JPH10335720A - レーザ加工機用冷却装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 配管内のガス抜き作業を短時間で効率的に行
うこと。 【解決手段】 冷水経路１２と冷却水経路１３との間に
バイパス１８、１８を設ける。さらに、バイパス１８、
１８にはバイパス弁１７、１７を設ける。また、冷水経
路１２には冷水経路側切替弁１６、１６を、冷却水経路
１３には冷却水経路側切替弁１９、１９を設ける。この
冷水経路側切替弁１６、１６を閉じ、バイパス弁１７、
１７および冷却水経路側切替弁１９、１９を開いて、循
環ポンプ６と循環ポンプ９の両方を起動すると、２つの
循環ポンプを使用している分、循環水量が多くなり、冷
却水経路１３のガス抜き作業を効率的に短時間で行うこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、レーザ加工機用
冷却装置に関し、更に詳しくは、２系統の循環経路を有
する冷却装置であって、その配管内に残留したガス抜き
を効率的に短時間で行えるようにしたレーザ加工機用冷
却装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザ加工機とは、平行性のよい高パワ
ーのレーザ光を光学系により集束させて、被加工物の表
面を熱加工するものをいう。レーザ源には、固体レーザ
や気体レーザが用いられる。これらのレーザ発振器は熱
を持つため、通常、冷却装置により冷却を行い、レーザ
発振の安定を図っている。図６は、従来のレーザ加工機
用冷却装置の循環水経路を示す系統図である。このレー
ザ加工機用冷却装置３００は、冷水経路３１２と冷却水
経路３１３との２系統の循環水経路を備えている。符号
２は、冷却対象となるレーザ発振器である。

【０００３】冷水経路１２には、約１０℃〜１５℃の循
環水が流れる。この冷水経路３１２は、冷水用の循環ポ
ンプ６と、循環水を約１０度に冷やすための冷却器５
と、循環水が正常に流れていることを検出するフロー検
出器７と、をその経路中に有している。符号４は、循環
水を溜めておく補給水タンクである。また、この冷水経
路３１２には、循環水を所定の水質（電気伝導度）にす
ると共に当該所定の水質になったかを検出するためのイ
オン交換・検出器１５が設けられている。

【０００４】冷却水経路３１３には、室温より約３度高
い温度の循環水が流れる。この冷却水経路３１３は、循
環水を室温程度に冷却するためのファン式冷却器８と、
冷却水用の循環ポンプ９と、ガス抜き用切替弁３２１
と、をその経路中に有している。また、符号３２２は、
冷却水経路３１３に残留しているエアなどのガスを循環
水と共に排出するガス抜き経路である。ガス抜き用切替
弁３２１は、冷却水経路３１３において循環水を循環さ
せるか、ガス抜き経路３２２を介して補給水タンク４に
循環水を排出するか、を切り替える。符号３２０は、補
給水タンク４から冷却水経路３１３に循環水を補給する
ための補給用弁である。

【０００５】つぎに、補給水タンク４には、排水用配管
経路１１が設けられている。この排水用配管経路１１
は、ドレン用弁１０によって開閉する。また、符号１４
は、補給水タンク４に循環水を補給するための補給水経
路である。符号３は、循環ポンプ６、９の起動や弁の開
閉制御などを行う制御装置である。

【０００６】つぎに、レーザ加工機全体に循環水が循環
し、冷却装置の準備が完了するまでの過程を説明する。

【０００７】［冷水経路３１２の準備］まず、ドレン用
弁１０を閉じ、循環水を溜める補給水タンク４内に、補
給水経路１４から所定水質の循環水を注入する。つぎ
に、冷水経路３１２における循環ポンプ６の配管部分が
循環水で満たされた時点で、循環ポンプ６を起動する。
この循環ポンプ６の作用により、冷水経路３１２内で循
環水が循環する。

【０００８】冷却経路３１２内の循環水は、レーザ発振
器２、冷却器５およびフロー検出器７を経由し、補給水
タンク４内に排出される。補給水タンク４内に排出され
た循環水は、再び循環ポンプ６によって、冷水経路３１
２内に導入される。また、冷却経路３１２の配管内のガ
スは、循環水と共に配管内から押し出され、循環の過程
において、だんだん少なくなる。そして、所定の時間が
経過した後、冷水経路３１２内は、循環水で満たされ
る。また、冷水経路３１２には、イオン交換・検出器１
５を有する経路が並設されており、冷水経路３１２内の
循環水は、このイオン交換・検出器１５によりその水質
（電気伝導度）を改善される。

【０００９】［冷却水経路３１３の準備］まず、ガス抜
き用切替弁３２１をガス抜き経路３２２側に切り替え
る。続いて補給用弁３２０を開いて、補給水タンク４内
の循環水を配管内に導入する。そして、冷却水経路３１
３における循環ポンプ９の配管部分が循環水で満たされ
た時点で、循環ポンプ９を起動する。この循環ポンプ９
の作用により、冷却水経路３１３内で循環水が循環す
る。

【００１０】冷却水経路３１３内の循環水は、循環ポン
プ９により、レーザ発振器２、ファン式冷却器８を経由
して、ガス抜き用切替弁３２１に至る。ガス抜き用切替
弁３２１は、補給水タンク４側に切り替えられている。
従って、循環水はガス抜き経路３２２を通り、補給水タ
ンク４に排出される。補給水タンク４内に排出された循
環水は、再び補給用弁３２０を通って、冷却水経路３１
３に導入される。また、冷却水経路３１３の配管内のガ
スは、循環水と共に配管内から押し出され、循環の過程
において、だんだん少なくなる。そして、所定の時間が
経過した後、冷却水経路３１３内は、循環水で満たされ
る。その後、ガス抜き用切替弁３２１を冷却水経路３１
３側に切り替え、補給水用弁２０を閉じることにより、
冷却水経路３１３を、補給水タンク４を通らない経路と
する。

【００１１】レーザ加工機用冷却装置３００の準備は、
冷水経路３１２の循環水が所定の水質（電気伝導度）と
なっていること、および、冷却経路３１２内と冷却水経
路３１３内のガスが完全に除去されていること、が確認
されて初めて完了する。その後は、冷水経路３１２およ
び冷却水経路３１３にそれぞれ循環水を循環させつつ、
レーザ加工を行えばよい。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記レーザ
加工機用冷却装置３００の冷却水経路３１３は、補給水
タンク４の存在しない閉じた経路である。このため、配
管内に溜まっているエアなどのガスを排出するため、ガ
ス抜き経路３２２を設けている。

【００１３】しかしながら、そのようなガス抜き経路３
２２のみによっては、冷却水経路３１３の配管内からガ
スが完全に抜けたか否かの判定が難しいため、ガス抜き
作業を迅速に行い難いという問題点があった。

【００１４】また、冷却水経路３１３は、レーザ発振器
２のうち、発熱量の少ない光学部品（ミラーレンズな
ど）の冷却を行うものである。このため、循環水の水量
が少なく、その分、循環ポンプ９には能力は低いものを
用いている。しかしながら、循環ポンプ９の能力が低い
と、ガス抜き作業を短時間で行うことができないという
問題点があった。

【００１５】本発明は、上記に鑑みてなされたものであ
って、配管内のガス抜き作業を短時間で効率的に行える
レーザ加工機用冷却装置を得ることを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、この発明によるレーザ加工機用冷却装置は、循環
ポンプをその経路中に備え、レーザ加工機を構成する機
器のうち発熱量の大きいものを冷却する第１の循環水経
路と、前記循環ポンプより能力の低い循環ポンプをその
経路中に備え、前記発熱量より小さい発熱量の機器を冷
却する第２の循環水経路と、からなる２系統の循環水経
路を備えたレーザ加工機用冷却装置において、前記第１
の循環水経路と第２の循環水経路とを繋ぐバイパス経路
を備え、第１の循環水経路中の循環ポンプによる循環に
よって、第２の循環水経路中に残留しているガスを除去
するものである。

【００１７】循環水経路内のガスを抜くには、循環水量
が多い方が有利である。一般的に、発熱量の小さいもの
を冷却するには、能力の低い循環ポンプで必要十分であ
るが、ガス抜き作業においては、より能力の高い循環ポ
ンプの方が有利である。そこで、発熱量の大きい循環水
経路にて使用している循環ポンプを、利用するようにし
たものである。上記のバイパス経路は、前記第１の循環
水経路と第２の循環水経路とを繋ぐことにより、能力の
高い循環ポンプの利用を可能とする。これより、第２の
循環水経路における循環水量が増加し、より短時間で効
率的にガス抜き作業を行うことができるようになる。

【００１８】つぎの発明によるレーザ加工機用冷却装置
は、上記レーザ加工機用冷却装置において、前記第１の
循環水経路中の循環ポンプと、前記第２の循環水経路中
の循環ポンプを直列に接続できるように、バイパス経路
を備えたものである。

【００１９】バイパス経路は、上記の如く、第１の循環
水経路と第２の循環水経路とを繋ぐことにより、当該第
１の循環水経路の循環ポンプを利用して第２の循環水経
路の循環水量を増加せしめるものであるが、このバイパ
ス経路の配置によっては、第１の循環水経路の循環ポン
プと、第２の循環水経路の循環ポンプとを直列に接続す
ることができる。このようにすれば、さらに、循環水量
が増加して、より短時間で効率的にガス抜き作業を行う
ことができるようになる。

【００２０】つぎの発明によるレーザ加工機用冷却装置
は、経路の一部に循環水を溜めるタンクを備え、このタ
ンクに一旦循環水を排水しこの排水した循環水を再び導
入して経路内を循環させる第１の循環水経路と、閉じた
経路内で循環水を循環させる第２の循環水経路と、から
なる２系統の循環水経路を備えたレーザ加工機用冷却装
置において、前記第１の循環水経路と第２の循環水経路
とを繋ぐバイパス経路を設け、第２の循環水経路の循環
水を、第１の循環水経路のタンクに一旦排水し再び導入
して第２の循環水経路内を循環させるようにしたもので
ある。

【００２１】従来のように、第２の循環水経路が閉じた
経路であると、ガス抜きの確認を行いにくいが、このよ
うに、一旦循環水を排出するようにすれば、ガスが抜け
ているか否かの確認が容易になる。

【００２２】つぎの発明によるレーザ加工機用冷却装置
は、上記レーザ加工機用冷却装置において、さらに、前
記タンク内の水位を検出する水位検出手段を備え、その
タンク内の水位に基づき、第２の循環水経路のガス抜き
状態を判断するものである。

【００２３】このように、タンク内の水位に基づき、第
２の循環水経路のガス抜き状態を判断するようにすれ
ば、ガス抜きの確認を容易に行うことができ、自動化も
容易になる。

【００２４】つぎの発明によるレーザ加工機用冷却装置
は、その経路中に循環ポンプと循環水を溜めるタンクと
を備え、このタンクに一旦循環水を排水しこの排水した
循環水を再び導入して経路内を循環させることにより、
レーザ加工機を構成する機器のうち発熱量の大きいもの
を冷却する第１の循環水経路と、前記循環ポンプより能
力の低い循環ポンプをその経路中に備え、閉じた経路内
で循環水を循環させることにより、前記発熱量より小さ
い発熱量の機器を冷却する第２の循環水経路と、からな
る２系統の循環水経路を備えたレーザ加工機用冷却装置
において、前記第１の循環水経路と第２の循環水経路と
を繋ぐバイパス経路を備え、第１の循環水経路中の循環
ポンプによる循環によって、第２の循環水経路中に残留
しているガスを除去すると共に、前記タンク内の水位を
検出する水位検出手段を備え、前記タンク内の水位に基
づき、第１の循環水経路または第２の循環水経路のガス
抜き状態を判断するようにしたものである。

【００２５】すなわち、能力の高い第１の循環水経路の
循環ポンプを利用するので、循環水量が増加して、より
短時間で効率的にガス抜き作業を行うことができるよう
になる。また、タンク内の水位に基づき、第２の循環水
経路のガス抜き状態を判断するので、ガス抜きの確認を
容易に行うことができ、自動化も容易になる。

【００２６】つぎの発明によるレーザ加工機用冷却装置
は、経路の一部に循環水を溜めるタンクを備え、このタ
ンクに一旦循環水を排水しこの排水した循環水を再び導
入して経路内を循環させる循環水経路を備えたレーザ加
工機用冷却装置において、前記タンク内の水位を検出す
る水位検出手段を備え、そのタンク内の水位に基づき、
循環水経路のガス抜き状態を判断するものである。

【００２７】つぎの発明のレーザ加工機用冷却装置によ
れば、経路の一部に循環水を溜めるタンクを備え、この
タンクに一旦循環水を排水しこの排水した循環水を再び
導入して経路内を循環させる循環水経路を備えたレーザ
加工機用冷却装置において、前記タンク内の水位を検出
する水位検出手段を備え、そのタンク内の水位に基づ
き、循環水経路のガス抜き状態を判断するので、ガス抜
きの確認を容易に行うことができ、自動化も容易にな
る。

【００２８】上記では、水位検出手段により第２の循環
水経路のガス抜きを検出するようにしたが、この水位検
出手段は、第２の循環水経路に限らず、第１の循環水経
路のガス抜きにおいても有用である。従って、タンク内
の水位に基づき、第１の循環水経路のガス抜き状態を判
断すれば、ガス抜きの確認を容易に行うことができ、自
動化も容易になる。なお、この水位検出手段が第２の循
環水経路にも使用できることは明らかである。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、この発明に係るレーザ加工
機用冷却装置につき図面を参照しつつ詳細に説明する。
なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるもの
ではない。

【００３０】（実施の形態１）図１は、この発明の実施
の形態１に係るレーザ加工機用冷却装置の循環水経路を
示す系統図である。このレーザ加工機用冷却装置１００
は、循環水の循環に関して、冷水経路１２と冷却水経路
１３との２系統の循環水経路を備えている。符号２は、
冷却対象となるレーザ発振器である。

【００３１】冷水経路１２には、約１０℃〜１５℃の循
環水が流れる。この冷水経路１２は、冷水用の循環ポン
プ６と、循環水を約１０度に冷やすための冷却器５と、
循環水が正常に流れていることを検出するフロー検出器
７と、をその経路中に有している。符号４は、循環水を
溜めておく補給水タンクである。また、この冷水経路１
２には、循環水を所定の水質（電気伝導度）にすると共
に当該所定の水質になったかを検出するためのイオン交
換・検出器１５が並列に設けられている。

【００３２】冷却水経路１３には、室温より約３度高い
温度の循環水が流れる。この冷却水経路１３は、循環水
を室温程度に冷却するためのファン式冷却器８と、冷却
水用の循環ポンプ９と、をその経路中に有している。符
号１８は、冷水経路１２と冷却水経路１３とをつなぐバ
イパスである。このバイパス１８、１８は２本設けられ
ており、それぞれにバイパス弁１７、１７が設けられて
いる。符号１６、１６は、冷水経路側切替弁である。符
号１９、１９は、冷却水経路側切替弁である。

【００３３】また、循環ポンプ９の能力は比較的低いも
のでよい。冷却水経路１３がレーザ発振器２に内蔵され
たミラーレンズなどの光学部品の冷却を行うものであ
り、これらの発熱量は小さいので、循環水の水量は少な
くてよいためである。

【００３４】つぎに、補給水タンク４には、排水用配管
経路１１が設けられている。この排水用配管経路１１
は、ドレン用弁１０により開閉する。また、符号１４
は、補給水タンク４に循環水を補給するための補給水経
路である。この補給水経路１４の前段には、給水弁２０
が設けられている。さらに、補給水タンク４には、水面
の高さを検出する水位検出器２１が設けられている。符
号３は、循環ポンプ６、９の起動や各弁の開閉制御など
を行う制御装置である。なお、上記それぞれの弁に、電
磁駆動弁を用いることもできる。

【００３５】つぎに、レーザ加工機全体に循環水が循環
し、冷却装置の準備が完了するまでの過程を図２〜図４
を参照しつつ説明する。

【００３６】［冷水経路１２の準備］図２は、冷水経路
１２の準備を説明するための系統図である。まず、ドレ
ン用弁１０およびバイパス弁１７を閉じ、給水弁２０を
開いて、補給水タンク４内に所定水質の循環水を必要量
注入する。つぎに、補給水タンク４内に所定水量の循環
水が注入され、かつ、冷水経路１２における循環ポンプ
６の配管部分が循環水により満たされた時点で、給水弁
２０を閉じ、循環ポンプ６を起動する。

【００３７】循環ポンプ６を起動させると、冷却経路１
２内の循環水は、レーザ発振器２、冷却器５およびフロ
ー検出器７を経由し、補給水タンク４内に排出される。
補給水タンク４内に排出された循環水は、再び循環ポン
プ６によって、冷水経路１２内に導入される。このよう
な過程を繰り返すことで、冷水経路１２における循環が
行われる。また、冷水経路１２の配管内のガスは、循環
水と共に配管内から押し出され、循環の過程において、
だんだん少なくなる。

【００３８】配管内のガスが抜けるに従い、その抜けた
ガスの分量だけ補給水タンク４内の水位が低くなる。こ
の水位の低下は水位検出器２１により検出され、この検
出信号は制御装置３に送られる。制御装置３は、前記水
位の検出信号に基づき、給水弁２０を開いて、不足した
分量の循環水を補給水タンク４に補給する。そして、補
給水タンク４内に不足した分量の循環水を補給した後、
給水弁２０を閉じる。

【００３９】このように、給水、循環、補給の動作を繰
り返すことにより、冷水経路１２の配管内のガスを徐々
に取り除く。水位検出器２１は、循環タンク４の水位低
下量が概ね一定となった時点で、その信号を制御装置３
に出力する。また、冷水経路１２には、イオン交換・検
出器１５を擁する経路が並設されており、このイオン交
換・検出器１５によって冷水経路１２内の循環水の水質
（電気伝導度）を改善する。さらに、イオン交換・検出
器１５は、所定の水質（電気伝導度）となったことを検
出し、その検出信号を制御装置３に送る。以上で、冷水
経路１２の準備動作が完了する。

【００４０】［冷却水経路１３の準備］図３は、冷却水
経路１３の準備を説明するための系統図である。まず、
冷水経路１２の準備完了後、冷水経路側切替弁１６、１
６を閉じ、バイパス弁１７、１７と、冷却水経路側切替
弁１９、１９と、給水弁２０とを開く。この状態で、循
環水を溜める補給水タンク４に給水を行う。つぎに、冷
却水経路１３における循環ポンプ９の配管部分が循環水
で満たされた時点で、給水弁２０を閉じ、循環ポンプ６
および循環ポンプ９の両方を起動する。

【００４１】循環ポンプ６および循環ポンプ９の起動に
より、冷却水経路１３内の循環水は、レーザ発振器２、
ファン式冷却器８およびフロー検出器７を経由し、補給
水タンク４内に排出される。補給水タンク４内に排出さ
れた循環水は、再び循環ポンプ６および循環ポンプ９に
よって、冷却水経路１３内に導入される。また、冷却水
経路１３の配管内のガスは、循環水と共に配管内から押
し出され、循環の過程において、だんだん少なくなる。

【００４２】配管内のガスが抜けるに従い、その抜けた
ガスの分量だけ補給水タンク４内の水位が低くなる。水
位の低下は水位検出器２１により検出され、この検出信
号は制御装置３に送られる。制御装置３は、水位の検出
信号に基づき、給水弁２０を開き、不足した分量の循環
水を補給水タンク４に補給する。そして、補給水タンク
４内に不足した分量の循環水を補給した後、給水弁２０
を閉じる。

【００４３】このように、給水、循環、補給の動作を繰
り返すことにより、冷却水経路１３の配管内のガスを徐
々に取り除いてゆく。水位検出器２１は、補給水タンク
４の水位の低下量が概ね一定となった時点で、その信号
を制御装置３へ出力する。このように、水位検出器２１
によってガス抜きが完了したか否かを判断するので、ガ
ス抜き作業を確実に行える。

【００４４】上記冷却水経路１３では、循環ポンプ６と
循環ポンプ９とを両方用いて、循環水の循環を行ってい
る。また、冷水経路１２で用いる循環ポンプ６は、冷水
経路１２の循環水量が冷却水経路１３の循環水量に比べ
て大きいため、能力の高いものとしている。このため、
冷却水経路１３に用いるにしては能力の高い循環ポンプ
６を用いることになるから、冷却水経路１３の準備時間
が短くて済む。さらに、従来のポンプ圧力（循環ポンプ
９のみ）では取り除けなかった配管内のガスを、短時間
に効率的に取り除くことができる。

【００４５】図４は、冷水経路１２と冷却水経路１３と
の準備が完了した場合を示す系統図である。冷却水経路
１３への循環水の補給と配管内のガス抜きが完了した
ら、このレーザ加工機用冷却装置１００を運転状態とす
る。そのためには、給水用弁２０とバイパス弁１７を閉
じ、冷水経路側切替弁１６、１６と、冷却水経路側切替
弁１９、１９とを開くことで、冷水経路１２と冷却水経
路１３とがそれぞれ独立に循環できるようにする。以上
で、レーザ加工機用冷却装置１００の運転準備動作は完
了する。

【００４６】（実施の形態２）図５は、この発明の実施
の形態２に係るレーザ加工機用冷却装置の循環水経路を
示す系統図である。このレーザ加工機用冷却装置２００
の基本構成は、実施の形態１と略同様であるが、冷水経
路側切替弁１６、１６と冷却水経路側切替弁１９、１９
と切替弁とバイパス弁１７、１７の代わりに、三方向弁
２２３を用いて、構造を簡略化した点が異なる。このレ
ーザ加工機用冷却装置２００の冷却準備完了までの動作
過程は、実施の形態１と同様である。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、この発明のレーザ
加工機用冷却装置によれば、能力の高い循環ポンプをそ
の経路中に備え、レーザ加工機を構成する機器のうち発
熱量の大きいものを冷却する第１の循環水経路と、前記
循環ポンプより能力の低い循環ポンプをその経路中に備
え、前記発熱量より小さい発熱量の機器を冷却する第２
の循環水経路と、からなる２系統の循環水経路を備えた
レーザ加工機用冷却装置において、前記第１の循環水経
路と第２の循環水経路とを繋ぐバイパス経路を備え、第
１の循環水経路中の能力の高い循環ポンプによる循環に
よって、第２の循環水経路中に残留しているガスを除去
するので、循環水量が増加して、より短時間で効率的に
ガス抜き作業を行うことができるようになる。

【００４８】つぎの発明のレーザ加工機用冷却装置によ
れば、上記レーザ加工機用冷却装置において、前記第１
の循環水経路中の循環ポンプと、前記第２の循環水経路
中の循環ポンプを直列に接続できるように、前記バイパ
ス経路を備えたので、２つの循環ポンプにより循環する
ことになる。このため、循環水量が増加して、より短時
間で効率的にガス抜き作業を行うことができるようにな
る。

【００４９】つぎの発明のレーザ加工機用冷却装置によ
れば、経路の一部に循環水を溜めるタンクを備え、この
タンクに一旦循環水を排水しこの排水した循環水を再び
導入して経路内を循環させる第１の循環水経路と、閉じ
た経路内で循環水を循環させる第２の循環水経路と、か
らなる２系統の循環水経路を備えたレーザ加工機用冷却
装置において、前記第１の循環水経路と第２の循環水経
路とを繋ぐバイパス経路を設け、第２の循環水経路の循
環水を、第１の循環水経路のタンクに一旦排水し再び導
入して第２の循環水経路内を循環させるようにしたの
で、閉じた経路がなくなり、ガス抜きの確認を容易に行
うことができるようになる。

【００５０】つぎの発明のレーザ加工機用冷却装置によ
れば、上記レーザ加工機用冷却装置において、さらに、
前記タンク内の水位を検出する水位検出手段を備え、そ
のタンク内の水位に基づき、第２の循環水経路のガス抜
き状態を判断するようにしたので、ガス抜きの確認を容
易に行うことができ、自動化も容易になる。

【００５１】つぎの発明のレーザ加工機用冷却装置によ
れば、その経路中に能力の高い循環ポンプと循環水を溜
めるタンクとを備え、このタンクに一旦循環水を排水し
この排水した循環水を再び導入して経路内を循環させる
ことにより、レーザ加工機を構成する機器のうち発熱量
の大きいものを冷却する第１の循環水経路と、前記循環
ポンプより能力の低い循環ポンプをその経路中に備え、
閉じた経路内で循環水を循環させることにより、前記発
熱量より小さい発熱量の機器を冷却する第２の循環水経
路と、からなる２系統の循環水経路を備えたレーザ加工
機用冷却装置において、前記第１の循環水経路と第２の
循環水経路とを繋ぐバイパス経路を備え、第１の循環水
経路中の能力の高い循環ポンプによる循環によって、第
２の循環水経路中に残留しているガスを除去すると共
に、前記タンク内の水位を検出する水位検出手段を備
え、前記タンク内の水位に基づき、第１の循環水経路ま
たは第２の循環水経路のガス抜き状態を判断するように
したので、循環水量が増加して、より短時間で効率的に
ガス抜き作業を行うことができるようになる。また、ガ
ス抜きの確認を容易に行うことができ、自動化も容易に
なる。

【００５２】つぎの発明のレーザ加工機用冷却装置によ
れば、経路の一部に循環水を溜めるタンクを備え、この
タンクに一旦循環水を排水しこの排水した循環水を再び
導入して経路内を循環させる循環水経路を備えたレーザ
加工機用冷却装置において、前記タンク内の水位を検出
する水位検出手段を備え、そのタンク内の水位に基づ
き、循環水経路のガス抜き状態を判断するので、ガス抜
きの確認を容易に行うことができ、自動化も容易にな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１に係るレーザ加工機
用冷却装置の循環水経路を示す系統図である。

【図２】 図１に示したレーザ加工機用冷却装置の冷水
経路の準備を説明するための系統図である。

【図３】 図１に示したレーザ加工機用冷却装置の冷却
水経路の準備を説明するための系統図である。

【図４】 図１に示したレーザ加工機用冷却装置の運転
状態の経路を示す系統図である。

【図５】 この発明の実施の形態２に係るレーザ加工機
用冷却装置の循環水経路を示す系統図である。

【図６】 従来におけるレーザ加工機用冷却装置の循環
水経路を示す系統図である。

【符号の説明】

１００ レーザ加工機用冷却装置，２ レーザ発振器，
３ 制御装置，４ 補給水タンク，５ 冷却器，６ 循
環ポンプ，７ フロー検出器，８ ファン式冷却器，９
循環ポンプ，１０ ドレン用弁，１１ 排水用配管経
路，１２ 冷水経路，１３ 冷却水経路，１４ 補給水
経路，１５ イオン交換・検出器，１６冷水経路側切替
弁，１７ バイパス弁，１８ バイパス，１９ 冷却水
経路側切替弁，２０ 給水弁，２１ 水位検出器。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 循環ポンプをその経路中に備え、レーザ
   加工機を構成する機器のうち発熱量の大きいものを冷却
   する第１の循環水経路と、前記循環ポンプより能力の低
   い循環ポンプをその経路中に備え、前記発熱量より小さ
   い発熱量の機器を冷却する第２の循環水経路と、からな
   る２系統の循環水経路を備えたレーザ加工機用冷却装置
   において、 前記第１の循環水経路と第２の循環水経路とを繋ぐバイ
   パス経路を備え、第１の循環水経路中の循環ポンプによ
   る循環によって、第２の循環水経路中に残留しているガ
   スを除去することを特徴とするレーザ加工機用冷却装
   置。
2. 【請求項２】 前記第１の循環水経路中の循環ポンプ
   と、前記第２の循環水経路中の循環ポンプを直列に接続
   できるように、バイパス経路を備えたことを特徴とする
   請求項１に記載のレーザ加工機用冷却装置。
3. 【請求項３】 経路の一部に循環水を溜めるタンクを備
   え、このタンクに一旦循環水を排水しこの排水した循環
   水を再び導入して経路内を循環させる第１の循環水経路
   と、閉じた経路内で循環水を循環させる第２の循環水経
   路と、からなる２系統の循環水経路を備えたレーザ加工
   機用冷却装置において、 前記第１の循環水経路と第２の循環水経路とを繋ぐバイ
   パス経路を設け、第２の循環水経路の循環水を、第１の
   循環水経路のタンクに一旦排水し再び導入して第２の循
   環水経路内を循環させるようにしたことを特徴とするレ
   ーザ加工機用冷却装置。
4. 【請求項４】 さらに、前記タンク内の水位を検出する
   水位検出手段を備え、そのタンク内の水位に基づき、第
   ２の循環水経路のガス抜き状態を判断することを特徴と
   する請求項３に記載のレーザ加工機用冷却装置。
5. 【請求項５】 その経路中に循環ポンプと循環水を溜め
   るタンクとを備え、このタンクに一旦循環水を排水しこ
   の排水した循環水を再び導入して経路内を循環させるこ
   とにより、レーザ加工機を構成する機器のうち発熱量の
   大きいものを冷却する第１の循環水経路と、前記循環ポ
   ンプより能力の低い循環ポンプをその経路中に備え、閉
   じた経路内で循環水を循環させることにより、前記発熱
   量より小さい発熱量の機器を冷却する第２の循環水経路
   と、からなる２系統の循環水経路を備えたレーザ加工機
   用冷却装置において、 前記第１の循環水経路と第２の循環水経路とを繋ぐバイ
   パス経路を備え、第１の循環水経路中の循環ポンプによ
   る循環によって、第２の循環水経路中に残留しているガ
   スを除去すると共に、 前記タンク内の水位を検出する水位検出手段を備え、前
   記タンク内の水位に基づき、第１の循環水経路または第
   ２の循環水経路のガス抜き状態を判断するようにしたこ
   とを特徴とするレーザ加工機用冷却装置。
6. 【請求項６】 経路の一部に循環水を溜めるタンクを備
   え、このタンクに一旦循環水を排水しこの排水した循環
   水を再び導入して経路内を循環させる循環水経路を備え
   たレーザ加工機用冷却装置において、 前記タンク内の水位を検出する水位検出手段を備え、そ
   のタンク内の水位に基づき、循環水経路のガス抜き状態
   を判断することを特徴とするレーザ加工機用冷却装置。