JPH10340670A

JPH10340670A - 陰極線管の製造方法

Info

Publication number: JPH10340670A
Application number: JP9146938A
Authority: JP
Inventors: Takashi Chigusa; 尚千草; Katsuyuki Aoki; 克之青木; Norio Koike; 教雄小池; Hiroyoshi Fukazawa; 浩義深澤
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1997-06-04
Filing date: 1997-06-04
Publication date: 1998-12-22

Abstract

(57)【要約】【課題】漏洩電場の発生を防止するとともに、画質の
高い画像を得ることができる陰極線管の製造方法を提供
すること。【解決手段】フェースプレートの前面パネルの外表面
に、水、導電性微粒子および非イオン系界面活性剤を含
む溶液を塗布する工程と、前記塗布した溶液より溶媒を
除去する工程とを具備した陰極線管の製造方法による。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フェースプレート
の前面パネルの外表面に、反射防止膜として機能し、か
つ漏洩電場（ AEF：Alternating Electric Field）の発
生を防止する導電膜を有した陰極線管の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、カラーテレビのブラウン管やコン
ピュータ用のＣＲＴ等に代表される陰極線管において、
内部の電子銃および偏向ヨークの近傍で生じた電磁波が
外部へ漏洩して生じる漏洩電場により、周辺の電子機器
等が影響を受ける可能性が指摘されている。そこで、上
記漏洩電場の発生を防止するために、陰極線管のフェー
スパネルの表面の抵抗値を下げる必要がある。

【０００３】例えば、特開昭 61-118932号公報、特開昭
63-160140号公報には、フェースパネルの帯電防止に関
する種々の表面処理方法が開示されており、これらの方
法を用いて漏洩電場を防止する試みがなされている。し
かしながら、これらの方法で得られる表面処理膜の表面
抵抗値は、 1×10¹¹Ω／□以上であるため、帯電防止の
みを目的とする場合には十分であるものの、漏洩電場の
発生を防止するには表面処理膜の表面抵抗値を 5×10
^{2 Ω}／□以下にまで低くしなければならないため、漏洩
電場の発生を防止することが困難であるという問題があ
った。

【０００４】また、表面抵抗値の低い透明な導電膜を形
成する方法として、 PVD法、 CVD法およびスパッタリン
グ法等の気相方法があり、例えば、特開平1-242769号公
報に、スパッタリング法による低抵抗透明導電膜の形成
方法が開示されている。しかしながら、このような気相
方法では、大型の装置を必要とするために設備投資が大
きくなり、かつ、大量生産を行うことが困難であるとい
う問題があった。

【０００５】さらに、導電膜を構成する導電材料の比抵
抗が小さい程、良好な導電性が得られることから、導電
膜として金属微粒子膜を用いることにより、有効に漏洩
電場の発生を防止できることが知られている。

【０００６】そこで、上記問題を解決するため、特開平
6-310058号公報等に開示されているように、導電膜を形
成する際、約40℃にしたフェースパネルの表面にAg塩を
含んだ水溶液を、例えば、スピン法により塗布・高速振
り切り、次にシリコンアルコキシドを加水分解して調整
したシリカ溶液を塗布・高速振り切り、高温加熱して２
層膜を形成する方法が提案されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな方法にて導電膜を形成した場合、特に、金属塩を含
んだ水溶液を塗布・高速振り切ると、塗布時のムラがフ
ェースパネルの全面に渡ってモヤ状となり、高温加熱し
た後においてもこのムラが残るため、陰極線管を白色ラ
スターで走査させると画面全体に白色濃淡を有したムラ
が発生し、表示画面の画質が著しく劣化するという問題
があった。

【０００８】本発明は、上記従来の問題を解決すべくな
されたもので、漏洩電場の発生を防止するとともに、画
質の高い画像を得ることができる陰極線管の製造方法を
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る陰極線管の
製造方法は、フェースプレートの前面パネルの外表面
に、水、導電性微粒子および非イオン系界面活性剤を含
む溶液を塗布する工程と、前記塗布した溶液より溶媒を
除去して塗膜を形成する工程と、前記形成した塗膜を焼
成する工程とを具備したことを特徴としている。

【００１０】本発明に係る陰極線管の製造方法によれ
ば、フェースプレートの前面パネルの外表面に、水、導
電性微粒子および非イオン系界面活性剤を含む溶液を塗
布することにより導電膜に生じるムラをほぼ防止できる
ので、漏洩電場の発生を防止するとともに、画質の高い
画像を得ることができる導電性反射防止膜を備えた陰極
線管を製造することが可能となる。

【００１１】上述したように、塗布時のムラがフェース
パネルの全面に渡ってモヤ状となり、高温加熱した後に
おいてもこのムラが残る原因は、フェースパネルの表面
に表面張力の大きい水系もしくは水を含んだ溶液を塗布
するため、溶液のレベリング性が悪くなることに起因す
ると推測された。本発明は、導電性微粒子を含む溶液
の、フェースプレートの前面パネルに対する塗布性を改
善するために、該溶液に非イオン系界面活性剤を含有さ
せて成膜時におけるムラの発生を防止するものである。
導電性微粒子を含む溶液に非イオン系界面活性剤を含有
させることにより、成膜時に際するムラの発生を防止す
る詳細な機構については鋭意検討中であるが、現時点で
は以下のように推測している。すなわち、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル系の界面活性剤に代表
される非イオン系界面活性剤は、 H.L.B値（親水性・疎
水性各々のバランスを示す値）が高いため、水に対する
溶解性が高い傾向にある。したがって、フェースプレー
トの前面パネルに溶液を塗布した場合に、前面パネル全
体に渡り溶液が均一に広がるため、成膜時に際するムラ
の発生が防止される。

【００１２】本発明において、溶液に含有される非イオ
ン系界面活性剤としては、 H.L.B値が高い物質であれば
限定されないが、例えば、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノ
パルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステ
アレートおよびポリオキシエチレンソルビタンモノオレ
ート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
系の界面活性剤を好適に用いることができる。また、非
イオン系界面活性剤は、溶液に対し0.01重量％〜0.5 重
量％となるように含有させることが望ましい。溶液に対
する非イオン系界面活性剤の含有量が0.01重量％未満の
場合には、導電膜の成膜時に際しムラの発生を防止する
効果が低下する。また、溶液に対する非イオン系界面活
性剤の含有量が0.5 重量％を越えた場合には、成膜され
た導電膜の品位が低下する傾向がある。

【００１３】また、溶液が含有する導電性微粒子として
は、銅、銅化合物、銀または銀化合物等の超微粒子が使
用される。ここで銀化合物としては、例えば酸化銀、硝
酸銀、酢酸銀、安息香酸銀、臭素酸銀、臭化銀、炭酸
銀、塩化銀、クロム酸銀、クエン酸銀、シクロヘキサン
酪酸銀等が挙げられ、これらの化合物と銀単体の超微粒
子の中から１種または２種以上を選択して使用すること
ができる。また、銅化合物としては、例えば、硫酸銅、
硝酸銅、フタロシアニン銅等が挙げられ、これらの化合
物と銅単体の超微粒子の中から１種または２種以上を選
択して使用することができる。このような銅、銅化合
物、銀または銀化合物の超微粒子の大きさは、粒径（微
粒子を同一の体積を示す球に換算した値）が 200ｎｍ以
下であることが望ましい。粒径が 200ｎｍを越えた場合
には、成膜した導電膜の光透過率が著しく低下するだけ
でなく、該微粒子により光の散乱が生じるため導電膜が
曇り解像度の低下が生じることになる。このような銅、
銅化合物、銀または銀化合物等の超微粒子からなる導電
層では、可視光域に吸収を持つため薄膜でも光の透過率
が低下するが、比抵抗に相当する低い表面抵抗が得られ
れば、輝度の低下を30％以内に抑えることができ、同時
に漏洩電場の発生を防止するに十分な低抵抗を実現する
ことができる。さらに、このような導電性微粒子からな
る導電膜の直上に、 SiO₂を主成分とし導電膜と同程度
の収縮率（焼成時）を有する保護膜を設け、これらの膜
を含めた２層以上により反射防止膜を形成することが望
ましい。これらの膜は、フェースプレートの前面パネル
の外表面に、銅や銀の超微粒子等の導電性微粒子からな
る塗膜を形成した後、その直上に、 SiO₂を主成分とす
る塗膜を形成し、これら膜を同時に焼成する工程により
形成される。

【００１４】溶液の塗布により導電膜を形成するにあた
っては、例えば、非イオン系界面活性剤とともにAgある
いはCu等の微粒子を分散した溶液をスピンコート法、ス
プレー法あるいは侵漬法等によりフェースプレートのパ
ネルの外表面に塗布する方法を挙げることができる。こ
のとき、導電膜におけるムラの発生をさらに抑制し、さ
らに均一な膜厚を備えた導電膜を得るために、フェース
プレートのパネルの外表面の温度を 5〜60℃程度にして
おくことが望ましい。導電膜の膜厚は、光の透過性の点
を考慮して、通常、 100〜1000オングストローム程度と
なるように制御する。導電膜の膜厚は、溶液中に含まれ
るAgやCu等の金属の微粒子の濃度、スピンコート法にお
ける塗布時の回転数、スプレー法における分散液の放出
量あるいは侵漬法における引き上げ速度等を調整するこ
とにより容易に制御することができ、塗布後に溶媒を蒸
発させる。なお、溶液中の溶媒としては、必要に応じて
水とともに、例えば、エタノールやＩＰＡ等を含有させ
ることができる。また、溶液中に有機金属化合物、顔料
および染料等をさらに含有させ、形成された導電膜に他
の機能を付加することもできる。なお、導電膜の最終的
な抵抗値は10¹〜10⁹Ω程度であり、導電膜は、通常、
1.7〜 3程度の屈折率を示すように形成される。

【００１５】また、導電膜上に設けられる保護膜は、該
導電膜を保護する機能を有しており、保護膜を形成する
にあたっては、例えば、Siのアルコキシド溶液をスピン
コート法、スプレー法あるいは侵漬法等により導電膜上
に塗布する方法を挙げることができる。保護膜の膜厚
は、通常、 100〜1000オングストローム程度とするが、
この膜厚は、例えば、Siのアルコキシド溶液の濃度、ス
ピンコート法における塗布時の回転数、スプレー法にお
けるアルコキシド溶液の放出量あるいは侵漬法における
引き上げ速度等を調整することにより容易に制御するこ
とができ、塗布後に溶媒を蒸発させる。最後に、上述し
たようにこれらの膜を 150〜450 ℃で10〜180 分の間に
渡って同時に焼成する。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の陰極線管の製造
方法の一実施形態を詳細に説明する。

【００１７】（実施例１および比較例）はじめに、以下
の組成からなる溶液を調整した。

【００１８】コロイド状銀塩 0.6（重量％）ブトキシエタノール 12 （重量％）水残部そして、この溶液１リットルに対しポリオキシエチレン
ソルビタンモノパルミテート（日本油脂株式会社：PT-2
21）の 1％溶液を60cc（0.06容量％）添加して溶液（溶
液Ａ）を得た。

【００１９】次に、以下の組成からなる溶液（溶液Ｂ）
を調整した。

【００２０】メチルシリケート 8 （重量部）硝酸 0.03 （重量部）エタノール 500 （重量部）水残部次いで、組立て終了後の17インチのカラー陰極線管のフ
ェースプレートのパネルの外表面を酸化セリウムにより
バフ研磨し、ゴミ、ほこり、油分等を除去した後、前記
した溶液Ａをスピンコート法により塗布し成膜した。な
お、塗布条件は、パネル（塗布面）温度が４５℃、回転
速度が液注入時 80rpm−5sec、液振りきり（成膜）時15
0rpm− 80secとした。次に、この塗膜の上に溶液Ｂを、
液注入時80rpm−5sec、液振りきり（成膜）時150rpm−
80secの条件でスピンコート法により塗布し成膜した
後、これらの塗膜を 210℃の温度で30分間焼成すること
により導電膜および保護膜からなる導電性反射防止膜を
形成し、図１に示す陰極線管を得た（実施例１）。な
お、図１において、カラー陰極線管はパネル１およびパ
ネル１に一体に接合されたファンネル２からなる外囲器
を有し、このパネル１の内面には、青、緑、赤に発光す
る三色蛍光体層と、この三色蛍光体層の間隙部を埋める
黒色の光吸収層とからなる蛍光面３が形成されている。
三色蛍光体層は、各蛍光体をＰＶＡ、界面活性剤、純水
等と共に分散させたスラリーを用い、これを通常の方法
に従ってパネルの内面に塗布することにより得られる。
三色蛍光体層の形状は、ストライプ状でもドット状でも
よいが、ここではドット状とした。そして、蛍光面３に
対向してその内側に多数の電子ビーム通過孔の形成され
たシャドウマスク４が装着されている。また、ファンネ
ル２のネック５の内部には、蛍光面３に電子ビームを照
射するための電子銃６が配設されており、電子銃６によ
って放出された電子ビームが蛍光面３に衝突し、三色蛍
光体層を励起、発光させるものである。また、パネル１
の外表面には、導電性反射防止膜７が形成されている。

【００２１】また比較例として、溶液Ａにポリオキシエ
チレンソルビタンモノパルミテートを含有しない以外
は、実施例１と同一の条件でカラー陰極線管を製造し
た。

【００２２】次いで、実施例１および比較例でそれぞれ
得られたカラー陰極線管のパネルについて、白色ラスタ
ー時および外観のムラを肉眼により観察した。また、パ
ネル間抵抗値、表而抵抗値および膜強度をそれぞれ測定
した。なお、パネル間抵抗値は、パネルＶ端にハンダ付
けを行ない、ハンダ間の抵抗をテスターで測定すること
により計測した。また、表面抵抗値は、Loresta IP MCP
-T250 （油化電子株式会社）を用いて測定した。さら
に、膜強度は爪強度であり、爪で傷がつかないものを
○、傷がつくものを×とした。これらの測定結果を表１
に示す。

【００２３】

【表１】表１から明らかなように、実施例１で得られたカラー陰
極線管のパネルでは、白色ラスター時および外観のムラ
を肉眼により観察することができなかった。これに対
し、比較例で得られたカラー陰極線管のパネルでは、溶
液Ａにポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート
を添加していないので、白色ラスター時および外観のム
ラを明瞭に確認することができた。また、パネル間抵抗
値、表而抵抗値および膜強度については、実施例１およ
び比較例の間で大きな相違はなく、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノパルミテートを用いた場合でも漏洩電場
の発生を防止し、十分な強度を発揮することが確認され
た。

【００２４】（実施例２〜実施例７）溶液Ａに含有させ
るポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテートの量
を、0.01容量％（実施例２）、0.02容量％（実施例
３）、0.05容量％（実施例４）、0.1容量％（実施例
５）、 0.2容量％（実施例６）および 0.5容量％（実施
例７）とした以外は実施例１と同一の条件でカラー陰極
線管を得た。

【００２５】次いで、実施例２〜実施例７でそれぞれ得
られたカラー陰極線管のパネルについて、白色ラスター
時および外観のムラを肉眼により観察した。その測定結
果を表２に示す。

【００２６】

【表２】表２から明らかなように、実施例４で得られたカラー陰
極線管のパネルでは、白色ラスター時および外観のムラ
を肉眼により観察することができなかった。これに対
し、実施例２、３、実施例５〜７で得られたカラー陰極
線管のパネルでは、溶液Ａに含有させるポリオキシエチ
レンソルビタンモノパルミテートの量が0.05容量％（実
施例４）より0.01容量％（実施例２）に減少するにつれ
て、また、0.5容量％（実施例７）に増加するにつれて
白色ラスター時および外観のムラを確認することができ
た。

【００２７】したがって、溶液Ａに含有させるポリオキ
シエチレンソルビタンモノパルミテートの量を0.01容量
％〜 0.5容量％の範囲とすることで、カラー陰極線管の
パネルのムラを実用的には十分なレベルで解消すること
が確認でき、さらに、溶液Ａに含有させるポリオキシエ
チレンソルビタンモノパルミテートの量を0.05容量％〜
0.06容量％とした場合に最も顕著な効果を奏することが
確認された。

【００２８】なお、実施例１〜実施例７において、ポリ
オキシエチレンソルビタンモノパルミテートの代わり
に、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート（第
一工業製薬株式会社： TW-20）およびポリオキシエチレ
ンソルビタンモノオレート（日本油脂株式会社：OT-22
1）を用いた場合においても、ほぼ同じ結果が得られる
ことを確認している。

【００２９】

【発明の効果】以上、詳述したように、本発明による陰
極線管の製造方法によれば、導電膜の抵抗を十分に低く
するとともに、導電膜の成膜に際しムラの発生が防止さ
れるので、漏洩電場の発生を防止し、画質の高い画像を
得ることができる陰極線管の製造方法を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明により製造された陰極線管の一実施形態
を示した図である。

【符号の説明】

１……パネル２……ファンネル３……蛍光面４……シャドウマスク５……ネック６……電子
銃７……導電性反射防止膜

フロントページの続き (72)発明者深澤浩義埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷電子工場内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フェースプレートの前面パネルの外表面
に、水、導電性微粒子および非イオン系界面活性剤を含
む溶液を塗布する工程と、前記塗布した溶液より溶媒を除去して塗膜を形成する工
程と、前記形成した塗膜を焼成する工程と、を具備したことを特徴とする陰極線管の製造方法。
【請求項２】前記溶液は、前記非イオン系界面活性剤
を0.01重量％〜0.5重量％の範囲で含有することを特徴
とする請求項１に記載の陰極線管の製造方法。
【請求項３】前記非イオン系界面活性剤は、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸エステル系の界面活性剤で
あることを特徴とする請求項１または２に記載の陰極線
管の製造方法。