JPH10314293A - 脱臭処理方法及び脱臭装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理空間２を経て流通する被処理ガス中の臭
気成分を、酸化手段３から導入される酸化性活性気体に
接触させ酸化するについて、被処理ガスの臭気成分含有
濃度に変動が大きい場合や、被処理ガスの流量に変動が
大きい場合であっても、安定した脱臭処理を可能とす
る。 【解決手段】 排気処理層４を処理空間２の下流側流路
に臭気成分を吸着可能な配置して、処理空間２からの未
反応臭気成分を吸着させ、その吸着させた未反応臭気成
分に酸化手段３から導入される酸化性活性気体を接触さ
せて、未反応臭気成分を酸化し、臭気成分の系外への排
出を防止するようにし、排気処理層４の下流側に、酸化
性活性気体を検出可能な活性気体検出手段５を配置し、
脱臭制御手段１２を設けて、被処理ガス中の臭気成分の
濃度を、酸化性活性気体の量に対して設定される所定濃
度よりも相対的に低くなるように調節する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、臭気成分を含有す
る気体の脱臭処理方法及び脱臭装置に関し、詳しくは、
処理空間を経て流通する被処理ガス中の臭気成分を、酸
化手段から導入される酸化性活性気体に接触させ酸化す
る脱臭処理方法及びその方法を適用可能な脱臭装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来は、被処理空気を脱臭するのに、臭
気成分を酸化することが行われており、一般に、処理空
間内に設けたオゾン発生電極としてのコロナ放電電極に
酸素が接近することにより活性化されて発生する活性酸
素やオゾン等の酸化性活性気体に臭気成分を接触させる
ことによって前記臭気成分を酸化して脱臭処理すること
が行われている。例えば図６に示すように、脱臭装置本
体Ｄに被処理ガスを供給する被処理ガス供給路１を設
け、前記脱臭装置本体Ｄ内の処理空間２（滞留空間２
ａ）内のガスを誘引ファン７で吸引しながら、被処理ガ
ス供給路１から被処理ガスを前記滞留空間２ａ内に吸い
込み供給することが行われている。そして、前記被処理
ガス供給路１にオゾン発生手段９のオゾン発生電極９ａ
を配置して、先ず前記被処理ガス供給路１内の被処理ガ
ス中の臭気成分を酸化すると同時に、前記脱臭装置本体
Ｄ内の滞留空間２ａ下流側に触媒層１４を配置して、前
記処理空間２で反応しないままに流下する未反応臭気成
分と未反応オゾンとを分解するようにしていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の脱臭処理方法においては、被処理空気の流速が高
い場合には、前記臭気成分と前記酸化性活性気体との接
触機会が少なくなり、未反応の臭気成分が前記処理空間
２の下流側に流出することがある。この未反応臭気成分
を捕捉して酸化し、脱臭処理するために、前記処理空間
２の下流側に、さらに酸化触媒層１４を配置して、流出
する未反応臭気成分を捕捉して処理することが行われて
いる。しかしながら、その処理能力以上の臭気成分が、
前記酸化触媒層１４に到達すると、前記酸化触媒の下流
側に未反応臭気成分が流出する場合があった。従って、
被処理空気中の臭気成分の濃度に大きな変動がある場合
には、酸化されないままの臭気成分が前記触媒層１４に
蓄積して、前記触媒層１４の機能を阻害するに到ること
があった。

【０００４】そこで、本発明の目的は、被処理ガスの臭
気成分含有濃度に変動が大きい場合や、被処理ガスの流
量に変動が大きい場合であっても、安定した脱臭処理を
可能とする脱臭処理方法及び脱臭装置を提供する点にあ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の脱臭処
理方法の特徴構成は、処理空間に流通する被処理ガス
を、酸化手段から導入される活性酸素やオゾン等の酸化
性活性気体に接触させて酸化した後に、流出する未反応
臭気成分を、排気処理層に積極的に吸着させて、吸着さ
せた未反応臭気成分に、酸化手段から導入された酸化性
活性気体を接触させることにより、空間反応では維持で
きない滞留時間を与えて、前記未反応臭気成分と酸化性
活性気体との充分な接触機会を与えて、前記未反応臭気
成分を確実に酸化させるように構成してある。

【０００６】つまり、処理空間内で酸化しきれないで流
出する未反応臭気成分を排気処理層に積極的に吸着させ
て、その排気処理層に酸化手段から導入された酸化性活
性気体を流通して、前記未反応臭気成分に前記酸化性活
性気体を接触させるようにしてあるから、前記未反応臭
気成分が前記排気処理層に滞留している間に、流通する
酸化性活性気体と接触する機会を充分に与えることがで
き、前記排気処理層に吸着させた臭気成分は確実に酸化
できるようになる。なお、前記排気処理層は吸着機能に
加えて触媒機能を備えていてもよく、その場合、酸化反
応をより速く行わせることができる。

【０００７】従って、臭気成分が排気処理層の下流側の
系外に流出することを防止でき、被処理ガスの臭気成分
含有濃度に変動が大きい場合や、被処理ガスの流量に変
動が大きい場合であっても、安定した脱臭処理が可能と
なった。

【０００８】請求項２に記載の脱臭処理方法の特徴構成
は、処理空間に流通する被処理ガスを、酸化手段から導
入される活性酸素やオゾン等の酸化性活性気体に接触さ
せて酸化した後に、流出する未反応臭気成分を、排気処
理層に積極的に吸着させて、吸着させた未反応臭気成分
に酸化性活性気体を接触させることにより、空間反応で
は維持できない滞留時間を与え、前記未反応臭気成分と
酸化性活性気体との充分な接触機会を与えて、前記未反
応臭気成分を確実に酸化させながら、前記排気処理層に
吸着させた未反応臭気成分と接触して、前記未反応臭気
成分を酸化したのちに、未反応のままで前記排気処理層
の下流側に流出しようとする未反応の酸化性活性気体を
確実に分解するように構成してある。

【０００９】つまり、被処理ガスの臭気成分含有濃度に
変動が大きくて、或いは、被処理ガスの流量に大きな変
動があって、酸化手段から導入された酸化性活性気体
が、排気処理層に吸着させた未反応臭気成分と接触して
前記未反応臭気成分を確実に酸化して脱臭処理しなが
ら、前記未反応臭気成分の酸化に消費する以上に前記排
気処理層に流通した場合にも、その下流側で酸化性気体
分解層に到達した前記余剰の未反応酸化性活性気体は、
ここで分解されるから、系外には、臭気成分が排出され
ないだけでなく、酸化性活性気体も排出されることがな
い。

【００１０】従って、臭気成分が排気処理層の下流側の
系外に流出することを防止でき、被処理ガスの臭気成分
含有濃度に変動が大きい場合や、被処理ガスの流量に変
動が大きい場合であっても、安定した脱臭処理を可能と
しながら、殊に、高濃度の排出が健康上好ましくないオ
ゾンを酸化性活性気体として用いる場合にも安全に、且
つ安定して脱臭処理することが可能となる。

【００１１】請求項３に記載の脱臭処理方法の特徴構成
は、上記請求項１又は２に記載の脱臭処理方法の特徴構
成に加えて、排気処理層への未反応臭気成分の蓄積を検
出して、前記排気処理層の臭気成分吸着能力の低下した
場合に、酸化手段から導入される酸化性活性気体の酸化
能力が被処理ガス中の臭気成分の量を超えるように調節
して、前記排気処理層に蓄積した臭気成分を酸化して、
前記排気処理層の能力を回復させるように構成してあ
る。

【００１２】つまり、上記請求項１又は２に記載の脱臭
処理方法の特徴構成に示した作用に加えて、排気処理層
に未反応臭気成分が蓄積すれば、酸化手段から導入され
る酸化性活性気体は前記排気処理層を通過する際に殆ど
消費されるので、活性気体検出手段で未反応酸化性活性
気体の前記排気処理層下流側への流出を実質的に検出し
なくなれば、前記排気処理層の臭気成分吸着能力は極め
て低くなっているものと判断できるので、ここで吸着成
分除去工程を実行すれば、前記排気処理層に吸着された
未反応臭気成分は酸化されて、前記排気処理層の臭気成
分吸着能力は回復できるのである。尚、被処理ガス中の
臭気成分の量に対して酸化性活性気体の量を相対的に増
量することが困難な場合には、臭気成分を含まないガス
と共に酸化性活性気体を導入して、前記排気処理層に供
給してもよく、前記吸着成分除去工程における臭気成分
の濃度の調節には、処理空間内に臭気成分を含まないガ
スを導入することをも包含する。

【００１３】従って、被処理ガスを確実に脱臭処理しな
がら排気処理層の再生も可能として、連続的に安定して
被処理ガスを脱臭処理することが可能になる。

【００１４】請求項４に記載の脱臭処理方法の特徴構成
によれば、酸化手段としてのオゾン発生手段からのオゾ
ンによって被処理ガス中の臭気成分を処理空間内で酸化
しながら、排気処理層に未反応臭気成分を積極的に吸着
させて、空間反応では維持できない滞留時間を与えて、
前記処理空間内での反応にあずからなかった未反応臭気
成分にオゾンを接触させることにより、前記未反応臭気
成分とオゾンとの充分な接触機会を与えて、前記未反応
臭気成分を確実に酸化させ、同時に、前記排気処理層へ
の未反応臭気成分の蓄積を検出して、前記排気処理層の
臭気成分吸着能力の低下した場合に、オゾンの酸化能力
が被処理ガス中の臭気成分の量を超えるように調節して
吸着成分除去工程を実行し、前記排気処理層に蓄積した
臭気成分を酸化して、前記排気処理層の能力を回復させ
よるように構成してある。

【００１５】つまり、処理空間内でオゾン発生手段から
導入されるオゾンに接触することなく、従って酸化され
ないままに排気処理層に到達した臭気成分を、前記排気
処理層に積極的に吸着させ、前記排気処理層に吸着させ
た前記処理空間内で酸化されなかった未反応臭気成分に
オゾンを接触させて、空間反応では維持できない滞留時
間を与えることにより確実に前記未反応臭気成分を酸化
させて脱臭処理できる。しかも、前記排気処理層に未反
応臭気成分が蓄積すれば、オゾンは前記排気処理層を通
過する際に消費されるので、前記排気処理層の下流側に
流出するオゾンを検出して、前記流出するオゾンが実質
的に検出されなくなれば、前記排気処理層の臭気成分吸
着能力は低下していると判断できるので、吸着成分除去
工程を実行することにより前記排気処理層の臭気成分吸
着能力は回復できる。尚、前記吸着成分除去工程におい
て、オゾンの導入量を相対調節するについては、被処理
ガスの供給量に対して過剰とする意味は、前記被処理ガ
ス中の臭気成分を、前記排気処理層の下流側に未反応で
流出させることのない量よりも多くすることを指し、化
学量論的な過不足を意味するものではない。また、被処
理ガスに代えて臭気成分を含有しないガスにオゾンを導
入することをも包含するものである。

【００１６】従って、臭気成分が排気処理層の下流側の
系外に流出することを防止でき、被処理ガスの臭気成分
含有濃度に変動が大きい場合や、被処理ガスの流量に変
動が大きい場合であっても、安定した脱臭処理が可能と
なると同時に、被処理ガスを確実に脱臭処理しながら排
気処理層の再生も可能として、連続的に安定して被処理
ガスを脱臭処理することが可能になる。

【００１７】以上のように各請求項に記載の脱臭処理方
法を構成した結果、被処理ガスの臭気成分含有濃度に変
動が大きい場合や、被処理ガスの流量に変動が大きい場
合であっても、安定した脱臭処理を可能とする脱臭処理
方法を構成できた。

【００１８】請求項５に記載の脱臭装置の特徴構成は、
本発明の脱臭処理方法を実施可能に構成したものであ
り、処理空間の下流側に排気処理層を設けて、前記処理
空間を通過した被処理ガス中の未反応臭気成分を吸着可
能にし、且つ、被処理ガス中の臭気成分の濃度と酸化手
段から導入される酸化性活性気体の量とを相対的に調節
可能な脱臭制御手段を、例えば、前記酸化性活性気体の
量によって酸化可能な前記臭気成分の量に基づく所定濃
度を設定して、前記所定濃度よりも前記臭気成分の濃度
を低くできるように調節可能に構成してある。

【００１９】従って、排気処理層の臭気成分吸着能力が
低下した際に、脱臭制御手段を作動させて被処理ガス中
の臭気成分濃度を調節すれば、余剰の酸化性活性気体に
よって排気処理層に吸着した未反応臭気成分を酸化し
て、前記排気処理層を再生できる。尚、前記臭気成分濃
度の調節は、被処理ガスに臭気成分を含有しないガスを
混合することによっても達成でき、酸化性活性気体の導
入量を増加することによっても達成できる。さらに、被
処理ガスに代えて、臭気成分を含有しないガスを供給す
ることによっても同様の結果が得られ、これも前記脱臭
制御手段の調節に包含する。

【００２０】請求項６に記載の脱臭装置の特徴構成は、
請求項３記載の脱臭処理方法を実施可能に構成したもの
であり、被処理ガス供給路とは別の外気供給路を設け
て、臭気成分を含有しない外部気体を供給可能として、
処理空間における臭気成分の濃度を調節可能にするとと
もに、前記処理空間の下流側に排気処理層を設けて、前
記処理空間を通過した被処理ガス中の未反応臭気成分を
吸着可能にし、前記排気処理層の下流側に活性気体検出
手段を配置して、前記排気処理層を通過する酸化性活性
気体の消費状態を検知可能に構成して、処理空間の下流
側に設けた排気処理層で、前記処理空間を通過した被処
理ガス中の未反応臭気成分を吸着可能にし、外気供給路
から臭気成分を含有しないガスを供給することによっ
て、前記被処理ガス中の臭気成分の希釈を可能とし、前
記排気処理層の下流側に配置した活性気体検出手段で、
排気中の酸化性活性気体の濃度を検出して、検出した濃
度に応じて前記臭気成分の希釈程度を調節可能に構成し
てある。

【００２１】従って、活性気体検出手段の検出結果に基
づいて排気処理層の臭気成分吸着能力が低下したと判定
した際に、外気供給路から臭気成分を含有しないガスを
供給して被処理ガス中の臭気成分濃度を希釈すれば、余
剰の酸化性活性気体によって排気処理層に吸着した未反
応臭気成分を酸化して、前記排気処理層を再生できる。
つまり、排気処理層に未反応臭気成分が蓄積すれば、酸
化性活性気体は前記排気処理層を通過する際に殆ど消費
されるので、活性気体検出手段で未反応酸化性活性気体
の前記排気処理層下流側への流出を実質的に検出しなく
なれば、前記排気処理層の臭気成分吸着能力は極めて低
くなっているものと判断できる。尚、被処理ガスに代え
て、臭気成分を含有しないガスのみを供給することによ
っても前記排気処理層を再生することができる。

【００２２】請求項７に記載の脱臭装置の特徴構成は、
上記請求項６記載の脱臭装置において、酸化性活性気体
としてオゾンを用いて臭気成分を酸化処理するように
し、排気処理層の下流側に配置する活性気体検出手段と
してオゾン検出手段を配置して構成してあり、上記請求
項６記載の脱臭装置と同様の作用効果をもたらすもの
で、処理空間の下流側に設けた排気処理層で、前記処理
空間を通過した被処理ガス中の未反応臭気成分を吸着可
能にし、外気供給路から臭気成分を含有しない外部気体
を供給することによって、前記被処理ガス中の臭気成分
の希釈を可能とし、前記排気処理層の下流側に配置した
オゾン検出手段で、排気中のオゾンの濃度を検出して、
検出した濃度に応じて前記臭気成分の希釈程度を調節可
能に構成して、オゾンによる臭気成分の酸化を維持でき
るようにしてある。

【００２３】従って、オゾン検出手段の検出結果に基づ
いて排気処理層の臭気成分吸着能力が低下したと判定し
た際に、外気供給路から臭気成分を含有しない外部気体
を供給して被処理ガス中の臭気成分濃度を希釈すれば、
余剰のオゾンによって排気処理層に吸着した未反応臭気
成分を酸化して、前記排気処理層を再生できる。つま
り、排気処理層に未反応臭気成分が蓄積すれば、オゾン
は前記排気処理層を通過する際に殆ど消費されるので、
オゾン検出手段でオゾンの前記排気処理層下流側への流
出を実質的に検出しなくなれば、前記排気処理層の臭気
成分吸着能力は極めて低くなっているものと判断でき
る。尚、被処理ガスに代えて、臭気成分を含有しない外
部気体のみを供給すれば、被処理ガス中の臭気成分酸化
のためのオゾンの消費がないので、前記排気処理層の再
生を急速にできるようになる。

【００２４】請求項８に記載の脱臭装置の特徴構成は、
上記請求項７記載の脱臭装置のオゾン発生手段を、放電
によってオゾンを発生するようにして、そのオゾン発生
電極を処理空間内に配置し、前記オゾン発生電極部で生
成した新鮮なオゾンに被処理ガス中の臭気成分を接触さ
せるようにして、オゾンと同時に生成する活性酸素によ
っても前記臭気成分を酸化できるように構成してある。

【００２５】従って、上記請求項７記載の脱臭装置の作
用効果に加えて、処理空間内での臭気成分の酸化に、活
性に富む酸化剤であるオゾンと活性酸素を、生成直後に
作用させるので、脱臭効果を高めることが可能になる。
しかも、前記処理空間内にオゾン発生電極を配置してあ
るので、被処理ガス供給路と外気供給路との相互の流量
調節を行うことで、容易に処理空間内のガス中の臭気成
分の濃度を調節できるようになる。

【００２６】請求項９に記載の脱臭装置の特徴構成は、
上記請求項６〜８に記載の脱臭装置の構成に、さらに外
気流量調節手段を設けて、脱臭制御手段によって処理空
間への臭気成分を含有しない外部気体の供給を停止可能
に構成してあり、前記処理空間における脱臭処理を、適
性臭気成分濃度下で行うことが可能であり、脱臭効率を
向上できるようになる。

【００２７】従って、上記請求項６〜８の何れかに記載
の脱臭装置の作用効果に加えて、効率よく脱臭処理を行
いながら、排気処理層の劣化も抑制できるようになる。
しかも、臭気成分の処理空間内での濃度を調節して効率
的な脱臭処理を行いながら、排気処理層の再生を同時に
行うことも可能となる。

【００２８】請求項１０に記載の脱臭装置の特徴構成
は、上記請求項６〜９に記載の脱臭装置の構成に加え
て、被処理ガス供給路に処理ガス流量調節手段を設け
て、臭気成分を含有する被処理ガスの流量と、臭気成分
を含有しない外部気体の流量とを、前記被処理ガスと前
記外部気体の流量比で調節するように脱臭制御手段を構
成して処理空間における臭気成分の濃度を調節可能にし
てあり、被処理ガス量を調節しながら臭気成分濃度を調
節することにより、前記処理空間における前記臭気成分
の酸化量を適正に維持しながら脱臭処理を行うことが可
能になる。

【００２９】従って、上記請求項６〜９の何れかに記載
の脱臭装置の作用効果に加えて、効率よく脱臭処理を行
いながら、排気処理層の劣化も抑制できるようになる。
しかも、臭気成分の処理空間内での濃度を調節して効率
的な脱臭処理を行いながら、排気処理層の再生を同時に
行うことも可能となる。

【００３０】請求項１１に記載の脱臭装置の特徴構成
は、上記請求項６〜１０の何れかに記載の脱臭装置の構
成において、外部気体中に酸化性活性気体を混入して導
入するように構成して、被処理ガスの供給とは独立して
酸化性活性気体を導入できるようにしてあり、排気処理
層に吸着させた未反応臭気成分を、被処理ガス中の臭気
成分の酸化処理とは別に酸化処理することが可能であ
る。

【００３１】従って、上記請求項６〜１０の何れかに記
載の脱臭装置の作用効果に加えて、被処理ガスの流量及
び臭気成分濃度に関係なく、排気処理層の再生が可能に
なる。

【００３２】以上のように各請求項に記載の脱臭装置を
構成した結果、被処理ガスの臭気成分含有濃度に変動が
大きい場合や、被処理ガスの流量に変動が大きい場合で
あっても、安定した脱臭処理を可能とする脱臭装置を構
成できた。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る脱臭装置につ
いて、脱臭処理方法と共に図面を参照しながら説明す
る。図１に本発明による脱臭装置の一例の概念図を示
す。

【００３４】脱臭装置は、臭気発生場所からの被処理ガ
スを処理空間２に供給する被処理ガス供給路１と、この
被処理ガス供給路１に前記処理空間２の上流側で合流す
る外気供給路８とを脱臭装置本体Ｄに接続してあり、前
記合流後の被処理ガス供給路１の前記脱臭装置本体Ｄと
の接続部に前記処理空間２を形成して、酸化手段３とし
てのオゾン発生手段９のオゾン発生電極９ａを、前記形
成した処理空間２内に、流通する被処理ガスが接触可能
に配置してある。前記脱臭装置本体Ｄ内の前記オゾン発
生電極９ａを配置した下流側に、処理空間２の滞留空間
２ａを形成し、その下流側にアルミナシリカゲルを主材
とする吸着材から成る排気処理層４を配置し、さらに間
隔を開けて酸化性気体分解層６としてオゾン分解層６Ａ
を配置してある。前記オゾン分解層６Ａの下流側は誘引
ファン７に接続して、被処理ガスを、前記被処理ガス供
給路１から吸引し、処理空間２から排気処理層４を経
て、オゾン分解層６Ａを通じて吸引するように構成して
ある。

【００３５】前記排気処理層４の下流側の前記オゾン分
解層との間に、前記排気処理層４を通過したガス中のオ
ゾンを検出するために、活性気体検出手段５としてのオ
ゾン検出手段であるオゾン濃度計５Ａのサンプル吸引口
５ａを臨ませてあり、前記排気処理層４の下流側のガス
を吸引して、前記オゾン濃度計５Ａでその含有するオゾ
ンの濃度を検出するようにしてある。

【００３６】前記オゾン発生電極９ａは、沿面放電電極
に形成してあり、高圧高周波電圧を電極に印加すると、
前記オゾン発生電極９ａの放電面上にコロナ放電が誘起
され、形成されるコロナ空間内の電子やイオンに導入し
た被処理ガス中の酸素が励起されて生成するオゾンや活
性酸素等の酸化性活性気体に、臭気発生場所で発生した
メルカプタン等の臭気成分が接触して酸化され、被処理
ガスは脱臭される。

【００３７】前記オゾン発生電極９ａを配置してある処
理空間２内で反応しきれなかった未反応のオゾン等の酸
化性活性気体と、未反応臭気成分は共に前記脱臭装置本
体Ｄ内に流入するが、これらは前記滞留空間２ａ内で接
触して、未反応臭気成分の酸化が進行するが、前記滞留
空間２ａ内でも酸化しない未反応臭気成分は、排気処理
層４に吸着される。前記吸着された未反応臭気成分に
は、前記滞留空間２ａからの未反応の酸化性活性気体が
接触し、前記排気処理層４内でも臭気成分の酸化が進行
し、極度に臭気成分が前記排気処理層４に吸着されない
かぎり、全ての臭気成分を酸化処理できるようにしてあ
る。しかも、前記排気処理層４の下流側にオゾン分解層
６Ａを配置してあるので、過剰のオゾンが排出されるこ
ともない。尚、前記オゾン分解層は、アルミナシリカゲ
ルに活性炭を担持させて、急激な活性炭の酸化反応を抑
制するようにしてあり、オゾン等の酸化性活性気体に接
触しても急激な燃焼や爆発を防止してある。

【００３８】しかし、前記臭気発生場所で急激に臭気を
発生して、極端に臭気成分の濃度の高い被処理ガスが供
給された場合には、前記排気処理層４での臭気成分の蓄
積が起こり、吸着限界に達すると、臭気成分は前記排気
処理層４の下流側に流出することになるので、これを防
止するために、被処理ガス供給路１と、外気供給路８夫
々に、被処理ガス流量調節手段１０としてのダンパ１０
ａと、外気流量調節手段１１としてのダンパと１１ａが
設けてあり、脱臭制御手段１２により両ダンパ１０ａ，
１１ａの開度を調節して、前記処理空間２内での臭気成
分の濃度を調節するようにしてある。尚、通常は、前記
外気供給路８のダンパ１１ａは閉じて、専ら臭気発生場
所からの被処理ガスを脱臭処理する。

【００３９】この脱臭制御手段１２による両ダンパ１０
ａ，１１ａの開度調節は、前記オゾン濃度計５Ａの検出
するオゾン濃度に基づいて行う。つまり、検出するオゾ
ン濃度の設定値からの偏差に応じて、前記検出したオゾ
ン濃度が前記設定値よりも高い場合には、前記外気供給
路８のダンパ１１ａを閉側に調節し、前記オゾン濃度が
前記設定値よりも低い場合には、前記外気供給路８のダ
ンパ１１ａを開側に調節すると同時に、前記被処理ガス
供給路１のダンパ１０ａを閉側に調節する。前記検出す
るオゾン濃度が、例えば１０ｐｐｂ以下になって、実質
的検出されない状態になれば、前記排気処理層４が臭気
成分の吸着飽和状態に達したものと判断して、前記被処
理ガス供給路１のダンパ１０ａを閉じるとともに、前記
外気供給路８のダンパ１１ａを全開する。この状態で
は、前記排気処理層４には臭気成分は到達しないで酸化
性活性気体だけが供給されるので、前記排気処理層４に
吸着された臭気成分は酸化されて除去され、前記排気処
理層４は再生されて吸着能を回復するようになる。前記
オゾン濃度計５Ａで再びオゾンを検出するようになれ
ば、前記被処理ガス供給路１のダンパ１０ａを開き、脱
臭制御手段１２による制御を常態に復帰させる。

【００４０】以上のように脱臭装置を構成した結果、臭
気発生場所での臭気発生の状態変化に関わらず、安定し
て被処理ガスの脱臭処理を継続し、排気処理層４の再生
も自動的に行うことができるようになった。

【００４１】〔別実施形態〕 （１）前記外気供給路８は、図２に示すように、脱臭装
置本体Ｄに直接接続して、処理空間２の滞留空間２ａ内
に外部気体を供給するようにしてあってもよい。このよ
うにすれば、前記滞留空間２ａ内の臭気成分濃度を調節
することが可能である。

【００４２】（２）前記外気供給路８を、図３に示すよ
うに、脱臭装置本体Ｄの滞留空間２ａ内に直接外部気体
を供給するように接続し、その外気供給路８に、被処理
ガス供給路１に設けたオゾン発生電極９ａとは別のオゾ
ン発生電極９ａを配置してあってもよい。このようにす
れば、前記滞留空間２ａ内の臭気成分濃度を低下させな
がら、被処理ガスの供給量に対してオゾンの供給量を増
加することが可能になる。

【００４３】（３）さらに、前記外気供給路８を、図４
に示すように、前記被処理ガス供給路１に合流させるよ
うに接続して、前記外気供給路８にオゾン発生電極９ａ
を配置してあってもよい。このように構成すれば、前記
外気供給路８は、処理空間２内にオゾンを導入するオゾ
ン発生手段９として機能することになる。

【００４４】（４）また、図５に示すように、前記オゾ
ン発生電極９ａを前記被処理ガス供給路１に形成する処
理空間２に配置する代わりに、前記外気供給路８を脱臭
装置本体Ｄ内の処理空間２に接続して、前記外気供給路
８内に前記オゾン発生電極９ａを配置してあってもよ
い。このように構成すれば、前記外気供給路８が、前記
処理空間２に酸化性活性気体を導入する酸化手段３とし
て機能する。

【００４５】（５）以上は、酸化手段３を、オゾン発生
手段９で構成し、被処理ガスの流路内にオゾン発生電極
９ａを配置する例を示したが、上記何れの態様において
も、オゾン発生電極９ａを配置する代わりに、前記オゾ
ン発生電極９ａの配置箇所に、オゾン或いはその他の酸
化性活性気体を直接或いは搬送気体に同伴して導入する
ようにしてあってもよい。

【００４６】（６）以上は、酸化手段３を、オゾン発生
手段９で構成し、活性気体検出手段５としてオゾン検出
手段５Ａを設けて、排気処理層４の下流側にそのサンプ
ル吸引口５ａを配置した例を示したが、上記何れの態様
においても、例えば図３に示すように、活性気体検出手
段５のサンプル吸引口５ａを配置する代わりに、臭検出
手段１３のサンプル吸引口１３ａを配置してあってもよ
く、直接臭検出手段１３の臭センサを配置してあっても
よい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による脱臭装置の一例の原理説明図

【図２】本発明による脱臭装置の他の例の原理説明図

【図３】本発明による脱臭装置の他の例の原理説明図

【図４】本発明による脱臭装置の他の例の原理説明図

【図５】本発明による脱臭装置の他の例の原理説明図

【図６】従来の脱臭装置の一例の原理説明図

【符号の説明】

１ 被処理ガス供給路 ２ 処理空間 ３ 酸化手段 ４ 排気処理層 ５ 活性気体検出手段 ５Ａ オゾン検出手段 ６ 酸化性気体分解層 ８ 外気供給路 ９ オゾン発生手段 ９ａ オゾン発生電極 １０ 被処理ガス流量調節手段 １１ 外気流量調節手段 １２ 脱臭制御手段

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理空間を経て流通する被処理ガス中の
   臭気成分を、酸化手段から導入される酸化性活性気体に
   接触させ酸化する脱臭処理方法であって、 前記処理空間の下流側流路に前記臭気成分を吸着可能な
   排気処理層を配置して、 前記排気処理層に前記処理空間からの未反応臭気成分を
   吸着させ、その吸着させた未反応臭気成分に前記酸化性
   活性気体を接触させて、前記未反応臭気成分を酸化し、 臭気成分の系外への排出を防止する脱臭処理方法。
2. 【請求項２】 前記排気処理層の下流側に、前記酸化性
   活性気体を分解可能な酸化性気体分解層を配置して、 前記排気処理層からの排気中の未反応酸化性活性気体
   を、前記酸化性気体分解層で分解する請求項１記載の脱
   臭処理方法。
3. 【請求項３】 前記排気処理層の下流側に酸化性活性気
   体を検出する活性気体検出手段を配置して、 前記活性気体検出手段で未反応酸化性活性気体の流出を
   実質的に検出しなくなった場合には、 前記処理空間内の臭気成分の濃度を、前記酸化性活性気
   体の量に対して設定される所定濃度よりも相対的に低く
   なるように調節して、 前記排気処理層に吸着された未反応臭気成分に余剰にな
   る酸化性活性気体を接触させて前記未反応臭気成分を酸
   化する吸着成分除去工程を実行する請求項１又は２に記
   載の脱臭処理方法。
4. 【請求項４】 処理空間を経て流通する被処理ガス中の
   臭気成分を、オゾン発生手段から導入されるオゾンに接
   触させ酸化する脱臭処理方法であって、 前記処理空間内からの臭気成分を吸着可能な排気処理層
   を、前記処理空間の下流側に配置して、 前記排気処理層に前記処理空間内からの未反応臭気成分
   を吸着させ、その吸着させた未反応臭気成分に前記オゾ
   ンを接触させて、前記未反応臭気成分を酸化するととも
   に、 前記排気処理層の下流側に、排気中のオゾン濃度を検出
   するオゾン検出手段を配置して、 前記オゾン検出手段でオゾンを実質的に検出しなくなっ
   た場合に、前記オゾンの導入量を、前記被処理ガスの供
   給量に対して過剰となるように相対的に調節して、 前記排気処理層に吸着された未反応臭気成分に余剰にな
   るオゾンを接触させて前記未反応臭気成分を酸化する吸
   着成分除去工程を実行する脱臭処理方法。
5. 【請求項５】 被処理ガス供給路から流通する被処理ガ
   ス中の臭気成分を酸化処理する処理空間と、前記処理空
   間内で前記臭気成分に接触させるべく酸化性活性気体を
   導入可能な酸化手段とを備えた脱臭装置であって、 前記処理空間からの排気中の未反応臭気成分を吸着可能
   な排気処理層を、前記処理空間の下流側に設けるととも
   に、 前記被処理ガス中の臭気成分の濃度を、前記酸化性活性
   気体の量に対して設定される所定濃度よりも相対的に低
   くなるように調節可能な脱臭制御手段を設けてある脱臭
   装置。
6. 【請求項６】 被処理ガス供給路から流通する被処理ガ
   ス中の臭気成分を酸化処理する処理空間と、前記処理空
   間内で前記臭気成分に接触させるべく酸化性活性気体を
   導入可能な酸化手段とを備えた脱臭装置であって、 前記被処理ガス供給路とは別に、前記処理空間内に前記
   臭気成分を含有しない外部気体を供給可能な外気供給路
   を設けるとともに、 前記処理空間からの排気中の未反応臭気成分を吸着可能
   な排気処理層を、前記処理空間の下流側に設けて、 前記排気処理層の下流側に、前記酸化性活性気体を検出
   可能な活性気体検出手段を配置してある脱臭装置。
7. 【請求項７】 前記酸化手段をオゾン発生手段で構成し
   て、 前記酸化性活性気体としてオゾンを、前記処理空間内に
   導入するように構成するとともに、 前記活性気体検出手段を、オゾン検出手段で構成してあ
   る請求項６記載の脱臭装置。
8. 【請求項８】 前記オゾン発生手段のオゾン発生電極
   を、被処理ガスに接触可能に、前記処理空間内に配置し
   てある請求項７記載の脱臭装置。
9. 【請求項９】 前記外気供給路に外気供給量を調節する
   外気流量調節手段を設けて、 前記外部気体の供給を停止可能に前記脱臭制御手段を構
   成してある請求項６〜８何れかの１項に記載の脱臭装
   置。
10. 【請求項１０】 前記被処理ガス供給路に被処理ガスの
    供給量を調節する被処理ガス流量調節手段を設けて、 前記被処理ガス流量と前記外気流量との比を調節可能に
    前記脱臭制御手段を構成してある請求項６〜９何れかの
    １項に記載の脱臭装置。
11. 【請求項１１】 前記酸化手段を、前記酸化性活性気体
    を前記外気供給路中の外部気体に混入して導入するよう
    に構成してある請求項６〜１０何れかの１項に記載の脱
    臭装置。