JPH1047918A - 変位計測装置及び自動合焦機能付き顕微鏡 - Google Patents
変位計測装置及び自動合焦機能付き顕微鏡Info
- Publication number
- JPH1047918A JPH1047918A JP8208390A JP20839096A JPH1047918A JP H1047918 A JPH1047918 A JP H1047918A JP 8208390 A JP8208390 A JP 8208390A JP 20839096 A JP20839096 A JP 20839096A JP H1047918 A JPH1047918 A JP H1047918A
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- JP
- Japan
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- light
- light source
- displacement
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- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Focusing (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】接眼レンズの位置が高くならず、楽な姿勢で観
察が行える合焦装置付き顕微鏡を提供する。 【解決手段】対物レンズ10の焦点位置からの被検物体
11の位置ずれを横ずれとして検出するための変位計測
装置8を配置する。変位計測装置8は、被検物体11に
光を照射するために光源2と、光源2からの光束を光軸
209、204に対し非対称な形状にするための遮光部
4と、被検物体11で反射された光の光軸からの変位を
検出するための受光素子とを有する。このとき、光源2
と遮光部4と受光素子等の変位計測装置8の光学素子を
マイクロマシニング技術により、シリコン基板1上に搭
載することにより、小型化する。
察が行える合焦装置付き顕微鏡を提供する。 【解決手段】対物レンズ10の焦点位置からの被検物体
11の位置ずれを横ずれとして検出するための変位計測
装置8を配置する。変位計測装置8は、被検物体11に
光を照射するために光源2と、光源2からの光束を光軸
209、204に対し非対称な形状にするための遮光部
4と、被検物体11で反射された光の光軸からの変位を
検出するための受光素子とを有する。このとき、光源2
と遮光部4と受光素子等の変位計測装置8の光学素子を
マイクロマシニング技術により、シリコン基板1上に搭
載することにより、小型化する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、変位計測装置に関
するものである。
するものである。
【0002】
【従来の技術】被検物体上へ一定のパターンを投影し、
かつ、このパターンを結像する光束が瞳位置近傍で光軸
に対し非対称となるようにし、被検物体と対物レンズの
間隔変動を、パターン像の横ずれとして検出する、いわ
ゆる横ずれ式と呼ばれる合焦検出方法が知られている。
かつ、このパターンを結像する光束が瞳位置近傍で光軸
に対し非対称となるようにし、被検物体と対物レンズの
間隔変動を、パターン像の横ずれとして検出する、いわ
ゆる横ずれ式と呼ばれる合焦検出方法が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の合焦検出方法は、光学系の寸法が大きいため、例
えば顕微鏡の対物レンズの合焦検出装置として顕微鏡に
取り付けると、合焦装置のない顕微鏡に比べて顕微鏡の
接眼レンズの位置が高くなる。そのため、観察者が像を
観察しながらステージを動かす等の作業をするのが大変
になるなるという問題点があった。
従来の合焦検出方法は、光学系の寸法が大きいため、例
えば顕微鏡の対物レンズの合焦検出装置として顕微鏡に
取り付けると、合焦装置のない顕微鏡に比べて顕微鏡の
接眼レンズの位置が高くなる。そのため、観察者が像を
観察しながらステージを動かす等の作業をするのが大変
になるなるという問題点があった。
【0004】本発明は、この問題を解決し、光学系の寸
法が小さい変位計測装置を提供することを第1の目的と
する。
法が小さい変位計測装置を提供することを第1の目的と
する。
【0005】また、本発明は、接眼レンズの位置が高く
ならず、楽な姿勢で観察が行える合焦機能付き顕微鏡を
提供することを第2の目的とする。
ならず、楽な姿勢で観察が行える合焦機能付き顕微鏡を
提供することを第2の目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記第1の目的を達成す
るために、本発明の第一の態様として、被検物体に光を
照射するために光源と、前記光源からの光束を光軸に対
して非対称な形状にするための遮光部と、前記被検物体
で反射された光の光軸からの変位量を検出するための受
光素子とを有し、前記光源と遮光部と受光素子は、シリ
コン基板上に搭載されていることを特徴とする変位計測
装置が提供される。
るために、本発明の第一の態様として、被検物体に光を
照射するために光源と、前記光源からの光束を光軸に対
して非対称な形状にするための遮光部と、前記被検物体
で反射された光の光軸からの変位量を検出するための受
光素子とを有し、前記光源と遮光部と受光素子は、シリ
コン基板上に搭載されていることを特徴とする変位計測
装置が提供される。
【0007】上記第2の目的を達成するために、本発明
の第二の態様として、以下のような顕微鏡が提供され
る。
の第二の態様として、以下のような顕微鏡が提供され
る。
【0008】すなわち、被検物体を搭載するためのステ
ージと、第1の光源と、前記第1の光源からの第1の光
を集光して被検物体に照射するための対物レンズと、前
記被検物体からの第1の光の反射光を集光する接眼レン
ズと、前記対物レンズの焦点からの前記被検物体の位置
ずれを検出するための変位計測部とを有し、前記変位計
測部は、前記被検物体に第2の光を照射するために第2
の光源と、前記第2の光源からの光束を光軸に対し非対
称な形状にするための遮光部と、前記被検物体で反射さ
れ前記対物レンズで集光された第2の光の光軸からの変
位量を検出するための受光素子とを有し、前記光源と遮
光部と受光素子は、シリコン基板上に搭載されているこ
とを特徴とする自動合焦機能付き顕微鏡である。
ージと、第1の光源と、前記第1の光源からの第1の光
を集光して被検物体に照射するための対物レンズと、前
記被検物体からの第1の光の反射光を集光する接眼レン
ズと、前記対物レンズの焦点からの前記被検物体の位置
ずれを検出するための変位計測部とを有し、前記変位計
測部は、前記被検物体に第2の光を照射するために第2
の光源と、前記第2の光源からの光束を光軸に対し非対
称な形状にするための遮光部と、前記被検物体で反射さ
れ前記対物レンズで集光された第2の光の光軸からの変
位量を検出するための受光素子とを有し、前記光源と遮
光部と受光素子は、シリコン基板上に搭載されているこ
とを特徴とする自動合焦機能付き顕微鏡である。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を用い
て説明する。
て説明する。
【0010】まず、図1を用いて本発明の変位計測装置
の構成について説明する。
の構成について説明する。
【0011】図1のように、本発明の変位計測装置8
は、シリコン基板1上に、光源2、マイクロフレネルレ
ンズ3、遮光板4、ビームスプリッタ5、ミラー6、受
光素子7とを備えた構成である。光源2からビームスプ
リッタ5までの光軸209、ならびに、ビームスプリッ
タ5からミラー6までの光軸210は、シリコン基板1
の表面と平行である。また、受光素子7の受光面は、図
3のように、シリコン基板1の基板面上に設けられてい
る。ミラー6は、光軸210を偏向して、光束を受光素
子7の受光面に入射させるように配置されている。
は、シリコン基板1上に、光源2、マイクロフレネルレ
ンズ3、遮光板4、ビームスプリッタ5、ミラー6、受
光素子7とを備えた構成である。光源2からビームスプ
リッタ5までの光軸209、ならびに、ビームスプリッ
タ5からミラー6までの光軸210は、シリコン基板1
の表面と平行である。また、受光素子7の受光面は、図
3のように、シリコン基板1の基板面上に設けられてい
る。ミラー6は、光軸210を偏向して、光束を受光素
子7の受光面に入射させるように配置されている。
【0012】つぎに、図1の変位計測装置8を対物レン
ズの合焦装置として組み込んだ顕微鏡の光学系を図2に
示す。
ズの合焦装置として組み込んだ顕微鏡の光学系を図2に
示す。
【0013】顕微鏡は、光軸204上に、接眼レンズ2
03と、ハーフミラー201と、ダイクロイックミラー
9と、対物レンズ10とを順に備えている。被検物体1
1は、ステージ211上に搭載される。また、ハーフミ
ラー201により、光軸204から分離された光軸20
7上には、可視光光源206と、集光レンズ205と、
絞り202とが配置されている。ダイクロイックミラー
9により分離された光軸208上に、変位計測装置8が
配置される。変位計測装置8は、光軸209が、光軸2
08と一致するように配置される。光源2としては、波
長830nmの赤外域の光を出射する半導体レーザを用
いる。ダイクロイックミラー9は赤外域の光を反射し、
可視域の光を透過するものを用いる。受光素子7として
は、受光位置を2組の電極の電圧差として検出できるポ
ジションセンシティブデバイス(PSD)を用いる。
03と、ハーフミラー201と、ダイクロイックミラー
9と、対物レンズ10とを順に備えている。被検物体1
1は、ステージ211上に搭載される。また、ハーフミ
ラー201により、光軸204から分離された光軸20
7上には、可視光光源206と、集光レンズ205と、
絞り202とが配置されている。ダイクロイックミラー
9により分離された光軸208上に、変位計測装置8が
配置される。変位計測装置8は、光軸209が、光軸2
08と一致するように配置される。光源2としては、波
長830nmの赤外域の光を出射する半導体レーザを用
いる。ダイクロイックミラー9は赤外域の光を反射し、
可視域の光を透過するものを用いる。受光素子7として
は、受光位置を2組の電極の電圧差として検出できるポ
ジションセンシティブデバイス(PSD)を用いる。
【0014】シリコン基板1上に上述の光学素子を作製
する方法としては、周知の表面マイクロマシーニング技
術を用いる。また、受光素子7は、周知の半導体プロセ
スでシリコン基板1上に作製される。また、半導体レー
ザ2は、別途作製された半導体レーザチップを、シリコ
ン基板1上に周知の表面マイクロマシーニング技術で作
製された溝、もしくは微小留め具でシリコン基板1上に
固定することにより、取り付けられる。
する方法としては、周知の表面マイクロマシーニング技
術を用いる。また、受光素子7は、周知の半導体プロセ
スでシリコン基板1上に作製される。また、半導体レー
ザ2は、別途作製された半導体レーザチップを、シリコ
ン基板1上に周知の表面マイクロマシーニング技術で作
製された溝、もしくは微小留め具でシリコン基板1上に
固定することにより、取り付けられる。
【0015】また、受光素子7には、検出回路12が接
続されている。検出回路12は、ステージ211を光軸
204方向に移動させるステージ駆動モータ13に接続
されている。
続されている。検出回路12は、ステージ211を光軸
204方向に移動させるステージ駆動モータ13に接続
されている。
【0016】可視光光源206から出射された可視光
は、集光レンズ205により集光され、絞り202を透
過して、ハーフミラー201で偏向され、ダイクロイッ
クミラー9を通過し、対物レンズ10で集光されて被検
物体11に照射される。被検物体11で反射された可視
光は、再び対物レンズ10、ダイクロイックミラー9お
よびハーフミラー201を透過し、接続眼レンズ203
により集光され、観察者の目に入射する。これにより、
被検物体11の像が観察される。
は、集光レンズ205により集光され、絞り202を透
過して、ハーフミラー201で偏向され、ダイクロイッ
クミラー9を通過し、対物レンズ10で集光されて被検
物体11に照射される。被検物体11で反射された可視
光は、再び対物レンズ10、ダイクロイックミラー9お
よびハーフミラー201を透過し、接続眼レンズ203
により集光され、観察者の目に入射する。これにより、
被検物体11の像が観察される。
【0017】一方、変位計測装置8の光源2から出射し
た赤外光は、集光用のマイクロフレネルレンズ3を通
り、光束分割用の遮光板4に達する。遮光板4は、光束
の半分の部分だけ遮光する。遮光板4を透過した光は、
ビームスプリッター5を通過し、ダイクロイックミラー
9で反射し、対物レンズ10を経て被検物体11に達す
る。被検物体11で反射して再び対物レンズ10を通
り、ダイクロイックミラー9で反射する。そしてさら
に、ビームスプリッター5で反射され、ミラー6で反射
されて、被検物体面と共役な位置に置かれた受光素子7
に達する。図3にミラー6と受光素子7の構成図を示
す。ミラー6はシリコン基板1に対し45度の角度で配
置されている。受光素子7は、シリコン基板1上に作製
されている。被検物体11からの反射光はミラー6で光
軸が90度曲げられ、受光素子7に達する。
た赤外光は、集光用のマイクロフレネルレンズ3を通
り、光束分割用の遮光板4に達する。遮光板4は、光束
の半分の部分だけ遮光する。遮光板4を透過した光は、
ビームスプリッター5を通過し、ダイクロイックミラー
9で反射し、対物レンズ10を経て被検物体11に達す
る。被検物体11で反射して再び対物レンズ10を通
り、ダイクロイックミラー9で反射する。そしてさら
に、ビームスプリッター5で反射され、ミラー6で反射
されて、被検物体面と共役な位置に置かれた受光素子7
に達する。図3にミラー6と受光素子7の構成図を示
す。ミラー6はシリコン基板1に対し45度の角度で配
置されている。受光素子7は、シリコン基板1上に作製
されている。被検物体11からの反射光はミラー6で光
軸が90度曲げられ、受光素子7に達する。
【0018】周知の如く、対物レンズ10と被検物体面
11上の被検物体との距離が変わる、即ちデフォーカス
が生じると、受光素子7上での光スポット像は結像光束
が光軸に対し非対称になっているためボケると共に横ず
れを起す。
11上の被検物体との距離が変わる、即ちデフォーカス
が生じると、受光素子7上での光スポット像は結像光束
が光軸に対し非対称になっているためボケると共に横ず
れを起す。
【0019】具体的には、被検物体11が対物レンズ1
0の焦点302に位置する場合には、光源2から出射さ
れ、遮光板4で遮光された半分の光束が、被検物体11
上で焦点を結ぶため、被検物体からの反射光は、照射時
とは対称に進み、図4のように、受光素子7の受光面の
光軸210上で受光される。また、被検物体11が対物
レンズ10の焦点302よりも対物レンズ10に近い場
合には、図5のように、被検物体11からの反射光が、
対物レンズ10の焦点302よりも対物レンズ10側の
点301でいったん集光するため、反射光は、受光素子
7の受光面上の光軸210の片側にずれて受光される。
被検物体11が対物レンズ10の焦点302よりも遠い
場合には、図6のように、被検物体11からの反射光
が、焦点302よりも遠い位置で見かけ上集光するた
め、反射光は、受光素子7の受光面上で、図5の場合と
は逆の方向にずれて受光される。
0の焦点302に位置する場合には、光源2から出射さ
れ、遮光板4で遮光された半分の光束が、被検物体11
上で焦点を結ぶため、被検物体からの反射光は、照射時
とは対称に進み、図4のように、受光素子7の受光面の
光軸210上で受光される。また、被検物体11が対物
レンズ10の焦点302よりも対物レンズ10に近い場
合には、図5のように、被検物体11からの反射光が、
対物レンズ10の焦点302よりも対物レンズ10側の
点301でいったん集光するため、反射光は、受光素子
7の受光面上の光軸210の片側にずれて受光される。
被検物体11が対物レンズ10の焦点302よりも遠い
場合には、図6のように、被検物体11からの反射光
が、焦点302よりも遠い位置で見かけ上集光するた
め、反射光は、受光素子7の受光面上で、図5の場合と
は逆の方向にずれて受光される。
【0020】この受光素子7の受光位置の横ずれ量を、
PSDの出力から検出回路12によって検出することが
できる。検出回路12は、検出結果に応じてステージ駆
動モータ13を駆動して、対物レンズ10と被検物体1
1との間隔を調整する。これにより、被検物体11を対
物レンズ10の焦点302の位置に移動でき、自動合焦
系を形成することができる。
PSDの出力から検出回路12によって検出することが
できる。検出回路12は、検出結果に応じてステージ駆
動モータ13を駆動して、対物レンズ10と被検物体1
1との間隔を調整する。これにより、被検物体11を対
物レンズ10の焦点302の位置に移動でき、自動合焦
系を形成することができる。
【0021】本実施の形態の変位計測装置8は、シリコ
ン基板上にマイクロマシーニング技術により作製されて
いるため、装置全体を小型にすることができる。そのた
め、図2のように、顕微鏡の自動合焦装置として搭載し
た場合にも、対物レンズ10と接眼レンズ203との間
に変位計測装置8の光学系全体を配置することができ
る。よって、対物レンズ10と接眼レンズ203との距
離を、変位計測装置8のために長くする必要がないた
め、被検物体11のステージ211から接眼レンズ20
3までの高さを、自動合焦装置を搭載しない場合と同程
度にすることができる。これにより、観察者が像観察を
行いながらステージを動かす等の作業が楽になり、自動
合焦装置付きの顕微鏡でありながら、使い勝手のよい顕
微鏡が提供できる。
ン基板上にマイクロマシーニング技術により作製されて
いるため、装置全体を小型にすることができる。そのた
め、図2のように、顕微鏡の自動合焦装置として搭載し
た場合にも、対物レンズ10と接眼レンズ203との間
に変位計測装置8の光学系全体を配置することができ
る。よって、対物レンズ10と接眼レンズ203との距
離を、変位計測装置8のために長くする必要がないた
め、被検物体11のステージ211から接眼レンズ20
3までの高さを、自動合焦装置を搭載しない場合と同程
度にすることができる。これにより、観察者が像観察を
行いながらステージを動かす等の作業が楽になり、自動
合焦装置付きの顕微鏡でありながら、使い勝手のよい顕
微鏡が提供できる。
【0022】なお、本実施の形態では、変位計測装置8
への偏向光学系としてダイクロイックミラー9を用いて
いるが、可視光域の光は、ダイクロイックミラー9を通
過するため、観察にはまったく支障がない。また、ダイ
クロイックミラー8として、ハーフミラーを用いること
もできる。
への偏向光学系としてダイクロイックミラー9を用いて
いるが、可視光域の光は、ダイクロイックミラー9を通
過するため、観察にはまったく支障がない。また、ダイ
クロイックミラー8として、ハーフミラーを用いること
もできる。
【0023】また、変位計測装置8の遮光板4は、ビー
ムスプリッター5とミラー6との間に挿入してもよい。
ムスプリッター5とミラー6との間に挿入してもよい。
【0024】また、受光素子7としては、PSDでなく
1次元イメージセンサを用いることもできる。
1次元イメージセンサを用いることもできる。
【0025】本実施の形態では、変位計測装置8を顕微
鏡の合焦装置として用いたが、光ピックアップの合焦装
置や形状測定器に用いることができる。
鏡の合焦装置として用いたが、光ピックアップの合焦装
置や形状測定器に用いることができる。
【0026】
【発明の効果】上述してきたように、本発明の第一の態
様によれば、光学系の寸法が小さい変位計測装置を提供
することができる。
様によれば、光学系の寸法が小さい変位計測装置を提供
することができる。
【0027】また、本発明の第二の態様によれば、接眼
レンズの位置が高くならず、楽な姿勢で観察が行える合
焦装置付き顕微鏡を提供することができる。
レンズの位置が高くならず、楽な姿勢で観察が行える合
焦装置付き顕微鏡を提供することができる。
【図1】本発明の一実施の形態の変位計測装置の構成を
示す斜視図。
示す斜視図。
【図2】図1の変位計測装置を組み込んだ顕微鏡の構成
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図3】図1の変位計測装置の部分的な構成を示す断面
図。
図。
【図4】図2の顕微鏡において、被検物体11が対物レ
ンズ10の焦点に位置する場合の変位計測装置8の受光
装置7の受光位置を示すブロック図。
ンズ10の焦点に位置する場合の変位計測装置8の受光
装置7の受光位置を示すブロック図。
【図5】図2の顕微鏡において、被検物体11が対物レ
ンズ10の焦点302よりも手前側に位置する場合の変
位計測装置8の受光装置7の受光位置を示すブロック
図。
ンズ10の焦点302よりも手前側に位置する場合の変
位計測装置8の受光装置7の受光位置を示すブロック
図。
【図6】図2の顕微鏡において、被検物体11が対物レ
ンズ10の焦点302よりも向こう側に位置する場合の
変位計測装置8の受光装置7の受光位置を示すブロック
図。
ンズ10の焦点302よりも向こう側に位置する場合の
変位計測装置8の受光装置7の受光位置を示すブロック
図。
1・・・シリコン基板 2・・・光源 3・・・マイクロフレネルレンズ 4・・・遮光板 5・・・ビームスプリッタ 6・・・ミラー 7・・・受光素子 8・・・変位計測装置
Claims (5)
- 【請求項1】被検物体に光を照射するために光源と、前
記光源からの光束を光軸に対して非対称な形状にするた
めの遮光部と、前記被検物体で反射された光の光軸から
の変位量を検出するための受光素子とを有し、 前記光源、遮光部および受光素子は、シリコン基板上に
搭載されていることを特徴とする変位計測装置。 - 【請求項2】請求項1において、前記受光素子は、前記
シリコン基板上に作製されていることを特徴とする変位
計測装置。 - 【請求項3】被検物体を搭載するためのステージと、第
1の光源と、前記第1の光源からの第1の光を集光して
被検物体に照射するための対物レンズと、前記被検物体
からの第1の光の反射光を集光する接眼レンズと、前記
対物レンズの焦点からの前記被検物体の位置ずれを検出
するための変位計測部とを有し、 前記変位計測部は、前記被検物体に第2の光を照射する
ために第2の光源と、前記第2の光源からの光束を光軸
に対して非対称な形状にするための遮光部と、前記被検
物体で反射され前記対物レンズで集光された第2の光の
光軸からの変位量を検出するための受光素子とを有し、 前記光源、遮光部および受光素子は、シリコン基板上に
搭載されていることを特徴とする自動合焦機能付き顕微
鏡。 - 【請求項4】請求項3において、被検物体と前記対物レ
ンズとの間隔を調節するための駆動部と、前記受光素子
からの出力を用いて前記駆動部の駆動量を制御する制御
部とをさらに有することを特徴とする自動合焦機能付き
顕微鏡。 - 【請求項5】請求項3において、前記第1の光源は、可
視光を出射する光源であり、第2の光源は、赤外光を出
射する半導体レーザであることを特徴とする自動合焦機
能付き顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8208390A JPH1047918A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 変位計測装置及び自動合焦機能付き顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8208390A JPH1047918A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 変位計測装置及び自動合焦機能付き顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1047918A true JPH1047918A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16555478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8208390A Pending JPH1047918A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 変位計測装置及び自動合焦機能付き顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1047918A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011203281A (ja) * | 2004-06-21 | 2011-10-13 | Olympus Corp | 顕微鏡システム |
CN102759328A (zh) * | 2012-07-05 | 2012-10-31 | 哈尔滨工业大学 | 基于椭球反射双通照明差动共焦测量装置与方法 |
DE112020000879T5 (de) | 2019-02-20 | 2021-11-11 | Sony Group Corporation | Mikroskopsystem, fokuseinstellprogramm und fokuseinstellsystem |
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1996
- 1996-08-07 JP JP8208390A patent/JPH1047918A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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