JPH10338706A - 高温度溶液重合方法 - Google Patents
高温度溶液重合方法Info
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- JPH10338706A JPH10338706A JP10150246A JP15024698A JPH10338706A JP H10338706 A JPH10338706 A JP H10338706A JP 10150246 A JP10150246 A JP 10150246A JP 15024698 A JP15024698 A JP 15024698A JP H10338706 A JPH10338706 A JP H10338706A
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- C08F4/65912—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond in combination with an organoaluminium compound
Abstract
オレフィンポリマー又はコポリマーを製造する。 【解決手段】 モノシクロペンタジエニル配位子、ホス
フィンイミン配位子、と少なくとも1種のユニネガチブ
な活性化反応性配位子を有する非架橋の4族の金属化合
物を含む触媒系を使用し、80℃以上の反応温度で、オ
レフィンモノマーを溶液重合して、高数平均分子量のポ
リマーの製造を可能にした。
Description
シクロペンタジエニル、共有結合したホスフィンイミン
(また、ホスファンイミンとも呼ぶ)配位子、と少なく
とも1つの残りの配位子を含む錯体、及びアニオン活性
化種を含む活性化剤より成る触媒系の存在下で、比較的
高温度の溶液重合条件を用いて、高分子量オレフィンポ
リマー及びコポリマーの製造に関するものである。
れ以上のオレフィンを含むポリマーは、広く知られ且つ
フィルム包装から熱可塑性エラストマーまでの広範な分
野で用途がある。α−オレフィン系のコ−及びホモ−ポ
リマーは、主としてバナジウム及び/又はチタニウムと
金属アルキル活性化剤の併用に基ずく、チグラー・ナッ
タ触媒系存在下でこれまで製造されている。新規なメタ
ロセン触媒化合物が、コモノマーとの改良された混合
性、高活性、得られたポリマーの或る種の物理的特性、
例えば破裂抵抗性の改良のために注目されている。メタ
ロセン触媒は、ポリオレフィンの溶液重合法に適すると
広く言われているが、その分子量の可能性と触媒活性
(特に溶液重合で約100℃以上の温度で)の点で、あ
る種の限界がある。比較的速い停止反応(連鎖移動反
応)、例えばβ−水素化物の離脱反応のために、メタロ
セン触媒は、通常約100℃以上の温度で、約20,0
00に満たない分子量(Mn)のオレフィンポリマーと
コポリマーを生成する。さらに、反応型のメタロセン型
触媒は、約100℃以上の温度で脱活性化処理を受け易
いことが一般に認められている。
は本質的に新規ではない。例えば、数種の錯体、それら
の同属のものが、下記の各種論文に開示されている:シ
クロペンタジエニル・チタニウムとアリールジアセニド
またはホスフィンイミナト−配位子との錯体、J.R.デイ
ルワース、Journal of Organometallic Chemistry 、15
9(1978)47-52;(η5 −ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル)及び(η5 −エチルテトラメチルシクロペンタジ
エニル)チタン三フッ化物からの合成と反応、S.マン
ショーら、Chem.Ber. 、1993、136 、913-919;チタンと
シリル化アミノイミノホスフォラン及びスルホジイミド
配位子の新規錯体、R .ハッセルブリングら、Zeitschr
ift fur anorganische und allgemeineChemie、619(199
3)1543-1550;チタンとホスファンイミナト錯体、CpT
iCl2 (NPMe3 ) [TiCl3 (NPMe3 )]2 ,Ti2 Cl5 (NP
Me2 Ph)3 と[Ti3 Cl6 (NPMe3 )5 ]
[BPh]からの合成と結晶構造、T.ルーベンシュター
ルら、Zeitschrift fur anorganische und allgemeine
Chemie、620(1994)1741-1749;およびアミノビス(ジオ
ルガニルアミノ)ホスファンの合成と反応性、G.シック
ら、Chem.Ber. 、1996、129 、911-917 。
し、且つ1例では、錯体と共に活性化剤を開示している
が、オレフィンの重合、特に溶液工程のオレフィンの重
合は開示していない。1996年11月、マックギル大
学におけるIDW会議で、ウインザー大学、化学・生化
学学部、J.C.スチュアートと D.W. シュテファンは、ポ
スター発表で本発明の錯体を用いて室温エチレン重合を
開示している。ポリエチレンのグラム数/ミリモル/時
間(例えば、生産性又は活性)に換算した展開は、本発
明の活性化で得られたものに比較して数桁小さいもので
ある。ポスター発表は、室温以上の温度で本発明の触媒
系の使用と産業上の応用に到る成果を開示していない。
ルキル基、とPhは非置換又は6つのヒドロカルビル基
(好適にはC1-6 )で置換されたフェニル基である〕で
表される錯体を開示していない。
7年4月29日発行、エクソン化学特許会社に譲渡)
は、非架橋4族の金属、嵩高い(置換)モノシクロペン
タジエニル配位子、ユニネガチブの嵩高い基15配位子
と2つのユニネガチブな活性化反応性配位子より製造し
た触媒系の存在下で、オレフィンの重合、特にエチレン
・プロピレンゴムまたはエチレン・プロピレン・ジエン
モノマーコポリマーを開示している。特許の開示は、基
15配位子がアミド配位子であることを教示している。
さらに、例証した配位子の全てはアミド配位子である。
そして、その開示は、基15配位子が2置換である(例
えば、−N−(R)2 )ことも教示している。その特許
は、ホスフィンイミン配位子を教示しておらず、該配位
子では、窒素原子が4族の金属に共有結合し、且つ5価
の燐原子(例えば、−N=P(これが更に3つの付加配
位位置で結合する))に2重結合している。ホスフィン
イミン配位子は、1置換の基15配位子と見直されてい
る。つまり、この文献は、本発明の錯体を教示せず、示
唆もしていない。
レン−オレフィンコポリマーの製造に適する、アルモキ
サンで活性化した架橋モノシクロペンタジエニルチタニ
ウム化合物に基づく触媒系が、米国特許第5,264,
405号に開示されている。この特許は、シクロペンタ
ジエニル基が、メチル基で完全に置換され、且つ1級、
2級または3級の炭素原子を通して結合した脂肪族又は
脂環式ヒドロカルビル配位子を有するアミド基に橋架さ
れるべきであることを教示している。本発明の錯体は、
架橋されていないこの特許の錯体とは全く異なるもので
ある。
度の溶液重合条件下で、高分子量オレフィンポリマー及
びコポリマーの製造方法、及び比較的高温度で反応性を
有する錯体触媒を提供することである。
る4族の金属錯体と活性化剤を含む前駆体の存在下で、
80℃〜250℃の温度、15,000psigまでの
圧力(好適にはポリマーを形成する圧力)下で、エチレ
ンと所望成分としての1種又はそれ以上の脂肪族または
芳香族ヒドロカルビルC2-20モノまたはジ−オレフィン
の溶液重合方法を提供するものである;式:
nは1または2であり;Cpは非置換であるか又は5つ
までの置換基で置換されたモノシクロペンタジエニル配
位子であり、該置換基は、(1)C1-10ヒドロカルビル
基または一緒にして環を形成し得る2つのヒドロカルビ
ル基(そして該ヒドロカルビル置換基またはシクロペン
タジエニル基は、非置換であるか又はさらにハロゲン原
子、C1-8アルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10ア
リールまたはアリールオキシ基で置換されてもよく)、
(2)アミド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8
アルキル基で置換されている)、(3)ホスフィド基
(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基で置
換されている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、
各R2 は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C
6-10アリール又はアリールオキシ基より成る群から独立
して選ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれ;
各R1 は、(1)水素原子、(2)ハロゲン原子、
(3)C1-10ヒドロカルビル基(非置換であるか又はさ
らにハロゲン原子、C1-8 アルキル基、C1-8 アルコキ
シ基、C6-10アリール又はアリールオキシ基で置換され
ている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2
は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C6-10ア
リール又はアリールオキシ基より成る群から独立して選
ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれる
か、又は2つのR1 基は一緒に2座のC1-10ヒドロカル
ビル基を形成してもよく(そして該ヒドロカルビル基
は、非置換であるか又はさらに(1)ハロゲン原子、
(2)C1-8アルキル基、(3)C1-8 アルコキシ基、
(4)C6-10アリール又はアリールオキシ基、(5)式
−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2 は、水素、C1-8 ア
ルキル又はアルコキシ基、C6-10アリール又はアリール
オキシ基より成る群から独立して選ばれる)で表される
シリル基、と(6)式Ge−(R2 ) 3 (式中、R2 は
上で定義したものである)で表されるゲルマニル基で置
換されたものであり)、ただしR1 は個々に又は2つの
R1 基が一緒になって上に定義したCp配位子を形成し
ないものとする;各L1 は、(1)水素原子、(2)ハ
ロゲン原子、(3)C1-10ヒドロカルビル基、(4)C
1-10アルコキシ基、と(5)C5-10アリールオキサイド
基より成る群から独立して選ばれる(そして該ヒドロカ
ルビル、アルコキシ、とアリールオキサイド基の各々
は、非置換であるか又はさらにハロゲン原子、C1-8 ア
ルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10アリール又はア
リールオキシ基、アミド基(非置換であるか又は2つま
でのC1-8 アルキル基で置換されている)、とホスフィ
ド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基
で置換されている)で置換されていてもよい)、ただし
L1 は上に定義したCp基ではないものとする;〕。
マーを製造するために80℃以上の温度で反応性を有す
る、好適には下式で表される4族の金属錯体と活性化剤
を含む錯体を提供することである;式:
nは1または2であり;Cpは非置換であるか又は5つ
までの置換基で置換されたモノシクロペンタジエニル配
位子であり、該置換基は、(1)C1-10ヒドロカルビル
基または一緒にして環を形成し得る2つのヒドロカルビ
ル基(そして該ヒドロカルビル置換基またはシクロペン
タジエニル基は、非置換であるか又はさらにハロゲン原
子、C1-8アルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10ア
リールまたはアリールオキシ基で置換されてもよく)、
(2)アミド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8
アルキル基で置換されている)、(3)ホスフィド基
(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基で置
換されている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、
各R2 は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C
6-10アリール又はアリールオキシ基より成る群から独立
して選ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれ;
各R1 は、(1)水素原子、(2)ハロゲン原子、
(3)C1-10ヒドロカルビル基(非置換であるか又はさ
らにハロゲン原子、C1-8 アルキル基、C1-8 アルコキ
シ基、C6-10アリール又はアリールオキシ基で置換され
ている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2
は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C6-10ア
リール又はアリールオキシ基より成る群から独立して選
ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれる
か、又は2つのR1 基は一緒に2座のC1-10ヒドロカル
ビル基を形成してもよく(そして該ヒドロカルビル基
は、非置換であるか又はさらに(1)ハロゲン原子、
(2)C1-8アルキル基、(3)C1-8 アルコキシ基、
(4)C6-10アリール又はアリールオキシ基、(5)式
−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2 は、水素、C1-8 ア
ルキル又はアルコキシ基、C6-10アリール又はアリール
オキシ基より成る群から独立して選ばれる)で表される
シリル基、と(6)式Ge−(R2 ) 3 (式中、R2 は
上で定義したものである)で表されるゲルマニル基で置
換されたものであり)、ただしR1 は個々に又は2つの
R1 基が一緒になって上に定義したCp配位子を形成し
ないものとする;各L1 は、(1)水素原子、(2)ハ
ロゲン原子、(3)C1-10ヒドロカルビル基、(4)C
1-10アルコキシ基、と(5)C5-10アリールオキサイド
基より成る群から独立して選ばれる(そして該ヒドロカ
ルビル、アルコキシ、とアリールオキサイド基の各々
は、非置換であるか又はさらにハロゲン原子、C1-8 ア
ルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10アリール又はア
リールオキシ基、アミド基(非置換であるか又は2つま
でのC1-8 アルキル基で置換されている)、とホスフィ
ド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基
で置換されている)で置換されていてもよい)、ただし
L1 は上に定義したCp基ではないものとする;〕。
ペンタジエニル」は、環中に非局在化した結合を有し、
通常、η5 −共有結合で4族の金属(M)に結合してい
る5員炭素環を言う。
は、反応溶剤から極性不純物の除去に効果的な化合物を
含んでいる。このような不純物は、全ての重合反応成
分、特に溶剤、モノマーや触媒の供給と共に不注意に混
入する可能性があり、触媒の活性と安定性に悪影響を及
ぼすものである。不純物は触媒活性を低減するか或いは
消滅させる可能性があり、特に4族の金属をイオン化す
る活性化剤が共存する時にはその可能性が大きい。
法は、不活性炭化水素溶剤、通常非置換又はC1-4 アル
キル基で置換したC5-12炭化水素、例えば、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチ
ルシクロヘキサンと水素化ナフサの存在下で行われる。
その他の追加溶剤はアイソパーE(C8-12脂肪族溶剤、
エクソン化学社)がある。
われる。この温度は製造する製品に依存性があり、或る
種のエチレン・プロピレンポリマーとエチレン・ジエン
モノマーポリマーでは80℃〜約180℃と比較的に低
い温度であり、従来からのポリエチレンとエチレン・ス
チレンコポリマーでは約120℃〜約250℃の温度で
ある。反応圧力は、旧来の高圧法並の約15,000p
sig、または約100〜4,500psigである。
よびC3-20モノ−とジ−オレフィンである。好適なモノ
マーは、エチレン、非置換又は2つまでのC1-6 アルキ
ル基で置換したC3-12α−オレフィン、非置換又はC
1-4 アルキル基より成る群から選ばれた2つまでの置換
基で置換されたC8-12ビニル芳香族モノマー、非置換又
はC1-4 アルキル基で置換されたC4-12直鎖または環式
ジオレフィンを含んでいる。限定するものではないが、
このようなα−オレフィンの具体例は、1種またはそれ
以上の、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−
ヘキセン、1−オクテン、と1−デセン、スチレン、α
−メチルスチレン、p−t−ブチルスチレン、と強制環
化した環式オレフィン、例えば、シクロブテン、シクロ
ペンテン、ジシクロペンタジエンノルボルネン、アルキ
ル置換ノルボルネン、アルケニル置換ノルボルネン等
(例えば、5−メチレン−2−ノルボルネンと5−エチ
リデン−2−ノルボルネン、ビシクロ−(2,2,1)
−ヘプタ−2,5−ジエン)がある。
マーは、通常60重量%以上のエチレンを含み、好適に
は70重量%以上のエチレン、と好適には1−ブテン、
1−ヘキセンと1−オクテンより成る群から選ばれる1
種又はそれ以上のC4-10α−オレフィン残部を含む。本
発明に従って製造するポリエチレンは、約0.910〜
0.935g/ccの密度を有する直鎖低密度ポリエチ
レン、または約0.935g/cc以上の密度を有する
(直鎖)高密度ポリエチレンである。本発明は、0.9
10g/cc以下の密度を有するポリエチレン−いわゆ
る極低及び超低密度ポリエチレンの製造にも有効であ
る。
のようなビニル芳香族モノマーのコポリマー製造に使用
できる。又、本発明は、1種またはそれ以上のC2-4 α
−オレフィンのコポリマーの製造、好適にはエチレンと
上記ビニル芳香族モノマー、好適にはスチレンのコポリ
マーの製造に使用できる。通常、α−オレフィンは、約
5〜95重量%の量、好適には10〜90重量%の量で
存在し、ビニル芳香族モノマーは約95〜5重量%の
量、好適には90〜10重量%の量で存在する。
分として1種又はそれ以上のジエンモノマーより成る、
コ−及びターポリマーの製造に使用できる。通常、この
ようなポリマーは、約50から約75重量%のエチレ
ン、好適には約50から約60重量%のエチレン、及び
同様に50から約25重量%のプロピレンを含有する。
モノマーの一部、通常はプロピレンモノマーの一部が、
共役ジオレフィンで置き換えできる。ジオレフィンは、
ポリマーの10重量%までの量で存在してもよく、通常
は約3〜5重量%の量で存在する。
重量%とするとき、40〜75重量%のエチレン、50
〜15重量%のプロピレン、と10重量%までのジエン
モノマーを含む組成である。ジエンの好適な例は、ジシ
クロペンタジエン、1,4−ヘキサジエン、5−メチル
−2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネ
ン、と5−ビニル−2−ノルボルネンがあり、しかしこ
れに限定するものではない。特に好適なジエンは、5−
エチリデン−2−ノルボルネン、と1,4−ヘキサジエ
ンである。
ポリマーは、当業者であれば、創造的な試験を伴わずに
決めることができる。
な分子量をもつ。即ち、分子量(Mn)は好ましくは約
20,000以上である(最適には25,000〜12
5,000)。これは、溶液重合法で約80℃以上の温
度でのシングルサイト又は準シングルサイト触媒として
は極めて良好な結果である。
で表される錯体を含んでいる;式:
nは1または2であり;Cpは非置換であるか又は5つ
までの置換基で置換されたモノシクロペンタジエニル配
位子であり、該置換基は、(1)C1-10ヒドロカルビル
基または一緒にして環を形成し得る2つのヒドロカルビ
ル基(そして該ヒドロカルビル置換基またはシクロペン
タジエニル基は、非置換であるか又はさらにハロゲン原
子、C1-8アルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10ア
リールまたはアリールオキシ基で置換されてもよく)、
(2)アミド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8
アルキル基で置換されている)、(3)ホスフィド基
(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基で置
換されている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、
各R2 は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C
6-10アリール又はアリールオキシ基より成る群から独立
して選ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれ;
各R1 は、(1)水素原子、(2)ハロゲン原子、
(3)C1-10ヒドロカルビル基(非置換であるか又はさ
らにハロゲン原子、C1-8 アルキル基、C1-8 アルコキ
シ基、C6-10アリール又はアリールオキシ基で置換され
ている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2
は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C6-10ア
リール又はアリールオキシ基より成る群から独立して選
ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれる
か、又は2つのR1 基は一緒に2座のC1-10ヒドロカル
ビル基を形成してもよく(そして該ヒドロカルビル基
は、非置換であるか又はさらに(1)ハロゲン原子、
(2)C1-8アルキル基、(3)C1-8 アルコキシ基、
(4)C6-10アリール又はアリールオキシ基、(5)式
−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2 は、水素、C1-8 ア
ルキル又はアルコキシ基、C6-10アリール又はアリール
オキシ基より成る群から独立して選ばれる)で表される
シリル基、と(6)式Ge−(R2 ) 3 (式中、R2 は
上で定義したものである)で表されるゲルマニル基で置
換されたものであり)、ただしR1 は個々に又は2つの
R1 基が一緒になって上に定義したCp配位子を形成し
ないものとする;各L1 は、(1)水素原子、(2)ハ
ロゲン原子、(3)C1-10ヒドロカルビル基、(4)C
1-10アルコキシ基、と(5)C5-10アリールオキサイド
基より成る群から独立して選ばれる(そして該ヒドロカ
ルビル、アルコキシ、とアリールオキサイド基の各々
は、非置換であるか又はさらにハロゲン原子、C1-8 ア
ルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10アリール又はア
リールオキシ基、アミド基(非置換であるか又は2つま
でのC1-8 アルキル基で置換されている)、とホスフィ
ド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基
で置換されている)で置換されていてもよい)、ただし
L1 は上に定義したCp基ではないものとする;〕。
置換である。しかし、Cpが置換される場合には、好適
な置換体は、フッ素原子、塩素原子、C1-6 ヒドロカル
ビル基または一緒にして架橋環を形成し得る2つのヒド
ロカルビル基、アミド基(非置換であるか又は2つまで
のC1-4 アルキル基で置換されている)、ホスフィド基
(非置換であるか又は2つまでのC1-4 アルキル基で置
換されている)、式−Si−(R2 ) 3 〔式中、各R2
は、水素原子とC1-4 アルキル基より成る群から独立し
て選ばれる〕で表されるシリル基、と式−Ge−
(R2 ) 3 〔式中、R2 は水素原子とC1-4 アルキル基
より成る群から独立して選ばれる〕で表されるゲルマニ
ル基である。
1 は、水素原子、ハロゲン原子、好適にはフッ素原子又
は塩素原子、C1-4 アルキル基、C1-4 アルコキシ基、
式−Si−(R2 ) 3 〔式中、各R2 は、水素原子、と
C1-4 アルキル基より成る群から独立して選ばれる〕で
表されるシリル基、と式−Ge−(R2 ) 3 〔式中、R
2 は水素原子、とC1-4 アルキル基より成る群から独立
して選ばれる〕で表されるゲルマニル基より成る群から
選ばれる。
1 は、水素原子、ハロゲン、好適にはフッ素原子又は塩
素原子、C1-6 アルキル基のようなヒドロカルビル基、
C1-6 アルコキシ基、とC6-10アリールオキサイド基よ
り成る群から独立して選ばれる。
(ii)4族の金属錯体をイオン化できる活性化剤(アル
キル化活性化剤と組み合わせて使用できる)より成る群
から選ばれる。
る; 式: R4 2 AlO(R4 AlO)m AlR4 2 〔式中、各R4 はC1-20ヒドロカルビル基より成る群か
ら独立して選ばれ、mは0から50であり、好適にはR
4 はC1-4 アルキル基、mは5〜30である〕。アルミ
ノキサン活性化剤は反応前に使用され、しかもインシチ
ューアルキル化が一般的である(例えば、L1 に置き換
えてアルキル基、水素、又はハライド基)。
する場合、アルミノキサンの量はアルキル化剤の反応性
に依存して決まる。アルミノキサンによる活性化は、通
常活性化剤中のアルミニウムと錯体中の4族金属のモル
比が50:1〜1000:1を必要とする。MAOは上
記範囲の高い側になるであろう。
族の錯体をイオン化できる活性化剤との組み合わせ以外
に、不純物除去剤としても作用するアルキル化活性剤と
組み合わせることができる。
も作用する)は、式(R3 ) p MgX2-P 〔式中、Xは
ハロゲン化物、各R3 はC1-10アルキル基より成る群か
ら独立して選ばれ、そしてpは1又は2である〕、式R
3 Li〔式中、R3 は上で定義したもの〕、式(R3 )
q ZnX2-q 〔式中、R3 は上で定義したものであり、
Xはハロゲン、qは1又は2である〕、式(R3 )s A
lX3-s 〔式中、R3は上で定義したものであり、Xは
ハロゲン、sは1〜3の整数である〕で表される化合物
より成る群から選ばれる。上記化合物中、好適にはR3
はC1-4 アルキル基、Xは塩素である。市場で入手可能
な化合物は、トリエチルアルミニウム(TEAL)、ジ
エチルアルミニウムクロライド(DEAC)、ジブチル
マグネシウム((Bu)2 Mg)、とブチルエチルマグ
ネシウム(BuEtMg又はBuMgEt)である。
は、(i)式[R5 ]+ [B(R7 )4 ]- 〔式中、B
はボロン原子であり、R5 は環式C5-7 芳香族カチオン
又はトリフェニルメチルカチオンであり、各R7 は非置
換であるか又は3〜5の置換基で置換されたフェニル基
(そして該置換基はフッ素原子、C1-4 アルキルまたは
アルコキシ基(非置換であるか又はフッ素原子で置換さ
れている))、と式Si−(R9 )3 (式中、R9 は水
素原子とC1-4アルキル基より成る群から独立して選ば
れる)で表されるシリル基より成る群から選ばれる〕で
表される化合物、(ii)式[(R8 )t ZH]+ [B
(R7 )4 ]- 〔式中、Bはボロン原子であり、Hは水
素原子であり、Zは窒素原子又は燐原子であり、tは2
又は3であり、R8 はC1-8 アルキル基、フェニル基
(非置換であるか又は3つまでのC1-4アルキル基で置
換されている)より成る群から選ばれるか、又は1つの
R8 は窒素原子と一緒になってアニリニウム基を形成し
てもよく、そしてR7 は上に定義したものである〕で表
される化合物、と(iii) 式B(R7 )3 〔式中、R7
は上に定義したものである〕で表される化合物、より成
る群から選択される。
タフルオロフェニル基であり、R5がトリフェニルメチ
ルカチオンであり、Zが窒素原子であり、R8 がC1-4
アルキル基であるか、又はR8 が窒素原子と一緒になっ
てアニリニウム基(2つのC1-4 アルキル基で置換され
ている)を形成する。
は、1種またはそれ以上のL1 配位子を抽出して、4族
の金属中心をイオン化してカチオンとなし、しかし4族
の金属とは共有結合せず、イオン化した4族の金属とイ
オン化活性化剤間に十分な距離を保たせて、重合性オレ
フィンを生成した活性位置に入らせる。つまり、4族の
金属錯体をイオン化できる活性化剤は、4族金属を+1
価状態に保持し、一方重合中には十分にオレフィンモノ
マーによる置き代わりを容易にしている。
例を以下に示す:トリエチルアンモニウムテトラ(フェ
ニル)ボロン;トリプロピルアンモニウムテトラ(フェ
ニル)ボロン;トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラ
(フェニル)ボロン;トリメチルアンモニウムテトラ
(p−トリル)ボロン;トリメチルアンモニウムテトラ
(o−トリル)ボロン;トリブチルアンモニウムテトラ
(ペンタフルオロフェニル)ボロン;トリプロピルアン
モニウムテトラ(o,p−ジメチルフェニル)ボロン;
トリブチルアンモニウムテトラ(m,m−ジメチルフェ
ニル)ボロン;トリブチルアンモニウムテトラ(p−ト
リフルオロメチルフェニル)ボロン;トリブチルアンモ
ニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボロン;トリ
(n−ブチル)アンモニウムテトラ(o−トリル)ボロ
ン;N,N−ジメチルアニリニウムテトラ(フェニル)
ボロン;N,N−ジエチルアニリニウムテトラ(フェニ
ル)ボロン;N,N−ジエチルアニリニウムテトラ(フ
ェニル)n−ブチルボロン;N,N−2,4,6−ペン
タメチルアニリニウムテトラ(フェニル)ボロン;ジ−
(イソプロピル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロ
フェニル)ボロン;ジシクロヘキシルアンモニウムテト
ラ(フェニル)ボロン;トリフェニルホスフォニウムテ
トラ(フェニル)ボロン;トリ(メチルフェニル)ホス
フォニウムテトラ(フェニル)ボロン;トリ(ジメチル
フェニル)ホスフォニウムテトラ(フェニル)ボロン;
トロピリウムテトラキスペンタフルオロフェニルほう
酸;トリフェニルメチリウムテトラキスペンタフルオロ
フェニルほう酸;ベンゼン(ジアゾニウム)テトラキス
ペンタフルオロフェニルほう酸;トロピリウムフェニル
トリス−ペンタフルオロフェニルほう酸;トリフェニル
メチリウムフェニル−トリスペンタフルオロフェニルほ
う酸;ベンゼン(ジアゾニウム)フェニルトリスペンタ
フルオロフェニルほう酸;トロピリウムテトラキス
(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)ほう酸;
トリフェニルメチリウムラキス(2,3,5,6−テト
ラフルオロフェニル)−ほう酸;ベンゼン(ジアゾニウ
ム)テトラキス(3,4,5−トリフルオロフェニル)
−ほう酸;トロピリウムテトラキス(3,4,6−トリ
フルオロフェニル)ほう酸;ベンゼン(ジアゾニウム)
テトラキス(3,4,5−トリフルオロフェニル)−ほ
う酸;トロピリウムテトラキス(1,2,2−トリフル
オロエテニル)ほう酸;トリフェニルメチリウムラキス
(1,2,2−トリフルオロエテニル)ほう酸;ベンゼ
ン(ジアゾニウム)テトラキス(1,2,2−トリフル
オロエテニル)−ほう酸;トロピリウムテトラキス
(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ほう酸;
トリフェニルメチリウムテトラキス(2,3,4,5−
テトラフルオロフェニル)−ほう酸;とベンゼン(ジア
ゾニウム)テトラキス(2,3,4,5−テトラフルオ
ロフェニル)ほう酸。
で、市場で入手容易なものは、N,N−ジメチルアニリ
ニウムテトラキスペンタフルオロフェニルほう酸、トリ
フェニルメチリウムテトラキスペンタフルオロフェニル
ほう酸、とトリスペンタフルオロフェニルボロンであ
る。
の金属錯体をイオン化できる化合物以外にアルキル化剤
と組み合わせて活性させる場合、4族の金属:アルキル
化剤の金属:4族の金属錯体をイオン化できる活性化剤
中の非金属(即ち、ボロンまたは燐)のモル比は、1:
1:1〜1:10:5である。好適にはアルキル化活性
化剤は、4族の金属錯体と予め混合され/反応させら
れ、そして得られたアルキル化種は4族の金属錯体をイ
オン化できる活性化剤と反応させられる。
る前に溶剤に溶解又は分散させ、または気体モノマーの
場合は、反応混合物に溶解するように反応器に供給す
る。混合に先立って、通常溶剤とモノマーは精製により
極性成分を除去する。極性成分或いは触媒毒には、水、
酸素や金属不純物などがある。種々の成分の合成時又は
製造後に、化学的処理または慎重な分離技術のような手
段を使用して、このような極性成分を反応容器に供給す
る前に除去することが好ましい。
えば分子篩のような業界の標準的作業に従って行われ、
アルミナ床と酸素除去触媒が、エチレン、α−オレフィ
ン、と所望成分のジエンの精製のために用いられる。溶
剤自体(例えば、ヘキサンとトルエン)もまた同様に処
理される。或る事例では、十分な注意が行き届かないの
で、重合工程に過剰の不純物除去活性化剤を採用するこ
とがある。
よい。しかし、多くの事例では、反応器から熱を除去す
ることが好ましく、それ故反応器の冷却を助けるよう原
料は周辺温度とする。
るか、または分離流として反応器に供給できる。或る事
例では、予め混合することが好ましく、反応に入る前に
触媒成分に反応時間を与えている。このような「インラ
イン混合」技術は、デュポンカナダ社の名の下に多くの
特許に開示されている。例えば、米国特許第5,58
9,555号、1996年12月31日発行に開示され
ている。
または螺旋状反応器から構成されるか、または1個また
はそれ以上の反応器又はオートクレーブから構成され
る。このような2個の反応器は直列で用いられ、それぞ
れが異なる高分子量特性を達成するよう操作可能である
ことが知られている。反応器系での滞留時間は反応器の
設計と能力に依存している。通常、反応器は、反応体の
完全混合が達成されるような条件で操作をおこなう。反
応器系から離れた時、溶剤は除去され、得られたポリマ
ーは在来の方法で仕上げを行う。
実現でき、一方高分子量のポリマーも提供する。本発明
の触媒の反応性は、80℃以上の温度で少なくとも20
0、好適には1,000以上、最適には1,500の重
合速度(Kp、l/mmol触媒×分)を実現する。以
下に、実施例を用いて本発明を詳しく説明するが、この
例に限定するものではない。
を用いて実施した。その工程は、全ての供給流(溶剤、
モノマー、と触媒)と製品の除去で連続操作である。種
々の吸着媒体に接触させて、反応器に導く前に全供給流
を精製し、当業者に周知の触媒毒不純物、例えば、水、
酸素や極性物質を除去した。精製窒素雰囲気下で、全成
分を貯蔵および取扱をした。
応器中で実施した。各実験で、反応器への供給容量を一
定とし、従って反応容器滞留時間も一定であった。
化剤と触媒の事前接触を回避した。活性化剤、触媒とM
AOのヘキサンに対する溶解度が小さい故、トルエンを
用いて溶液を調整した。触媒は、モノマーの存在下、反
応温度でインシチュー(重合反応器中)で活性化した。
重合は、1,500psiの圧力下でヘキサン中で実施
した。エチレンを、検定した熱質量流量計により反応器
に供給し、反応溶剤に溶解した後に重合反応器に移し
た。コモノマーを使用する場合には、予めコモノマーと
エチレンを混合した後に重合反応器に入れた。これらの
条件下では、エチレンの転換は従属変数であって、触媒
濃度、反応温度、と触媒活性度で調節できる。
で監視し、必要な設定温度の±0.5℃に調節可能であ
る。反応器の下流で圧力は、反応圧力(1,500ps
i)から大気圧に減圧される。固体ポリマーを濃縮溶剤
中のスラリーとして回収し、蒸発乾燥の後に分析を行
う。
クロマトグラフにより測定する。平均重合速度定数は、
反応器滞留時間、触媒濃度とエチレン転換に基づいて計
算してl/(ミリモル・分)で表す。
移動相として1,2,4−トリクロルベンゼンを用い、
GPC(ゲル透過クロマトグラフィ)分析を実施した。
試料は、外部オーブンで、0.1%(W/V)で、ポリ
マーを移動相溶剤に溶解して調整し、そして濾過せずに
実験した。分子量は、MnとMwそれぞれに2.9と
5.0%の相対標準偏差をもつポリエチレン相当品とし
て表した。メルトインデクス(MI)測定は、ASTM
法D−1238−82に従って実施した。ポリマー密度
は、密度計を使用してプレス加工板(ASTMD−19
28−90)を用い測定した。
ウム[(トリ(t−ブチル)ホスフィンイミン)]
(2,6−ジイソプロピルフェノキシ)クロライドを、
Al/Ti=200(モル/モル)でMMAO−7(ア
クゾ−ノーベル)と共に、反応器に加えた。反応温度を
160℃とし、2.1g/分の速度でエチレンを連続的
に反応器に加えた。91.6%のエチレン転換が観察さ
れた。試験結果を下の表1に掲載した。
ウム[(トリ(t−ブチル)ホスフィンイミン)]
(2,6−ジイソプロピルフェノキシ)クロライドを、
3ml/分の1−オクテンと共に使用する以外は、実施
例1と同様の条件であった。88.8%のエチレン転換
が観察された。試験結果を表1に掲載した。
ルドリッチ)を、PMAO(アクゾ−ノーベル、Al/
Ti=2880モル/モル)と共に、反応器に加えた。
反応温度を140℃とし、0.84g/分の速度でエチ
レンを連続的に反応器に加えた。33%のエチレン転換
の結果を得た。試験結果を下の表1に掲載した。この試
験で使用した触媒は、「通常」のモノシクロペンタジエ
ニル4族触媒であり、若干低い反応温度で用いた。触媒
の反応性は表1に見られるように極めて低い。
3 (ストレム)を、B(C 6 F5 )3 (ストレム、B/
Ti=1.0モル/モル)と共に、反応器に加えた。反
応温度を140℃とし、0.84g/分のエチレンを反
応器に連続的に加えた。42%のエチレン転換の結果を
得た。結果を下の表1に掲載した。この試験に用いた触
媒は、「標準」のモノシクロペンタジエニル4族触媒で
あり、若干低い条件で使用した。触媒の反応性は、表1
に見られるように極めて低い。
中で1モル等量のピペリジンと混合して、インシチュウ
で(C5 Me5 )TiMe2 N(CH2 )5 を作成し
た。800×10-6モル/lのこの溶液を、B(C6 F
5 )3 (ストレム、B/Ti=3.0モル/モル)と共
に、反応器に加えた。反応温度を140℃とし、0.8
4g/分のエチレンを反応器に連続的に加えた。78%
のエチレン転換が観察された。試験の結果を下の表1に
掲載した。転換率は許容でき、分子量も合理的である
が、触媒の反応性は低かった。使用触媒は、米国特許第
5,625,016号で教示する触媒を代表している。
37×10-6モル/lで、Ph3 CB(C6 F5 )
4 (旭ガラス、B/Ti=1.0モル/モル)と共に反
応器に加えた。反応温度を140℃とし、1.0g/分
のエチレンを反応器に連続的に加えた。22%のエチレ
ン転換が観察された。試験の結果を下の表1に掲載し
た。転換率は許容でき、分子量も合理的であるが、触媒
の反応性は低かった。使用触媒は、米国特許第5,62
5,016号で教示する触媒を代表している。
トレム)を、ジブチルマグネシウム(アクゾ−ノーベ
ル、Mg/Ti=5.0モル/モル)とHNMe2 Ph
B(C6 F5 )3 (アクゾ−ノーベル、B/Ti=1.
0モル/モル)と共に反応器に加えた。反応温度を14
0℃とし、1.0g/分のエチレンを反応器に連続的に
加えた。30%のエチレン転換が観察された。試験の結
果を下の表1に掲載した。用いた触媒は、別の「通常」
のモノシクロペンタジエニル触媒であり、ホスフィンイ
ミン配位子は付いていなかった。
2 (ストレム)を、MMAO−3(アクゾ−ノーベル、
Al/Ti=400モル/モル)と共に反応器に加え
た。反応温度を140℃とし、1.0g/分のエチレン
を反応器に連続的に加えた。55.5%のエチレン転換
が観察された。試験の結果を下の表1に掲載した。用い
た触媒は、別の「標準」のビスシクロペンタジエニル触
媒であり、ホスフィンイミン配位子は付いていなかっ
た。触媒活性とポリマー分子量とも低い。
2 (ストレム)を、MMAO−3(アクゾ−ノーベル、
Al/Ti=400モル/モル)と共に反応器に加え
た。反応温度を160℃とし、1.0g/分のエチレン
を反応器に連続的に加えた。35.6%のエチレン転換
が観察された。試験の結果を下の表1に掲載した。この
試験は160℃における試験8の繰り返しであり、高温
度における急速な触媒分解の結果として重合速度が減少
した。ポリマー分子量の低下も見られた。
2 (ストレム)を、MMAO−3(アクゾ−ノーベル、
Al/Ti=400モル/モル)と共に反応器に加え
た。反応温度を160℃とし、2.1g/分のエチレン
を反応器に連続的に加えた。37.4%のエチレン転換
が観察された。試験の結果を下の表1に掲載した。この
試験は高エチレン濃度における試験9の繰り返しであっ
た。
Claims (43)
- 【請求項1】 80℃〜250℃の温度、15,000
psigまでの圧力下で、エチレンと所望成分としての
1種又はそれ以上の脂肪族または芳香族ヒドロカルビル
C2-20モノまたはジ−オレフィンの溶液重合方法であっ
て、式: 【化1】 〔式中、MはTi、ZrとHfより成る群から選ばれ;
nは1または2であり;Cpは非置換であるか又は5つ
までの置換基で置換されたモノシクロペンタジエニル配
位子であり、該置換基は、(1)C1-10ヒドロカルビル
基または一緒にして環を形成し得る2つのヒドロカルビ
ル基(そして該ヒドロカルビル置換基またはシクロペン
タジエニル基は、非置換であるか又はさらにハロゲン原
子、C1-8アルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10ア
リールまたはアリールオキシ基で置換されてもよく)、
(2)アミド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8
アルキル基で置換されている)、(3)ホスフィド基
(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基で置
換されている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、
各R2 は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C
6-10アリール又はアリールオキシ基より成る群から独立
して選ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれ;
各R1 は、(1)水素原子、(2)ハロゲン原子、
(3)C1-10ヒドロカルビル基(非置換であるか又はさ
らにハロゲン原子、C1-8 アルキル基、C1-8 アルコキ
シ基、C6-10アリール又はアリールオキシ基で置換され
ている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2
は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C6-10ア
リール又はアリールオキシ基より成る群から独立して選
ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれる
か、又は2つのR1 基は一緒に2座のC1-10ヒドロカル
ビル基を形成してもよく(そして該ヒドロカルビル基
は、非置換であるか又はさらに(1)ハロゲン原子、
(2)C1-8アルキル基、(3)C1-8 アルコキシ基、
(4)C6-10アリール又はアリールオキシ基、(5)式
−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2 は、水素、C1-8 ア
ルキル又はアルコキシ基、C6-10アリール又はアリール
オキシ基より成る群から独立して選ばれる)で表される
シリル基、と(6)式Ge−(R2 ) 3 (式中、R2 は
上で定義したものである)で表されるゲルマニル基で置
換されたものであり)、ただしR1 は個々に又は2つの
R1 基が一緒になって上に定義したCp配位子を形成し
ないものとする;各L1 は、(1)水素原子、(2)ハ
ロゲン原子、(3)C1-10ヒドロカルビル基、(4)C
1-10アルコキシ基、と(5)C5-10アリールオキサイド
基より成る群から独立して選ばれる(そして該ヒドロカ
ルビル、アルコキシ、とアリールオキサイド基の各々
は、非置換であるか又はさらにハロゲン原子、C1-8 ア
ルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10アリール又はア
リールオキシ基、アミド基(非置換であるか又は2つま
でのC1-8 アルキル基で置換されている)、とホスフィ
ド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基
で置換されている)で置換されていてもよい)、ただし
L1 は上に定義したCp基ではないものとする;〕で表
される4族の金属錯体と活性化剤を含む前駆体の存在下
で重合を行うことを特徴とする前記方法。 - 【請求項2】 4族の金属錯体において、R1 は、水素
原子、塩素原子、C1-4 アルキル基、C1-4 アルコキシ
基、式−Si−(R2 ) 3 〔式中、各R2は、水素原
子、とC1-4 アルキル基より成る群から独立して選ばれ
る〕で表されるシリル基、と式−Ge−(R2 ) 3 〔式
中、R2 は水素原子、とC1-4 アルキル基より成る群か
ら独立して選ばれる〕で表されるゲルマニル基より成る
群から選ばれる、請求項1に記載する方法。 - 【請求項3】 4族の金属錯体において、各L1 は、水
素原子、塩素原子、C1-6 アルキル基、C1-6 アルコキ
シ基、とC6-10アリールオキサイド基より成る群から独
立して選ばれる、請求項2に記載する方法。 - 【請求項4】 4族の金属錯体において、Cpは非置換
であるか又は5つまでの置換基で置換されたモノシクロ
ペンタジエニル配位子であり、該置換基は、(1)C
1-6 ヒドロカルビル基または一緒にして架橋環を形成し
得る2つのヒドロカルビル基(そして該シクロペンタジ
エニル基と置換基は、さらにフッ素原子と塩素原子より
成る群から選ばれる置換基で置換されている)、(2)
アミド基(非置換であるか又は2つまでのC1-4 アルキ
ル基で置換されている)、(3)ホスフィド基(非置換
であるか又は2つまでのC1-4 アルキル基で置換されて
いる)、(4)式−Si−(R2 ) 3 〔式中、各R
2 は、水素原子とC1-4 アルキル基より成る群から独立
して選ばれる〕で表されるシリル基、と(5)式−Ge
−(R2 ) 3 〔式中、R2 は水素原子とC1-4 アルキル
基より成る群から独立して選ばれる〕で表されるゲルマ
ニル基より成る群から選ばれる、請求項3に記載する方
法。 - 【請求項5】 前記活性化剤が式R4 2 AlO(R4 A
lO)m AlR4 2〔式中、各R4 はC1-20ヒドロカル
ビル基より成る群から独立して選ばれ、mは0から50
である〕で表されるアルミノキサンであり、且つアルミ
ニウムと4族の金属とのモル比が50:1〜1000:
1になる量で存在する、請求項4に記載する方法。 - 【請求項6】 前記アルミノキサンにおいて、各R4 は
C1-4 アルキル基より成る群から独立して選ばれ、mは
5から30である、請求項5に記載する方法。 - 【請求項7】 温度が120℃〜250℃であり、圧力
が100〜4500psiである、請求項6に記載する
方法。 - 【請求項8】 前記モノ−またはジ−オレフィンが、C
2-12α−オレフィン(非置換であるか又は2つまでのC
1-6 アルキル基で置換されている)、C8-12ビニル芳香
族モノマー(非置換であるか又はC1-4 アルキル基より
成る群から選ばれた2つまでの置換基で置換されてい
る)、C4-12直鎖または環式ジオレフィン(非置換であ
るか又はC1-4 アルキル基で置換されている)より成る
群から選ばれる、請求項7に記載する方法。 - 【請求項9】 前記活性化剤が、 1.式(R3 ) p MgX2-P 〔式中、Xはハロゲン化
物、各R3 はC1-10アルキル基より成る群から独立して
選ばれ、そしてpは1又は2である〕、式R3 Li〔式
中、R3 は上で定義したもの〕、式(R3 ) q ZnX
2-q 〔式中、R3 は上で定義したものであり、Xはハロ
ゲン、qは1又は2である〕、式(R3 )s AlX3-s
〔式中、R3 は上で定義したものであり、Xはハロゲ
ン、sは1〜3の整数である〕で表される化合物より成
る群から選ばれるアルキル化活性剤、と 2.下記(i)〜(iii)の化合物より成る群から選ばれ
た、4族の金属錯体をイオン化できる活性化剤: (i)式[R5 ]+ [B(R7 )4 ]- 〔式中、R5 は
環式C5-7 芳香族カチオン又はトリフェニルメチルカチ
オンであり、各R7 は非置換であるか又は3〜5の置換
基で置換されたフェニル基(そして該置換基はフッ素原
子、C1-4 アルキルまたはアルコキシ基(非置換である
か又はフッ素原子で置換されている))、と式Si−
(R9 )3 (式中、R9 は水素原子とC1-4 アルキル基
より成る群から独立して選ばれる)で表されるシリル基
より成る群から選ばれる〕で表される化合物、 (ii)式[(R8 )t ZH]+ [B(R7 )4 ]- 〔式
中、Hは水素原子であり、Zは窒素原子又は燐原子であ
り、tは2又は3であり、R8 はC1-8 アルキル基、フ
ェニル基(非置換であるか又は3つまでのC1-4アルキ
ル基で置換されている)より成る群から選ばれるか、又
は1つのR8 は窒素原子と一緒になってアニリニウム基
を形成してもよく、そしてR7 は上に定義したものであ
る〕で表される化合物、と (iii) 式B(R7 )3 〔式中、R7 は上に定義したも
のである〕で表される化合物 を含み、4族の金属、アルキル化活性化剤中の金属、と
4族の金属錯体をイオン化できる化合物中の非金属のモ
ル比が、1:1:1〜1:10:5である、請求項4に
記載する方法。 - 【請求項10】 前記金属アルキル化活性化剤が、式
(R3 ) p MgX2-P〔式中、Xはハロゲン化物、各R
3 はC1-4 アルキル基であり、pは1又は2である〕、
と式(R3 )s AlX3-s 〔式中、R3 はC1-4 アルキ
ル基であり、Xはハロゲン、sは1〜3の整数である〕
で表される化合物より成る群から選ばれる、請求項9に
記載する方法。 - 【請求項11】 4族の金属錯体をイオン化できる活性
化剤において、R7がペンタフルオロフェニル基であ
り、R5 がトリフェニルメチルカチオンであり、Zが窒
素原子であり、R8 がC1-4 アルキル基であるか、又は
R8 が窒素原子と一緒になってアニリニウム基(2つの
C1-4 アルキル基で置換されている)を形成する、請求
項10に記載する方法。 - 【請求項12】 温度が120℃〜150℃であり、圧
力が100〜4500psiである、請求項11に記載
する方法。 - 【請求項13】 前記モノ−またはジ−オレフィンが、
エチレンとC2-12αオレフィン(非置換であるか又は2
つまでのC1-6 アルキル基で置換されている)、C8-12
ビニル芳香族モノマー(非置換であるか又はC1-4 アル
キル基より成る群から選ばれた2つまでの置換基で置換
されている)と、C4-12直鎖又は環式ジオレフィン(非
置換であるか又はC1-4 アルキル基で置換されている)
より成る群から選ばれる、請求項12に記載する方法。 - 【請求項14】 4族の金属錯体をイオン化できる前記
活性化剤が、 N,N−ジメチルアニリウムテトラキスペンタフルオロ
フェニルホウ酸塩、 トリフェニルメチリウムテトラキスペンタフルオロフェ
ニルホウ酸塩、とトリスペンタフルオロフェニルボロ
ン、より成る群から選ばれる、請求項13に記載する方
法。 - 【請求項15】 前記アルキル化活性化剤が、ジ−C
1-4 アルキルマグネシウム化合物である、請求項14に
記載する方法。 - 【請求項16】 前記アルキル化活性化剤が、ブチルエ
チルマグネシウムである、請求項15に記載する方法。 - 【請求項17】 前記αオレフィンポリマーが、少なく
とも60重量%のエチレンと40重量%までの1種又は
それ以上のC4-10αオレフィンを含む、請求項6に記載
する方法。 - 【請求項18】 前記αオレフィンポリマーが、5〜9
5重量%のエチレンと95〜5重量%のスチレンを含
む、請求項6に記載する方法。 - 【請求項19】 前記αオレフィンポリマーが、50〜
75重量%のエチレン、25〜50重量%のプロピレ
ン、と0〜10重量%のジエンモノマーを含む、請求項
6に記載する方法。 - 【請求項20】 前記αオレフィンポリマーが、少なく
とも60重量%のエチレンと40重量%までの1種又は
それ以上のC4-10αオレフィンを含む、請求項8に記載
する方法。 - 【請求項21】 前記αオレフィンポリマーが、5〜9
5重量%のエチレンと95〜5重量%のスチレンを含
む、請求項8に記載する方法。 - 【請求項22】 前記αオレフィンポリマーが、50〜
75重量%のエチレン、25〜50重量%のプロピレ
ン、と0〜10重量%のジエンモノマーを含む、請求項
8に記載する方法。 - 【請求項23】 前記αオレフィンポリマーが、少なく
とも60重量%のエチレンと40重量%までの1種又は
それ以上のC4-10αオレフィンを含む、請求項9に記載
する方法。 - 【請求項24】 前記αオレフィンポリマーが、5〜9
5重量%のエチレンと95〜5重量%のスチレンを含
む、請求項9に記載する方法。 - 【請求項25】 前記αオレフィンポリマーが、50〜
75重量%のエチレン、25〜50重量%のプロピレ
ン、と0〜10重量%のジエンモノマーを含む、請求項
9に記載する方法。 - 【請求項26】 前記αオレフィンポリマーが、少なく
とも60重量%のエチレンと40重量%までの1種又は
それ以上のC4-10αオレフィンを含む、請求項11に記
載する方法。 - 【請求項27】 前記αオレフィンポリマーが、5〜9
5重量%のエチレンと95〜5重量%のスチレンを含
む、請求項11に記載する方法。 - 【請求項28】 前記αオレフィンポリマーが、50〜
75重量%のエチレン、25〜50重量%のプロピレ
ン、と0〜10重量%のジエンモノマーを含む、請求項
11に記載する方法。 - 【請求項29】 前記αオレフィンポリマーが、少なく
とも60重量%のエチレンと40重量%までの1種又は
それ以上のC4-10αオレフィンを含む、請求項15に記
載する方法。 - 【請求項30】 前記αオレフィンポリマーが、5〜9
5重量%のエチレンと95〜5重量%のスチレンを含
む、請求項15に記載する方法。 - 【請求項31】 前記αオレフィンポリマーが、50〜
75重量%のエチレン、25〜50重量%のプロピレ
ン、と0〜10重量%のジエンモノマーを含む、請求項
15に記載する方法。 - 【請求項32】 エチレンポリマーを製造するための、
80℃以上の温度で反応性を有する錯体であって、該錯
体が式: 【化2】 〔式中、MはTi、ZrとHfより成る群から選ばれ;
nは1または2であり;Cpは非置換であるか又は5つ
までの置換基で置換されたモノシクロペンタジエニル配
位子であり、該置換基は、(1)C1-10ヒドロカルビル
基または一緒にして環を形成し得る2つのヒドロカルビ
ル基(そして該ヒドロカルビル置換基またはシクロペン
タジエニル基は、非置換であるか又はさらにハロゲン原
子、C1-8アルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10ア
リールまたはアリールオキシ基で置換されてもよく)、
(2)アミド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8
アルキル基で置換されている)、(3)ホスフィド基
(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基で置
換されている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、
各R2 は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C
6-10アリール又はアリールオキシ基より成る群から独立
して選ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれ;
各R1 は、(1)水素原子、(2)ハロゲン原子、
(3)C1-10ヒドロカルビル基(非置換であるか又はさ
らにハロゲン原子、C1-8 アルキル基、C1-8 アルコキ
シ基、C6-10アリール又はアリールオキシ基で置換され
ている)、(4)式−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2
は、水素、C1-8 アルキル又はアルコキシ基、C6-10ア
リール又はアリールオキシ基より成る群から独立して選
ばれる)で表されるシリル基、と(5)式Ge−
(R2 ) 3 (式中、R2 は上で定義したものである)で
表されるゲルマニル基より成る群から独立して選ばれる
か、又は2つのR1 基は一緒に2座のC1-10ヒドロカル
ビル基を形成してもよく(そして該ヒドロカルビル基
は、非置換であるか又はさらに(1)ハロゲン原子、
(2)C1-8アルキル基、(3)C1-8 アルコキシ基、
(4)C6-10アリール又はアリールオキシ基、(5)式
−Si−(R2 ) 3 (式中、各R2 は、水素、C1-8 ア
ルキル又はアルコキシ基、C6-10アリール又はアリール
オキシ基より成る群から独立して選ばれる)で表される
シリル基、と(6)式Ge−(R2 ) 3 (式中、R2 は
上で定義したものである)で表されるゲルマニル基で置
換されたものであり)、ただしR1 は個々に又は2つの
R1 基が一緒になって上に定義したCp配位子を形成し
ないものとする;各L1 は、(1)水素原子、(2)ハ
ロゲン原子、(3)C1-10ヒドロカルビル基、(4)C
1-10アルコキシ基、と(5)C5-10アリールオキサイド
基より成る群から独立して選ばれる(そして該ヒドロカ
ルビル、アルコキシ、とアリールオキサイド基の各々
は、非置換であるか又はさらにハロゲン原子、C1-8 ア
ルキル基、C1-8 アルコキシ基、C6-10アリール又はア
リールオキシ基、アミド基(非置換であるか又は2つま
でのC1-8 アルキル基で置換されている)、とホスフィ
ド基(非置換であるか又は2つまでのC1-8 アルキル基
で置換されている)で置換されていてもよい)、ただし
L1 は上に定義したCp基ではないものとする;〕で表
される4族の金属錯体と活性化剤を含むことを特徴とす
る前記錯体。 - 【請求項33】 4族の金属錯体において、R1 は、水
素原子、塩素原子、C1-4 アルキル基、C1-4 アルコキ
シ基、式−Si−(R2 ) 3 〔式中、各R2は、水素原
子とC1-4 アルキル基より成る群から独立して選ばれ
る〕で表されるシリル基、と式−Ge−(R2 ) 3 〔式
中、R2 は、水素原子とC1-4 アルキル基より成る群か
ら独立して選ばれる〕で表されるゲルマニル基より成る
群から選ばれる、請求項32に記載する錯体。 - 【請求項34】 4族の金属錯体において、各L1 は、
水素原子、塩素原子、C1-6 アルキル基、C1-6 アルコ
キシ基、とC6-10アリールオキサイド基より成る群から
独立して選ばれる、請求項33に記載する錯体。 - 【請求項35】 4族の金属錯体において、Cpは非置
換であるか又は5つまでの置換基で置換されたモノシク
ロペンタジエニル配位子であり、該置換基は、(1)C
1-6 ヒドロカルビル基または一緒にして架橋環を形成し
得る2つのヒドロカルビル基(そして該シクロペンタジ
エニル基と置換基は、さらにフッ素原子と塩素原子より
成る群から選ばれる置換基で置換されている)、(2)
アミド基(非置換であるか又は2つまでのC1-4 アルキ
ル基で置換されている)、(3)ホスフィド基(非置換
であるか又は2つまでのC1-4 アルキル基で置換されて
いる)、(4)式−Si−(R2 ) 3 〔式中、各R
2 は、水素原子とC1-4 アルキル基より成る群から独立
して選ばれる〕で表されるシリル基、と(5)式−Ge
−(R2 ) 3 〔式中、R2 は水素原子とC1-4 アルキル
基より成る群から独立して選ばれる〕で表されるゲルマ
ニル基より成る群から選ばれる、請求項34に記載する
錯体。 - 【請求項36】 前記活性化剤が、式R4 2 AlO(R
4 AlO)m AlR4 2 〔式中、各R4 はC1-20ヒドロ
カルビル基より成る群から独立して選ばれ、mは0から
50である〕で表されるアルミノキサンであり、且つア
ルミニウムと4族の金属とのモル比が50:1〜100
0:1になる量で存在する、請求項35に記載する錯
体。 - 【請求項37】 前記アルミノキサンにおいて、各R4
がC1-4 アルキル基より成る群から独立して選ばれ、m
が5から30である、請求項36に記載する錯体。 - 【請求項38】 前記活性化剤が、 1.式(R3 ) p MgX2-P 〔式中、Xはハロゲン化
物、各R3 はC1-10アルキル基より成る群から独立して
選ばれ、そしてpは1又は2である〕、式R3 Li〔式
中、R3 は上で定義したもの〕、式(R3 ) q ZnX
2-q 〔式中、R3 は上で定義したものであり、Xはハロ
ゲン、qは1又は2である〕、と式(R3 )s AlX
3-s 〔式中、R3 は上で定義したものであり、Xはハロ
ゲン、sは1〜3の整数である〕で表される化合物より
成る群から選ばれるアルキル化活性剤、と 2.下記(i)〜(iii)の化合物より成る群から選ばれ
た、4族の金属錯体をイオン化できる活性化剤: (i)式[R5 ]+ [B(R7 )4 ]- 〔式中、R5 は
環式C5-7 芳香族カチオン又はトリフェニルメチルカチ
オンであり、各R7 は非置換であるか又は3〜5の置換
基で置換されたフェニル基(そして該置換基はフッ素原
子、C1-4 アルキルまたはアルコキシ基(非置換である
か又はフッ素原子で置換されている))、と式Si−
(R9 )3 (式中、R9 は水素原子とC1-4 アルキル基
より成る群から独立して選ばれる)で表されるシリル基
より成る群から選ばれる〕で表される化合物、 (ii)式[(R8 )t ZH]+ [B(R7 )4 ]- 〔式
中、Hは水素原子であり、Zは窒素原子又は燐原子であ
り、tは2又は3であり、R8 はC1-8 アルキル基、フ
ェニル基(非置換であるか又は3つまでのC1-4アルキ
ル基で置換されている)より成る群から選ばれるか、又
は1つのR8 は窒素原子と一緒になってアニリニウム基
を形成してもよく、そしてR7 は上に定義したものであ
る〕で表される化合物、と (iii) 式B(R7 )3 〔式中、R7 は上に定義したも
のである〕で表される化合物 を含み、4族の金属、アルキル化活性化剤中の金属、と
4族の金属錯体をイオン化できる化合物中の非金属のモ
ル比が、1:1:1〜1:10:5である、請求項35
に記載する錯体。 - 【請求項39】 前記金属アルキル化活性化剤が、式
(R3 ) p MgX2-P〔式中、Xはハロゲン化物、各R
3 はC1-4 アルキル基であり、pは1又は2である〕、
と式(R3 )s AlX3-s 〔式中、R3 はC1-4 アルキ
ル基であり、Xはハロゲン、sは1〜3の整数である〕
で表される化合物より成る群から選ばれる、請求項38
に記載する錯体。 - 【請求項40】 4族の金属錯体をイオン化できる活性
化剤において、R7がペンタフルオロフェニル基であ
り、R5 がトリフェニルメチルカチオンであり、Zが窒
素原子であり、R8 がC1-4 アルキル基であるか、又は
R8 が窒素原子と一緒になってアニリニウム基(2つの
C1-4 アルキル基で置換されている)を形成する、請求
項39に記載する錯体。 - 【請求項41】 4族の金属錯体をイオン化できる前記
活性化剤が、 N,N−ジメチルアニリウムテトラキスペンタフルオロ
フェニルホウ酸塩、 トリフェニルメチリウムテトラキスペンタフルオロフェ
ニルホウ酸塩、とトリスペンタフルオロフェニルボロ
ン、より成る群から選ばれる、請求項40に記載する錯
体。 - 【請求項42】 前記アルキル化活性化剤が、ジ−C
1-4 アルキルマグネシウム化合物である、請求項41に
記載する錯体。 - 【請求項43】 前記アルキル化活性化剤が、ブチルエ
チルマグネシウムである、請求項42に記載する方法。
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