JPH10335247A - 半導体装置及び増幅器 - Google Patents

半導体装置及び増幅器

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JPH10335247A
JPH10335247A JP9142371A JP14237197A JPH10335247A JP H10335247 A JPH10335247 A JP H10335247A JP 9142371 A JP9142371 A JP 9142371A JP 14237197 A JP14237197 A JP 14237197A JP H10335247 A JPH10335247 A JP H10335247A
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JP
Japan
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diode
gate
drain
waveform distortion
equivalent
Prior art date
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Pending
Application number
JP9142371A
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English (en)
Inventor
Masaaki Kawamura
雅明 川村
Takashi Terai
孝 寺井
Toshiya Suzuki
俊也 鈴木
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Lighting and Technology Corp filed Critical Toshiba Lighting and Technology Corp
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】出力信号の波形歪み、特に二次非対称波形歪み
を低減させる。 【解決手段】ゲート22、ソース24およびドレイン2
3を有する電界効果トランジスタ21と;ゲート22と
ドレイン23間の等価ダイオード26に、逆極性となる
ように並列に接続されて逆バイアスされるダイオード2
7を有する波形歪み低減回路25と;を具備している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高周波増幅用等の半
導体装置および増幅器に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、CATV(ケーブルテレビ)ア
ンプや高速センサアンプ等の高周波広帯域アンプ、また
は通信や計測器等の高周波高出力アンプ等では増幅素子
として電界効果トランジスタ(以下FETという)を使
用することが多い。
【0003】一般に、この種のFETとしては、ゲート
構造によってMOS(Metal-oxide-semiconductor )構
造のMOSFET、pn接合(junction)を用いたJF
ETおよび金属−半導体接触のショットキー障壁(バリ
ア)を用いたMES(Metal-semiconductor )FETに
大別することができる。さらに、これらはチャネル(電
流通路)構造によりn型とp型とに分けることができ
る。
【0004】図4は従来のnチャネルプレーナJ(接合
型)FET1の要部縦断面図である。このFET1は例
えばp型半導体よりなるサブストレート2の図中上端部
に、例えばn型半導体よりなるnチャネル3を形成して
いる。また、nチャネル3の上面上には、電極のゲート
4(G)と、その両側のソース5(S)およびドレイン
6(D)とをそれぞれ固着してプレーナ形に形成してお
り、ゲート4の図中下方のnチャネル3の一部にはp型
半導体よりなるp型部7をゲート4の下面に接触させた
状態で形成している。
【0005】図5は従来のnチャネルMESFET8の
要部縦断面図である。このFET8は例えば電気絶縁性
サブストレート9(I)の一面上に、例えばn型半導体
よりなるnチャネル10を形成し、このnチャネル10
の図中上面上に、電極のゲート(G)11と、その両側
のソース(S)12およびドレイン13(D)をそれぞ
れ接着させた状態で固着している。
【0006】なお、他のFETとしては、これらFET
1,8のnチャネル3,10をp型半導体よりなるpチ
ャネルに置換する一方、p型部7をn型半導体よりなる
p型部に置換して、pチャネル型FETに構成したもの
もある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】図6は上記FET1,
8のソース接地動作時の等価回路図であり、ゲートGと
ドレインD間との接合部には等価ダイオードD1が形成
されている。この等価ダイオードD1はJFET1では
PN接合ダイオードに相当し、MESFET8の場合は
ショットキーバリアダイオードに相当する。
【0008】そして、等価ダイオードD1はソース接地
の動作時に、pn接合の逆にバイアスされるので、等価
ダイオードD1のカソードとアノード間で接合容量が発
生するが、この接合容量CJはこの逆バイアス印加電圧
Vに対し、次の数(1)式に従って変化する。
【0009】
【数1】
【0010】
【外1】
【0011】しかも、この接合容量CJはドレインDか
らゲートGへの帰還容量として作用するので、結局、信
号帰還容量が変化することとなる。その結果、ドレイン
出力信号に主として二次非対称波形歪みが発生する。
【0012】また、この波形歪みは等価ダイオードD1
の接合容量CJに起因するので、入力信号の振幅が大き
くなる程、あるいは信号周波数が高くなる程、または利
得が小さくなる程信号に対する比率が増大する。
【0013】そこで本発明はこのような事情を考慮して
なされたもので、その目的は、出力信号の波形歪み、特
に二次非対称波形歪みを低減させることができる半導体
装置及び増幅器を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明の半
導体装置は、ゲート、ソースおよびドレインを有する電
界効果トランジスタにおいて、ゲートとドレイン間の等
価ダイオードに、逆極性となるように並列に接続されて
逆バイアスされるダイオードを有する波形歪み低減手段
を具備していることを特徴とする。
【0015】この発明によれば、電界効果トランジスタ
のソース接地動作時、ゲートとドレイン間の等価ダイオ
ードと逆極性のダイオードがそれぞれ逆バイアスされる
ので、これら等価ダイオードと逆極性のダイオードとに
はそれぞれ接合容量が発生し、これら接合容量はドレイ
ンからゲートへの帰還容量として作用する。
【0016】しかし、これら両ダイオードの極性は相互
に逆極性であるので、これら両ダイオードの容量変化の
方向も逆向きであり、互いに打ち消し合う。このため
に、ゲートに信号が入力されてもゲートとドレイン間の
総帰還容量の変化を低減することができるので、この帰
還容量の変化に伴う出力信号の波形歪みを低減させるこ
とができる。したがって、逆極性のダイオードとして等
価ダイオードのC−V(容量・電圧)特性と類似のダイ
オードを使用し、この逆極性のダイオードの印加電圧が
ゲートとドレイン間の電位差とほぼ等しくなるように逆
バイアスすることにより、さらに出力信号の二次対称波
形歪みを低減して出力信号の二次対称性を向上させるこ
とができる。
【0017】請求項2記載の発明の半導体装置は、波形
歪み低減手段は、電界効果トランジスタのゲートとドレ
イン間の等価トランジスタに並列に接続される逆極性の
ダイオードとコンデンサとの直列回路と;このコンデン
サとダイオードとの接続部に抵抗またはインダクタを介
して接続される直流電源と;を具備していることを特徴
とする。
【0018】この発明によれば、逆極性のダイオード
に、その印加電圧がゲートとドレイン間の電位差にほぼ
等しくなるように逆バイアスを抵抗またはインダクタを
介して直流電源により印加することができる。このため
に、請求項1の発明と同様の作用により、ゲートとドレ
イン間の帰還容量の変化を低減して出力信号の波形歪
み、特に二次非対称波形歪みを低減させることができ
る。
【0019】請求項3記載の発明の増幅器は、請求項1
または2記載の半導体装置と;電界効果トランジスタの
ゲートとドレイン間に挿入された帰還回路と;を具備し
ていることを特徴とする。
【0020】この発明によれば、出力側のドレインと入
力側のゲート間の帰還容量の変化を低減して出力信号の
二次非対称波形歪み等の波形歪みを低減させることがで
きる請求項1または2記載の半導体装置を増幅素子とし
て使用するので、入力信号がゲートに重畳されたときの
帰還回路の容量変化を低減して二次非対称波形歪み等の
波形歪みを低減することができる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図1〜
図6に基づいて説明する。なお、図1〜図6中、同一ま
たは相当部分には同一符号を付している。
【0022】図1は本発明の第1実施形態に係るFET
(電界効果トランジスタ)21のソース接地動作時の等
価回路図である。FET21は入力信号が入力されるゲ
ート22(G)と、出力信号が出力されるドレイン23
(D)と、接地されるソース24(S)とを具備してお
り、ゲート22とドレイン23との間には波形歪み低減
回路25を挿入している。
【0023】この波形歪み低減回路25は、ゲート22
とドレイン23間に形成される等価ダイオード26(D
1)に対して、C−V(容量・電圧)特性が類似で、か
つ逆極性のダイオード27(DO)とコンデンサ28
(CO)との直列回路を、この等価ダイオード26に対
して並列に接続している。
【0024】そして、この逆極性のダイオード27とコ
ンデンサ28との共通接続部には抵抗29を介して直流
電源30(VB)を接続している。この直流電源30
は、逆極性のダイオード27の印加電圧がゲート22と
ドレイン23間の電位差にほぼ等しくなるように、抵抗
29を介して逆極性のダイオード27を、そのpn接合
に対して逆極性をなすバイアス、すなわち逆バイアスす
るようになっている。
【0025】なお、図1中、D2はドレイン22とソー
ス24間の等価ダイオードを表わし、L,C,Rはそれ
ぞれインダクタンス,キャパシタンス,抵抗を、また、
これらの添字のd,g,sはそれぞれドレイン23,ゲ
ート22,ソース24を示す。よって例えば、Ld,R
g,Lsはそれぞれドレイン23の等価インダクタン
ス,ゲート22の等価抵抗,ソース24の等価インダク
タンスを、Idsはドレイン23(D)とソース24
(S)間を流れる電流をそれぞれ示している。
【0026】図2は上記FET21をnチャネルプレー
ナJ(接合型)FET21Aに構成した場合の要部縦断
面図である。このJFET21Aは、p型半導体よりな
るp型サブストレート31の図中上端部に、n型半導体
よりなるnチャネル32を面一で形成し、このnチャネ
ル32の上端部に、p型半導体よりなるp型部33を面
一で形成している。
【0027】このp型部33の上面上には上記ゲート2
2の電極を金属蒸着等により形成し、このゲート22の
図中左右両側において、nチャネル32の上面上に、ド
レイン23とソース24の電極を金属蒸着等により形成
している。
【0028】そして、p型サブストレート31の上端部
には、nチャネル32の側方に、上記逆極性のダイオー
ド27、コンデンサ28、抵抗29をそれぞれ有する波
形歪み低減回路25を配設している。
【0029】波形歪み低減回路25のダイオード27は
n型半導体よりなるn型部34をnチャネル32から所
定間隔置いた近傍に配設しており、このn型部34の上
端部にはp型半導体よりなるp型部35を面一で形成し
ている。また、このp型部35の上面上にはアノード3
6の電極を金属蒸着等により形成する一方、n型部34
の上面上にカソード37の電極を金属蒸着等により形成
してダイオード27を形成している。さらに、このダイ
オード27のアノード36はp型サブストレート31の
上面上に形成された導体パターン等によりドレイン23
に電気的に接続されている。
【0030】そして、このダイオード27の側方では、
p型サブストレート31の上面上に、第1の誘電体層3
8を介して第2の誘電体層39と抵抗体層40とがそれ
ぞれ積層されて並設されている。さらに、この第2の誘
電体層39の上面上には、コンデンサ用の一対の電極の
一方の電極41が形成される一方、抵抗体層40の図中
左端部上面上には他方の電極42がそれぞれ形成されて
コンデンサ28に構成されている。この一方の電極41
は導体パターン等によりゲート22に電気的に接続さ
れ、他方の電極42はダイオード27のカソード電極3
7に接続されている。
【0031】そして、抵抗体層40の図中右端部上面上
には電極43が形成されて上記抵抗29に構成され、こ
の電極43には直流電源30(VB)が接続される。
【0032】
【外2】
【0033】しかし、逆極性のダイオード27の印加電
圧がゲート22とドレイン23間の電位差Vにほぼ等し
くなるように、外部電源30(VB)により、このダイ
オード27を逆バイアスし、しかも、このダイオード2
7のC−V特性は等価ダイオード26のものと類似して
いるので、ゲート22とドレイン23間の総帰還容量C
F(V)は次の数(2)式で表わされる。
【0034】
【数2】
【0035】そして、ゲート22に信号が入力されて、
ゲート22とドレイン23間の電位差VがΔVだけ変化
した時の総帰還容量CF(V+ΔV)は次の数(3)式
で示すようになる。
【0036】
【数3】
【0037】したがって、ゲート・ドレイン間の総帰還
容量CF自体はほぼ倍となるが、逆極性のダイオード2
7の容量変化の方向が等価ダイオード26の容量変化の
方向とほぼ対称的に逆向きであるので、ゲート22に信
号が入力されても帰還容量の変化を低減することができ
る。
【0038】このために、これら帰還容量の変化に起因
する出力信号の波形歪み、特に二次非対称波形歪みを低
減させることができる。
【0039】また、逆極性のダイオード27をnチャネ
ル32の近傍に配置することにより、広い範囲の入力電
力、周波数範囲および温度範囲に亘って波形歪みを低減
することができる。
【0040】図3は図1で示すFET21をnチャネル
MESFET21Bに構成した場合の第2の実施形態の
要部縦断面図である。このMESFET21Bは上記J
FET21AのP型サブストレート31を絶縁サブスト
レート(I)51に置換する一方、nチャネル32中の
P型部33を省略してMES型に構成することにより、
ゲート22とドレイン23間の等価ダイオード26をシ
ョットキーバリアダイオードに形成する点に特徴があ
り、これ以外の構成は波形歪み低減回路25も含めて同
様である。
【0041】したがって、このMESFET21Bによ
っても出力信号の波形歪み、特に二次非対称波形歪みを
高周波高広帯域かつ高出力域で低減することができる。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように、本願の請求項1に
記載の半導体装置によれば、電界効果トランジスタのソ
ース接地動作時、ゲートとドレイン間の等価ダイオード
と逆極性のダイオードがそれぞれ逆バイアスされるの
で、これら等価ダイオードと逆極性のダイオードとには
それぞれ接合容量が発生し、これら接合容量はドレイン
からゲートの帰還容量として作用する。
【0043】しかし、これら両ダイオードの極性は相互
に逆極性であるので、これら両ダイオードの容量変化の
方向が逆向きであり、互いに打ち消し合う。このため
に、ゲートに信号が入力されてもゲートとドレイン間の
総帰還容量の変化を低減することができるので、この帰
還容量の変化に伴う出力信号の波形歪みを低減させるこ
とができる。したがって、逆極性のダイオードとして等
価ダイオードのC−V(容量・電圧)特性と類似のダイ
オードを使用し、この逆極性のダイオードの印加電圧が
ゲートとドレイン間の電位差とほぼ等しくなるように逆
バイアスすることにより、さらに出力信号の二次対称波
形歪みを低減して出力信号の二次対称性を向上させるこ
とができる。
【0044】請求項2記載の半導体装置によれば、逆極
性のダイオードに、その印加電圧がゲートとドレイン間
の電位差にほぼ等しくなるように逆バイアスを抵抗また
はインダクタを介して直流電源により印加することがで
きる。このために、請求項1の発明と同様の作用によ
り、ゲートとドレイン間の帰還容量の変化を低減して出
力信号の波形歪み、特に二次非対称波形歪みを低減させ
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置の等
価回路図。
【図2】図1で示す実施形態をnチャネルJ型FETに
適用した場合の要部縦断面図。
【図3】本発明の第2の実施形態に係るMET型FET
の要部縦断面図。
【図4】従来のnチャネルJFETの部分縦断面図。
【図5】従来のnチャネルMESFETの部分縦断面
図。
【図6】従来のFETのソース接地動作時の等価回路
図。
【符号の説明】
21 FET(電界効果トランジスタ) 21A JFET 21B MESFET 22 ゲート 23 ドレイン 24 ソース 25 波形歪み低減回路 26 等価ダイオード 27 逆極性のダイオード 28 コンデンサ 29 抵抗 30 直流電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H03F 3/16

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ゲート、ソースおよびドレインを有する
    電界効果トランジスタにおいて、 ゲートとドレイン間の等価ダイオードに、逆極性となる
    ように並列に接続されて逆バイアスされるダイオードを
    有する波形歪み低減手段を具備していることを特徴とす
    る半導体装置。
  2. 【請求項2】 波形歪み低減手段は、電界効果トランジ
    スタのゲートとドレイン間の等価トランジスタに並列に
    接続される逆極性のダイオードとコンデンサとの直列回
    路と;このコンデンサとダイオードとの接続部に抵抗ま
    たはインダクタを介して接続される直流電源と;を具備
    していることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置と;
    電界効果トランジスタのゲートとドレイン間に挿入され
    た帰還回路と;を具備していることを特徴とする増幅
    器。
JP9142371A 1997-05-30 1997-05-30 半導体装置及び増幅器 Pending JPH10335247A (ja)

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