JPH1036127A - 光学素子用成形型、及び、その製造方法 - Google Patents
光学素子用成形型、及び、その製造方法Info
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- JPH1036127A JPH1036127A JP8192026A JP19202696A JPH1036127A JP H1036127 A JPH1036127 A JP H1036127A JP 8192026 A JP8192026 A JP 8192026A JP 19202696 A JP19202696 A JP 19202696A JP H1036127 A JPH1036127 A JP H1036127A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】離型性に優れ、しかも、表面粗れが抑止される
光学素子用成形型、及び、その製造方法を提供する。 【解決手段】タングステンカーバイド（ＷＣ）を主体と
した型母材１と、型母材１上に設けられた中間層２と、
中間層２上に設けられた表面層３とを備える。中間層２
は、型母材１と表面層３との間に生じる拡散を防止する
拡散防止層である。表面層３は、純度９９．９重量パー
セント以上の純白金（Ｐｔ）で形成されている。
光学素子用成形型、及び、その製造方法を提供する。 【解決手段】タングステンカーバイド（ＷＣ）を主体と
した型母材１と、型母材１上に設けられた中間層２と、
中間層２上に設けられた表面層３とを備える。中間層２
は、型母材１と表面層３との間に生じる拡散を防止する
拡散防止層である。表面層３は、純度９９．９重量パー
セント以上の純白金（Ｐｔ）で形成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子の成形
型、及び、その製造方法に関し、特に、後工程に光学素
子の研削・研磨を必要としない高精度のプレス成形に用
いられる光学素子用成形型、及び、その製造方法に関す
る。
型、及び、その製造方法に関し、特に、後工程に光学素
子の研削・研磨を必要としない高精度のプレス成形に用
いられる光学素子用成形型、及び、その製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、光学機器の分野では、機器構成の
簡略化、軽量化などを達成し得る非球面レンズの需要が
増加する傾向にある。非球面レンズの素材には、例えば
ガラスが用いられるが、一般的なガラスレンズは、従
来、研磨法によって製造されていた。しかし、非球面レ
ンズについては、複雑な形状を有しており、研磨法によ
る量産化は困難である。そこで最近では、研磨法に代わ
る製造方法として、後工程に光学素子の研削・研磨を必
要としない高精度のプレス成形の研究が盛んに行われて
いる。
簡略化、軽量化などを達成し得る非球面レンズの需要が
増加する傾向にある。非球面レンズの素材には、例えば
ガラスが用いられるが、一般的なガラスレンズは、従
来、研磨法によって製造されていた。しかし、非球面レ
ンズについては、複雑な形状を有しており、研磨法によ
る量産化は困難である。そこで最近では、研磨法に代わ
る製造方法として、後工程に光学素子の研削・研磨を必
要としない高精度のプレス成形の研究が盛んに行われて
いる。
【０００３】このプレス成形では、ガラス及び成形型が
数百度まで加熱されるのが普通である。したがって、使
用する成形型には、加工性の他に高温強度、耐熱衝撃
性、化学的安定性などが要求される。これらを満足する
ため、現在では、タングステンカーバイドや各種サ−メ
ットを母材とし、その上にガラスとの化学的反応の少な
い貴金属薄膜を形成した成形型が一般的に使用されてい
る。
数百度まで加熱されるのが普通である。したがって、使
用する成形型には、加工性の他に高温強度、耐熱衝撃
性、化学的安定性などが要求される。これらを満足する
ため、現在では、タングステンカーバイドや各種サ−メ
ットを母材とし、その上にガラスとの化学的反応の少な
い貴金属薄膜を形成した成形型が一般的に使用されてい
る。
【０００４】しかしながら、この成形型は、加熱・成形
を重ねることで成形面の表面粗さが著しく悪化し、更
に、型とガラスとが化学的に反応することで成形面上に
ガラスが付着するなどの問題がある。
を重ねることで成形面の表面粗さが著しく悪化し、更
に、型とガラスとが化学的に反応することで成形面上に
ガラスが付着するなどの問題がある。
【０００５】このような問題を解決する手法は、例えば
特公昭６２−２８０９３号公報に記載されている。ここ
では、金属とセラミックスからなる複合材を母材として
その母材上に窒化物、炭化物、酸化物および金属の中か
ら選ばれた一種以上の中間層を介して貴金属層を被覆
し、この貴金属層として、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒ
ｕからなる群より選ばれた少なくとも一つの元素とＰｔ
（６０〜９９重量％）との貴金属合金を用いている。
特公昭６２−２８０９３号公報に記載されている。ここ
では、金属とセラミックスからなる複合材を母材として
その母材上に窒化物、炭化物、酸化物および金属の中か
ら選ばれた一種以上の中間層を介して貴金属層を被覆
し、この貴金属層として、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒ
ｕからなる群より選ばれた少なくとも一つの元素とＰｔ
（６０〜９９重量％）との貴金属合金を用いている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た特公昭６２−２８０９３号公報の成形型は、高温強
度、耐熱衝撃性などの点で優れているものの、最表面に
形成される薄膜の離型性にやはり問題があり、加熱と成
形を繰り返すうちに型とガラスとが化学的に反応し、成
形面上にガラスが付着してしまう。ガラスが付着した成
形型は、当然使用不可能となる。
た特公昭６２−２８０９３号公報の成形型は、高温強
度、耐熱衝撃性などの点で優れているものの、最表面に
形成される薄膜の離型性にやはり問題があり、加熱と成
形を繰り返すうちに型とガラスとが化学的に反応し、成
形面上にガラスが付着してしまう。ガラスが付着した成
形型は、当然使用不可能となる。
【０００７】このような問題点に鑑み、本発明の目的
は、離型性に優れ、成形面の劣化が抑止される光学素子
用成形型、及び、その製造方法を提供することにある。
は、離型性に優れ、成形面の劣化が抑止される光学素子
用成形型、及び、その製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めの本発明の一態様によれば、タングステンカーバイド
（ＷＣ）を主体とした型母材と、前記型母材上に設けら
れた中間層と、前記中間層上に設けられた表面層とを備
えた光学素子用成形型において、前記中間層は、前記型
母材と前記表面層との間に生じる拡散を防止する拡散防
止層であり、前記表面層は、純度９９．９重量パーセン
ト以上の純白金（Ｐｔ）で形成されている光学素子用成
形型が提供される。
めの本発明の一態様によれば、タングステンカーバイド
（ＷＣ）を主体とした型母材と、前記型母材上に設けら
れた中間層と、前記中間層上に設けられた表面層とを備
えた光学素子用成形型において、前記中間層は、前記型
母材と前記表面層との間に生じる拡散を防止する拡散防
止層であり、前記表面層は、純度９９．９重量パーセン
ト以上の純白金（Ｐｔ）で形成されている光学素子用成
形型が提供される。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光学素子用成
形型の一実施形態について図面を用いて説明する。図１
は、本実施形態の成形型の断面図である。この成形型
は、成形時には２つ用意され、これらは、成形素材を挾
むように重ね合わされて用いられる。ここでは、成形素
材としてガラスを用いることとする。
形型の一実施形態について図面を用いて説明する。図１
は、本実施形態の成形型の断面図である。この成形型
は、成形時には２つ用意され、これらは、成形素材を挾
むように重ね合わされて用いられる。ここでは、成形素
材としてガラスを用いることとする。
【００１０】そして、本実施形態の成形型は、同図に示
すように、タングステンカーバイド（ＷＣ）を主体とし
た型母材１と、型母材１上に設けられた中間層２と、中
間層２上に設けられた表面層３とを有して構成されてい
る。タングステンカーバイド（ＷＣ）は、加工性、高温
強度、耐熱衝撃性に優れ、型母材として用いるには最適
な素材である。表面層３は、いわゆる離型膜として機能
するもので、純度９９．９重量パーセント以上の純白金
（Ｐｔ）で形成されている。この純白金薄膜は、成形素
材であるガラスとの化学的反応が少なく、成形時に発生
する型とガラスとの融着を抑止する。また、この純白金
薄膜は、高真空下にて加熱硬化処理が施されている。離
型膜として使用していた従来の貴金属合金系薄膜は、そ
の表面が軟らかいために傷等が入り易く、また、成形圧
力によって薄膜自体が変形するといった問題があった。
そこで、本実施形態では、加熱硬化処理で硬度を高めた
純白金薄膜を表面層３として用いている。また、本願の
発明者らは、貴金属薄膜を型母材に直接形成した場合に
は、これらの間に拡散が生じて膜質が変化してしまい、
これが、成形面の劣化やガラスの付着などの現象を引き
起こすことを確認した。そこで、本実施形態では、拡散
防止層として機能する中間層２を型母材１と表面層３と
の間に設けている。
すように、タングステンカーバイド（ＷＣ）を主体とし
た型母材１と、型母材１上に設けられた中間層２と、中
間層２上に設けられた表面層３とを有して構成されてい
る。タングステンカーバイド（ＷＣ）は、加工性、高温
強度、耐熱衝撃性に優れ、型母材として用いるには最適
な素材である。表面層３は、いわゆる離型膜として機能
するもので、純度９９．９重量パーセント以上の純白金
（Ｐｔ）で形成されている。この純白金薄膜は、成形素
材であるガラスとの化学的反応が少なく、成形時に発生
する型とガラスとの融着を抑止する。また、この純白金
薄膜は、高真空下にて加熱硬化処理が施されている。離
型膜として使用していた従来の貴金属合金系薄膜は、そ
の表面が軟らかいために傷等が入り易く、また、成形圧
力によって薄膜自体が変形するといった問題があった。
そこで、本実施形態では、加熱硬化処理で硬度を高めた
純白金薄膜を表面層３として用いている。また、本願の
発明者らは、貴金属薄膜を型母材に直接形成した場合に
は、これらの間に拡散が生じて膜質が変化してしまい、
これが、成形面の劣化やガラスの付着などの現象を引き
起こすことを確認した。そこで、本実施形態では、拡散
防止層として機能する中間層２を型母材１と表面層３と
の間に設けている。
【００１１】以上のように本実施形態の成形型では、離
型性に優れた純度９９．９重量パーセント以上の純白金
（Ｐｔ）を最表面に設ける共に、この表面層と型母材と
の間に拡散防止層として機能する中間層を設け、６００
℃以上の高温における高精度なプレス成形を長期に渡っ
て行うことができるようにしている。
型性に優れた純度９９．９重量パーセント以上の純白金
（Ｐｔ）を最表面に設ける共に、この表面層と型母材と
の間に拡散防止層として機能する中間層を設け、６００
℃以上の高温における高精度なプレス成形を長期に渡っ
て行うことができるようにしている。
【００１２】つぎに、図１の光学素子用成形型の具体的
な実施例について説明する。
な実施例について説明する。
【００１３】
（実施例１）本実施例では、図１の光学素子用成形型を
以下の手法で製造した。
以下の手法で製造した。
【００１４】先ず、外径２０ｍｍ、厚さ１５ｍｍ、凹面
曲率半径１００ｍｍのタングステンカーバイドを型母材
１として用意し、型母材１の凹面を研削・研磨して、そ
の表面粗さをＲＭＳ値（root-mean-square value：２乗
平均平方根値）で６．０〜８．０Å程度にした。その
後、この面には、中間層２として、ＳｉＯ2薄膜をスパ
ッタ法により約７００Å形成した。このＳｉＯ2薄膜の
上には、表面層３として、純白金薄膜を約７００Å形成
した。純白金薄膜を形成した後は、この成形型を真空加
熱炉内に配置し、真空度５×１０-5Torrで最大８００℃
まで加熱し、純白金薄膜の加熱硬化処理を行った。
曲率半径１００ｍｍのタングステンカーバイドを型母材
１として用意し、型母材１の凹面を研削・研磨して、そ
の表面粗さをＲＭＳ値（root-mean-square value：２乗
平均平方根値）で６．０〜８．０Å程度にした。その
後、この面には、中間層２として、ＳｉＯ2薄膜をスパ
ッタ法により約７００Å形成した。このＳｉＯ2薄膜の
上には、表面層３として、純白金薄膜を約７００Å形成
した。純白金薄膜を形成した後は、この成形型を真空加
熱炉内に配置し、真空度５×１０-5Torrで最大８００℃
まで加熱し、純白金薄膜の加熱硬化処理を行った。
【００１５】なお、同一形状のタングステンカーバイド
母材の凹面を研削・研磨して、この上に純白金薄膜を約
７００Å形成し、この純白金薄膜に先程と同様な加熱硬
化処理を施した成形型も比較例として作製した。
母材の凹面を研削・研磨して、この上に純白金薄膜を約
７００Å形成し、この純白金薄膜に先程と同様な加熱硬
化処理を施した成形型も比較例として作製した。
【００１６】その後、本実施例の成形型及び比較例とし
て作製した成形型の成形試験を行った。具体的には、こ
れらの成形型を真空中で７００℃まで加熱し、それぞれ
の成形型で各種の光学ガラスを加圧成形した。各成形型
の成形前後の表面粗さについては、光学式表面粗さ計お
よび走査型プロ−ブ顕微鏡で観察した。観察結果は、図
２に示されている。図２では、比較例として作製した成
形型を試料０とし、本実施例の成形型を試料１としてい
る。
て作製した成形型の成形試験を行った。具体的には、こ
れらの成形型を真空中で７００℃まで加熱し、それぞれ
の成形型で各種の光学ガラスを加圧成形した。各成形型
の成形前後の表面粗さについては、光学式表面粗さ計お
よび走査型プロ−ブ顕微鏡で観察した。観察結果は、図
２に示されている。図２では、比較例として作製した成
形型を試料０とし、本実施例の成形型を試料１としてい
る。
【００１７】このように試料０、１の成形前の表面粗さ
は、ほとんど変らないものであったが、成形後の試料０
については、ＲＭＳ値３６．８Å程度の粗さが生じた。
一方、試料１については、成形後も、ＲＭＳ値７．１Å
程度で、表面状態に特に変化は見られなかった。また、
試料０では部分的にガラスとの反応が見られたが、試料
１ではガラスとの反応が皆無であった。
は、ほとんど変らないものであったが、成形後の試料０
については、ＲＭＳ値３６．８Å程度の粗さが生じた。
一方、試料１については、成形後も、ＲＭＳ値７．１Å
程度で、表面状態に特に変化は見られなかった。また、
試料０では部分的にガラスとの反応が見られたが、試料
１ではガラスとの反応が皆無であった。
【００１８】（実施例２）本実施例では、中間層２とし
て、ＳｉＣ薄膜をスパッタ法により約７００Å形成し
た。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の
試験方法については、実施例１と同様である。本実施例
の成形型の成形前後の表面粗さについては、図２に示さ
れている。図２では、本実施例の成形型を試料２として
いる。
て、ＳｉＣ薄膜をスパッタ法により約７００Å形成し
た。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の
試験方法については、実施例１と同様である。本実施例
の成形型の成形前後の表面粗さについては、図２に示さ
れている。図２では、本実施例の成形型を試料２として
いる。
【００１９】試料２の表面粗さは、成形後もＲＭＳ値
７．３Å程度で、表面状態に特に変化は見られなかっ
た。また、ガラスとの反応も皆無であった。
７．３Å程度で、表面状態に特に変化は見られなかっ
た。また、ガラスとの反応も皆無であった。
【００２０】（実施例３）本実施例では、中間層２とし
て、Ａｌ2Ｏ3薄膜をスパッタ法により約７００Å形成し
た。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の
試験方法については、実施例１と同様である。
て、Ａｌ2Ｏ3薄膜をスパッタ法により約７００Å形成し
た。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の
試験方法については、実施例１と同様である。
【００２１】本実施例の成形型（試料３）の表面粗さ
は、成形後もＲＭＳ値７．１Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
は、成形後もＲＭＳ値７．１Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
【００２２】（実施例４）本実施例では、中間層２とし
て、ＡｌＮ薄膜をスパッタ法により約７００Å形成し
た。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の
試験方法については、実施例１と同様である。
て、ＡｌＮ薄膜をスパッタ法により約７００Å形成し
た。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の
試験方法については、実施例１と同様である。
【００２３】本実施例の成形型（試料４）の表面粗さ
は、成形後もＲＭＳ値６．３Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
は、成形後もＲＭＳ値６．３Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
【００２４】（実施例５）本実施例では、中間層２とし
て、ＺｒＯ2薄膜をスパッタ法により約７００Å形成し
た。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の
試験方法については、実施例１と同様である。
て、ＺｒＯ2薄膜をスパッタ法により約７００Å形成し
た。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の
試験方法については、実施例１と同様である。
【００２５】本実施例の成形型（試料５）の表面粗さ
は、成形後もＲＭＳ値７．８Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
は、成形後もＲＭＳ値７．８Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
【００２６】（実施例６）本実施例では、中間層２とし
て、ＢＮ薄膜をスパッタ法により約７００Å形成した。
型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の試験
方法については、実施例１と同様である。
て、ＢＮ薄膜をスパッタ法により約７００Å形成した。
型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型の試験
方法については、実施例１と同様である。
【００２７】本実施例の成形型（試料６）の表面粗さ
は、成形後もＲＭＳ値７．６Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
は、成形後もＲＭＳ値７．６Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
【００２８】（実施例７）本実施例では、中間層２とし
て、ＴｉＡｌＮ薄膜をスパッタ法により約７００Å形成
した。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型
の試験方法については、実施例１と同様である。
て、ＴｉＡｌＮ薄膜をスパッタ法により約７００Å形成
した。型母材１及び表面層３の構成や、作製した成形型
の試験方法については、実施例１と同様である。
【００２９】本実施例の成形型（試料７）の表面粗さ
は、成形後もＲＭＳ値７．５Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
は、成形後もＲＭＳ値７．５Å程度で、表面状態に特に
変化は見られなかった。また、ガラスとの反応も皆無で
あった。
【００３０】以上、実施例１から実施例７まで説明した
が、各実施例の成形型は何れも成形後の表面粗さがＲＭ
Ｓ値で６．０〜８．０Åに収まっており、成形前のＲＭ
Ｓ値と比較して、ほとんど変化が見られなかった。ま
た、各成形型は、ガラスとの反応も皆無であった。
が、各実施例の成形型は何れも成形後の表面粗さがＲＭ
Ｓ値で６．０〜８．０Åに収まっており、成形前のＲＭ
Ｓ値と比較して、ほとんど変化が見られなかった。ま
た、各成形型は、ガラスとの反応も皆無であった。
【００３１】
【発明の効果】本発明に係る光学素子用成形型によれ
ば、成形素材であるガラスとの離型性に優れた純白金薄
膜が最表面に形成され、さらに、純白金薄膜と型母材と
の間に生じる拡散を抑止する中間層が形成されているの
で、成形時においてガラスとの化学的な反応が抑えら
れ、表面粗れのない成形面による高精度なプレス成形を
長期間に渡って行うことができるようになる。
ば、成形素材であるガラスとの離型性に優れた純白金薄
膜が最表面に形成され、さらに、純白金薄膜と型母材と
の間に生じる拡散を抑止する中間層が形成されているの
で、成形時においてガラスとの化学的な反応が抑えら
れ、表面粗れのない成形面による高精度なプレス成形を
長期間に渡って行うことができるようになる。
【図１】図１は、本発明に係る成形型の一実施形態の縦
断面図である。
断面図である。
【図２】図２は、本発明に係る成形型の各実施例におけ
る成形試験結果を示した図表である。
る成形試験結果を示した図表である。
１・・・母材、 ２・・・中間層、 ３・・・表面層
Claims (12)
- 【請求項１】タングステンカーバイド（ＷＣ）を主体と
した型母材と、 前記型母材上に設けられた中間層と、 前記中間層上に設けられた表面層とを備えた光学素子用
成形型において、 前記中間層は、前記型母材と前記表面層との間に生じる
拡散を防止する拡散防止層であり、 前記表面層は、純度９９．９重量パーセント以上の純白
金（Ｐｔ）で形成されていることを特徴とする光学素子
用成形型。 - 【請求項２】前記中間層は、珪素（Ｓｉ）と非金属との
化合物で形成されていることを特徴とする請求項１記載
の光学素子用成形型。 - 【請求項３】前記中間層は、珪素（Ｓｉ）の酸化物であ
ることを特徴とする請求項２記載の光学素子用成形型。 - 【請求項４】前記中間層は、珪素（Ｓｉ）の炭化物であ
ることを特徴とする請求項２記載の光学素子用成形型。 - 【請求項５】前記中間層は、アルミニウム（Ａｌ）と非
金属との化合物で形成されていることを特徴とする請求
項１記載の光学素子用成形型。 - 【請求項６】前記中間層は、アルミニウム（Ａｌ）の酸
化物であることを特徴とする請求項５記載の光学素子成
形型。 - 【請求項７】前記中間層は、アルミニウム（Ａｌ）の窒
化物であることを特徴とする請求項５記載の光学素子用
成形型。 - 【請求項８】前記中間層は、ジルコニウム（Ｚｒ）の酸
化物で形成されていることを特徴とする請求項１記載の
光学素子用成形型。 - 【請求項９】前記中間層は、ほう素（Ｂ）の窒化物で形
成されていることを特徴とする請求項１記載の光学素子
用成形型。 - 【請求項１０】前記中間層は、サイアロン（ＴｉＡｌ
Ｎ）で形成されていることを特徴とする請求項１記載の
光学素子用成形型。 - 【請求項１１】光学素子の成形に用いられる光学素子用
成形型の製造方法において、 タングステンカーバイド（ＷＣ）の型母材上に中間層を
形成し、 前記中間層上に純白金（Ｐｔ）の薄膜を形成し、 前記Ｐｔの薄膜を高真空下で加熱して硬化させることを
特徴とする光学素子用成形型の製造方法。 - 【請求項１２】前記中間層として、前記ＷＣの型母材と
前記Ｐｔの薄膜との間の拡散を防止する拡散防止層を用
いることを特徴とする請求項１１記載の光学素子用成形
型の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8192026A JPH1036127A (ja) | 1996-07-22 | 1996-07-22 | 光学素子用成形型、及び、その製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8192026A JPH1036127A (ja) | 1996-07-22 | 1996-07-22 | 光学素子用成形型、及び、その製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1036127A true JPH1036127A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16284368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8192026A Pending JPH1036127A (ja) | 1996-07-22 | 1996-07-22 | 光学素子用成形型、及び、その製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1036127A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11236229A (ja) * | 1997-12-16 | 1999-08-31 | Ngk Insulators Ltd | ガラス素子のプレス成形用金型 |
-
1996
- 1996-07-22 JP JP8192026A patent/JPH1036127A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11236229A (ja) * | 1997-12-16 | 1999-08-31 | Ngk Insulators Ltd | ガラス素子のプレス成形用金型 |
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