JPH1036893A - 洗浄剤組成物およびその再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ロジン系フラックスおよび鉱物系加工油を除
去するのに適した洗浄剤組成物で、１）フロン系または
塩素系溶剤などのハロゲン化炭化水素系溶剤を使用せ
ず、２）沸点範囲が狭く蒸留回収性に優れ、３）不快な
臭気を持たず、４）安価で大量に製造可能な洗浄剤を提
供すること。 【解決手段】 （ａ）臭いの少ない炭化水素として炭素
数９〜１５のノルマルパラフィンの実質的に１種又は炭
素数が１異なる前記炭化水素の実質的に２種の混合物を
用い、これに（ｂ）前記炭化水素系溶剤の常圧換算５０
％留出温度±１０℃の沸点を有する１種又は２種以上の
テルペン系溶剤を配合した洗浄剤。さらに、酸化防止剤
と組合わせることにより、長期に渡って安定に使用でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電気部品、電子部
品、機械部品などの加工、組立工程に使用される機械
油、ワックス、グリース、フラックスなどの洗浄性に優
れ、かつ蒸留再生性に優れた洗浄剤組成物に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】従来、精密機械部品、電気・電子部品
は、はんだ付け後に付着残存するハンダフラックス、と
りわけロジン系フラックスを除去するため、また、機械
部品に対しては、金属加工時に使用した加工油などを除
去するため、フロン１１３、１,１,１−トリクロロエタ
ン、塩化メチレン、トリクロロエチレン等のハロゲン化
炭化水素系溶剤が用いられてきた。しかしながら、これ
らハロゲン化炭化水素系溶剤、とりわけフロン１１３、
１,１,１−トリクロロエタンは、オゾン層の破壊の問題
から、使用が制限或は禁止されるものである。このた
め、これらに代替し得る洗浄剤の開発が進められてき
た。

【０００３】主な代替洗浄剤としては、水系洗浄剤、有
機溶剤を用いた溶剤系洗浄剤等があり、有機溶剤系では
オゾン破壊係数が低いフッ素系炭化水素や、炭化水素系
の溶剤を主成分としたものが用いられる。

【０００４】水系洗浄剤は、安全性が高く、フラックス
などの極性物質に対して高い洗浄力を有する。しかし、
金属表面において錆が発生しやすく、また、金属加工
油、グリースなどに対する脱脂力が不足することがあっ
た。金属加工油、グリース等に対する洗浄性を向上させ
るため、水にノニオン系界面活性剤及び３−メトキシ−
３−メチル−１−ブタノールを添加した洗浄剤が特開平
７−１０９４９３号公報に記載されている。しかし、被
洗浄物の錆発生防止に気を配る必要があることには変り
はない。

【０００５】有機溶剤系洗浄剤の中でも、フッ素系炭化
水素有機溶剤を用いた代替洗浄剤は多くの開示があり、
例えば特開昭６４−１５２２００号公報には１，１−ジ
クロロ−２，２，２−トリフルオロエタン及びアルコー
ルの混合溶液に、ニトロメタン、１，２，３−ベンゾト
リアゾール等を添加した洗浄剤が記載されている。ま
た、特開平３−２８５９９７号公報には炭化水素系溶
剤、特定フロンを除くフッ素系溶剤、テルペノイド溶
剤、アルコール系溶剤等からなる油洗浄性に優れた洗浄
組成物が記載されている。特定フロンを除くフッ素系溶
剤は、オゾン破壊係数が限りなくゼロに近いものが使用
されており、例えばＨＦＣ−１３４ａ、ＨＦＣ−１５２
ａ等である。

【０００６】炭化水素溶剤を用いた洗浄剤についても種
々の開示があり、例えば、特開平３−１４６５９７号公
報、特開平７−５０３０３２号公報には、炭化水素溶剤
にアルコール、エーテル、ケトン等の極性物質を添加し
フラックス除去性、部品洗浄性を向上させた洗浄剤が記
載されている。また、環状テルペン、イソパラフィン及
びナフテン系溶剤を組合わせ、主に光学部品用に用いる
洗浄剤が特開平６−３３６５９９号公報に開示されてい
る。このようなアルコールなどの極性溶剤を炭化水素系
溶剤に加えた洗浄剤は、フラックスと金属加工油の両方
の汚れに対する洗浄性を満足するものが多い。

【０００７】上記のような溶剤系洗浄剤は、コスト削減
及び環境への影響を軽減するため、通常蒸留回収して繰
り返し使用する。蒸留回収時に組成変化があると、洗浄
性能に影響するため、蒸留回収しても組成変化の少ない
洗浄剤を用いる必要がある。また、この蒸留回収時や洗
浄時に極性物質が分解或いは酸化され、洗浄剤が劣化し
たり爆発性の過酸化物が生成することがある。これを防
止するため、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレ
ゾール（ＢＨＴ）等の酸化防止剤を添加した例が、特開
平７−２６８３９１号公報に開示されている。

【０００８】しかし、通常容易に入手可能な炭化水素溶
剤は、特定の沸点範囲の石油留分を蒸留分離したもの
や、芳香族炭化水素留分を水素化したナフテン系溶剤で
ある。このため、沸点範囲が比較的広く、蒸留回収する
ことによって組成が変化することがあった。また、この
ような炭化水素溶剤は、いわゆる石油臭が強いものが多
い。一方、アルコールなどの極性溶剤も不快臭を有する
ものがあり、これらの両者が混合された場合、不快臭が
助長されることがある。

【０００９】炭化水素系溶剤の石油臭を軽減する方法と
して、香料として一般的に使用され、しかも洗浄剤とし
ても使用可能なテルペン化合物を配合することが挙げら
れる。このような洗浄剤として、前述の環状テルペン、
イソパラフィン及びナフテン系溶剤を組合わせた、特開
平６−３３６５９９号公報に開示された洗浄剤がある
が、軽減効果は不十分なことが多い。

【００１０】臭気が少なく、沸点範囲が狭い炭化水素溶
剤として、合成により得られたｉ−パラフィン溶剤があ
る。しかし、比較的容易に入手可能な合成ｉ−パラフィ
ン溶剤であって、洗浄剤に適する沸点範囲ものは、合成
上の制約から炭素数１２（沸点範囲１８９〜２０２℃）
に限定されてしまう。このため、臭気が良好なテルペン
系溶剤と組合わせ、しかも蒸留回収性を確保するために
５０％留出温度の常圧換算の沸点差が±１０℃以内の洗
浄剤を製造しようとすると、使用可能なテルペン系溶剤
としては、リナロールオキサイド、フェンコン、α−シ
クロシトラール、オシメノール、テトラヒドロリナロー
ル、リナロール、テトラヒドロムゴール、イソプレゴー
ル、ジヒドロリナロール、イソジヒドロラバンジュロー
ル、β−シクロシトラール、ギ酸リナリル等以外にな
く、安価に、大量に、しかも蒸留回収性を満足する洗浄
剤を得ることは難しかった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ロジン系フ
ラックスおよび鉱物系加工油を除去するのに適した洗浄
剤組成物で、１）フロン系または塩素系溶剤などのハロ
ゲン化炭化水素系溶剤を使用せず、２）沸点範囲が狭く
蒸留回収性に優れ、３）不快な臭気を持たず、４）安価
で大量に製造可能な洗浄剤を提供することを課題とす
る。

【００１２】

【問題を解するための手段】本発明者等は、（ａ）臭い
の少ない炭化水素として炭素数９〜１５のノルマルパラ
フィンの実質的に１種又は炭素数が１異なる前記炭化水
素の実質的に２種の混合物を用い、これに（ｂ）前記炭
化水素系溶剤の常圧換算５０％留出温度±１０℃の沸点
を有する１種又は２種以上のテルペン系溶剤を配合する
ことで前記課題を解決できる洗浄剤組成物を得ることが
できた。

【００１３】すなわち、ノルマルパラフィンを用いるこ
とで、炭素数９〜１５の任意の溶剤（沸点：ｎ−ノナン
１５０．８℃、ｎ−デカン１７４．１℃、ｎ−ウンデ
カン１９５．６℃、ｎ−ドデカン ２１６．３℃、ｎ−
トリデカン ２３４℃、ｎ−テトラデカン ２５２〜２
５５℃、ｎ−ペンタデカン２７０．５℃）を比較的容易
に選択可能になる。これにより、炭化水素溶剤であるノ
ルマルパラフィンと組合わせるテルペン溶剤の制限が大
幅に緩和され、安価で大量に入手可能なものを使用でき
ることになる。

【００１４】さらに、洗浄剤に安定性を付与するため
に、必要に応じてフェノール系及び／又はアミン系酸化
防止剤を１０〜１０００ｐｐｍ、より安定性を向上させ
る場合は、さらにリン系及び／又はイオウ系酸化防止剤
を１０〜１０００ｐｐｍ洗浄剤に配合する。これによ
り、高温での使用や長期間に渡る使用に耐えられる洗浄
剤とすることができ、本発明を完成させた。

【００１５】ｎ−パラフィンは、常圧換算沸点が１５０
℃以上の洗浄用として適する炭素数９〜１５のものが比
較的容易に入手可能である。本発明で使用できる炭化水
素系溶剤は、炭素数が実質的に１種の単一溶剤、あるい
は炭素数が１異なる実質的に２種の混合物を使用する。
炭素数は、９〜１５、好ましくは１０〜１３であること
が必要である。炭素数８以下の場合は、引火の危険性が
高く安全上の問題があり、炭素数１６以上の場合は、乾
燥性が悪くなるだけでなく、蒸留回収時に汚れ成分との
分離が困難となる。

【００１６】次に、本発明に用いられるテルペン系溶剤
は、その沸点が上記ノルマルパラフィン系溶剤の５０％
留出温度±１０℃に納まるものを選択して使用する。ま
た、これらのテルペン系溶剤は、単独または２種以上組
み合わせて使用することができる。また、テルペン系溶
剤の添加量については、かなり広範囲に変えることが可
能であるが、経済性等を考慮すると、概ね５％〜５０％
が好ましい。次に、各ノルマルパラフィン系溶剤に対応
したテルペン系溶剤の具体例示す。

【００１７】ｎ−ノナンに対しては、α−ピネン、カン
フェン等を混合して使用でき、ｎ−デカンに対しては、
ピナン、ミルセン、ジヒドロミルセン、ｐ−メンタン、
３−カレン、ｐ−メンタジエン、α−テルピネン、β−
テルピネン、α−フェランドレン、オシメン、リモネ
ン、ｐ−サイメン、γ−テルピネン、テルピノーレン、
１,４−シネオール、１,８−シネオール、ロ−ズオキサ
イド等を混合して使用できる。

【００１８】ｎ−ウンデカンに対しては、リナロールオ
キサイド、フェンコン、α−シクロシトラール、オシメ
ノール、テトラヒドロリナロール、リナロール、テトラ
ヒドロムゴール、イソプレゴール、ジヒドロリナロー
ル、イソジヒドロラバンジュロール、β−シクロシトラ
ール、シトロネラール、Ｌ−メントン、ギ酸リナリル等
を混合して使用できる。

【００１９】ｎ−ドデカンに対しては、ジヒドロテルピ
ネオール、β−テルピネオール、メントール、ミルセノ
ール、Ｌ−メントール、ピノカルベオール、α−テルピ
ネオール、γ−テルピネオール、ノポール、ミルテノー
ル、ジヒドロカルベオール、シトロネロール、ミルテナ
ール、ジヒドロカルボン、ｄ−プレゴン、ゲラニルエチ
ルエーテル、ギ酸ゲラニル、ギ酸ネリル、ギ酸テルピニ
ル、酢酸イソジヒドロラバンジュリル、酢酸テルピニ
ル、酢酸リナリル、酢酸ミルセニル、酢酸ボルニル、プ
ロピオン酸メンチル、プロピオン酸リナリル等を混合し
て使用できる。

【００２０】ｎ−トリデカンに対しては、ネロール、カ
ルベオール、ペリラアルコール、ゲラニオール、サフラ
ナール、シトラール、ペリラアルデヒド、シトロネリル
オキシアセトアルデヒド、ヒドロキシシトロネラール、
ベルベノン、ｄ−カルボン、Ｌ−カルボン、ピペリト
ン、ピペリテノン、ギ酸シトロネリル、酢酸イソボルニ
ル、酢酸メンチル、酢酸シトロネリル、酢酸カルビル、
酢酸ジメチルオクタニル、酢酸ネリル、酢酸イソプレゴ
ール、酢酸ジヒドロカルビル、酢酸ノピル、酢酸ゲラニ
ル、プロピオン酸ボルニル、プロピオン酸ネリル、プロ
ピオン酸カルビル、プロピオン酸テルピニル、プロピオ
ン酸シトロネリル、プロピオン酸イソボルニル、イソ酪
酸リナリル、イソ酪酸ネリル、酪酸リナリル、酪酸ネリ
ル、イソ酪酸テルピニル、酪酸テルピニル、イソ酪酸ゲ
ラニル、酪酸シトロネリル、ヘキサン酸シトロネリル、
イソ吉草酸メンチル等を混合して使用できる。

【００２１】ｎ−テトラデカンに対しては、β−カリオ
フィレン、セドレン、ビサボレン、ヒドロキシシトロネ
ロール、ファルネソール、イソ酪酸ロジニル等を混合し
て使用でき、ｎ−ペンタデカンに対しては、セドレン、
ビサボレン、カジネン、ヒドロキシシトロネロール、フ
ァルネソール、ベチベロール、αービサボロール、セド
レノール、ネロリドール、オキソセドラン、酪酸ロジニ
ル、オクタン酸リナリル、チグリン酸シトロネリル、チ
グリン酸ゲラニル等を混合して使用できる。

【００２２】炭素数が１異なる実質的に２種のノルマル
パラフィンを混合した炭化水素溶剤に対しても、上述し
たテルペン系溶剤を用いることができる。さらにこれに
加えて、ｎ−ノナンとｎ−デカンを混合した炭化水素溶
剤を用いると、沸点がｎ−ノナンとｎ−デカンのほぼ中
間に位置するβ−ピネンも使用することが可能となる。

【００２３】テルペン系溶剤は、フラックス洗浄性を確
保するため、極性基を有するものを１種類以上含むこと
が好ましい。テルペン系溶剤のうち、炭化水素系溶媒の
みを添加する場合は、二重結合を有するものを１０〜７
０％、好ましくは１０〜５０％程度配合する。さもない
と、フラックス洗浄性が低下する場合がある。ただし、
加工油の洗浄を主目的にするのであれば、二重結合を含
まないパラメンタン等のテルペン系炭化水素溶剤を用い
てもなんら問題はない。

【００２４】上記のテルペン系溶剤の中でも、比較的に
安価で大量に入手できるものは、α−テルピネオール
（沸点；２１９℃）、ｐ−メンタジエン（沸点；１６８
〜１８３℃）等であり、それぞれｎ−ドデカン、ｎ−デ
カンと組合わせて本発明の洗浄剤とすることができる。

【００２５】さらに、本発明洗浄剤は、高温下における
洗浄や蒸留再生時における酸化劣化を防ぐために、フェ
ノール系及び／又はアミン系酸化防止剤を１０〜１００
０ｐｐｍ、より好ましくは１００〜１０００ｐｐｍ加え
て使用することができる。使用条件がより高温である場
合には、上記の酸化防止剤に加えて、リン系及び／又は
イオウ系酸化防止剤を併用すると有効である。添加量
は、使用温度条件により異なるが、同じく１０〜１００
０ｐｐｍ、より好ましくは、１００〜１０００ｐｐｍで
ある。ただし、リン系及び／又はイオウ系酸化防止剤
は、フェノール系及び／又はアミン系酸化防止剤と併用
する必要がある。さもないと、酸化防止効果が低下する
ことがある。また、いずれの酸化防止剤も、溶剤に悪影
響を与えず、被洗浄物表面で乾燥後に、シミなどの影響
を与えないものを選択して使用する。

【００２６】酸化防止剤は、洗浄剤の使用により徐々に
消耗する。このため、長時間使用する場合は、定期的に
補充するのが望ましい。さらに、蒸留回収時には大部分
が蒸留残渣部に留る。このため、回収した洗浄液には、
新たに所定量の酸化防止剤を添加する必要がある。

【００２７】このようなフェノール系酸化防止剤として
は、例えば、２,６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ブチ
ルヒドロキシアニソール、２,６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ
−クレゾール、２,６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフ
ェノール、２,４−ジチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル、２,６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフ
ェノールなどが挙げられる。アミン系酸化防止剤として
は、例えば、ジフェニル−ｐ−フェニレン−ジアミン、
４−アミノ−ｐ−ジフェニールアミン、Ｐ，Ｐ’−ジオ
クチルジフェニルアミンなどが挙げられる。

【００２８】また、リン系酸化防止剤としては、例え
ば、フェニルジイソデシルホスファイト、ジフェニルジ
イソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニル
フェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどが
挙げられる。

【００２９】イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジ
ラウリル−３,３'−チオジプロピオン酸エステル、ジト
リデシル−３,３'−チオジプロピオン酸エステル、ジミ
リスチル−３,３'−チオジプロピオン酸エステル、ジス
テアリル−３,３'−チオジプロピオン酸エステルなどが
挙げることができる。

【００３０】繰り返し使用して、フラックスや金属加工
油などで汚れた洗浄剤は、蒸留によって再生するが、汚
れ成分の混入を防ぐため、洗浄剤の５０％留出温度±２
５℃以内で行うとよい。しかし、汚れ成分の沸点が洗浄
剤の５０％留出温度に近い場合は、±１５℃、特には±
１０℃以内で行うことが好ましい。ｎ−パラフィンが実
質的に単一種であって、テルペン系溶剤の沸点がｎ−パ
ラフィンのそれに近い場合は、±７℃、特には±５℃で
蒸留回収することが可能であり、理想的にはこのような
洗浄剤を用いるのが望ましい。

【００３１】さらに、本発明の洗浄剤は蒸留回収による
組成変化が極めて少ないため、不純物の混入を防ぐ目的
で留分の一部を除去する方法も採用できる。具体的に
は、低沸点側の０〜３％或いは０〜５％留出部分を除く
方法や、洗浄剤に含まれる低沸点成分の常圧換算沸点−
３℃、好ましくは−１℃以下の留出分を除く方法によっ
ても不純物の混入を防止できる。一方、高沸点側の９７
〜１００％或いは９５〜１００％留出部分を除く方法
や、洗浄剤に含まれる高沸点成分の常圧換算沸点＋３
℃、好ましくは＋１℃以上の留出分を除く方法によって
も不純物の混入を防止できる。このような除去を行なっ
ても組成変化が殆ど無いため、洗浄性の変化も極めて少
ないことは言うまでもない。

【００３２】また添加剤として電気電子部品、機械部品
などの金属表面の防錆剤を添加することもでき、含窒素
有機添加剤、エポキシ化合物等を添加することができ
る。含窒素有機添加剤としてはベンゾトリアゾール、ト
リルトリアゾール、炭素数２〜１０の炭化水素基を有す
るベンゾトリアゾール誘導体、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチ
ルヘキシル）−４−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール
−２−メチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシ
ル）−５−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−メ
チルアミン、ベンゾイミダゾール、炭素数２〜２０の炭
化水素基を有するイミダゾール誘導体、炭素数２〜２０
の炭化水素基を有するチアゾール誘導体等が使用でき
る。一方エポキシ化合物としては、プロピレンオキサイ
ド、１，２−エポキシブタン、１，２−エポキシオクタ
ン、１，６−ヘキサンジオールグリシジルエーテル、炭
素数３〜１５のグリシジルエーテル類が使用できる。こ
れら含窒素有機添加剤、エポキシ化合物から選ばれる１
種あるいは２種以上を０．１％程度、洗浄剤に添加して
用いることができる。

【００３３】さらに添加剤として電気電子部品、機械部
品などの表面から付着した水を分離するため、界面活性
剤を添加することもできる。界面活性剤としては、アニ
オン性、カチオン性、両イオン性界面活性剤等のいずれ
も使用することができるが、洗浄面への影響が少ないと
いう点で非イオン性界面活性剤が最も好ましい。例えば
ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシア
ルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアル
キレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン
アリルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキル
アミン、これらポリオキシアルキレン類、ソルビタン脂
肪酸エステル等が好適に使用できる。

【００３４】本発明洗浄剤を用いてロジン系フラックス
および金属加工油を洗浄するには、室温から約１００
℃、好ましくは約３０〜７０℃に加温した洗浄剤中に被
洗浄物を浸漬し、所見により超音波、撹拌、揺動、空気
撹拌、液流動を併用するか、あるいはスプレー、ふきと
り等により洗浄してもよい。

【００３５】洗浄後、被洗浄物を引き上げてそのまま乾
燥するか、あるいは再度本発明洗浄剤、またはパーフル
オロカーボン等のハロゲン化炭化水素系溶剤、または低
級アルコールなどで洗浄してから乾燥してもよい。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて更に詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００３７】蒸留回収試験 （試験方法） 洗浄後の洗浄液を模擬して、洗浄剤の新液と金属加工油
を９７：３の割合で混合した汚染液を用意して、ＪＩＳ
−Ｋ２２５４に定められた常圧蒸留試験機を用いて、０
〜１０％、１０〜５０％、５０〜９０％、９０〜９５％
の各留分を回収した。この各留分をガスクロマトグラフ
ィーによって分析し、炭化水素系溶剤、テルペン系溶
剤、加工油の各含有量を測定し、組成の変化を比較し
た。また、蒸留回収液を用いて、臭気およびフラックス
洗浄性を調べた。まず、ＩＣチップを装着したプリント
配線板にフラックスを塗布・加熱処理（２００℃、３０
秒）し、さらにハンダ付けを行ったものをテストピース
とした。このテストピースを３０℃に保った洗浄液に浸
漬し、５分間洗浄した後、プリント配線板からのフラッ
クスの除去性を目視で評価した。最後に、各留出液の臭
いの強弱や不快さについて調べた。 （１）フラックス洗浄力評価基準 ○：フラックスがほとんど残っていない。 △：フラックスが僅かに残っている。 ×：フラックスがかなり残っている。 （２）臭気評価基準 ○：不快臭なし ×：不快臭あり

【００３８】（実施例１）沸点１７５℃であるｎ-デカ
ンが８０％、沸点１７４℃であるα−テルピネンが２０
％から成る洗浄剤を用い、上記の方法に従って蒸留試験
と性能試験を行った。試験結果を表１に示すが、全ての
留出液中に加工油は含まれておらず、洗浄剤の組成も変
化していなかった。そのため、フラックス洗浄力に変化
は見られなかった。また、α−テルピネンのレモン様香
気のため、いずれの留出液に対しても不快さを感じなか
った。

【００３９】

【表１】

【００４０】（実施例２）沸点１９６℃のｎ−ウンデカ
ンが８０％、沸点１９６℃のオシメノールを２０％にし
た以外は、実施例１と同様にして試験した。試験結果を
表２に示すが、実施例１と同様に、洗浄剤組成およびフ
ラックス洗浄力に変化は見られず、オシメノールに由来
したフローラル香気のため不快さを感じなかった。

【００４１】

【表２】

【００４２】（実施例３）沸点２１６℃のｎ−ドデカン
が８０％、沸点２１９℃のα−テルピネオールが２０％
から成る洗浄剤を用い、前記の方法に従って蒸留試験と
性能試験を行った。結果を表３に示すが、すべての留出
液中に加工油は含まれていなかった。また、洗浄剤の組
成が変化していなかったため、フラックス洗浄力に変化
は見られなかった。また、α−テルピネオールに由来し
たライラック様香気のため不快さを感じなかった。

【００４３】

【表３】

【００４４】（実施例４）実施例３のα−テルピネオー
ルをミルテナール（沸点２２０℃）に変えた以外は、実
施例３と同様にして試験した。結果を表４に示すが、す
べての留出液中に加工油は含まれていなかった。また、
洗浄剤の組成が変化していなかったため、フラックス洗
浄力に変化は見られなかった。また、ミルテナールに由
来したハーバル香のため不快さを感じなかった。

【００４５】

【表４】

【００４６】（実施例５）沸点２３６℃のｎ−トリデカ
ンが８０％、沸点２３４℃の酢酸ノピルが２０％から成
る洗浄剤を用い、前記の方法に従って蒸留試験と性能試
験を行った。結果を表５に示すが、すべての留出液中に
加工油は含まれていなかった。また、洗浄剤の組成が変
化していなかったため、フラックス洗浄力に変化は見ら
れなかった。また、酢酸ノピルに由来したフルーツ香の
ため不快さを感じなかった。

【００４７】

【表５】

【００４８】（実施例６）実施例５の酢酸ノピルをＬ−
カルボン（沸点２３１℃）に変えた以外は、実施例５と
同様にして試験した。結果を表６に示すが、すべての留
出液中に加工油は含まれていなかった。また、洗浄剤の
組成が変化していなかったため、フラックス洗浄力に変
化は見られなかった。また、Ｌ−カルボンに由来した甘
みのあるハーバル香のため不快さを感じなかった。

【００４９】

【表６】

【００５０】（比較例１）実施例３のα−テルピネオー
ルをｎ−ドデシルアルコール（沸点２５９℃）に変えた
以外は、実施例３と同様にして試験した。結果を表７に
示すが、すべての留分の組成が大きく変化している。と
りわけ、０〜１０％、および１０〜５０％留分において
は、ｎ−ドデシルアルコールの含有量が減少しているた
め、フラックス洗浄力の低下を招いた。また、９０〜９
５％留分には加工油が混入していた。さらに、ｎ−ドデ
シルアルコールに由来する不快臭があった。

【００５１】

【表７】

【００５２】（比較例２）実施例３のｎ−ドデカンを沸
点範囲１９７〜２０２℃の合成イソパラフィン系溶剤と
した以外は、実施例３と同様にして試験した。結果を表
８に示すが、すべての留分の組成が少し変化しており、
α−テルピネオールが少ない０〜１０、および１０〜５
０％留分のフラックス洗浄性がわずかに低下した。この
ように炭素数１２の合成イソパラフィン系溶剤では、安
価に入手可能なα−テルピネオールと組合わて蒸留回収
しながら繰返し使用する場合、成分調製が必要不可欠で
あることが分かる。

【００５３】

【表８】

【００５４】（比較例３）実施例３のｎ−ドデカンを沸
点範囲２０９〜２４５℃のナフテン系溶剤とした以外
は、実施例３と同様にして試験した。結果を表９に示す
が、すべての留分の組成が変化しており、α−テルピネ
オールが少ない０〜１０％、および１０〜５０％留分の
フラックス洗浄性が低下した。さらに、ナフテン系溶剤
に由来した不快臭があり、また、９０〜９５％留分には
加工油が混入していた。

【００５５】

【表９】

【００５６】酸化防止剤の効果確認試験 （実施例７〜１０）還流冷却器を取り付けた１００ｍｌ
のナスフラスコに、表１０に示すそれぞれの洗浄剤組成
物（実施例７〜１０）１００ｍｌと表面研磨された銅板
１枚を入れ、空気雰囲気中で１３０℃のオイルバスで加
熱した。５時間経過後、ナスフラスコから取り出した銅
板表面の腐食状態について目視観察した。

【００５７】

【表１０】

【００５８】

【発明の効果】本発明洗浄剤を用いると安価かつ大量に
供給可能で、蒸留再生性に優れ、さらに不快な臭気を有
しない洗浄剤を製造可能である。また、酸化防止剤と組
合わせることで、長期に渡って安定に使用可能である。
これにより、環境問題を起こしやすいハロゲン系溶剤を
使用することなく、被洗浄物上のロジン系フラックスお
よび金属加工油などを有効に除去することができる。ま
た、洗浄作業が容易な作業環境とすることができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）炭素数９〜１５のノルマルパラフ
   ィンの実質的に１種又は炭素数が１異なる前記炭化水素
   の実質的に２種の混合物からなる炭化水素系溶剤と、
   （ｂ）前記炭化水素系溶剤の常圧換算５０％留出温度±
   １０℃の沸点を有する１種又は２種以上のテルペン系溶
   剤、の両方を含むことを特徴とする洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の洗浄剤に、フェノール
   系及び／又はアミン系酸化防止剤を１０〜１０００ｐｐ
   ｍ配合した洗浄剤組成物。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の洗浄剤に、リン系及び
   ／又はイオウ系酸化防止剤を１０〜１０００ｐｐｍ配合
   した洗浄剤組成物。
4. 【請求項４】 請求項１〜３に記載のいずれか一つの洗
   浄剤を、洗浄剤の常圧換算５０％留出温度の±２５℃以
   内で蒸留再生することを特徴とする洗浄剤の蒸留再生方
   法。