JPH10340801A - Ptc抵抗体 - Google Patents

Ptc抵抗体

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Publication number
JPH10340801A
JPH10340801A JP15174197A JP15174197A JPH10340801A JP H10340801 A JPH10340801 A JP H10340801A JP 15174197 A JP15174197 A JP 15174197A JP 15174197 A JP15174197 A JP 15174197A JP H10340801 A JPH10340801 A JP H10340801A
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JP
Japan
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ptc
added
ptc resistor
metal
oxide
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Pending
Application number
JP15174197A
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English (en)
Inventor
Takuya Suzuki
卓弥 鈴木
Toshiyuki Yoshizawa
利之 吉沢
Masaaki Ogino
正明 荻野
Kenji Kunihara
健二 国原
Koichi Tsuda
孝一 津田
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】V2 3 を主成分とし、ランタノイドを添加し
たPTC抵抗体の焼結性を高め、ヒートサイクルによる
劣化を防止して、安定性に優れた素子とする。 【解決手段】V2 3 にランタノイドのうち少なくとも
一つの元素を添加したPTC抵抗体に、更にFe、C
o、Ni、Cu、Snのうちから少なくとも一種を0.
1〜25wt%と、Mo、Wの内から少なくとも一種を
0.1〜10wt%添加する。これにより、焼結性が高め
られ、かつ粒径の粗大化が抑制されて、高強度のV 2
3 系セラミックスのPTC抵抗体が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、正の抵抗温度係
数をもつ酸化バナジウム(以下V2 3 と記す)系セラ
ミックスのPTC抵抗体に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、低圧配電系統においても大容量化
が進展し、それに伴い負荷が短絡した際に流れる過電流
も大電流化しており、ブレーカーについても高遮断容量
化が望まれている。このような技術動向に対応して、大
電流・大電力用の過電流保護素子としてV 2 3 系セラ
ミックスを主成分とするPTC抵抗体素子の利用が期待
されている。
【0003】先に発明者らは、V2 3 にディスプロシ
ウム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(E
r)、ツリウム(Th)等のランタノイドのうちの少な
くとも一種を添加したV2 3 系セラミックスの抵抗率
が、室温から100〜150℃にかけてゆるやかに増大
し、100〜150℃付近で2桁程度急激に増加し(こ
の急変する温度を転移温度と称する)、150〜200
℃においてピークとなり、それ以上の温度では低下する
性質を有することを示した。[特願平8−26041
8]この急変後の抵抗率と急変前のそれとの比をPTC
倍率と称する。ナオ、組成中のランタノイド酸化物の量
は、V2 3 との和に対する分子量%(以下mol %と記
す)で、〔すなわち、(V1-X LnX 2 3 と表した
ときのxを%で〕示した。また、Sn等の金属元素の量
は、酸化物が焼成中に還元されるので、還元された金属
として焼結体に含まれる量を重量%(wt%と記す。質量
%でも同じ)で示した。
【0004】特に、ランタノイドとしてディスプロシウ
ム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(E
r)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)、ル
テチウム(Lu)のうちの少なくとも一つの元素の酸化
物を含有するものでは、微量の添加でPTC特性が発現
することが確認され、V2 3 との和に対して0.01
〜30mol %の範囲が適当であった。PTC特性の発現
機構については、固溶体(V1-X LnX 2 3 (Ln
=Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu)の形成による
ものと考えられる。
【0005】また、ランタノイドとしてランタン(L
a)、セリウム(Ce)、プラセオジム(Pr)、ネオ
ジム(Nd)、プロメチウム(Pm)、サマリウム(S
m)、ユーロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、
テルビウム(Tb)のうちの少なくとも一つの元素の酸
化物を含有するものでは、1〜30mol %の範囲が適当
であった。これらの元素は微量の添加ではPTC特性が
発現しないが、1%以上の添加によっては発現し、全体
的にDy以後のランタノイドの適量範囲より多い範囲に
シフトしていることを確認した。PTC特性の発現機構
については、ペロブスカイト化合物LnVO3 (Ln=
La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、T
b)の形成によるものと考えられる。
【0006】このような性質を有するV2 3 系セラミ
ックスに大きな電流を流すと、ジュール発熱により温度
が上昇し、抵抗値が増大して電流が制限されることを利
用して過電流を抑制する限流素子とすることができる。
限流素子として利用するには、概ねPTC倍率で5倍以
上、転移温度が100〜200℃であることが望まし
い。PTC倍率が5倍以上であれば、転移後、電流は1
/5以下になり、電力としては1/25以下になる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このラ
ンタノイドのうちの少なくとも一種を添加したV2 3
系セラミックスは焼結性が低く、高密度の焼結体を得る
ことが困難であった。そして、機械的強度が低く、低抵
抗状態での抵抗率が高いという問題があった。更に、室
温と転移温度以上の温度との間の昇降温を繰り返すごと
に、PTC倍率が低下していくという問題があった。こ
れは、ヒートサイクルにより、焼結体内部にマイクロク
ラックが発生することによると考えられる。このマイク
ロクラックの発生は、隣り合うV2 3 系結晶粒同士の
接触断面積を低下させ、低抵抗状態での抵抗率を上げる
だけでなく、焼結体の内部応力を緩和し、転移温度を上
昇させ、PTC倍率を低下させて、PTC特性の劣化の
原因となる。
【0008】また、この転移に伴うマイクロクラックの
影響で、線膨張係数に転移温度に対応する不連続な変化
が発生する。この熱膨張の異常挙動は、酸化防止のため
のガラスコートを困難にし、また、急激な通電加熱に等
によって発生する熱応力に対する耐熱衝撃性を弱める原
因となる。本発明は上述の問題点を解決するためになさ
れ、その目的は焼結性を高め、高強度のV2 3 系セラ
ミックスを得るとともに、抵抗率温度特性の異常やヒス
テリシスの発生も無く、ヒートサイクルで劣化しない特
性の安定したPTC抵抗体を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題解決のため本発
明は、V2 3 を主成分とし、これに副成分としてラン
タノイドのうち少なくとも一つの元素を加えることによ
り、抵抗の温度依存性が急変するPTC特性を発現させ
るV2 3 系セラミックスのPTC抵抗体において、副
成分としてさらに、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニ
ッケル(Ni)、銅(Cu)、錫(Sn)のうちから少
なくとも一種と、モリブデン(Mo)、タングステン
(W)のうち少なくとも一種を添加するものとする。
【0010】Fe、Co、Ni、Cu、Snは、いずれ
もV2 3 系セラミックスの焼成温度、雰囲気下におい
て融解するので、それらのうち少なくとも一種を添加す
ることにより、V2 3 系結晶粒間に金属単体の液相と
して存在し、V2 3 系結晶粒の焼結性の向上をもたら
す。また、焼成後に得られた焼結体においては、上記の
添加金属はV2 3 系結晶粒の粒界に存在し、低抵抗状
態での抵抗率を低減する。
【0011】しかしながら、上記の金属を添加したV2
3 系セラミックスにおいては、焼結性の向上ととも
に、V2 3 系結晶粒の粗大化が生じる場合がある。こ
の結晶粒の粗大化により再び機械的強度が低下し、ま
た、転移を繰り返すとマイクロクラックを誘発すること
がある。転移時のマイクロクラックの対策として、Mo
またはWを添加するとよい。これらの金属は酸化V2
3 系セラミックスの焼成温度、雰囲気下において、金属
単体の微粒の固相としてV2 3 系結晶粒間に存在し
て、結晶粒の粒成長を抑制し、粗大化を防止することが
できる。これによって、ヒートサイクルによるPTC特
性の劣化を防ぐことができる。さらに、結晶粒の粗大化
により機械的強度の低下を防止して、急激な通電加熱等
によって発生する熱応力に対する耐熱衝撃性を向上させ
る。
【0012】特に、鉄、コバルト、ニッケル、銅、錫の
うちから少なくとも一種を焼結体に対して0.1〜25
wt%、モリブデン、タングステンのうち少なくとも一種
を0.1〜10wt%添加するものとする。鉄、コバル
ト、ニッケル、銅、錫のうちの少なくとも一種の添加量
が0.1wt%よりも少ない場合は焼結性の向上がなく、
25wt%を越える場合は、PTC特性における抵抗の最
大値が著しく低下しPTC倍率が減少する。
【0013】WおよびMoのうちの少なくとも一種の添
加量が、0.1wt%よりも少ない場合は粒径制御の効果
が十分でなく、また、10wt%を越える場合は、抵抗の
最大値が低下し、焼結性も低下する。ランタノイドとし
てDy、Ho、Er、Th、Yb、Luのうちの少なく
とも一つの元素の酸化物を、0.01〜30mol %の範
囲で含有するものとする。
【0014】これらの元素の酸化物は微量の添加でPT
C特性が発現することを確認した。30mol %を越える
添加では、PTC特性が見られなかった。PTC特性の
発現機構については、固溶体(V1-X LnX 2
3 (Ln=Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu)の形
成によるものと考えられる。また、ランタノイドとして
La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、T
bのうちの少なくとも一つの酸化物を、1〜30mol %
の範囲で含有してもよい。
【0015】これらの元素は微量の添加ではPTC特性
が発現しないが、1%以上の添加によっては発現し、全
体的にDy以後のランタノイドの適量範囲より多い範囲
にシフトしていることを確認した。PTC特性の発現機
構については、ペロブスカイト化合物LnVO3 (Ln
=La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、
Tb)の形成によるものと考えられる。
【0016】
【発明の実施の形態】V2 3 粉末に、表1に示す組成
となるように秤量・調合したランタノイド元素の酸化物
(酸化ルテチウムLu2 3 、酸化ランタンLa
2 3 )酸化錫SnO2 、酸化鉄Fe2 3 、酸化タン
グステンWO3 等の粉末を加え、湿式ボールミルで12
時間混合粉砕した。得られた粉体を加圧成形し、水素中
1600℃で1時間焼成してV2 3 系セラミックスを
作製した。なお先に述べたように、組成中のランタノイ
ド酸化物の量は、V2 3 との和に対するmol %で、S
n等の金属元素の量は、還元された金属として焼結体に
含まれる量をwt%(質量%でも同じ)で示した。
【0017】
【表1】
【0018】このようにして得られた焼結体について、
密度測定、走査電子顕微鏡による粒径測定をおこなっ
た。理論密度に対する焼成密度、粒径の結果を表1にま
とめた。比較試料として、同様に作製したSn、Fe、
Wの一種または二種を欠く試料の特性をも示した。密度
測定、粒径測定の結果を見ると、SnあるいはFeを添
加することで、密度が向上している。これは、Snある
いはFeの添加で、焼結性が向上したものと考えられ
る。一方でSnあるいはFeの添加は、表1の比較試料
1と2、3、比較試料4と5、6の差に見られるよう
に、V2 3 系結晶粒の粗大化をもたらす。この結晶粒
の粗大化により機械的強度が低下し、また、転移を繰り
返すことでマイクロクラックを誘発することもある。
【0019】しかしさらにWを添加した実験試料では、
比較試料より格段に粒径が小さく、結晶粒成長が抑制さ
れていることがわかる。次に、室温から200℃までの
ヒートサイクルを20回繰り返した前後の抵抗率温度特
性を4端子法を用いて測定した。ヒートサイクル前後の
PTC特性の変化を、実験試料1については図1に、比
較試料1については図2に示す。縦軸は抵抗率、横軸は
温度である。
【0020】Luのみ添加の比較試料1(図2)では、
抵抗率のピーク値がヒートサイクルにより低下し、PT
C倍率が50倍から15倍へと大幅に低下している。一
方、Luの他にSn、Wを添加した実験試料1(図1)
では、ヒートサイクルによる劣化は、ほぼ完全に抑えら
れていることがわかる。他の試料におけるヒートサイク
ル試験前後のPTC倍率の変化も、表1に記載してあ
る。表1において、Luの他にSnを添加した比較試料
2でもPTC倍率が54倍から15倍へと大幅に低下し
ていることから、実験試料1の改善は、主にWの添加の
効果であつたことがわかる。これは、Snでなく、Fe
を添加した実験試料2と比較試料3との比較からもいえ
る。
【0021】La、Sn、W添加の実験試料3と、La
のみ添加の比較試料3、La、Sn添加の比較試料5と
の比較でも同様の結論が得られる。線膨張率測定の結果
を、実験試料4については図3に、比較試料6について
は図4に示す。比較試料6(図4)では、転移温度付近
で昇温時に収縮し、降温時に膨張する、線膨張率の不連
続な変化およびヒステリシスが見られているが、実験試
料4(図3)ではそのような異常は見られず、線膨張率
の変化は滑らかで、ヒステリシスも殆ど無い。
【0022】Laのみ添加した比較試料4の場合は、ペ
ロブスカイト型化合物LaVO3 が生成され粒界に存在
することで、V2 3 結晶粒内に内部応力を発生させ、
それがPTC特性発現の要因となるが、焼結性はあまり
良くない。但し、熱膨張の不連続な挙動は見られなかっ
た。比較試料のうちで、熱膨張の不連続な挙動が見られ
ないのは、この比較試料4だけてあり、結晶粒径が小さ
いことと、焼成密度の低さが関係しているかも知れな
い。Laの他にFeを添加した比較試料6では、焼結性
は向上するが粒成長が進み、図4のように熱膨張特性の
異常な挙動が見られるようになる。これは、V2 3
結晶粒の粗大化が生じ、再び機械的強度が低下し、マイ
クロクラックを誘発したものと考えられる。
【0023】さらにWを添加した実験試料4では、焼結
性を維持したまま、Wが粒径制御の役割を果たし、熱膨
張特性の異常な挙動が見られなくなった。他の試料の線
膨張率の異常の有無についても、表1の最後の欄に記載
してある。Wを添加した実験試料1〜4では、いずれも
異常が見られなかった。なおSn、Feの量としては、
0.1〜25wt%が適当であった。添加量が0.1wt%
よりも少ない場合は焼結性の向上がなく、25wt%を越
える場合は、PTC特性における抵抗の最大値が著しく
低下しPTC倍率が減少するため、好ましくない。焼結
を促進する金属としては、表1のSn、Feの他に、C
o、Ni、Cuでも良かった。
【0024】一方、粒径制御用の金属としては、Wの他
にMoが良く、WおよびMoのうちの少なくとも一種を
0.1〜10wt%の範囲で添加することが良いことがわ
かった。0.1wt%よりも少ない場合は粒径制御の効果
が十分でなく、また、10wt%を越える場合は、抵抗の
最大値の低下および焼結性の低下が生じ、好ましくな
い。
【0025】表2にこれらの添加金属およびW、Moの
融点を示した。
【0026】
【表2】
【0027】副材料として加えられたFe、Co、N
i、Cu、Snの酸化物は、いずれもV2 3 系セラミ
ックスの焼成温度(1300〜1800℃)、雰囲気
(水素)下において還元され、その還元された金属は融
解する。従って、V2 3 系結晶粒間に金属単体の液相
として存在し、V2 3 系結晶粒の焼結性が向上すると
考えられる。また、焼成後に得られた焼結体において
は、上記の添加金属はV2 3 系結晶粒の粒界に存在
し、低抵抗状態での抵抗率を低減する。
【0028】一方、MoおよびWの酸化物は、V2 3
系セラミックスの焼成温度、雰囲気下において還元さ
れ、その還元された金属は融解せず、V2 3 系結晶粒
間に金属単体の微粒の固相として存在し、V2 3 系結
晶粒の粒成長を抑制し、粗大化を防止する。この粗大化
による強度低下の防止が、先の低融点金属による焼結性
の向上とあいまって、マイクロクラックを防止する作用
をもち、ヒートサイクルによるPTC特性の劣化を防ぐ
ことができたと考えられる。
【0029】このように、焼結性を高め、かつ微細結晶
粒で高強度の焼結体とすることにより、急激な通電加熱
等によって発生する熱応力に対する耐熱衝撃性を向上さ
せる。また、電力用限流素子として適用する場合の酸化
防止のためのガラスコーティングや、他の材料との接合
も問題無くおこなえるようになった。Lu、La以外の
Ce、Pr、Nd、Pm等の他のランタノイドについて
も、Lu、La添加と同様の結果が得られた。
【0030】
【発明の効果】以上で詳しく述べたように本発明によれ
ば、V2 3 を主成分とし、ランタノイドのうち少なく
とも一つの元素を添加したPTC抵抗体において、鉄、
コバルト、ニッケル、銅、錫のうちから少なくとも一種
を0.1〜25wt%、モリブデン、タングステンのうち
少なくとも一種を0.1〜10wt%添加することによっ
て、焼結性が高められ、かつ粒径の粗大化が抑制され
て、高強度のV2 3 系セラミックスのPTC抵抗体が
得られる。このPTC抵抗体は、線膨張率の異常やヒス
テリシスが無く、ヒートサイクルを繰り返しても劣化し
ない。
【0031】従ってこのPTC抵抗体は、コーティング
や他の材料との接合に困難が無く、機械的強度や耐熱衝
撃性がより優れた素子となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実験試料1の抵抗温度特性図
【図2】比較試料1の抵抗温度特性図
【図3】実験試料1の線膨張率温度特性図
【図4】比較試料1の線膨張率温度特性図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 国原 健二 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 (72)発明者 津田 孝一 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】酸化バナジウムを主成分とし、これに副成
    分としてランタノイドのうち少なくとも一つの元素を加
    えることにより、抵抗の温度依存性が急変するPTC特
    性を発現させる酸化バナジウム系セラミックスのPTC
    抵抗体において、副成分としてさらに、PTC抵抗体の
    焼成温度で融解する金属と、融解しない金属とを少なく
    とも一種類ずつ添加したことを特徴とするPTC抵抗
    体。
  2. 【請求項2】PTC抵抗体の焼成温度で融解する金属と
    して、鉄、コバルト、ニッケル、銅、錫のうちから少な
    くとも一種と、融解しない金属としてモリブデン、タン
    グステンのうち少なくとも一種を添加したことを特徴と
    する請求項1記載のPTC抵抗体。
  3. 【請求項3】鉄、コバルト、ニッケル、銅、錫のうちか
    ら少なくとも一種を焼結体に対して0.1〜25wt%、
    モリブデン、タングステンのうち少なくとも一種を0.
    1〜10wt%添加したことを特徴とする請求項2記載の
    PTC抵抗体。
  4. 【請求項4】ランタノイドとしてディスプロシウム、ホ
    ルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ル
    テチウムのうちの少なくとも一つの元素の酸化物を、酸
    化バナジウムとの和に対する分子量比で0.01〜30
    %の範囲で含有することを特徴とする請求項1ないし3
    のいずれかに記載のPTC抵抗体。
  5. 【請求項5】ランタノイドとしてランタン、セリウム、
    プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、
    ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウムのうちの少な
    くとも一つの元素の酸化物を、酸化バナジウムとの和に
    対する分子量比で1〜30%の範囲で含有することを特
    徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のPTC抵
    抗体。
JP15174197A 1997-06-10 1997-06-10 Ptc抵抗体 Pending JPH10340801A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7709922B2 (en) 2004-03-19 2010-05-04 Toudai Tlo, Ltd. Thermistor device

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US7709922B2 (en) 2004-03-19 2010-05-04 Toudai Tlo, Ltd. Thermistor device

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