幅部の一方に導
かれ、この接着剤によって光ファイバが基板に固定され
て成る、光ファイバの位置決め/保持装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバを位置
決め及び保持する技術に関する。特に本発明は、統合光
学コンポーネントに光 (light) を伝え、又は同コンポ
ーネントから光を取り出すものとして光ファイバが好ま
しい手段となる統合光学装置 (integratedoptics) の技
術分野に適用して好適なものである。より詳しくは、か
かる取り付け/取り外しの問題は、統合光学コンポーネ
ントが光マイクロガイドを有している場合に生じる。前
記統合光学コンポーネントと、特に前記マイクロガイド
及び光ファイバの双方がかなり小さいために、それら二
つの部材を互いに突き合わせて精確に位置決めするには
機械的構造を用いることが必要となる。
【0002】
【従来の技術、及び、発明が解決しようとする課題】FR
-A-2 659 148 には、光ファイバと光マイクロガイドと
の接続工程が開示されている。この発明は、単一のサポ
ート、すなわち基板を使用する。この基板は、上部に光
マイクロガイドが生成され、かつ光ファイバを前記マイ
クロガイドの前方に位置決め・保持するための凹所が形
成されている。この発明による処理法は、光ファイバを
一度位置決めすると接着剤をデポジットすることが難し
いといった欠点がある。別の欠点は、光ファイバの把
持、及び、把持システムの全体寸法に関係している。光
ファイバは、該ファイバの上部で規定される半円筒部分
しか把持することしかできない。
【0003】図1(A)(平面図)及び図1(B)(I
- I 線に沿った断面図)には別の周知装置を示してあ
る。この装置は、主要構成要素として、n本の光ファイ
バ8−1,… …8−nを位置決めするためのノッチ4
−1,… …4−nがエッチングされた基板2を備えて
いる。光ファイバ8−1がこのノッチに位置決めされる
と、その光ファイバ上に接着剤10がデポジットされ
る。交差トレンチ(溝)6が形成されており、前記接着
剤が該トレンチの両側の二つの領域12,14間で拡散
しないようになっている。つまり、前記接着剤はそれら
二つの領域の少なくとも一方に導入され、該トレンチに
は導入されない。このようにこの装置には、光ファイバ
の位置決め後、接着剤のデポジットを容易にするための
手段が何等設けられていない。繰り返すが、かかる構造
は、全長の制限された把持装置(把持装置の全体寸法の
問題は考慮されていない)を用いて、光ファイバをその
上半部で把持することしかできない。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、光ファイバを
基板上に精確に位置決めし、それら光ファイバと基板と
の間への接着剤のデポジットを改善し、かつこれらの位
置決め及び接着操作を行う間の光ファイバの保持をより
良好なものとすることを可能にする装置に関する。
【0005】より詳細には、本発明は、光ファイバを位
置決め・保持するための装置であって、基板と、前記光
ファイバを受け入れる溝と、該溝の長手方向に沿って該
溝に形成された少なくとも一つの第一及び第二の拡幅部
と、を備えた光ファイバの位置決め・保持装置に関す
る。
【0006】溝に形成された一方又は他方の拡幅部によ
って、ファイバ保持構造すなわち基板の底部に接着剤を
デポジットすることが可能である。つまり、この拡幅部
によって光ファイバと基板との間に解放空間(フリース
ペース)が形成され、これにより、光ファイバを溝内に
位置決めする前、及び/又は、位置決めした後に接着剤
を導入することができる。他方の拡幅部により、より大
きな把持又は取り扱い工具を用いて光ファイバを保持す
ることができ、従来装置よりも光ファイバの周囲をより
広く保持することができる。
【0007】本出願において、「接着 (adhesive)」の
用語は、前記基板及び前記光ファイバの表面に付着する
全ての物質を言うものとする。一例としては、シリコン
基板及びシリカファイバに対するエポキシ接着剤が挙げ
られる。
【0008】また本発明は、N本の光ファイバを位置決
め・保持する装置に関する。該装置は基板と、それぞれ
一つの光ファイバを受け入れるN本の溝とを備え、各溝
が、長手軸と、該長手軸に沿って溝に形成された少なく
とも一つの第一及び第二の拡幅部とを備えている。
【0009】このN本の光ファイバの場合も、各溝の前
記第一及び第二の拡幅部によって得られる効果は、上述
のものと同様である。
【0010】この第二のケース(光ファイバが複数の場
合)では、少なくとも一つの溝の第一の拡幅部は、隣接
する少なくとも一つの溝の第一の拡幅部と連通するよう
に設けることが可能である。
【0011】同様に、少なくとも一つの溝の第二の拡幅
部は、隣接する少なくとも一つの溝の第二の拡幅部と連
通させることが可能である。
【0012】本発明はまた、上記した如き装置の基板に
光ファイバを固定する方法に関しており、該方法は、前
記光ファイバを前記基板の溝内に位置決めする段階と、
前記光ファイバの端部を、工具により、前記拡幅部の一
つに対向した少なくとも一点で保持する段階と、前記溝
の他方の拡幅部によって接着剤を前記溝内に導入する段
階と、を備えている。
【0013】接着剤の導入は、光ファイバを溝内に位置
決めする前、及び/又は、光ファイバを保持した後に、
前記溝の拡幅部に行うことができる。さらに、光ファイ
バの溝内への位置決め段階と、保持段階とを同時に行う
ことも可能である(この際には、光ファイバを把持段階
で溝内に位置させることができるようにする)。この場
合、前記工具は位置決めと保持との双方に用いられる。
接着剤の硬化後、該工具は光ファイバより取り外され
る。このように、本発明は、光ファイバの接着段階での
精確な保持を可能とするのである。
【0014】本発明はさらに、光ファイバを位置決め及
び保持し、本発明による装置と共に用いて有用な種々の
工具にも関するものである。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の特徴及び優位点は、添付
の図面を参照した下記の実施の形態の説明により一層明
かとなる。ただし、本発明はこの実施の形態に限定され
るものではない。
【0016】図1(A)及び図1(B)は、既に説明し
た従来技術に係る、複数の光ファイバを位置決めする装
置を示したものである。図2(A)及び図2(B)は、
光ファイバを保持するための本発明に係る装置の斜視図
及び断面図である。図3(A)及び図3(B)は、ファ
イバ把持具の例を示したものである。図4は、N本の光
ファイバを保持するための、本発明に係る装置を示す斜
視図である。図5は、本発明に係る光ファイバ保持手段
が用いられた装置を示したものである。図6は、光ファ
イバの保持に関する図5の装置の詳細図である。
【0017】図2(A)は本発明の第一の実施形態を示
している。基板20に溝22が形成されている。溝22
の拡幅部を構成する少なくとも二つのノッチ24,26
が形成されている。溝22における拡幅されていない部
分は、この溝内に位置決めされる光ファイバ28とほぼ
同じサイズとなっている。ノッチ26等の前記拡幅部で
は、基板20の内縁30と光ファイバ28との間に空間
が形成される。例えば、前記光ファイバを溝22内にお
おまかに位置決めした後、その光ファイバを保持してい
た把持/保持具を前記拡幅部の一方に合わせて位置決め
し、その後、他方の拡幅部における基板内縁と光ファイ
バとの間に接着剤をつけることができる。こうすること
によって、接着剤が光ファイバの下方にまで良好に進入
することができるようになる。さらに、前記把持具が前
記溝の拡幅部に進入できるので、光ファイバをその円筒
形の上半部よりも広い範囲で保持することができる。図
2(B)は、図2(A)の I - I 線に沿った断面図で
ある。この図から、拡幅されたノッチ26があるため、
光ファイバ28が、円筒形の上半部{図2(B)におけ
るA−B}だけでなく側面{すなわち、図2(B)にお
けるA−C及びB−D}に沿っても保持されることが解
る。従って、接着中ないしは接合中のより良好な保持が
保証される。
【0018】このように、本発明は光ファイバをより広
い面で保持しようとするものであるが、これに拘泥する
ものではない。上記A−B面のみでの保持でも十分であ
る。
【0019】この第一の実施形態では、拡幅部を溝に沿
って二箇所のみに設けたものとした。実際には、特に接
着箇所を増やし、あるいはもっと大きな把持具に対応す
るように拡幅部をより多く形成することも可能である。
【0020】また、拡幅部は図2(A)及び図2(B)
に示すもののように端部が仕切られ又は閉じられたもの
でもよいし、端部が解放されたものであってもよい。使
用する接着剤の粘性によっては、拡幅部は仕切られてい
た方が好ましいことになる。それは特に接着剤の流動性
が高い場合である。
【0021】有用な位置決め・保持具の二つの例を図3
(A)及び図3(B)に示す。
【0022】図3(A)のものでは、光ファイバ28は
把持具21の補助で保持される。把持具21は、光ファ
イバの径よりも広い幅Lを有したヘッド23を備える。
図示しない吸引手段に接続された吸引パイプ25によっ
て、光ファイバ28はこのヘッド23内に保持される。
光ファイバは、二つのラグ又はポスト27,37の間に
固定される。この把持具は円筒状の光ファイバの上半部
を保持できるものである。この上半部よりも狭い面で光
ファイバを確実に保持するようにこの把持具を改良する
ことも可能である。
【0023】図3(B)に示す把持具は、加熱ポイント
29及びワックスコーティング31を有している。この
把持具は、円筒形上半部(上記A−B)よりも広い面で
光ファイバを保持することができる。該把持具は、前記
ワックス31の融点よりも高い温度に加熱することによ
り解放されることになる。
【0024】次に、本発明の他の実施形態を図4を用い
て説明する。この実施形態のものでは、基板32にN本
の溝34−1,… …,34−Nが形成されている。拡
溝について、少なくとも二つの拡幅部36−1,…
…,36−N及び38−1,……,38−Nが形成され
ている。各溝に対するそれら各二つの拡幅部の機能は、
上記第一実施形態について説明したものと同じである。
【0025】これらの拡幅部は図4に示すもののように
端部が仕切られ又は閉じられたものでもよいし、端部が
解放されたものであってもよい。使用する接着剤の粘性
によっては、拡幅部は仕切られていた方が好ましいこと
になる。
【0026】前記拡幅部どうしが連通している場合、そ
れら拡幅部は、両端部が仕切られ又は閉塞された、ある
いは解放された、トレンチ(溝)を形成する。使用する
接着剤の粘性又は流動性によっては、トレンチとして、
閉塞された又は仕切られたものの方が有利である。
【0027】さらに、光ファイバの保持点及び/又は接
着点を増やすべく、前記拡溝に対して二つ以上の拡幅部
を形成することもできる。
【0028】ここでも、拡幅部38−1,38−Nによ
って、それら拡幅部に進入することのできる把持具を使
用し、光ファイバ40をその円筒形上半部よりも広い面
で保持することができる。そのような把持具としては、
図3(A)及び図3(B)に示した如き形式のものがあ
る。加えて、拡幅部36−1,36−Nによって、光フ
ァイバ40と基板32との間に接着剤が容易に入り込め
るものとなっている。各光ファイバの位置決めと保持
は、適正な接着剤供給と把持具により個々に、あるいは
集合的になされる。
【0029】全ての場合において、エッチングの形態
は、それが前記溝のためのものであろうと、前記拡幅部
のためのものであろうと、前記構造を成す材料、及びエ
ッチングに使用する方法に依存するものとなる。シリコ
ン基板の場合では、ウェット又はドライの等方性又は異
方性エッチングを用いることが可能である。また、溝及
び拡幅部を備えた装置を製造するには、成型ポリマーを
用いることも可能である。
【0030】図5は、本発明による光ファイバ位置決め
構造を実現するための装置を示したもので、該装置は光
学機械的な形態のものとなっている。該装置は、平面層
すなわちガイド構造50(一又は二以上の層から形成で
きる)を備えている。該ガイド構造は、例えば単結晶シ
リコンから成る基板52上に生成され、かつ例えばクリ
ービング (cleaving: 劈開) によって得られる互いに平
行な入力面Eと出力面Sとを備えている。ガイド構造5
0は、例えば8ないし12μm厚の酸化ケイ素バッファ
層54と、2ないし10μm厚の上部シリカ層56を備
えている。上部シリカ層は空気に置き換えることもでき
る。
【0031】また、このガイド構造は、例えばリンをド
ープされた酸化ケイ素から成り2ないし6μmの高さ、
2ないし8μm幅を有した一つの入力マイクロガイド5
8及び二つの出力マイクロガイド60,62、さらに、
通常10ないし50μmの幅に対し実質的に同じ高さ
(2ないし6μm)を有したマルチモードカプラー64
を有している。これらマイクロガイド58,60,62
は、平面層すなわちガイド構造50の最大面59と平行
なx方向に平行であり、かつ、該ガイド構造50と交差
する凹所66の両側に位置している。
【0032】このガイド構造50及び基板において、前
記凹所66により可撓ビーム68が形成されている。こ
の可撓ビームは、前記x方向と平行に該方向に対しては
非作動状態に設けられており、これにより該ビームは、
凹所66内で、該ガイド構造の前記最大面59と平行で
あり前記方向xと直交するy方向に動くことができるも
のとなっている。該ビーム68は、固定部と一体とされ
た固定端と、凹所66内で移動できる自由端72と、を
有している。入力マイクロガイド58の延長部では、中
央マイクロガイド74が前記ビーム68の全長にわたり
延びており、その端部76は前記ビームの自由端で終端
している。
【0033】前記マルチモードカプラ64は、前記マイ
クロガイド74の端部76に対向して位置している。こ
こで、マルチモードカプラとは、いくつかの伝播モード
又はいくつかのモノモードガイドを有したカプラ又はマ
ルチモードガイドのことである。
【0034】マルチモードカプラ64の長さLとして
は、このカプラの入力部に向けられた入射ビームIが単
一の最大値を持った強度分布を有するときに、出力ビー
ムが、N≧2となる最大数Nを持って得られるようにす
ることが好ましい。
【0035】このような結果を得る条件は、例えば、
R. Ulrich 他による、"Self imagingin homogeneous pl
anar optical waveguides" と表題されたマルチモード
カプラについての論文 (Applied Physics Letters, vo
l. 27, No. 6, 1975/9/15, pp337-339) に記載された分
析的方法によって得られる。
【0036】このシステムが非作動状態にあるとき、す
なわちカプラ74の入力ビームがその軸に対して対称と
なる中心位置にあるときには、該カプラの対称軸に対し
て対称的に分布した最大出力が得られる。入力ビームが
中心からずれている場合、該カプラの出力における強度
分布はアンバランスなものとなる。
【0037】次に本装置の作用を説明する。図5におい
て、図示しない放射源(例えば、波長0.78μm)に
よって光信号が発生され、入力光ファイバ57及び前記
マイクロガイド58、そして前記中央マイクロガイド7
4によって、該マルチモードカプラ64に方向に照射さ
れる。次に、N個の出力ガイド60,62(図5におい
てN=2)がその放射を該カプラ64から、N個の光検
出器82,84に接続されたN個の光ファイバ78,8
0に照射する。各出力マイクロガイドは、入力ビームが
該カプラの入力側の中心に位置しているときに、該カプ
ラの出力側において最大となるフォーメーションポイン
トに位置している。各検出器が、前記光ファイバによっ
て伝達された光信号を表す信号を、それぞれの出力側に
おいて伝達する。そして、これら検出器は、これら検出
器からの信号を処理するための手段86に接続されてい
る。
【0038】振動や加速度が生じると、前記ビーム68
の前記自由端が前記y方向に動き、これにより、該マル
チモードカプラの出力において放射分布を変化させ、こ
の結果、前記N本の出力ガイド60,62によって伝達
された放射分布を、そしてさらに、前記検出器82,8
4によって生成された信号の分布が変化する。移動dy
は振動加速度γと関連しており、次の関係がある: dy =γ/(2πf02 (1) ここで、f0 は前記ビーム68の固有共振振動数であ
る。
【0039】前記装置を製造する一例による方法は下記
の工程を含んでいる: − 例えば前記基板52の熱酸化により、前記バッファ
層54を形成する工程、 − 例えばリンがドープされたLPCVD(液相CV
D)又はPECVD(プラズマ・エンハンストCVD)
によるシリカ層のデポジット工程、 − 前記マイクロガイド74,60,62及び前記マル
チモードカプラ64(又は結合されたモノモードガイ
ド)を構成する領域をマスクするためのポジティブ・レ
ジンマスクを、例えば写真製版により生成する工程、 − 前記マイクロガイド及び前記マルチモードカプラを
得るために前記マスクを介して実施する反応性イオン式
異方性エッチング工程、及び、次いで酸素プラズマによ
って前記マスクを消滅させる工程、 − LPCVD又はPECVDによる前記上部シリカ層
のデポジット工程、 − 前記ビーム68を自由にするための、(上記同様
の)別のマスクを生成する工程、 − 例えばCHF3 を用いた反応性イオン式異方性エッ
チング工程(該工程により、前記ビーム及び前記接続領
域の双方を形成するための前記層54,56のエッチン
グが可能となる)、 − 前記ビームを基板から解放し、前記光ファイバ7
8,80の接続領域の製造を完成する、同じマスクを用
いての、シリコン基板52の異方性エッチング(例えば
SF6 による反応性イオンエッチング)工程。
【0040】これにより形成された接続領域が、前記光
ファイバを受け入れるための前記溝に対応する。また、
図6(この図は、一つの出力ガイド、及びそれに対応す
る光ファイバのみを示している)に示すように、光ファ
イバ78のための接続領域90も、光学的接着剤の供給
を容易にしかつ光ファイバを保持できるように、本発明
に従って所定の場所90a,90b,90c,90dに
て拡幅されている。これら拡幅部90a〜90dは接続
領域90と同時に生成されているが、これは前記各光フ
ァイバ57,78,80についても適用できることであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来技術に係る、複数の光ファイバを位置決
めする装置で、(A)は平面図、(B)は(A)の I -
I 線に沿った断面図である。
【図2】 本発明に係る光ファイバ保持装置を示すもの
で、(A)は斜視図、(B)は(A)の I - I 線に沿
った断面図である。
【図3】 本発明に係るファイバ把持具を示すもので、
(A)はその一例を示す正面図、(B)は他の例を示す
部分正面図である。
【図4】 N本の光ファイバを保持するための、本発明
に係る装置を示す斜視図である。
【図5】 本発明に係る光ファイバ保持手段が用いられ
た装置を示す斜視図である
【図6】 図5の部分拡大断面図である。
【符号の説明】
28,40 光ファイバ 20,32 基板 21 把持具 22 溝 34−1,34−2,… …34−N 溝 24,26 拡幅部 36−1,36−2,… …36−N 拡幅部 38−1,38−2,… …38−N 拡幅部 90a〜90d 拡幅部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クロード・シャブロール フランス・38130・エシロール・プラス・ デ・ジャコビン・6 (72)発明者 エルヴェイ・デニー フランス・38950・サン−マルタン−ル− ヴィヌー・リュ・ドゥ・ラ・リベラシオ ン・78

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバと、 基板と、 前記光ファイバを受け入れる溝と、 前記溝の長手方向に沿って該溝に形成された少なくとも
    一つの第一及び第二の拡幅部と、を備え、 接着剤が前記二つの拡幅部の一方に導かれ、該接着剤に
    よって前記光ファイバが前記基板に固定されて成る、光
    ファイバの位置決め・保持装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の装置において、前記接着
    剤が導入される前記拡幅部が区画されていることを特徴
    とする装置。
  3. 【請求項3】 N本の光ファイバと、 基板と、 それぞれ長手方向軸線を有し、前記光ファイバの一つを
    受け入れるN本の平行な溝と、 前記各溝の長手方向に沿って該各溝にそれぞれ形成され
    た少なくとも一つの第一及び第二の拡幅部と、を備え、 接着剤が前記各溝の前記二つの拡幅部の一方に導かれ、
    該接着剤によって対応する前記光ファイバが前記基板に
    固定されて成る、N本の光ファイバの位置決め・保持装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の装置において、少なくと
    も一つの溝の前記第一の拡幅部が、隣接する少なくとも
    一つの溝の第一の拡幅部と連通していることを特徴とす
    る装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の装置において、前記第一
    の拡幅部が、それら第一の拡幅部間に、端部が区切られ
    たトレンチを形成していることを特徴とする装置。
  6. 【請求項6】 請求項3〜5の何れかに記載の装置にお
    いて、少なくとも一つの溝の前記第二の拡幅部が、隣接
    する少なくとも一つの溝の第二の拡幅部と連通している
    ことを特徴とする装置。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の装置において、前記第二
    の拡幅部が、それら第二の拡幅部間に、端部が区切られ
    たトレンチを形成していることを特徴とする装置。
  8. 【請求項8】 基板とは別に光ファイバを受け入れるた
    めの溝と、該溝に該溝の長手方向に沿って形成された少
    なくとも一つの第一及び第二の拡幅部と、を備える装置
    の前記基板に前記光ファイバを固定する方法であって、 前記光ファイバを前記基板の前記溝内に位置決めする段
    階と、 前記光ファイバを、工具により、該光ファイバにおける
    前記拡幅部の一つに対向した少なくとも一点で保持する
    段階と、 接着剤を前記溝の他方の拡幅部によって前記溝内に導入
    する段階と、を備え、 前記接着剤により前記光ファイバが前記基板に固定され
    ることを特徴とする、光ファイバの固定方法。
  9. 【請求項9】 基板とは別に複数の光ファイバの各々を
    受け入れるためのN本の平行な溝と、これら各溝に該溝
    の長手方向に沿って形成された少なくとも一つの第一及
    び第二の拡幅部と、を備える装置の前記基板に前記複数
    の光ファイバを固定する方法であって、 前記各光ファイバを前記基板の前記溝の一つの内部に位
    置決めする段階と、 前記各光ファイバを、工具により、位置決めされている
    該各光ファイバにおける、前記溝の前記拡幅部の一つに
    対向した少なくとも一点で保持する段階と、 接着剤を前記溝の他方の拡幅部を介して前記溝内に導入
    する段階と、を備え、 前記接着剤により前記光ファイバが前記基板に固定され
    ることを特徴とする、光ファイバの固定方法。
  10. 【請求項10】 請求項8又は9記載の方法において、
    前記光ファイバの端部に最も近接した拡幅部が前記接着
    剤を導入するのに用いられ、他方の拡幅部が前記光ファ
    イバを保持するのに用いられることを特徴とする方法。
  11. 【請求項11】 請求項8ないし10の何れかに記載の
    方法において、前記接着剤を導入する段階が、前記各光
    ファイバを位置決めする前に行われることを特徴とする
    方法。
  12. 【請求項12】 請求項8ないし10の何れかに記載の
    方法において、前記接着剤を導入する段階が、前記各光
    ファイバが工具によって保持されている間に行われるこ
    とを特徴とする方法。
  13. 【請求項13】 請求項8ないし10の何れかに記載の
    方法において、前記各光ファイバの位置決め段階と前記
    保持段階とが同時に行われることを特徴とする方法。
  14. 【請求項14】 請求項8ないし13の何れかに記載の
    方法において、各光ファイバを保持する前記工具が、前
    記光ファイバの径よりも幅広のファイバ把持ヘッドを備
    えた光ファイバ把持工具であることを特徴とする方法。
  15. 【請求項15】 請求項14記載の方法において、前記
    把持ヘッドが二つのポストを備え、これにより前記光フ
    ァイバ及び、それら二つのポスト間で終端する吸引パイ
    プの固定が可能とされていることを特徴とする方法。
  16. 【請求項16】 請求項8ないし13の何れかに記載の
    方法において、各光ファイバを保持する前記工具が、前
    記光ファイバを少なくとも部分的に囲むためにワックス
    を加熱することのできる加熱ポイントを有した把持工具
    であることを特徴とする方法。
  17. 【請求項17】 光ファイバを少なくとも部分的に囲む
    ためにワックスを加熱することのできる加熱ポイントを
    有した光ファイバ把持用工具。
JP9119900A 1996-05-10 1997-05-09 光ファイバの位置決め・保持方法及び装置 Withdrawn JPH1048454A (ja)

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