JPH1044495A - 画像形成要素およびその製造方法 - Google Patents
画像形成要素およびその製造方法Info
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- JPH1044495A JPH1044495A JP9123112A JP12311297A JPH1044495A JP H1044495 A JPH1044495 A JP H1044495A JP 9123112 A JP9123112 A JP 9123112A JP 12311297 A JP12311297 A JP 12311297A JP H1044495 A JPH1044495 A JP H1044495A
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- G03G15/34—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the powder image is formed directly on the recording material, e.g. by using a liquid toner
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 全く同じものを容易に製造でき、個々の電極
と制御装置の間で信頼性が高くかつ強固に電気接続が改
良された画像形成装置と、このような画像形成要素の製
造方法とを提供する。 【解決手段】 中空の円柱状のドラム体と、ドラム体の
外周面上に形成された複数の周方向に延びる電極と、ド
ラム体の内部に配置された制御装置と、各電極を制御装
置に個々に電気的に接続する接触手段とから成る画像形
成要素において、接触手段はドラム体の軸方向に延びる
複数の列に配置され、ドラム体の壁の内側から見たとき
各接触手段が、ドラム体の軸方向から見て電極の対応す
る大きさの少なくとも２倍の大きさを持つ。
と制御装置の間で信頼性が高くかつ強固に電気接続が改
良された画像形成装置と、このような画像形成要素の製
造方法とを提供する。 【解決手段】 中空の円柱状のドラム体と、ドラム体の
外周面上に形成された複数の周方向に延びる電極と、ド
ラム体の内部に配置された制御装置と、各電極を制御装
置に個々に電気的に接続する接触手段とから成る画像形
成要素において、接触手段はドラム体の軸方向に延びる
複数の列に配置され、ドラム体の壁の内側から見たとき
各接触手段が、ドラム体の軸方向から見て電極の対応す
る大きさの少なくとも２倍の大きさを持つ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、互いに電気的に絶
縁され、周方向に延びる複数の電極を備える外周面上に
ある中空の円柱状のドラム体と、前記複数の電極を付勢
するためドラム体の内側に設けられた電子制御装置と、
ドラム体の周壁を通し各電極を個々に制御装置に電気的
に接続する接触手段とから成る画像形成要素と、このよ
うな画像形成要素の製造方法に関する。
縁され、周方向に延びる複数の電極を備える外周面上に
ある中空の円柱状のドラム体と、前記複数の電極を付勢
するためドラム体の内側に設けられた電子制御装置と、
ドラム体の周壁を通し各電極を個々に制御装置に電気的
に接続する接触手段とから成る画像形成要素と、このよ
うな画像形成要素の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】このタイプの画像形成要素は、いわゆる
ダイレクトインダクションプリンタにおいて使用され
る。このプリンタの動作原理は、例えば、ＥＰ−Ａ１−
０２４７６９９に記載されている。このようなプリンタ
において、ドラム体表面上の電極は誘電層によって覆わ
れ、回転可能スリーブがドラム体に沿って配置されてい
るため、ドラム体の表面および回転可能スリーブとでド
ラム体の電極に対し直角に延びるギャップを形成する。
ギャップ内に磁場を発生するため回転可能スリーブ内部
に固定磁気ナイフが配置されている。電気伝導性があり
かつ磁気的に吸着可能なトナー粉末の均一な層が回転可
能スリーブの表面に塗布される。ギャップ内で磁場によ
り形成される画像形成領域に、トナー粉末がその電極に
印加された電圧に応じてドラム体表面に移動する。従っ
て、ドラム体を回転させ、制御装置に供給される画像情
報によって電極を付勢することより、ドラム体表面上に
トナー画像が形成される。その代わりに、トナー粉末の
均一層をドラム体表面上に塗布し、トナー粉末を電極の
付勢パターンによりドラム体から選択的に除去しても良
い。
ダイレクトインダクションプリンタにおいて使用され
る。このプリンタの動作原理は、例えば、ＥＰ−Ａ１−
０２４７６９９に記載されている。このようなプリンタ
において、ドラム体表面上の電極は誘電層によって覆わ
れ、回転可能スリーブがドラム体に沿って配置されてい
るため、ドラム体の表面および回転可能スリーブとでド
ラム体の電極に対し直角に延びるギャップを形成する。
ギャップ内に磁場を発生するため回転可能スリーブ内部
に固定磁気ナイフが配置されている。電気伝導性があり
かつ磁気的に吸着可能なトナー粉末の均一な層が回転可
能スリーブの表面に塗布される。ギャップ内で磁場によ
り形成される画像形成領域に、トナー粉末がその電極に
印加された電圧に応じてドラム体表面に移動する。従っ
て、ドラム体を回転させ、制御装置に供給される画像情
報によって電極を付勢することより、ドラム体表面上に
トナー画像が形成される。その代わりに、トナー粉末の
均一層をドラム体表面上に塗布し、トナー粉末を電極の
付勢パターンによりドラム体から選択的に除去しても良
い。
【０００３】従来の画像形成要素およびその製造方法が
ＥＰ−Ａ１−０５９５３８８に開示されている。制御装
置の電子部品および電気導体パターンが板状の基板の上
に設けられている。ドラム体の電極に接続される導体は
基板の直線端で終わっているため、端子列が形成され、
それらの個々の端子、即ち、導体端はドラム体上の電極
と同じ間隔と幅を持っている。導体パターンと電子部品
を担持する基板が、端子列を形成する端がドラム体の縦
スロットを通して挿入されるようにドラム体の内部に装
着されている。スロットの残りの空いた空間はエポキシ
樹脂で充填され、端子がドラム体から絶縁される。スロ
ットから出ている基板の端部がエッチングされるので、
導体端だけが残って円柱状のドラム体の表面を越えてわ
ずかに突き出る。円柱の表面は、導体の突出端の長さに
等しい厚さを有する絶縁層によって覆われる。次に、各
電極が導体の１つの端に接触するように電極がドラム体
表面の絶縁層上に形成される。
ＥＰ−Ａ１−０５９５３８８に開示されている。制御装
置の電子部品および電気導体パターンが板状の基板の上
に設けられている。ドラム体の電極に接続される導体は
基板の直線端で終わっているため、端子列が形成され、
それらの個々の端子、即ち、導体端はドラム体上の電極
と同じ間隔と幅を持っている。導体パターンと電子部品
を担持する基板が、端子列を形成する端がドラム体の縦
スロットを通して挿入されるようにドラム体の内部に装
着されている。スロットの残りの空いた空間はエポキシ
樹脂で充填され、端子がドラム体から絶縁される。スロ
ットから出ている基板の端部がエッチングされるので、
導体端だけが残って円柱状のドラム体の表面を越えてわ
ずかに突き出る。円柱の表面は、導体の突出端の長さに
等しい厚さを有する絶縁層によって覆われる。次に、各
電極が導体の１つの端に接触するように電極がドラム体
表面の絶縁層上に形成される。
【０００４】電極の間隔がプリンタの解像度を決定して
いることが分かる。例えば、２３，６ピクセル／ｍｍ
（６００ｄｐｉ）の解像度を持つプリンタの場合、電極
の間隔は約４０μｍより大きくない。隣接電極間には十
分な絶縁ギャップを設けなければならないので、個々の
電極の幅は約２０μｍになる。
いることが分かる。例えば、２３，６ピクセル／ｍｍ
（６００ｄｐｉ）の解像度を持つプリンタの場合、電極
の間隔は約４０μｍより大きくない。隣接電極間には十
分な絶縁ギャップを設けなければならないので、個々の
電極の幅は約２０μｍになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の製
造方法を用いても、各端子を関連する電極に正確に配置
するにはドラム体のスロット内部での基板の位置の調整
が困難で煩わしい。さらに、電極の接続に用いる端子を
形成する導体の突出端は非常に小さな寸法でなければな
らないので、制御装置に高い信頼性でかつ強固に接続さ
れたおそらく数千に上る電極からなる画像形成要素を全
く同じように製造することは困難であるという問題があ
った。
造方法を用いても、各端子を関連する電極に正確に配置
するにはドラム体のスロット内部での基板の位置の調整
が困難で煩わしい。さらに、電極の接続に用いる端子を
形成する導体の突出端は非常に小さな寸法でなければな
らないので、制御装置に高い信頼性でかつ強固に接続さ
れたおそらく数千に上る電極からなる画像形成要素を全
く同じように製造することは困難であるという問題があ
った。
【０００６】従って、本発明の目的は、全く同じものを
容易に製造でき、個々の電極と制御装置の間で信頼性が
高くかつ強固に電気接続が改良された画像形成要素と、
このような画像形成要素の製造方法を提供することにあ
る。
容易に製造でき、個々の電極と制御装置の間で信頼性が
高くかつ強固に電気接続が改良された画像形成要素と、
このような画像形成要素の製造方法を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によるクレーム１
の前提部分に示された特徴を持つ画像形成要素は、接触
手段がドラム体のほぼ軸方向に延びる複数の列で配置さ
れ、ドラム体の壁の内側から見たとき各接触手段が、ド
ラム体の軸方向から見て対応する電極の少なくとも２倍
の大きさを持つことを特徴とする。
の前提部分に示された特徴を持つ画像形成要素は、接触
手段がドラム体のほぼ軸方向に延びる複数の列で配置さ
れ、ドラム体の壁の内側から見たとき各接触手段が、ド
ラム体の軸方向から見て対応する電極の少なくとも２倍
の大きさを持つことを特徴とする。
【０００８】円柱状のドラム体の周壁を通る接触手段
は、ドラム体の内側およびその軸方向から見ると電極の
対応する大きさよりも遥かに大きいので、円柱状のドラ
ム体の側に配置された制御装置の電子部品との正確な接
続を実現できる。一方、各接触手段と周方向に延びる印
刷電極の１つとの間の正確な接続が円柱状のドラム体の
壁を通る接触手段の非常に精密な位置付けをすることな
く実現できる。かくして、信頼性が高く強固な画像形成
要素が接触手段の非常に精密な位置付けを行うことなく
製造できる。
は、ドラム体の内側およびその軸方向から見ると電極の
対応する大きさよりも遥かに大きいので、円柱状のドラ
ム体の側に配置された制御装置の電子部品との正確な接
続を実現できる。一方、各接触手段と周方向に延びる印
刷電極の１つとの間の正確な接続が円柱状のドラム体の
壁を通る接触手段の非常に精密な位置付けをすることな
く実現できる。かくして、信頼性が高く強固な画像形成
要素が接触手段の非常に精密な位置付けを行うことなく
製造できる。
【０００９】好適な実施例において、隣接する電極を接
触させるスルーホールがドラム体の周方向に互い違いに
配置され、各スルーホールの直径は、ドラム体の外周面
で小さくドラム体の内表面で大きい。これにより、スル
ーホールに充填された伝導材料と制御装置の端子間の電
気接続が非常に簡単になる。なぜなら、制御装置の位置
許容範囲がドラム体の内面の比較的直径の大きなスルー
ホールによって決定されるためである。この構成は、ド
ラム体が金属ではなく、電気絶縁材料から成る場合にお
いても好適に用いられる。
触させるスルーホールがドラム体の周方向に互い違いに
配置され、各スルーホールの直径は、ドラム体の外周面
で小さくドラム体の内表面で大きい。これにより、スル
ーホールに充填された伝導材料と制御装置の端子間の電
気接続が非常に簡単になる。なぜなら、制御装置の位置
許容範囲がドラム体の内面の比較的直径の大きなスルー
ホールによって決定されるためである。この構成は、ド
ラム体が金属ではなく、電気絶縁材料から成る場合にお
いても好適に用いられる。
【００１０】画像形成要素の製造方法はクレーム６に記
載されている。スルーホールは、ドラム体の壁にレーザ
ービームまたは電子ビームによって形成される。ドラム
体の内面のスルーホールの直径を大きくするには、ビー
ム、例えば、レーザービームをドラム体の内側から照射
することが望ましい。次に、レーザービームを収束させ
て、１回の操作でスルーホールの直径の大きな部分と直
径の小さな部分を形成する。別の実施例において、スル
ーホールの直径の大きな部分が第１段階で貫通しない穴
として形成され、スルーホールの直径の小さな部分が第
２段階でドラム体の内側あるいは外側から形成される。
載されている。スルーホールは、ドラム体の壁にレーザ
ービームまたは電子ビームによって形成される。ドラム
体の内面のスルーホールの直径を大きくするには、ビー
ム、例えば、レーザービームをドラム体の内側から照射
することが望ましい。次に、レーザービームを収束させ
て、１回の操作でスルーホールの直径の大きな部分と直
径の小さな部分を形成する。別の実施例において、スル
ーホールの直径の大きな部分が第１段階で貫通しない穴
として形成され、スルーホールの直径の小さな部分が第
２段階でドラム体の内側あるいは外側から形成される。
【００１１】また別の実施例において、直径の大きなス
ルーホールは第１段階でドラム体の内側または外側から
形成される。この実施例でアルミニウム等の金属から成
るドラム体は、直径の大きな穴の内壁に絶縁表面層を形
成するため陽極酸化され、これらの穴は伝導材料で充填
される。次に、金属の均一層（例えば、アルミニウム）
または絶縁材料（例えば、エポキシ樹脂等のプラスチッ
ク）をドラム体の外表面に塗布し、直径の小さなスルー
ホールを形成する第２段階でスルー接点を完成し（塗布
した層が金属から成る場合、陽極酸化を行う）、完成し
たスルーホールを伝導材料で充填する。金属層が塗布さ
れた場合、陽極酸化プロセスを制御しなければならない
ので、金属層の全てが電気的に絶縁される。
ルーホールは第１段階でドラム体の内側または外側から
形成される。この実施例でアルミニウム等の金属から成
るドラム体は、直径の大きな穴の内壁に絶縁表面層を形
成するため陽極酸化され、これらの穴は伝導材料で充填
される。次に、金属の均一層（例えば、アルミニウム）
または絶縁材料（例えば、エポキシ樹脂等のプラスチッ
ク）をドラム体の外表面に塗布し、直径の小さなスルー
ホールを形成する第２段階でスルー接点を完成し（塗布
した層が金属から成る場合、陽極酸化を行う）、完成し
たスルーホールを伝導材料で充填する。金属層が塗布さ
れた場合、陽極酸化プロセスを制御しなければならない
ので、金属層の全てが電気的に絶縁される。
【００１２】別々の支持物による複数の接触手段列（例
えば、スルーホール）を形成し、それから、円柱状の壁
の細長い開口に支持物を固定することも可能である。こ
れとは別に、各接触手段列を別々の支持要素上に交互に
形成して、この複数の支持要素を円柱状ドラム体の対応
する細長い開口に固定できる。
えば、スルーホール）を形成し、それから、円柱状の壁
の細長い開口に支持物を固定することも可能である。こ
れとは別に、各接触手段列を別々の支持要素上に交互に
形成して、この複数の支持要素を円柱状ドラム体の対応
する細長い開口に固定できる。
【００１３】ドラム体の内径がビーム源をその中に収容
するには余りに小さい場合、ドラム体を予め少なくとも
２つの部分に切断し、そして、これらの部分をスルーホ
ールまたは少なくとも直径の大きなスルーホールが形成
されてから、例えば、電子ビーム溶接を用いて接合す
る。
するには余りに小さい場合、ドラム体を予め少なくとも
２つの部分に切断し、そして、これらの部分をスルーホ
ールまたは少なくとも直径の大きなスルーホールが形成
されてから、例えば、電子ビーム溶接を用いて接合す
る。
【００１４】さらに別の実施例において、ドラム体外表
面上の電極は、陽極酸化処理の前にドラム体の外表面ま
たはめっき層に溝を形成するか、陽極酸化処理の後にこ
れらの溝を電極を形成する伝導材料によって充填するこ
とによって形成される。この場合、スルーホールおよび
溝の壁表面は同じ陽極酸化処理で電気的に絶縁できる。
面上の電極は、陽極酸化処理の前にドラム体の外表面ま
たはめっき層に溝を形成するか、陽極酸化処理の後にこ
れらの溝を電極を形成する伝導材料によって充填するこ
とによって形成される。この場合、スルーホールおよび
溝の壁表面は同じ陽極酸化処理で電気的に絶縁できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】発明の好適な実施例を添付した図
面を用いて以下に説明する。
面を用いて以下に説明する。
【００１６】図１に示す画像形成要素１０は、金属、好
ましくはアルミニウムまたはアルミニウム合金から成る
中空の円柱状のドラム体１２から成る。複数の周方向に
延びる電極１４がドラム体１２の外表面に形成されてい
る。これらの電極１４は、互いにおよびドラム体１２か
ら電気的に絶縁され、薄い誘電材料層（図１に図示せ
ず）によって覆われている。一方、明確にするためにい
くつかの電極１４だけが図１に示されているが、電極１
４は、実際、ドラム体１２のほぼ全長に渡って設けられ
ており、例えば、形成される画像の所望の解像度に対応
する約４０μｍの間隔で配置されている。
ましくはアルミニウムまたはアルミニウム合金から成る
中空の円柱状のドラム体１２から成る。複数の周方向に
延びる電極１４がドラム体１２の外表面に形成されてい
る。これらの電極１４は、互いにおよびドラム体１２か
ら電気的に絶縁され、薄い誘電材料層（図１に図示せ
ず）によって覆われている。一方、明確にするためにい
くつかの電極１４だけが図１に示されているが、電極１
４は、実際、ドラム体１２のほぼ全長に渡って設けられ
ており、例えば、形成される画像の所望の解像度に対応
する約４０μｍの間隔で配置されている。
【００１７】制御装置１６は細長い形状をしており、細
長いドラム体の縦端に形成された端子列１８がドラム体
の内壁表面に隣接するように中空のドラム体１２の内部
に設けられている。当該技術において広く知られている
ように、制御装置１６は、画像情報に応じて各電極１４
に適切な高電圧を個別に供給するために取り付けられて
いる。例えば、制御装置１６は、電子部品が搭載され端
子列１８に至る電気導体パターン（図示せず）が配置さ
れたプリント回路基板を含んでも良い。各導体は、以下
に詳述する接触手段により対応する電極１４の１つに電
気的に接続されている。
長いドラム体の縦端に形成された端子列１８がドラム体
の内壁表面に隣接するように中空のドラム体１２の内部
に設けられている。当該技術において広く知られている
ように、制御装置１６は、画像情報に応じて各電極１４
に適切な高電圧を個別に供給するために取り付けられて
いる。例えば、制御装置１６は、電子部品が搭載され端
子列１８に至る電気導体パターン（図示せず）が配置さ
れたプリント回路基板を含んでも良い。各導体は、以下
に詳述する接触手段により対応する電極１４の１つに電
気的に接続されている。
【００１８】図２に示すように、個々の電極１４は、こ
の例では２０μｍよりやや狭い幅を持つ絶縁リッジ２０
によって絶縁されているため、その結果、各電極１４に
対し２０μｍよりほんの少し広い幅が残る。各電極は、
ドラム体１２の壁を貫通し、電気伝導エポキシ樹脂、は
んだ、電気伝導ポリマー等の電気伝導材料によって充填
されているスルーホール２２を通して制御装置１２の関
連する導体に電気的に接続されている。各スルーホール
２２は、直径の小さな部分即ちホール２４と直径の大き
な部分即ちホール２６とから構成されている。直径の小
さなホール２４はドラム体の外周面に対し開口し、直径
が約２０μｍあり、このように構成されているので電極
１４の１つとのみ接触する。直径の小さなホール２４の
内端は、ドラム体１２の壁の内面に対しそれ自身開口
し、電極１４の間隔より実質的に大きい直径を持つ直径
の大きなホール２６に対し開口している。いくつかの直
径の大きなホール２６の間に十分な隙間を設けるために
は、スルーホール２２をドラム体の周方向に互い違いに
配置する。６列のスルーホールの内３列だけが図２に示
されている。
の例では２０μｍよりやや狭い幅を持つ絶縁リッジ２０
によって絶縁されているため、その結果、各電極１４に
対し２０μｍよりほんの少し広い幅が残る。各電極は、
ドラム体１２の壁を貫通し、電気伝導エポキシ樹脂、は
んだ、電気伝導ポリマー等の電気伝導材料によって充填
されているスルーホール２２を通して制御装置１２の関
連する導体に電気的に接続されている。各スルーホール
２２は、直径の小さな部分即ちホール２４と直径の大き
な部分即ちホール２６とから構成されている。直径の小
さなホール２４はドラム体の外周面に対し開口し、直径
が約２０μｍあり、このように構成されているので電極
１４の１つとのみ接触する。直径の小さなホール２４の
内端は、ドラム体１２の壁の内面に対しそれ自身開口
し、電極１４の間隔より実質的に大きい直径を持つ直径
の大きなホール２６に対し開口している。いくつかの直
径の大きなホール２６の間に十分な隙間を設けるために
は、スルーホール２２をドラム体の周方向に互い違いに
配置する。６列のスルーホールの内３列だけが図２に示
されている。
【００１９】制御装置１６がドラム体１２の内部に取り
付けられているとき、その各導体または端子が直径の大
きなホール２６の中の１つの伝導材料とのみ接触するよ
うに調整しなければならない。これらのホールの直径が
比較的大きいので、制御装置の位置許容範囲は電極１４
の間隔よりも遥かに大きい。
付けられているとき、その各導体または端子が直径の大
きなホール２６の中の１つの伝導材料とのみ接触するよ
うに調整しなければならない。これらのホールの直径が
比較的大きいので、制御装置の位置許容範囲は電極１４
の間隔よりも遥かに大きい。
【００２０】図３および図４に示すように、電極１４は
リッジ２０により分離され、電気伝導材２８によって充
填された溝として形成されている。図３は、スルーホー
ル２２の直径の小さな部分２４と直径の大きな部分２６
を充填する電気伝導材料３２並びに電極１４およびリッ
ジ２０を被覆する誘電層３０を示す。電極１４を形成
し、スルーホールを充填する伝導材料２８，３２は、ド
ラム体の外周面とスルーホールの内壁に存在する陽極酸
化された表面層３４（ＡＩ2 ０3 ）によってアルミニウ
ムドラム体１２から電気的に絶縁されている。
リッジ２０により分離され、電気伝導材２８によって充
填された溝として形成されている。図３は、スルーホー
ル２２の直径の小さな部分２４と直径の大きな部分２６
を充填する電気伝導材料３２並びに電極１４およびリッ
ジ２０を被覆する誘電層３０を示す。電極１４を形成
し、スルーホールを充填する伝導材料２８，３２は、ド
ラム体の外周面とスルーホールの内壁に存在する陽極酸
化された表面層３４（ＡＩ2 ０3 ）によってアルミニウ
ムドラム体１２から電気的に絶縁されている。
【００２１】図４に示すように、直径の大きなホール２
６に充填された伝導材料３２と制御装置１６の導体との
間に電気的接続をするため、いわゆるセブラストリップ
３６がドラム体１２の内壁面に配置されている。このゼ
ブラストリップ３６は、ドラム体１２の内壁と制御装置
１６の端子列１８との間で弾性的に圧縮された弾性材料
から成り、電気的伝導性を持つ別の層３８と絶縁層４０
とから交互に構成される。このため、制御装置の端子が
ホール２６に重なるように配置されている場合、各導体
は対応するホール２６の１つと安全に接続され、従っ
て、それに関連する電極１４と接続される。ここで示し
た実施例において、各ホール２６はゼブラストリップの
３つの伝導層３８と重なるため、３つの平行な電気的経
路を介して電気的接続が保証される。大きな間隔で配置
されたゼブラストリップは、３つ以上の平行な電気的経
路を形成し、実に高い信頼性を保証することがわかる。
隣接する電極１４を互いに電気的に分離しておくには、
もちろん、図２に示す各スルーホール列２２に対し別々
のゼブラストリップ３６あるいは複数列のゼブラストリ
ップを設けることが必要である。
６に充填された伝導材料３２と制御装置１６の導体との
間に電気的接続をするため、いわゆるセブラストリップ
３６がドラム体１２の内壁面に配置されている。このゼ
ブラストリップ３６は、ドラム体１２の内壁と制御装置
１６の端子列１８との間で弾性的に圧縮された弾性材料
から成り、電気的伝導性を持つ別の層３８と絶縁層４０
とから交互に構成される。このため、制御装置の端子が
ホール２６に重なるように配置されている場合、各導体
は対応するホール２６の１つと安全に接続され、従っ
て、それに関連する電極１４と接続される。ここで示し
た実施例において、各ホール２６はゼブラストリップの
３つの伝導層３８と重なるため、３つの平行な電気的経
路を介して電気的接続が保証される。大きな間隔で配置
されたゼブラストリップは、３つ以上の平行な電気的経
路を形成し、実に高い信頼性を保証することがわかる。
隣接する電極１４を互いに電気的に分離しておくには、
もちろん、図２に示す各スルーホール列２２に対し別々
のゼブラストリップ３６あるいは複数列のゼブラストリ
ップを設けることが必要である。
【００２２】ゼブラストリップ３６は、電気異方性ラッ
カー等の異方電気伝導性を持つ材料と置換し得る。
カー等の異方電気伝導性を持つ材料と置換し得る。
【００２３】上述したような画像形成要素を製造する信
頼性が高く効果的な方法は図３と図４を用いて説明す
る。
頼性が高く効果的な方法は図３と図４を用いて説明す
る。
【００２４】最初、中空の円柱状のドラム体１２が一体
型部材として形成される。電極を形成する溝１４は、例
えば、ダイヤモンドのみを用いてドラム体１２の周面に
形成される。代わりに、これらの溝をレーザービームま
たは電子ビームを用いて形成しても良い。この段階にお
いて、ドラム体１２はまだ陽極酸化されていないので、
溝１４が金属酸化層よりもさらに簡単かつ精密に加工で
きる金属表面に形成される。
型部材として形成される。電極を形成する溝１４は、例
えば、ダイヤモンドのみを用いてドラム体１２の周面に
形成される。代わりに、これらの溝をレーザービームま
たは電子ビームを用いて形成しても良い。この段階にお
いて、ドラム体１２はまだ陽極酸化されていないので、
溝１４が金属酸化層よりもさらに簡単かつ精密に加工で
きる金属表面に形成される。
【００２５】次の段階で、直径の大きなホール２６が、
例えば、レーザビームを用いて内側からドラムの壁に形
成される。ホール２６は第１段階で貫通していない穴と
して形成され、第２段階で小さなエミッタホール２４が
形成される。直径の小さなホール２４もドラム体の内側
または外側からレーザビームを用いて形成される。ホー
ルがドラム体の外側から形成された場合、直径の小さな
ホール２４と溝１４との間の位置的関係は容易に確認で
きる。この場合、レーザビームまたは電子ビームを用い
る代わりに、ダイヤモンドのみ等を用い穿孔や切削によ
っても直径の小さなホール２４を形成することが可能で
ある。
例えば、レーザビームを用いて内側からドラムの壁に形
成される。ホール２６は第１段階で貫通していない穴と
して形成され、第２段階で小さなエミッタホール２４が
形成される。直径の小さなホール２４もドラム体の内側
または外側からレーザビームを用いて形成される。ホー
ルがドラム体の外側から形成された場合、直径の小さな
ホール２４と溝１４との間の位置的関係は容易に確認で
きる。この場合、レーザビームまたは電子ビームを用い
る代わりに、ダイヤモンドのみ等を用い穿孔や切削によ
っても直径の小さなホール２４を形成することが可能で
ある。
【００２６】一方、直径の小さなホール２４がドラム体
の内側から形成された場合、例えば、収束したレーザビ
ームを用いて１回の操作で直径の大きなホール２６と直
径の小さなホール２４を形成することが可能である。
の内側から形成された場合、例えば、収束したレーザビ
ームを用いて１回の操作で直径の大きなホール２６と直
径の小さなホール２４を形成することが可能である。
【００２７】直径の小さなホール２４と直径の大きなホ
ール２６を含むスルーホール２２が形成された後、ドラ
ム体１２全体は、ドラム体の全表面、特に、溝１４とリ
ッジ２０を形成する外周面およびスルーホール２２の内
壁に絶縁金属酸化層３２を形成するため、周知の陽極酸
化技術により陽極酸化される。
ール２６を含むスルーホール２２が形成された後、ドラ
ム体１２全体は、ドラム体の全表面、特に、溝１４とリ
ッジ２０を形成する外周面およびスルーホール２２の内
壁に絶縁金属酸化層３２を形成するため、周知の陽極酸
化技術により陽極酸化される。
【００２８】次の段階で、電気伝導材料２８，３２が電
極および電気スルー接点を形成するため溝１４とスルー
ホール２２に充填される。
極および電気スルー接点を形成するため溝１４とスルー
ホール２２に充填される。
【００２９】最後に、例えば、ＥＰＴ０６３５７６８に
記載されているようにＡＩＮ、ＡＩ2 Ｏ3 またはＳｉＯ
ｘから形成される絶縁誘電層３０は電極１４とリッジ２
０の上に形成され、制御装置１６は、ゼブラストリップ
３６を介してスルー接点に接続されるドラム体の内側に
取り付けられる。
記載されているようにＡＩＮ、ＡＩ2 Ｏ3 またはＳｉＯ
ｘから形成される絶縁誘電層３０は電極１４とリッジ２
０の上に形成され、制御装置１６は、ゼブラストリップ
３６を介してスルー接点に接続されるドラム体の内側に
取り付けられる。
【００３０】ドラム体１２の直径と直径の大きなホール
２６の形成に用いる工具の寸法に応じ、工具が内部面に
自由に入ることができるようにドラム体１２を２つ以上
の部分から構成することも必要かも知れない。この場
合、直径の大きなホール２６は、レーザビームまたは電
子ビームを用いて個々の部分に形成され、中空の円柱状
のドラム体１２を形成するため好ましくは電子ビーム溶
接により接合・溶接される。図１に示す例において、ド
ラム体は溶接部１２ｂに沿って接合された２つの部分１
２ａから成る。
２６の形成に用いる工具の寸法に応じ、工具が内部面に
自由に入ることができるようにドラム体１２を２つ以上
の部分から構成することも必要かも知れない。この場
合、直径の大きなホール２６は、レーザビームまたは電
子ビームを用いて個々の部分に形成され、中空の円柱状
のドラム体１２を形成するため好ましくは電子ビーム溶
接により接合・溶接される。図１に示す例において、ド
ラム体は溶接部１２ｂに沿って接合された２つの部分１
２ａから成る。
【００３１】ドラム体１２の外表面は、精密な円柱形に
するために回転され、溝１４が形成される。これらの段
階は旋盤上で行うのが好ましい。
するために回転され、溝１４が形成される。これらの段
階は旋盤上で行うのが好ましい。
【００３２】製造工程の後続する段階は上述した方法と
同じである。
同じである。
【００３３】その代わり、ドラム体は溝１４が形成され
た後、即ち、直径の小さなホール２４が形成される前
に、ただちに陽極酸化される。この場合、陽極酸化プロ
セスを制御しなければならないので、絶縁酸化層が少な
くとも直径の大きなホール２６の外端レベルまで入り込
む。直径の小さなホール２４は、酸化層にレーザ切削や
穿孔等により形成される。従って、伝導材料３２が充填
されたとき、この材料がアルミニウム体１２から完全に
絶縁されることが保証される。
た後、即ち、直径の小さなホール２４が形成される前
に、ただちに陽極酸化される。この場合、陽極酸化プロ
セスを制御しなければならないので、絶縁酸化層が少な
くとも直径の大きなホール２６の外端レベルまで入り込
む。直径の小さなホール２４は、酸化層にレーザ切削や
穿孔等により形成される。従って、伝導材料３２が充填
されたとき、この材料がアルミニウム体１２から完全に
絶縁されることが保証される。
【００３４】画像形成要素およびこの製造方法に変更を
加えた実施例を図５から図７を用いて説明する。
加えた実施例を図５から図７を用いて説明する。
【００３５】上述した製造方法との主要な相違は、直径
の大きなホール２６が図５に示すようにドラム体１２の
壁全体を通して最初に形成される点にある。ドラム体１
２は次に陽極酸化され、ホール２６の内壁上の絶縁表面
層３４並びにドラム体の外周面上に絶縁層４２が形成さ
れる。ホール２６は、図６に示すように電気伝導材料３
２によって充填される。次に、金属アルミニウムの層４
４が、例えば、蒸着によりドラム体の外表面上の層４２
の上に堆積される。その後、溝１４が図６に示すように
層４４に形成される。
の大きなホール２６が図５に示すようにドラム体１２の
壁全体を通して最初に形成される点にある。ドラム体１
２は次に陽極酸化され、ホール２６の内壁上の絶縁表面
層３４並びにドラム体の外周面上に絶縁層４２が形成さ
れる。ホール２６は、図６に示すように電気伝導材料３
２によって充填される。次に、金属アルミニウムの層４
４が、例えば、蒸着によりドラム体の外表面上の層４２
の上に堆積される。その後、溝１４が図６に示すように
層４４に形成される。
【００３６】ドラム体１２は続いて、層４４の全てが電
気絶縁金属酸化層に変換される第２陽極酸化を受ける。
最後に、直径の小さなホール２４が絶縁層４４を通して
形成され、電気伝導材料を充填して図７に示す構成を完
成する。
気絶縁金属酸化層に変換される第２陽極酸化を受ける。
最後に、直径の小さなホール２４が絶縁層４４を通して
形成され、電気伝導材料を充填して図７に示す構成を完
成する。
【００３７】この実施例において、直径の大きなホール
２６と直径の小さなホール２４の形成に前の実施例と同
じ方法を用いることができる。従って、ドラム体１２
は、最初から完全な中空の円柱状のドラム体かホール２
６が形成された後に溶接したいつくかの部分から成るい
ずれかである。
２６と直径の小さなホール２４の形成に前の実施例と同
じ方法を用いることができる。従って、ドラム体１２
は、最初から完全な中空の円柱状のドラム体かホール２
６が形成された後に溶接したいつくかの部分から成るい
ずれかである。
【００３８】製造方法の変更により、直径の大きなホー
ル２６と直径の小さなホール２４は図３と図４を用いて
説明したのと同じ方法で形成されるが、ドラム体の外表
面に溝１４を形成しない。ドラム体がいくつかの部分か
ら成る場合、直径の小さなホール２４が形成される前あ
るいは後に接合される。ドラム体は次に第１陽極酸化処
理を受け、直径の大きなホール２６と直径の小さなホー
ル２４が伝導材料３２で充填される。そして、図８に示
すように、金属アルミニウムの連続した層４６がドラム
体１２の外表面に塗布され、直径の小さなホール２４の
開口端を覆う。
ル２６と直径の小さなホール２４は図３と図４を用いて
説明したのと同じ方法で形成されるが、ドラム体の外表
面に溝１４を形成しない。ドラム体がいくつかの部分か
ら成る場合、直径の小さなホール２４が形成される前あ
るいは後に接合される。ドラム体は次に第１陽極酸化処
理を受け、直径の大きなホール２６と直径の小さなホー
ル２４が伝導材料３２で充填される。そして、図８に示
すように、金属アルミニウムの連続した層４６がドラム
体１２の外表面に塗布され、直径の小さなホール２４の
開口端を覆う。
【００３９】続いて、層４６に溝１４が形成されるの
で、直径の小さなホール２４の外端が再び溝の底で露出
する。層４６の残りの部分（即ち、リッジ２０）が第２
陽極酸化処理で電気的に絶縁され、図７に示すのと類似
した構成が得られる。
で、直径の小さなホール２４の外端が再び溝の底で露出
する。層４６の残りの部分（即ち、リッジ２０）が第２
陽極酸化処理で電気的に絶縁され、図７に示すのと類似
した構成が得られる。
【００４０】最後に、溝１４は伝導材料２８で充填さ
れ、図３を用いて説明したように誘電層３０が塗布され
る。
れ、図３を用いて説明したように誘電層３０が塗布され
る。
【００４１】図９〜１２は、本発明の画像形成要素の別
の実施例を示す。中空の円柱状のドラム体１２には多く
の（例えば、４）細長い開口が設けられ、このような細
長い各開口に支持要素４１が固定されている。例えば、
図１０に示す支持要素４１は、絶縁支持物４２（また
は、絶縁表面層が設けられた伝導支持物）から成り、そ
の上には接触手段列４３が担持されている。接触手段４
３は、この実施例で矩形断面をしているが、明らかに円
形またはさもなくば断面形状をとり得る。接触手段の長
さは、円柱状のドラム体１２の軸方向から見たとき、ド
ラム体１２の周表面上に形成される対応する電極４６
（図１２）の長さの約３から４倍である。通常、電極４
６の幅はドラム体１２の軸方向に４０μｍ、接触手段４
３の幅は１５０μｍである。支持要素４１は、電気伝導
エポキシ樹脂等の絶縁接着剤により支持要素４１がドラ
ム体１２の表面上に約５０〜１００μｍほど突き出るよ
うにドラム体の細長い開口に固定される。その代わり
に、支持要素４１は、支持要素端が実質的に表面からは
み出さないドラム体１２表面上に位置するように細長い
開口に固定できる。続いて、ドラム体１２は、支持要素
４１が表面上に約５０〜１００μｍほど突き出る深さま
でエッチングされる。支持要素４１はさらに調節され、
接触手段４３をドラム体１２の周方向から見ると図２を
参照して上述したのと同じように互い違いになってい
る。ドラム体１２の周表面は、その後支持要素１４を覆
う層部の厚さが層４５を形成し円柱状の外周を完成した
後に厚さが約１００μｍに達するような厚さ持つ絶縁表
面層４５により被覆される。画像形成電極４６は、絶縁
層４５の外表面に互いに周方向に平行に延びる複数の連
続した溝４４を形成（例えば、旋盤またはレーザビーム
を用いて）することにより形成される。溝は約４０μｍ
の深さであるが、電極４６領域では接触手段４３に接続
しなければならないので、接触手段４３を形成する伝導
材料が露出するまで溝４４を深くする。溝４４は図３と
図４を参照して上述したように電気伝導材料で充填され
る。最後に、層４５と電極４６の周表面には、約１μｍ
の厚さを持ちＥＰ−Ａ−０６３５７６８に記載されたよ
うに酸化ケイ素から成る薄い誘電層（図示せず）が設け
られている。接触手段４３は、図４を参照して上述した
のと同じように電極４６を選択的に付勢するため、制御
装置（図９〜１２に図示せず）に接続されている。
の実施例を示す。中空の円柱状のドラム体１２には多く
の（例えば、４）細長い開口が設けられ、このような細
長い各開口に支持要素４１が固定されている。例えば、
図１０に示す支持要素４１は、絶縁支持物４２（また
は、絶縁表面層が設けられた伝導支持物）から成り、そ
の上には接触手段列４３が担持されている。接触手段４
３は、この実施例で矩形断面をしているが、明らかに円
形またはさもなくば断面形状をとり得る。接触手段の長
さは、円柱状のドラム体１２の軸方向から見たとき、ド
ラム体１２の周表面上に形成される対応する電極４６
（図１２）の長さの約３から４倍である。通常、電極４
６の幅はドラム体１２の軸方向に４０μｍ、接触手段４
３の幅は１５０μｍである。支持要素４１は、電気伝導
エポキシ樹脂等の絶縁接着剤により支持要素４１がドラ
ム体１２の表面上に約５０〜１００μｍほど突き出るよ
うにドラム体の細長い開口に固定される。その代わり
に、支持要素４１は、支持要素端が実質的に表面からは
み出さないドラム体１２表面上に位置するように細長い
開口に固定できる。続いて、ドラム体１２は、支持要素
４１が表面上に約５０〜１００μｍほど突き出る深さま
でエッチングされる。支持要素４１はさらに調節され、
接触手段４３をドラム体１２の周方向から見ると図２を
参照して上述したのと同じように互い違いになってい
る。ドラム体１２の周表面は、その後支持要素１４を覆
う層部の厚さが層４５を形成し円柱状の外周を完成した
後に厚さが約１００μｍに達するような厚さ持つ絶縁表
面層４５により被覆される。画像形成電極４６は、絶縁
層４５の外表面に互いに周方向に平行に延びる複数の連
続した溝４４を形成（例えば、旋盤またはレーザビーム
を用いて）することにより形成される。溝は約４０μｍ
の深さであるが、電極４６領域では接触手段４３に接続
しなければならないので、接触手段４３を形成する伝導
材料が露出するまで溝４４を深くする。溝４４は図３と
図４を参照して上述したように電気伝導材料で充填され
る。最後に、層４５と電極４６の周表面には、約１μｍ
の厚さを持ちＥＰ−Ａ−０６３５７６８に記載されたよ
うに酸化ケイ素から成る薄い誘電層（図示せず）が設け
られている。接触手段４３は、図４を参照して上述した
のと同じように電極４６を選択的に付勢するため、制御
装置（図９〜１２に図示せず）に接続されている。
【００４２】上述したように、ここで述べたような画像
形成要素は、ＥＰ−Ａ１−０２４７６９９およびさらに
ＥＰ−Ａ１−０１９１５２１に詳述されている、いわゆ
るダイレクトインダクション印刷方法に使用される。こ
のようなダイレクトインダクション印刷方法で、画像形
成要素は、回転伝導スリーブが画像形成要素の表面に近
接して配置されている画像領域を移動する。固定磁気装
置が伝導スリーブの中に配置され、スリーブと画像形成
要素との間のギャップに磁場を発生する。電気伝導トナ
ー粉末が回転スリーブあるいは移動画像形成要素により
ギャップに供給される。画像が記録されない場合、伝導
スリーブと画像形成要素の電極は同じ電位、即ち、グラ
ンド電位に保持される。記録すべき画像パターンにより
画像形成要素の電極を選択的に付勢することにより、画
像領域に画像パターンが残っているとき、画像形成要素
の誘電表面にトナー粉末画像が形成される。電極に選択
的に供給される記録電位は、スリーブに対し正または負
のいずれかであり、十分な量のトナー粉末が誘電層の被
覆表面に吸着されトナー画像を形成するだけの大きさを
持っている。一般に、良好な品質のトナー画像を形成す
るには、電極とスリーブと間の電圧差は約１０〜６０Ｖ
の間になければならない。画像を記録するとき、画像形
成のために付勢してはならない１つ以上の電極が存在す
る場合や、さらに、１つ以上の隣接電極が付勢されるた
めにほんの少ししか付勢されない場合があるかも知れな
い。その結果、トナー粒子のあるものはわずかに付勢さ
れた電極を覆う誘電表面に引き寄せられ、歪んだ画像や
背景が着色した画像が形成されてしまう。この効果は、
画像形成要素の電極パターンの解像度の増大に伴いより
頻繁に発生する可能性がある。このようなトナー蒸着を
防ぐには、伝導スリーブにグランド電位とわずかに異な
る電位を供給し、隣接電極が付勢されたとき電極が取得
した電位にほぼ等しく（極性と大きさ）すると良い。
（トナー蒸着を防ぐこれと同様の方法がすでにＵＳ５１
４４３４３に記載されている）。伝導スリーブに供給す
るのが好ましい電位を決定するには、画像記録に用いら
れる領域の外側の領域の画像形成要素に図１３に示す測
定電極を設けると良い。電極が付勢手段５４に接続され
た位置５３から最も離れた位置５２にある測定電極５１
が隣接電極が画像形成のために付勢されたとき、位置５
２の電位を測定する手段５５に接続される。位置５２で
測定した電位が、約０．５から１の間の係数との乗算後
に望ましければ、伝導スリーブ５６に供給される。スリ
ーブに対し画像形成電極を正と負電位に交互にすること
により画像が記録されるＥＰ−Ａ−０７１８７２１に記
載されたように印刷工程が実行される場合、上述した方
法も用いることができる。
形成要素は、ＥＰ−Ａ１−０２４７６９９およびさらに
ＥＰ−Ａ１−０１９１５２１に詳述されている、いわゆ
るダイレクトインダクション印刷方法に使用される。こ
のようなダイレクトインダクション印刷方法で、画像形
成要素は、回転伝導スリーブが画像形成要素の表面に近
接して配置されている画像領域を移動する。固定磁気装
置が伝導スリーブの中に配置され、スリーブと画像形成
要素との間のギャップに磁場を発生する。電気伝導トナ
ー粉末が回転スリーブあるいは移動画像形成要素により
ギャップに供給される。画像が記録されない場合、伝導
スリーブと画像形成要素の電極は同じ電位、即ち、グラ
ンド電位に保持される。記録すべき画像パターンにより
画像形成要素の電極を選択的に付勢することにより、画
像領域に画像パターンが残っているとき、画像形成要素
の誘電表面にトナー粉末画像が形成される。電極に選択
的に供給される記録電位は、スリーブに対し正または負
のいずれかであり、十分な量のトナー粉末が誘電層の被
覆表面に吸着されトナー画像を形成するだけの大きさを
持っている。一般に、良好な品質のトナー画像を形成す
るには、電極とスリーブと間の電圧差は約１０〜６０Ｖ
の間になければならない。画像を記録するとき、画像形
成のために付勢してはならない１つ以上の電極が存在す
る場合や、さらに、１つ以上の隣接電極が付勢されるた
めにほんの少ししか付勢されない場合があるかも知れな
い。その結果、トナー粒子のあるものはわずかに付勢さ
れた電極を覆う誘電表面に引き寄せられ、歪んだ画像や
背景が着色した画像が形成されてしまう。この効果は、
画像形成要素の電極パターンの解像度の増大に伴いより
頻繁に発生する可能性がある。このようなトナー蒸着を
防ぐには、伝導スリーブにグランド電位とわずかに異な
る電位を供給し、隣接電極が付勢されたとき電極が取得
した電位にほぼ等しく（極性と大きさ）すると良い。
（トナー蒸着を防ぐこれと同様の方法がすでにＵＳ５１
４４３４３に記載されている）。伝導スリーブに供給す
るのが好ましい電位を決定するには、画像記録に用いら
れる領域の外側の領域の画像形成要素に図１３に示す測
定電極を設けると良い。電極が付勢手段５４に接続され
た位置５３から最も離れた位置５２にある測定電極５１
が隣接電極が画像形成のために付勢されたとき、位置５
２の電位を測定する手段５５に接続される。位置５２で
測定した電位が、約０．５から１の間の係数との乗算後
に望ましければ、伝導スリーブ５６に供給される。スリ
ーブに対し画像形成電極を正と負電位に交互にすること
により画像が記録されるＥＰ−Ａ−０７１８７２１に記
載されたように印刷工程が実行される場合、上述した方
法も用いることができる。
【００４３】画像形成に電極が関与していないとき正
（負）電位が電極に供給され、画像形成に電極が関与し
ているときグランド電位が供給される実施例において画
像が記録される場合、測定電極５１は、画像形成に電極
が関与しているとき電極に供給される電位に保持され、
スリーブ５６は、隣接電極がグランド電位に切り替わっ
たとき測定電極が取得した電位になる。
（負）電位が電極に供給され、画像形成に電極が関与し
ているときグランド電位が供給される実施例において画
像が記録される場合、測定電極５１は、画像形成に電極
が関与しているとき電極に供給される電位に保持され、
スリーブ５６は、隣接電極がグランド電位に切り替わっ
たとき測定電極が取得した電位になる。
【００４４】本発明の特定の実施例のみ上述したが、添
付したクレームに記載したように、当業者は本発明の範
囲から逸脱することなく、記載した例をさまざまに変更
しても良い。例えば、制御装置１６を互いに角度をずら
したいくつかのブロックに分解し、それぞれのブロック
をドラム体の異なる部分の長さに渡って延長しても良
い。そして、スルーホール２２をこのパターンによって
配置する。
付したクレームに記載したように、当業者は本発明の範
囲から逸脱することなく、記載した例をさまざまに変更
しても良い。例えば、制御装置１６を互いに角度をずら
したいくつかのブロックに分解し、それぞれのブロック
をドラム体の異なる部分の長さに渡って延長しても良
い。そして、スルーホール２２をこのパターンによって
配置する。
【００４５】
【発明の効果】以上のように、円柱状のドラム体の周壁
を通る接触手段は、ドラム体の内側およびその軸方向か
ら見ると電極の対応する大きさよりも遥かに大きいの
で、円柱状のドラム体の側に配置された制御装置の電子
部品との正確な接続を実現できる。一方、各接触手段と
周方向に延びる印刷電極の１つとの間の正確な接続も円
柱状のドラム体の壁を通る接触手段に非常に精密な位置
付けをすることなく実現できる。かくして、信頼性が高
く強固な画像形成要素を接触手段の非常に精密な位置付
けを行うことなく製造できる効果がある。
を通る接触手段は、ドラム体の内側およびその軸方向か
ら見ると電極の対応する大きさよりも遥かに大きいの
で、円柱状のドラム体の側に配置された制御装置の電子
部品との正確な接続を実現できる。一方、各接触手段と
周方向に延びる印刷電極の１つとの間の正確な接続も円
柱状のドラム体の壁を通る接触手段に非常に精密な位置
付けをすることなく実現できる。かくして、信頼性が高
く強固な画像形成要素を接触手段の非常に精密な位置付
けを行うことなく製造できる効果がある。
【００４６】また、隣接する電極を接触させるスルーホ
ールがドラム体の周方向に互い違いに配置され、各スル
ーホールの直径は、ドラム体の外周面で小さくドラム体
の内表面で大きい。これにより、制御装置の位置許容範
囲がドラム体の内面の比較的直径の大きなスルーホール
によって決定されるため、スルーホールに充填された伝
導材料と制御装置の端子間の電気接続が非常に簡単にな
る効果がある。
ールがドラム体の周方向に互い違いに配置され、各スル
ーホールの直径は、ドラム体の外周面で小さくドラム体
の内表面で大きい。これにより、制御装置の位置許容範
囲がドラム体の内面の比較的直径の大きなスルーホール
によって決定されるため、スルーホールに充填された伝
導材料と制御装置の端子間の電気接続が非常に簡単にな
る効果がある。
【図１】画像形成要素の全体的な透視図である。
【図２】画像形成要素の外周面の拡大した部分を示す図
である。
である。
【図３】画像形成要素の表面部分の断面図である。
【図４】図３より小さな縮尺で描いた画像形成要素の周
壁部の断面図である。
壁部の断面図である。
【図５】図４に類似した変更を加えた実施例による画像
形成装置の製造方法の３つの段階を示す図である。
形成装置の製造方法の３つの段階を示す図である。
【図６】図４に類似した変更を加えた実施例による画像
形成装置の製造方法の３つの段階を示す図である。
形成装置の製造方法の３つの段階を示す図である。
【図７】図４に類似した変更を加えた実施例による画像
形成装置の製造方法の３つの段階を示す図である。
形成装置の製造方法の３つの段階を示す図である。
【図８】別の製造方法を示す断面図である。
【図９】本発明による画像形成要素を製造する別の実施
例の製造工程を図示する全体および断面図である。
例の製造工程を図示する全体および断面図である。
【図１０】本発明による画像形成要素を製造する別の実
施例の製造工程を図示する全体および断面図である。
施例の製造工程を図示する全体および断面図である。
【図１１】本発明による画像形成要素を製造する別の実
施例の製造工程を図示する全体および断面図である。
施例の製造工程を図示する全体および断面図である。
【図１２】本発明による画像形成要素を製造する別の実
施例の製造工程を図示する全体および断面図である。
施例の製造工程を図示する全体および断面図である。
【図１３】本発明による画像形成要素を用いることがで
きる画像形成方法の特定の実施例を図示する図である。
きる画像形成方法の特定の実施例を図示する図である。
１０ 画像形成要素 １２ ドラム体 １２ｂ 溶接部 １４ 電極 １６ 制御装置 １８ 端子列 ２０ リッジ ２２ スルーホール ２４ 直径の小さなホール ２６ 直径の大きなホール ２８，３２ 電気伝導材料 ３０ 誘電層 ３４ 表面層 ３６ セブラストリップ ３８ 伝導層 ４０ 絶縁層 ４１ 支持要素 ４２ 絶縁支持物 ４３ 接触手段 ４４ 溝 ４５ 絶縁表面層 ４６ 電極 ５４ 付勢手段 ５５ 電位測定手段 ５６ スリーブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ランバーディナ・ヨハンナ・アンナ・マリ ア・ドリーセン‐オルデ・シェパー オランダ国、5925・ビージー・ベンロ、ク レマティスストラート 43 (72)発明者 ノーベルタス・ジェラルダス・クリスチャ ーン・マリア・バン・ルース オランダ国、5915・ゼッドビー・ベンロ、 カレル・ブイ・ラーン 108
Claims (12)
- 【請求項１】 互いにおよびドラム体から電気的に絶縁
された複数の周方向に延びる電極を備えた外周面にある
中空の円柱状のドラム体と、前記電極を付勢するために
前記ドラム体の内部に配置された電子制御装置と、前記
各電極を前記制御装置に個々に電気的に接続し前記ドラ
ム体の壁を通る接触手段とから成る画像形成要素におい
て、前記接触手段が、前記ドラム体の軸方向に延びる複
数の列に配置され、前記ドラム体の壁の内側から見たと
き前記各接触手段が前記ドラム体の軸方向から見て前記
電極の対応する大きさの少なくとも２倍の大きさを持つ
ことを特徴とする画像形成要素。 - 【請求項２】 前記各接触手段が、関連する前記電極の
１つと隣接する直径の小さな外部分と、前記電極の幅の
少なくとも２倍の直径を持ち前記ドラム体の内表面に開
口している直径の大きな部分とを有するスルーホールと
から成り、前記スルーホールが絶縁内壁を備え電気伝導
材料で充填されていることを特徴とする請求項１に記載
の画像形成要素。 - 【請求項３】 前記ドラム体が金属から成り、前記スル
ーホールの絶縁内壁が前記ドラム体の陽極酸化された金
属表面層によって形成されていることを特徴とする請求
項２に記載の画像形成要素。 - 【請求項４】 異方電気伝導性を持つ少なくとも１つの
連続したストリップが、前記接触手段の内端と前記制御
装置の接触端子の線形列との間に介在していることを特
徴とする請求項１または２に記載の画像形成要素。 - 【請求項５】 前記接触手段の列に、前記ドラム体の周
壁に取り付けられている１つ以上の支持物が設けられて
いることを特徴とする請求項１に記載の画像形成要素。 - 【請求項６】 予め定められた前記電極のパターンの対
応する位置の前記中空の円柱状のドラム体の壁またはそ
の部分に複数の前記スルーホールを形成するステップ
と、少なくとも前記スルーホールの内壁に陽極酸化され
た表面層を形成するステップと、前記電気伝導材料を用
いて前記スルーホールを充填するステップとを含むこと
を特徴とする請求項１に記載の画像形成要素の製造方
法。 - 【請求項７】 前記スルーホールまたは少なくとも前記
直径の大きな部分が、前記ドラム体または前記部分の内
側から形成されることを特徴とする請求項６に記載の画
像形成要素の製造方法。 - 【請求項８】 前記スルーホールまたは少なくとも前記
直径の大きな部分が、１つ以上の部分が接合されて前記
ドラム体を形成する前に、前記１つ以上の部分に形成さ
れることを特徴とする請求項７に記載の画像形成要素製
造方法。 - 【請求項９】 前記電極が、陽極酸化処理の前に前記ド
ラム体の金属表面に溝を形成し、陽極酸化処理の後にこ
れらの前記溝を電気伝導材料で充填することにより形成
されることを特徴とする請求項６から８のいずれか１項
に記載の画像形成要素の製造方法。 - 【請求項１０】 前記ドラム体の壁全体または前記部分
を通して直径の大きな部分を形成するステップと、少な
くとも前記直径の大きな部分の内壁に陽極酸化された表
面層を形成するステップと、電気伝導材料を用いて前記
直径の大きな部分を充填するステップと、前記ドラム体
の外表面に金属層を塗布するステップと、前記直径の大
きな部分の位置にそれぞれ一致する位置の塗布された前
記金属層を通して直径の小さな部分を形成し、前記直径
の小さな部分が形成される前または形成された後に塗布
された前記金属層を完全に陽極酸化するステップとを含
むことを特徴とする請求項６から８のいずれか１項に記
載の画像形成要素の製造方法。 - 【請求項１１】 前記電極を形成するための前記溝が、
陽極酸化される前に塗布された前記金属層に形成される
ことを特徴とする請求項１０に記載の画像形成要素の製
造方法。 - 【請求項１２】 前記スルーホールが、レーザビーム切
削、電子ビーム切削、穿孔、またはこれらの技術の組み
合わせによって形成されることを特徴とする請求項６か
ら１１のいずれか１項に記載の画像形成要素の製造方
法。
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