JPH1041333A - キャピラリ及びワイヤボンディング方法 - Google Patents

キャピラリ及びワイヤボンディング方法

Info

Publication number
JPH1041333A
JPH1041333A JP8190789A JP19078996A JPH1041333A JP H1041333 A JPH1041333 A JP H1041333A JP 8190789 A JP8190789 A JP 8190789A JP 19078996 A JP19078996 A JP 19078996A JP H1041333 A JPH1041333 A JP H1041333A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
convex curved
curved surface
capillary
inclined surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8190789A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidekazu Aoki
木 英 一 青
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP8190789A priority Critical patent/JPH1041333A/ja
Publication of JPH1041333A publication Critical patent/JPH1041333A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/7825Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/783Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
    • H01L2224/78301Capillary
    • H01L2224/78302Shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/7865Means for transporting the components to be connected
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8512Aligning
    • H01L2224/85148Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
    • H01L2224/85169Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus being the upper part of the bonding apparatus, i.e. bonding head, e.g. capillary or wedge
    • H01L2224/8518Translational movements
    • H01L2224/85181Translational movements connecting first on the semiconductor or solid-state body, i.e. on-chip, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01015Phosphorus [P]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1015Shape
    • H01L2924/1016Shape being a cuboid
    • H01L2924/10161Shape being a cuboid with a rectangular active surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ボンディングワイヤとインナーリードとの接
続部の良好な接続状態を確保しながら実質的な接続領域
の面積を拡大し、かつ、接続部近傍におけるワイヤの急
峻な立ち上がりを回避するワイヤボンディングを可能と
する構成のワイヤボンディング用キャピラリ及びワイヤ
ボンディング方法を提供する。 【解決手段】 半導体装置を構成するリードフレームの
アイランド上にダイボンディングされた半導体チップの
ボンディングパッドとリードフレームのインナーリード
とをワイヤにより電気的に接続するワイヤボンディング
に用いられるキャピラリにおいて、軸心部に穿設された
管状細穴に挿通され、先端部側から突出したワイヤを圧
着する先端部のうち、ワイヤをインナーリードに圧着し
て切断する際の切断部位Pより周縁部側の形状が、切断
部位Pの周囲にリング状に形成された第1の凸型曲面A
と、第1の凸型曲面Aの周囲にリング状に形成された第
2の凸型曲面Bとから構成されているものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工程におけるワイヤボンディングに用いられるキャピラ
リ及びそのキャピラリを用いたワイヤボンディング方
法、ワイヤボンディング装置、半導体装置の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置においては、リードフレーム
中央部のアイランド上にダイボンディングされた半導体
チップ上の半導体集積回路に電源の供給や信号の入出力
を行うために、半導体チップ上の接続電極(パッド)と
インナーリードとを電気的に接続(ボンディング)する
必要がある。
【0003】ボンディングは、ワイヤボンディングとワ
イヤレスボンディングとに大別されるが、このうちワイ
ヤボンディングは、パッドとインナーリードとを金属製
細線(ワイヤ)によって1組ずつ接続する接続方法であ
る。
【0004】ワイヤボンディングもいくつかの種類に分
類することができるが、その1つにネイルヘッドボンデ
ィングがある。ネイルヘッドボンディングにおいては、
軸心にワイヤを通すための管状細穴を有し、先端部が円
錐形状のキャピラリと称される専用の装置を用いる。
【0005】図3は、ワイヤボンディング装置の構成を
示す斜視図である。ワイヤボンディング装置は、ワイヤ
ボンディングの動作を行うボンディングヘッド部60
と、半導体基板の供給、搬送、収納をそれぞれ行うロー
ダ部70、フィーダ部80、アンローダ部90とから構
成されている。
【0006】このうちボンディングヘッド部60の構成
は、以下の通りである。即ち、ボンディングヘッド部
は、ワイヤボンディングに用いられるワイヤが挿通さ
れ、先端部でワイヤの圧着を行うキャピラリ10と、キ
ャピラリ10が先端部に取り付けられるツールホルダ
(熱圧着法の場合(超音波併用熱圧着法の場合は「US
ホーン」))62と、キャピラリ10に挿通されるワイ
ヤを挟持するクランパ63と、ボンディングヘッド部6
0が載置され、ボンディングヘッド部60の動作制御に
使用されるXYテーブル61と、半導体基板とその上に
ダイボンディングされた半導体チップとの相対位置を検
出するカメラ64とから構成されている。
【0007】以下、図3におけるボンディングヘッド部
60が行うワイヤボンディングの手順について説明す
る。図4は、ネイルヘッドボンディングによるワイヤボ
ンディングを行う際の様子を示す説明図である。
【0008】キャピラリ10の軸心の管状細穴に通した
ワイヤ20をボンディングすることによって、リードフ
レーム中央部のアイランド40上にダイボンディングさ
れた半導体チップ30上のパッド30aとインナーリー
ド50とを電気的に接続している。
【0009】ボンディングによる接続は、キャピラリ先
端部による圧力及び熱のほかに、超音波振動を併用して
行う場合もあり、その手順は、概略以下の通りである。
【0010】最初に、放電等によりキャピラリ10の先
端部から露出しているワイヤ20の先端部にボールを形
成する。キャピラリ10を接続しようとするパッド30
a上に移動させて降下させ、ボールをパッド30aに圧
着する。超音波振動を併用する場合は、圧着の際に、キ
ャピラリ10を介して接続部に超音波振動を印加する。
【0011】次に、キャピラリ10を所定のインナーリ
ード50上に移動させて降下させ、ワイヤ20を圧着す
る。この圧着の際にも、超音波振動を併用する場合は、
キャピラリ10を介して接続部に超音波振動を印加す
る。圧着後、キャピラリ10を上昇させてワイヤ20を
切断すると、1組のパッド30aとインナーリード50
とのワイヤボンディングが完了する。圧着後、キャピラ
リ10を所定位置まで上昇させてからクランパ63(図
3参照)でワイヤ20を引っ張りワイヤ20を切断する
と、1組のパッド30aとインナーリード50とのワイ
ヤボンディングが完了する。
【0012】図5は、ネイルヘッドボンディングに用い
られていた従来のキャピラリ10の形状を示す説明図で
あり、図5(a)はキャピラリ10を上部からみた平面
図、図5(b)はキャピラリ10を水平方向からみた平
面図、図5(c)はキャピラリ10の軸心を含む断面内
における先端部の拡大断面図、図5(d)はキャピラリ
10の先端部の拡大平面図である。
【0013】従来のキャピラリ10の先端部近傍の形状
は、図5(b)に示されるように、円錐状の形状となっ
ており、その円錐状部分の先端部の形状は、図5(c)
及び(d)に示されるように、円錐の頂点近傍部分が除
去されて、ワイヤをインナーリードに圧着して切断する
際の切断部位P’より周縁部側の形状が緩やかな凸型曲
面Cを形成したものとなっている。円錐状部分の先端部
の形状には、図5(c)に示される緩やかな凸型曲面C
の他、円錐状部分よりテーパ角度の大きい傾斜面を形成
しているものもある。
【0014】図6は、従来のキャピラリ10を用いたネ
イルヘッドボンディングにおいてワイヤ20をインナー
リード50に圧着する際のキャピラリ10の軸心を含む
断面内における先端部の拡大断面図である。ワイヤ20
は、キャピラリ10からの荷重と超音波振動エネルギー
とによって、先端部の凸型曲面Cに沿って変形し、接続
部M’においてインナーリード50表面と接続される。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ボンデ
ィングの際におけるワイヤ20とインナーリード50と
の接続部M’の面積の大きさ及び接続状態は、キャピラ
リ10の先端部の曲面形状に依存するため、以下のよう
な問題点があった。
【0016】即ち、接続部M’のうちキャピラリ10の
先端部の凸型曲面Cの軸心近傍部では荷重及び超音波エ
ネルギーがワイヤ20及びインナーリード50表面に対
しほぼ垂直に加えられるため、効率よく良好な接続状態
を形成することができるのに対し、キャピラリ10の先
端部の凸型曲面Cの周縁部側ほど荷重及び超音波エネル
ギーの伝搬効率が悪くなるため、接続部M’のうちの実
質的な接続領域の面積が小さくなり接続状態も劣化す
る。また、ワイヤ20の立ち上がりが急峻な場合、接続
部近傍のワイヤ20はインナーリード50に沿うように
成形しにくく、接続部M’に隙間を生じやすくなる。
【0017】従って、半導体装置組立工程中の樹脂注入
工程以降における機械的応力又は熱応力によりワイヤ2
0の剥離が発生しやすい。また、接続部M’近傍のワイ
ヤ20の立ち上がりが急峻になり易いため、樹脂注入工
程において注入される樹脂によるワイヤ20の変形も生
じやすい。
【0018】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、ボンディングワイヤとインナーリード
との接続部の良好な接続状態を確保しながら実質的な接
続領域の面積を拡大し、かつ、接続部近傍におけるワイ
ヤの急峻な立ち上がりを回避するワイヤボンディングを
可能とする構成のワイヤボンディング用キャピラリを提
供することである。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明に係るキャピラリ
によれば、半導体装置を構成するリードフレームのアイ
ランド上にダイボンディングされた半導体チップのボン
ディングパッドとリードフレームのインナーリードとを
ワイヤにより電気的に接続するワイヤボンディングに用
いられるキャピラリにおいて、軸心部に穿設された管状
細穴に挿通され、先端部側から突出したワイヤを圧着す
る先端部のうち、ワイヤをインナーリードに圧着して切
断する際の切断部位より周縁部側の形状が、切断部位の
周囲にリング状に形成された第1の凸型曲面又は傾斜面
と、第1の凸型曲面又は傾斜面の周囲にリング状に形成
された第2の凸型曲面又は傾斜面とから構成されている
ものとしたので、ボンディングワイヤとインナーリード
との接続部の良好な接続状態を確保しながら実質的な接
続領域の面積を拡大し、かつ、接続部近傍におけるワイ
ヤの急峻な立ち上がりを回避することができ、その結
果、半導体装置組立工程における機械的応力又は熱応力
によるワイヤの剥離、樹脂注入工程におけるワイヤの変
形等の不具合を防止して、半導体装置の歩留まり及び品
質を向上させることができる。
【0020】また、本発明に係るワイヤボンディング方
法及びワイヤボンディング装置、半導体装置の製造方法
によれば、上記キャピラリを用いることにより、上記と
同様の効果を得ることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るキャピラリの
実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【0022】図1は、本発明に係るキャピラリの形状を
示す説明図であり、図1(a)はキャピラリ1を上部か
らみた平面図、図1(b)はキャピラリ1を水平方向か
らみた平面図、図1(c)はキャピラリ1の軸心を含む
断面内における先端部の拡大断面図、図1(d)はキャ
ピラリ1の先端部の拡大平面図である。
【0023】本発明に係るキャピラリ1の先端部近傍の
形状は、図1(b)に示されるように、円錐状の形状と
なっている点は従来のものと同様であるが、その円錐状
部分の先端部の形状は、図1(c)及び(d)に示され
るように、円錐の頂点近傍部分が除去され、ワイヤをイ
ンナーリードに圧着して切断する際の切断部位Pより周
縁部側の形状が、切断部位Pの周囲にリング状に形成さ
れた第1の凸型曲面Aと、第1の凸型曲面Aの周囲にリ
ング状に形成された第2の凸型曲面Bとから構成された
ものとなっている。通常は、第1の凸型曲面Aの外周縁
部と第2の凸型曲面Bの内周縁部とは、連続して形成さ
れているものとする。そして、図1(c)の断面が含ま
れる平面内における第2の凸型曲面Bの内周縁部の接線
は、図1(c)における水平方向に略平行となってい
る。
【0024】第1の凸型曲面Aの内周縁部(切断部位
P)から第1の凸型曲面Aの外周縁部までのキャピラリ
の軸心に平行な方向における距離をL1、第2の凸型曲
面Bの内周縁部から第2の凸型曲面Bの外周縁部までの
同方向における距離をL2とすると、L1及びL2の値
は、以下の各条件を満たすものとすると良い。第1に、
L1はワイヤの直径以下であること、第2に、L1とL
2との和がワイヤの直径以上であること、第3に、L2
はワイヤの直径の10%より大きく50%以下であるこ
と、である。但し、第1及び第2の条件は常に要求され
るのに対し、第3の条件は用いられるワイヤの性質等に
応じて適宜変更することができる。発明者による実験及
び計算等の結果から、ボンディングワイヤに金ワイヤを
用いる場合は、第3の条件が最も適切であることが判明
した。
【0025】図2は、本発明に係るキャピラリ1を用い
たネイルヘッドボンディングにおいてワイヤ2をインナ
ーリード5に圧着する際のキャピラリ1の軸心を含む断
面内における先端部の拡大断面図である。
【0026】キャピラリ1からワイヤ2に荷重が加えら
れると、ワイヤ2は第1の凸型曲面Aによって圧着され
ると同時に、第2の凸型曲面Bによっても圧着されるの
で、ワイヤ2とインナーリード5との接続部Mのうちの
実質的な接続領域の面積が拡大される。また、図2の断
面が含まれる平面内における第2の凸型曲面Bの内周縁
部の接線は、図2における水平方向に略平行となってい
るので、第2の凸型曲面Bからの圧着力によりワイヤ2
はインナーリード5に沿って成形され、接続部M近傍に
おけるワイヤ2の急峻な立ち上がりを防止し、接続部M
近傍におけるワイヤ2とインナーリード5との隙間のな
い安定したボンディングが形成される。
【0027】尚、第2の凸型曲面Bが形成されている部
分の形状は、第2の凸型曲面Bの代わりに、円錐状部分
よりテーパ角度が大きく、断面形状が直線的な傾斜とな
る傾斜面としても良い。さらに、第1の凸型曲面Aが形
成されている部分の形状も、円錐状部分よりテーパ角度
が大きく、かつ、第2の凸型曲面Bが形成されている部
分を傾斜面とした場合における当該傾斜面のテーパ角度
よりテーパ角度が小さく、断面形状が直線的な傾斜とな
る傾斜面としても良い。
【0028】本発明に係るワイヤボンディング装置は、
図3におけるキャピラリ10を図1又は図2におけるキ
ャピラリ1に置き換えたものであり、その構成は、以下
の通りである。
【0029】本発明に係るワイヤボンディング装置は、
ワイヤボンディングの動作を行うボンディングヘッド部
60と、半導体基板の供給、搬送、収納をそれぞれ行う
ローダ部70、フィーダ部80、アンローダ部90とか
ら構成されている点は、従来のワイヤボンディング装置
と同様である。
【0030】ボンディングヘッド部60の構成も、図3
におけるキャピラリ10を図1又は図2におけるキャピ
ラリ1に置き換えた点を除くと、従来のボンディングヘ
ッド部60と同様である。即ち、本発明に係るワイヤボ
ンディング装置のボンディングヘッド部60は、ワイヤ
ボンディングに用いられるワイヤが挿通され、先端部で
ワイヤの圧着を行うキャピラリ1と、キャピラリ1が先
端部に取り付けられるツールホルダ(熱圧着法の場合
(超音波併用熱圧着法の場合は「USホーン」))62
と、キャピラリ1に挿通されるワイヤを挟持するクラン
パ63と、ボンディングヘッド部60が載置され、ボン
ディングヘッド部60の動作制御に使用されるXYテー
ブル61と、半導体基板とその上にダイボンディングさ
れた半導体チップとの相対位置を検出するカメラ64と
から構成されている。
【0031】また、本発明に係るワイヤボンディング方
法の手順も、上述の本発明に係るキャピラリを用いるこ
とを除くと、従来と同様である。図4におけるキャピラ
リ10を図1又は図2におけるキャピラリ1に、以下同
様に、ワイヤ20をワイヤ2に、インナーリード50を
インナーリード5に置き換えて説明すると、その手順
は、概略以下の通りである。
【0032】最初に、放電等によりキャピラリ1の先端
部から露出しているワイヤ2の先端部にボールを形成す
る。キャピラリ1を接続しようとするパッド30a上に
移動させて降下させ、ボールをパッド30aに圧着す
る。超音波振動を併用する場合は、圧着の際に、キャピ
ラリ1を介して接続部に超音波振動を印加する。
【0033】次に、キャピラリ1を所定のインナーリー
ド5上に移動させて降下させ、ワイヤ2を圧着する。こ
の圧着の際にも、超音波振動を併用する場合は、キャピ
ラリ1を介して接続部に超音波振動を印加する。圧着
後、キャピラリ1を所定位置まで上昇させてからクラン
パ63(図3参照)でワイヤ2を引っ張りワイヤ2を切
断すると、1組のパッド30aとインナーリード5との
ワイヤボンディングが完了する。
【0034】尚、圧着の際に超音波振動や熱を併用する
と、接続部Mの接続強度がより向上することは、従来と
同様である。
【0035】さらに、本発明に係る半導体装置の製造方
法は、半導体装置を製造する際の一連の製造工程中に、
本発明に係るキャピラリ又はワイヤボンディング方法を
使用したワイヤボンディング工程を含んだものである。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るキャ
ピラリによれば、軸心部に穿設された管状細穴に挿通さ
れ、先端部側から突出したワイヤを圧着する先端部のう
ち、ワイヤをインナーリードに圧着して切断する際の切
断部位より周縁部側の形状が、切断部位の周囲にリング
状に形成された第1の凸型曲面と、第1の凸型曲面の周
囲にリング状に形成された第2の凸型曲面とから構成さ
れているものとしたので、ボンディングワイヤとインナ
ーリードとの接続部の良好な接続状態を確保しながら実
質的な接続領域の面積を拡大し、かつ、接続部近傍にお
けるワイヤの急峻な立ち上がりを回避することができ、
その結果、半導体装置組立工程における機械的応力又は
熱応力によるワイヤの剥離、樹脂注入工程におけるワイ
ヤの変形等の不具合を防止して、半導体装置の歩留まり
及び品質を向上させることができる。
【0037】また、本発明に係るワイヤボンディング方
法及びワイヤボンディング装置、半導体装置の製造方法
によれば、上記キャピラリを用いたので、上記と同様の
効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るキャピラリの形状を示す説明図。
【図2】本発明に係るキャピラリを用いたネイルヘッド
ボンディングにおいてワイヤをインナーリードに圧着す
る際のキャピラリの軸心を含む断面内における先端部の
拡大断面図。
【図3】ワイヤボンディング装置の構成を示す斜視図。
【図4】ネイルヘッドボンディングによるワイヤボンデ
ィングを行う際の様子を示す説明図。
【図5】ネイルヘッドボンディングに用いられていた従
来のキャピラリの形状を示す説明図。
【図6】従来のキャピラリを用いたネイルヘッドボンデ
ィングにおいてワイヤをインナーリードに圧着する際の
キャピラリの軸心を含む断面内における先端部の拡大断
面図。
【符号の説明】
1、10 キャピラリ 2、20 ワイヤ 5、50 インナーリード 30 半導体チップ 30a パッド 40 リードフレームのアイランド 60 ボンディングヘッド部 61 XYテーブル 62 ツールホルダ(USホーン) 63 クランパ 64 カメラ 70 ローダ部 80 フィーダ部 90 アンローダ部 A 第1の凸型曲面 B 第2の凸型曲面 C 凸型曲面 M、M’ ワイヤとインナーリードとの接続部

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体装置を構成するリードフレームのア
    イランド上にダイボンディングされた半導体チップのボ
    ンディングパッドと前記リードフレームのインナーリー
    ドとをワイヤにより電気的に接続するワイヤボンディン
    グに用いられるキャピラリにおいて、 軸心部に穿設された管状細穴に挿通され、先端部側から
    突出した前記ワイヤを圧着する先端部のうち、前記ワイ
    ヤを前記インナーリードに圧着して切断する際の切断部
    位より周縁部側の形状が、前記切断部位の周囲にリング
    状に形成された第1の凸型曲面又は傾斜面と、前記第1
    の凸型曲面又は傾斜面の周囲にリング状に形成された第
    2の凸型曲面又は傾斜面とから構成されていることを特
    徴とするキャピラリ。
  2. 【請求項2】請求項1に記載のキャピラリにおいて、前
    記第1の凸型曲面又は傾斜面の外周縁部と前記第2の凸
    型曲面又は傾斜面の内周縁部とが連続して形成されてい
    ることを特徴とするキャピラリ。
  3. 【請求項3】請求項2に記載のキャピラリにおいて、前
    記第2の凸型曲面又は傾斜面は前記第2の凸型曲面であ
    り、かつ、前記キャピラリの軸心を含む断面内における
    前記第2の凸型曲面の内周縁部の接線が、前記軸心に直
    交する平面に略平行となるものであることを特徴とする
    キャピラリ。
  4. 【請求項4】請求項2又は3のいずれかに記載のキャピ
    ラリにおいて、前記切断部位から前記第1の凸型曲面又
    は傾斜面の外周縁部までの前記軸心に平行な方向におけ
    る距離をL1、前記第2の凸型曲面又は傾斜面の内周縁
    部から前記第2の凸型曲面又は傾斜面の外周縁部までの
    前記軸心に平行な方向における距離をL2としたとき、
    前記L1は前記ワイヤの直径以下であり、かつ、前記L
    1と前記L2との和が前記ワイヤの直径以上であること
    を特徴とするキャピラリ。
  5. 【請求項5】請求項4に記載のキャピラリにおいて、前
    記L2は前記ワイヤの直径の10%より大きく50%以
    下であることを特徴とするキャピラリ。
  6. 【請求項6】半導体装置を構成するリードフレームのア
    イランド上にダイボンディングされた半導体チップのボ
    ンディングパッドと前記リードフレームのインナーリー
    ドとをワイヤにより電気的に接続するワイヤボンディン
    グに用いられるキャピラリにおいて、 軸心部に穿設された管状細穴に挿通され、先端部側から
    突出した前記ワイヤを圧着する先端部のうち、前記ワイ
    ヤを前記インナーリードに圧着して切断する際の切断部
    位より周縁部側に、曲率が異なる2段階の曲面が形成さ
    れたことを特徴とするキャピラリ。
  7. 【請求項7】半導体装置を構成するリードフレームのア
    イランド上にダイボンディングされた半導体チップのボ
    ンディングパッドと前記リードフレームのインナーリー
    ドとをワイヤにより電気的に接続するワイヤボンディン
    グに用いられるキャピラリであって、軸心部に穿設され
    た管状細穴に挿通され、先端部側から突出した前記ワイ
    ヤを圧着する先端部のうち、前記ワイヤを前記インナー
    リードに圧着して切断する際の切断部位より周縁部側の
    形状が、前記切断部位の周囲にリング状に形成された第
    1の凸型曲面又は傾斜面と、前記第1の凸型曲面又は傾
    斜面の周囲にリング状に形成された第2の凸型曲面又は
    傾斜面とから構成されたキャピラリに挿通され、前記先
    端部側から突出した前記ワイヤの先端にボールを形成す
    る工程と、 前記ボンディングパッド上に、前記キャピラリの前記先
    端部により前記ボールを圧着する工程と、 先端の前記ボールが前記ボンディングパッド上に圧着さ
    れた前記ワイヤが挿通された前記キャピラリを、前記リ
    ードフレームの所定のインナーリード上に移動させて、
    前記キャピラリの前記先端部近傍の前記ワイヤを前記所
    定のインナーリード上に圧着する工程と、 前記キャピラリを所定の位置まで上昇させた後、クラン
    パで前記ワイヤを挟持して引っ張り切断する工程とを備
    えたことを特徴とするワイヤボンディング方法。
  8. 【請求項8】請求項7に記載のワイヤボンディング方法
    において、前記第1の凸型曲面又は傾斜面の外周縁部と
    前記第2の凸型曲面又は傾斜面の内周縁部とが連続して
    形成されていることを特徴とするワイヤボンディング方
    法。
  9. 【請求項9】請求項8に記載のワイヤボンディング方法
    において、前記第2の凸型曲面又は傾斜面は前記第2の
    凸型曲面であり、かつ、前記キャピラリの軸心を含む断
    面内における前記第2の凸型曲面の内周縁部の接線が、
    前記軸心に直交する平面に略平行となるものであること
    を特徴とするワイヤボンディング方法。
  10. 【請求項10】請求項7又は8のいずれかに記載のワイ
    ヤボンディング方法において、前記切断部位から前記第
    1の凸型曲面又は傾斜面の外周縁部までの前記軸心に平
    行な方向における距離をL1、前記第2の凸型曲面又は
    傾斜面の内周縁部から前記第2の凸型曲面又は傾斜面の
    外周縁部までの前記軸心に平行な方向における距離をL
    2としたとき、前記L1は前記ワイヤの直径以下であ
    り、かつ、前記L1と前記L2との和が前記ワイヤの直
    径以上であることを特徴とするワイヤボンディング方
    法。
  11. 【請求項11】請求項10に記載のワイヤボンディング
    方法において、前記L2は前記ワイヤの直径の10%よ
    り大きく50%以下であることを特徴とするワイヤボン
    ディング方法。
  12. 【請求項12】半導体装置を構成するリードフレームの
    アイランド上にダイボンディングされた半導体チップの
    ボンディングパッドと前記リードフレームのインナーリ
    ードとが未接続の半導体装置を供給するローダ部と、 前記ボンディングパッドと前記インナーリードとが未接
    続の前記半導体装置及び前記ボンディングパッドと前記
    インナーリードとが接続済の半導体装置を搬送するフィ
    ーダ部と、 前記フィーダ部により搬送されてきた前記未接続の半導
    体装置の前記ボンディングパッドと前記インナーリード
    とをワイヤボンディングにより電気的に接続するボンデ
    ィングヘッド部と、 前記ボンディングヘッド部により前記ボンディングパッ
    ドと前記インナーリードとが電気的に接続され、前記フ
    ィーダ部により搬送されてきた前記接続済の半導体装置
    を収納するアンローダ部とを備えたワイヤボンディング
    装置において、 前記ボンディングパッドと前記インナーリードとをワイ
    ヤにより電気的に接続する前記ワイヤボンディングに用
    いられるキャピラリであって、軸心部に穿設された管状
    細穴に挿通され、先端部側から突出した前記ワイヤを圧
    着する先端部のうち、前記ワイヤを前記インナーリード
    に圧着して切断する際の切断部位より周縁部側の形状
    が、前記切断部位の周囲にリング状に形成された第1の
    凸型曲面又は傾斜面と、前記第1の凸型曲面又は傾斜面
    の周囲にリング状に形成された第2の凸型曲面又は傾斜
    面とから構成されたキャピラリが、前記ボンディングヘ
    ッド部に備えられたことを特徴とするワイヤボンディン
    グ装置。
  13. 【請求項13】請求項12に記載のワイヤボンディング
    装置において、前記第1の凸型曲面又は傾斜面の外周縁
    部と前記第2の凸型曲面又は傾斜面の内周縁部とが連続
    して形成されていることを特徴とするワイヤボンディン
    グ装置。
  14. 【請求項14】請求項13に記載のワイヤボンディング
    装置において、前記第2の凸型曲面又は傾斜面は前記第
    2の凸型曲面であり、かつ、前記キャピラリの軸心を含
    む断面内における前記第2の凸型曲面の内周縁部の接線
    が、前記軸心に直交する平面に略平行となるものである
    ことを特徴とするワイヤボンディング装置。
  15. 【請求項15】請求項13又は14のいずれかに記載の
    ワイヤボンディング装置において、前記切断部位から前
    記第1の凸型曲面又は傾斜面の外周縁部までの前記軸心
    に平行な方向における距離をL1、前記第2の凸型曲面
    又は傾斜面の内周縁部から前記第2の凸型曲面又は傾斜
    面の外周縁部までの前記軸心に平行な方向における距離
    をL2としたとき、前記L1は前記ワイヤの直径以下で
    あり、かつ、前記L1と前記L2との和が前記ワイヤの
    直径以上であることを特徴とするワイヤボンディング装
    置。
  16. 【請求項16】請求項15に記載のワイヤボンディング
    装置において、前記L2は前記ワイヤの直径の10%よ
    り大きく50%以下であることを特徴とするワイヤボン
    ディング装置。
  17. 【請求項17】半導体装置を構成するリードフレームの
    アイランド上にダイボンディングされた半導体チップの
    ボンディングパッドと前記リードフレームのインナーリ
    ードとをワイヤにより電気的に接続するワイヤボンディ
    ングに用いられるキャピラリであって、軸心部に穿設さ
    れた管状細穴に挿通され、先端部側から突出した前記ワ
    イヤを圧着する先端部のうち、前記ワイヤを前記インナ
    ーリードに圧着して切断する際の切断部位より周縁部側
    の形状が、前記切断部位の周囲にリング状に形成された
    第1の凸型曲面又は傾斜面と、前記第1の凸型曲面又は
    傾斜面の周囲にリング状に形成された第2の凸型曲面又
    は傾斜面とから構成されたキャピラリに挿通され、前記
    先端部側から突出した前記ワイヤの先端にボールを形成
    する過程と、 前記ボンディングパッド上に、前記キャピラリの前記先
    端部により前記ボールを圧着する過程と、 先端の前記ボールが前記ボンディングパッド上に圧着さ
    れた前記ワイヤが挿通された前記キャピラリを、前記リ
    ードフレームの所定のインナーリード上に移動させて、
    前記キャピラリの前記先端部近傍の前記ワイヤを前記所
    定のインナーリード上に圧着する過程と、 前記キャピラリを所定の位置まで上昇させた後、クラン
    パで前記ワイヤを挟持して引っ張り切断する過程とから
    なるワイヤボンディング工程を備えたことを特徴とする
    半導体装置の製造方法。
  18. 【請求項18】請求項17に記載の半導体装置の製造方
    法において、前記第1の凸型曲面又は傾斜面の外周縁部
    と前記第2の凸型曲面又は傾斜面の内周縁部とが連続し
    て形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  19. 【請求項19】請求項18に記載の半導体装置の製造方
    法において、前記第2の凸型曲面又は傾斜面は前記第2
    の凸型曲面であり、かつ、前記キャピラリの軸心を含む
    断面内における前記第2の凸型曲面の内周縁部の接線
    が、前記軸心に直交する平面に略平行となるものである
    ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  20. 【請求項20】請求項17又は18のいずれかに記載の
    半導体装置の製造方法において、前記切断部位から前記
    第1の凸型曲面又は傾斜面の外周縁部までの前記軸心に
    平行な方向における距離をL1、前記第2の凸型曲面又
    は傾斜面の内周縁部から前記第2の凸型曲面又は傾斜面
    の外周縁部までの前記軸心に平行な方向における距離を
    L2としたとき、前記L1は前記ワイヤの直径以下であ
    り、かつ、前記L1と前記L2との和が前記ワイヤの直
    径以上であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  21. 【請求項21】請求項20に記載の半導体装置の製造方
    法において、前記L2は前記ワイヤの直径の10%より
    大きく50%以下であることを特徴とする半導体装置の
    製造方法。
JP8190789A 1996-07-19 1996-07-19 キャピラリ及びワイヤボンディング方法 Pending JPH1041333A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8190789A JPH1041333A (ja) 1996-07-19 1996-07-19 キャピラリ及びワイヤボンディング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8190789A JPH1041333A (ja) 1996-07-19 1996-07-19 キャピラリ及びワイヤボンディング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1041333A true JPH1041333A (ja) 1998-02-13

Family

ID=16263773

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8190789A Pending JPH1041333A (ja) 1996-07-19 1996-07-19 キャピラリ及びワイヤボンディング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1041333A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009148450A1 (en) * 2008-06-05 2009-12-10 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Bonding tool with improved working face
CN111774752A (zh) * 2020-07-15 2020-10-16 荆州市弘晟光电科技有限公司 一种铜线焊接装置及其铜线焊接工艺
CN113926956A (zh) * 2021-09-15 2022-01-14 潮州三环(集团)股份有限公司 一种焊接劈刀和焊接设备

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009148450A1 (en) * 2008-06-05 2009-12-10 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Bonding tool with improved working face
CN111774752A (zh) * 2020-07-15 2020-10-16 荆州市弘晟光电科技有限公司 一种铜线焊接装置及其铜线焊接工艺
CN113926956A (zh) * 2021-09-15 2022-01-14 潮州三环(集团)股份有限公司 一种焊接劈刀和焊接设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3765778B2 (ja) ワイヤボンディング用キャピラリ及びこれを用いたワイヤボンディング方法
JP4860128B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JP2004221257A (ja) ワイヤボンディング方法及びワイヤボンディング装置
KR100749691B1 (ko) 와이어 본딩용 모세관
JP3762475B2 (ja) ワイヤボンディング方法及び半導体装置
US4911350A (en) Semiconductor bonding means having an improved capillary and method of using the same
JPH1041333A (ja) キャピラリ及びワイヤボンディング方法
JPH11354569A (ja) ワイヤボンディング方法および装置ならびに半導体装置の製造方法
JPH11186315A (ja) ワイヤボンディング装置及びそれを用いた半導体装置の製造方法
JPH0530058B2 (ja)
JP4132792B2 (ja) ワイヤボンディングに使用するキャピラリの構造
CN219925020U (zh) 键合劈刀
JP3202193B2 (ja) ワイヤボンディング方法
US20240290746A1 (en) Ball bonding for semiconductor devices
JPH11186316A (ja) ワイヤーボンディング装置および方法ならびにリードフレーム
JP3233194B2 (ja) ワイヤボンディング方法
JP2009054950A (ja) バンプ形成方法
JP2574531B2 (ja) バンプ電極の形成方法
JPH11251357A (ja) ワイヤボンディング方法および装置
JPH10199913A (ja) ワイヤボンディング方法
JPH03127844A (ja) ボンディング装置およびボンディング方法
JPH088308A (ja) ボンディング方法及び半導体装置
JP2000012598A (ja) キャピラリおよびそれを用いたワイヤボンディング方法ならびに装置および半導体装置の製造方法
JP2001007142A (ja) ワイヤボンディング用キャピラリおよび電子部品の接続方法
JPS61125029A (ja) ワイヤボンダのキヤピラリ