JPH10335283A5 - - Google Patents

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JPH10335283A5
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20020031914A1 (en) * 1999-06-18 2002-03-14 Julia S. Svirchevski Post-plasma processing wafer cleaning method and system
KR20010021299A (ko) 1999-08-14 2001-03-15 조셉 제이. 스위니 스크루버에서의 후면부 에칭
JP2003059875A (ja) * 2001-08-09 2003-02-28 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
KR100580144B1 (ko) * 2003-08-07 2006-05-15 주식회사 디엠에스 평판 디스플레이용 세정장치
JP4937807B2 (ja) * 2006-03-31 2012-05-23 株式会社荏原製作所 基板保持回転機構、基板処理装置
US7938130B2 (en) 2006-03-31 2011-05-10 Ebara Corporation Substrate holding rotating mechanism, and substrate processing apparatus
JP2009066527A (ja) * 2007-09-13 2009-04-02 Nec Electronics Corp 洗浄用ローラおよび洗浄装置
JP2009238896A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置の製造方法
JP5535687B2 (ja) * 2010-03-01 2014-07-02 株式会社荏原製作所 基板洗浄方法及び基板洗浄装置
JP5661564B2 (ja) * 2011-06-10 2015-01-28 株式会社荏原製作所 洗浄性能予測方法及び基板洗浄方法
CN103367105B (zh) * 2012-03-26 2016-08-10 上海华虹宏力半导体制造有限公司 一种笔形海绵固定装置
US20170312791A1 (en) * 2014-11-24 2017-11-02 Corning Incorporated Method and apparatus for substrate surface cleaning
CN116967168B (zh) * 2023-06-09 2025-06-24 安徽万维克林精密装备有限公司 高效率兼容型清洗机
CN119833452B (zh) * 2025-03-18 2025-09-12 华海清科股份有限公司 晶圆后处理装置和方法

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