JPH10312764A - 電子線照射用被処理物搬送装置 - Google Patents
電子線照射用被処理物搬送装置Info
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- JPH10312764A JPH10312764A JP9155662A JP15566297A JPH10312764A JP H10312764 A JPH10312764 A JP H10312764A JP 9155662 A JP9155662 A JP 9155662A JP 15566297 A JP15566297 A JP 15566297A JP H10312764 A JPH10312764 A JP H10312764A
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 title abstract 2
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被処理物を配置したトレー等の容器に不活性
ガスを注入する手間を削減し、電子線照射処理の生産性
を高めることのできる電子線照射用被処理物搬送装置を
提供すること。 【解決手段】 内部に被処理物を配置する容器と前記容
器を載置して電子線照射領域へ搬送する水冷板とを備え
てなる電子線照射用被処理物搬送装置において、前記水
冷板２２に貫通孔２５を形成し、該貫通孔２５に開閉弁
２９を有する不活性ガス供給口金２６を取り付け、一方
前記容器２１に前記水冷板２２の貫通孔２５に嵌合する
貫通孔２３を形成し、該貫通孔２３内に前記開閉弁２９
を開く操作突起２４を設け、前記水冷板２２上に前記容
器２１を載置することにより開閉弁２９を開き、前記容
器２１内に不活性ガスを注入する。
ガスを注入する手間を削減し、電子線照射処理の生産性
を高めることのできる電子線照射用被処理物搬送装置を
提供すること。 【解決手段】 内部に被処理物を配置する容器と前記容
器を載置して電子線照射領域へ搬送する水冷板とを備え
てなる電子線照射用被処理物搬送装置において、前記水
冷板２２に貫通孔２５を形成し、該貫通孔２５に開閉弁
２９を有する不活性ガス供給口金２６を取り付け、一方
前記容器２１に前記水冷板２２の貫通孔２５に嵌合する
貫通孔２３を形成し、該貫通孔２３内に前記開閉弁２９
を開く操作突起２４を設け、前記水冷板２２上に前記容
器２１を載置することにより開閉弁２９を開き、前記容
器２１内に不活性ガスを注入する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、トレイ等の容器に
被処理物を配置して電子線照射領域内を搬送する電子線
照射用被処理物搬送装置に関するものである。
被処理物を配置して電子線照射領域内を搬送する電子線
照射用被処理物搬送装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ガラス状被処理物等をトレーに並べ、こ
のトレーを電子線照射領域内を搬送させて被処理物に電
子線を照射して処理することが行われている。図５は、
このような電子線照射装置の構成の一例を示す側面図で
ある。図５において、１は電子線照射装置、２は電子線
照射室、３は被処理物搬入室、４はシャッター、５は電
子線照射装置本体、６は電子線照射窓、７は電子線照射
室２内に設置された水平搬送機、８は被処理物搬入室３
内に設置された水平搬送機、９は被処理物搬入室３内に
設置された昇降搬送機、１０は被処理物搬入口に設置さ
れたシャッター、１１はトレー、１２は水冷板である。
のトレーを電子線照射領域内を搬送させて被処理物に電
子線を照射して処理することが行われている。図５は、
このような電子線照射装置の構成の一例を示す側面図で
ある。図５において、１は電子線照射装置、２は電子線
照射室、３は被処理物搬入室、４はシャッター、５は電
子線照射装置本体、６は電子線照射窓、７は電子線照射
室２内に設置された水平搬送機、８は被処理物搬入室３
内に設置された水平搬送機、９は被処理物搬入室３内に
設置された昇降搬送機、１０は被処理物搬入口に設置さ
れたシャッター、１１はトレー、１２は水冷板である。
【０００３】この電子線照射装置１は、電子線照射室２
と被処理物搬入室３を備え、電子線照射室２と被処理物
搬入室３の間に開閉自在のシャッター４が設置され、電
子線照射時にはこのシャッター４が閉じられてＸ線等の
漏洩を防いでいる。電子線照射室２側には、上面外側に
取り付けられた電子線照射装置本体５と、内部に被処理
物を配置したトレー１１を電子線照射領域に搬送する水
平搬送機７が設置され、電子線照射装置本体５の電子線
照射窓６を水平搬送機７に近づけて配置されている。
と被処理物搬入室３を備え、電子線照射室２と被処理物
搬入室３の間に開閉自在のシャッター４が設置され、電
子線照射時にはこのシャッター４が閉じられてＸ線等の
漏洩を防いでいる。電子線照射室２側には、上面外側に
取り付けられた電子線照射装置本体５と、内部に被処理
物を配置したトレー１１を電子線照射領域に搬送する水
平搬送機７が設置され、電子線照射装置本体５の電子線
照射窓６を水平搬送機７に近づけて配置されている。
【０００４】被処理物搬入室３側には、上面の被処理物
搬入口に開閉自在のシャッター１０が設置され、内部に
被処理物を配置したトレー１１を電子線照射室３に搬送
する水平搬送機８と被処理物搬入口から水平搬送機８へ
被処理物を配置したトレー１１を搬送する昇降搬送機９
が設置されている。
搬入口に開閉自在のシャッター１０が設置され、内部に
被処理物を配置したトレー１１を電子線照射室３に搬送
する水平搬送機８と被処理物搬入口から水平搬送機８へ
被処理物を配置したトレー１１を搬送する昇降搬送機９
が設置されている。
【０００５】この電子線照射装置１で、被処理物を電子
線照射処理するとき被処理物をトレー１１に並べ、被処
理物搬入口のシャッター１０を開き、トレー１１を昇降
搬送機９に載せる。昇降搬送機９は下降してトレー１１
を水平搬送機８に載せ、水平搬送機８はトレー１１を水
平搬送機７に渡す。水平搬送機７には、必要に応じて水
冷板１２が用意され、この場合トレー１１はこの水冷板
１２上に載せられる。なお、電子線照射処理後のトレー
１１の電子線照射装置１からの取り出しは、適宜である
が、この例では逆の搬送を経て、被処理物搬入口から取
り出す。
線照射処理するとき被処理物をトレー１１に並べ、被処
理物搬入口のシャッター１０を開き、トレー１１を昇降
搬送機９に載せる。昇降搬送機９は下降してトレー１１
を水平搬送機８に載せ、水平搬送機８はトレー１１を水
平搬送機７に渡す。水平搬送機７には、必要に応じて水
冷板１２が用意され、この場合トレー１１はこの水冷板
１２上に載せられる。なお、電子線照射処理後のトレー
１１の電子線照射装置１からの取り出しは、適宜である
が、この例では逆の搬送を経て、被処理物搬入口から取
り出す。
【０００６】水冷板１２は、トレー１１内の被処理物が
電子線の照射により温度上昇するので、これを冷却する
ために設けられるもので、図６に示すように、内部にジ
グザグ状の水路１３が形成され、一端に冷却水を供給す
るホース１４を接続する供給口１５、他端に冷却水を排
水するホース１６を接続する排出口１７が形成されてい
る。トレー１１内の被処理物を冷却する場合には、水平
搬送機７に配置し供給口１５および排出口１７にホース
１４および１６を接続し冷却水を水冷板１２内に流し、
水冷板１２上に載置されたトレー１１を介して被処理物
を冷却する。
電子線の照射により温度上昇するので、これを冷却する
ために設けられるもので、図６に示すように、内部にジ
グザグ状の水路１３が形成され、一端に冷却水を供給す
るホース１４を接続する供給口１５、他端に冷却水を排
水するホース１６を接続する排出口１７が形成されてい
る。トレー１１内の被処理物を冷却する場合には、水平
搬送機７に配置し供給口１５および排出口１７にホース
１４および１６を接続し冷却水を水冷板１２内に流し、
水冷板１２上に載置されたトレー１１を介して被処理物
を冷却する。
【０００７】トレイ１１は、上面が開放された箱型に形
成され、被処理物を電子線照射処理するときには、図７
の断面図に示すように、その内部に被処理物１８を並べ
て配置し、開放上面を合成樹脂（ポリエチレン等）等の
フィルム１９で覆われる。そして、電子線照射時、被処
理物１８が空気雰囲気中（特に酸素雰囲気中）に晒すこ
とを特に低減する場合には、フィルム１９で覆ったトレ
ー１１の内部に窒素（Ｎ２）ガス等の不活性ガスを注入
し、空気を追い出し被処理物１８を不活性ガス雰囲気中
に置くようにされる。図７の符号２０はこの不活性ガス
を注入する注入口で必要のない場合には適宜栓で蓋され
ている。
成され、被処理物を電子線照射処理するときには、図７
の断面図に示すように、その内部に被処理物１８を並べ
て配置し、開放上面を合成樹脂（ポリエチレン等）等の
フィルム１９で覆われる。そして、電子線照射時、被処
理物１８が空気雰囲気中（特に酸素雰囲気中）に晒すこ
とを特に低減する場合には、フィルム１９で覆ったトレ
ー１１の内部に窒素（Ｎ２）ガス等の不活性ガスを注入
し、空気を追い出し被処理物１８を不活性ガス雰囲気中
に置くようにされる。図７の符号２０はこの不活性ガス
を注入する注入口で必要のない場合には適宜栓で蓋され
ている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、トレー１１
内への不活性ガスの注入は、従来、不活性ガス供給源に
接続された供給管をトレー１１に形成された注入口２０
に人手により接続して行われている。そのためにその作
業に手間がかかるだけでなく、多数のトレー１１による
連続的処理が図れず電子線照射処理の生産性が悪いとい
う問題がある。
内への不活性ガスの注入は、従来、不活性ガス供給源に
接続された供給管をトレー１１に形成された注入口２０
に人手により接続して行われている。そのためにその作
業に手間がかかるだけでなく、多数のトレー１１による
連続的処理が図れず電子線照射処理の生産性が悪いとい
う問題がある。
【０００９】本発明はこのような問題に鑑みなされたも
ので、被処理物を配置したトレー等の容器に不活性ガス
を注入する手間を削減し、電子線照射処理の生産性を高
めることのできる電子線照射用被処理物搬送装置を提供
することを目的とする。
ので、被処理物を配置したトレー等の容器に不活性ガス
を注入する手間を削減し、電子線照射処理の生産性を高
めることのできる電子線照射用被処理物搬送装置を提供
することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、内
部に被処理物を配置する容器と前記容器を載置して電子
線照射領域へ搬送する水冷板とを備えてなる電子線照射
用被処理物搬送装置において、前記水冷板に不活性ガス
を供給する開閉弁を取り付けるとともに、前記容器に前
記開閉弁を開操作する操作体を設け、前記水冷板に前記
容器を載置することにより前記開閉弁を開操作して前記
容器内に不活性ガスを注入可能にしてなることを特徴と
することにより達成される。
部に被処理物を配置する容器と前記容器を載置して電子
線照射領域へ搬送する水冷板とを備えてなる電子線照射
用被処理物搬送装置において、前記水冷板に不活性ガス
を供給する開閉弁を取り付けるとともに、前記容器に前
記開閉弁を開操作する操作体を設け、前記水冷板に前記
容器を載置することにより前記開閉弁を開操作して前記
容器内に不活性ガスを注入可能にしてなることを特徴と
することにより達成される。
【００１１】本発明の特徴によれば、被処理物を内部に
配置した容器内に窒素ガス等の不活性ガスを注入すると
きは、水冷板に取り付けた開閉弁に不活性ガス源に接続
された供給管（またはホース）を接続する。そしてこの
水冷板に被処理物を内部に配置した容器が載せられる
と、容器の操作体によって開閉弁が開かれ不活性ガスが
容器内に注入される。このように容器内に不活性ガスが
自動的に注入されるので、不活性ガスを注入する手間が
削減される。
配置した容器内に窒素ガス等の不活性ガスを注入すると
きは、水冷板に取り付けた開閉弁に不活性ガス源に接続
された供給管（またはホース）を接続する。そしてこの
水冷板に被処理物を内部に配置した容器が載せられる
と、容器の操作体によって開閉弁が開かれ不活性ガスが
容器内に注入される。このように容器内に不活性ガスが
自動的に注入されるので、不活性ガスを注入する手間が
削減される。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図を参照にして説明する。なお、電子線照射装置は図
５を参照して説明したものと同様であるのでその説明は
省略する。図１は、本発明の実施の形態の電子線照射用
被処理物搬送装置の構成を示す側面図、図２は図１に示
す水冷板の平面図、図３は図１に示す容器の平面図であ
る。
て図を参照にして説明する。なお、電子線照射装置は図
５を参照して説明したものと同様であるのでその説明は
省略する。図１は、本発明の実施の形態の電子線照射用
被処理物搬送装置の構成を示す側面図、図２は図１に示
す水冷板の平面図、図３は図１に示す容器の平面図であ
る。
【００１３】図１ないし図３において、２１は被処理物
を内部に配置する容器（トレー）、２２は水冷板であ
る。トレー２１の長手方向中央部の端部底面には貫通孔
２３が形成され、その貫通孔２３の周囲に下向きに立ち
壁３０が形成され、貫通孔２３の中央部で下向き突出す
る突起（操作体）２４が貫通孔２３での窒素ガス等の不
活性ガスが流通できるようにして取り付けられている。
そしてこの実施の形態では上面開放部周囲にフランジ２
１ａが形成され、その上面開放部はカバーフィルム１９
で覆っている。なお、内部の被処理物は省略されてい
る。
を内部に配置する容器（トレー）、２２は水冷板であ
る。トレー２１の長手方向中央部の端部底面には貫通孔
２３が形成され、その貫通孔２３の周囲に下向きに立ち
壁３０が形成され、貫通孔２３の中央部で下向き突出す
る突起（操作体）２４が貫通孔２３での窒素ガス等の不
活性ガスが流通できるようにして取り付けられている。
そしてこの実施の形態では上面開放部周囲にフランジ２
１ａが形成され、その上面開放部はカバーフィルム１９
で覆っている。なお、内部の被処理物は省略されてい
る。
【００１４】水冷板２２は、従来と同様に内部にジグザ
グ状の水路１３が形成され、一端に冷却水を供給するホ
ース１４を接続する供給口１５、他端に冷却水を排水す
るホース１６を接続する排水口１７が形成されている。
水冷板２２の長手方向中央部の端部に貫通孔２５が形成
され、この貫通孔２５に不活性ガス供給管２７の供給口
金２６が取り付けられている。供給口金２６の内部に
は、上向きに突出する開閉弁２９がバネ２８により供給
口を閉鎖するように取り付けられている。なお、実施の
形態では水冷板２２に不活性ガス供給管２７の供給口金
２６を取り付けるようにしているが、開閉弁２９を水冷
板２２に取り付けておき、これに適宜不活性ガス供給管
を接続するようにしてもよい。
グ状の水路１３が形成され、一端に冷却水を供給するホ
ース１４を接続する供給口１５、他端に冷却水を排水す
るホース１６を接続する排水口１７が形成されている。
水冷板２２の長手方向中央部の端部に貫通孔２５が形成
され、この貫通孔２５に不活性ガス供給管２７の供給口
金２６が取り付けられている。供給口金２６の内部に
は、上向きに突出する開閉弁２９がバネ２８により供給
口を閉鎖するように取り付けられている。なお、実施の
形態では水冷板２２に不活性ガス供給管２７の供給口金
２６を取り付けるようにしているが、開閉弁２９を水冷
板２２に取り付けておき、これに適宜不活性ガス供給管
を接続するようにしてもよい。
【００１５】以上のように構成された水冷板２２は、供
給口１５を給水源および不活性ガス供給管２７を不活性
ガス源に接続し、図５の電子線照射装置１を使用する場
合、その電子線照射装置１の水平搬送機７上に置かれ
る。トレー２１は内部に被処理物を並べ、開放上面をフ
ィルム等で覆って被処理物搬入口のシャッター１０を開
き、トレー２１を昇降搬送機９に載せる。昇降搬送機９
は下降してトレー２１を水平搬送機８に載せ、水平搬送
機８はトレー２１を水平搬送機７に渡す。水平搬送機７
には水冷板２２が用意されており、トレー２１はこの水
冷板２２上に載せられる。
給口１５を給水源および不活性ガス供給管２７を不活性
ガス源に接続し、図５の電子線照射装置１を使用する場
合、その電子線照射装置１の水平搬送機７上に置かれ
る。トレー２１は内部に被処理物を並べ、開放上面をフ
ィルム等で覆って被処理物搬入口のシャッター１０を開
き、トレー２１を昇降搬送機９に載せる。昇降搬送機９
は下降してトレー２１を水平搬送機８に載せ、水平搬送
機８はトレー２１を水平搬送機７に渡す。水平搬送機７
には水冷板２２が用意されており、トレー２１はこの水
冷板２２上に載せられる。
【００１６】このとき、トレー２１の貫通孔２３の周囲
に形成された立ち壁３０が水冷板２２の貫通孔２５に嵌
合し、トレー２１の貫通孔２３に設けられた突起（操作
体）２４が水冷板２２に取り付けられた開閉弁２９を押
し込み、開閉弁２９を開き、トレー２１内部へ不活性ガ
スを注入する。この場合、トレー２１の開放上面のフィ
ルムに適宜孔などを形成しておくと良い。
に形成された立ち壁３０が水冷板２２の貫通孔２５に嵌
合し、トレー２１の貫通孔２３に設けられた突起（操作
体）２４が水冷板２２に取り付けられた開閉弁２９を押
し込み、開閉弁２９を開き、トレー２１内部へ不活性ガ
スを注入する。この場合、トレー２１の開放上面のフィ
ルムに適宜孔などを形成しておくと良い。
【００１７】図４は、トレイ２１と水冷板２２との係合
を強固にして、水冷板２２からトレイ２１に対する熱伝
達を確実にして、冷却効果を高めるようにした場合の側
面図で、水冷板２２の両側面にエアシリンダ３１、３１
が設けられ、水冷板２２にトレー２１が載せられたとき
エアシリンダ３１、３１を駆動して、トレー２１のフラ
ンジ２１ａ部を押圧してトレイ２１と水冷板２２との密
着性を高めて保持する。このようにすると、水冷板２２
の冷却作用が確実になる。
を強固にして、水冷板２２からトレイ２１に対する熱伝
達を確実にして、冷却効果を高めるようにした場合の側
面図で、水冷板２２の両側面にエアシリンダ３１、３１
が設けられ、水冷板２２にトレー２１が載せられたとき
エアシリンダ３１、３１を駆動して、トレー２１のフラ
ンジ２１ａ部を押圧してトレイ２１と水冷板２２との密
着性を高めて保持する。このようにすると、水冷板２２
の冷却作用が確実になる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、自
動的に容器内に不活性ガスを注入することができるの
で、その作業手間が低減され、多数の容器による連続的
処理が図れ電子線照射処理の生産性を高めることができ
る。
動的に容器内に不活性ガスを注入することができるの
で、その作業手間が低減され、多数の容器による連続的
処理が図れ電子線照射処理の生産性を高めることができ
る。
【図１】本発明の実施の形態の電子線照射用被処理物搬
送装置の構成を示す側面図である。
送装置の構成を示す側面図である。
【図２】図１に示す水冷板の平面図である。
【図３】図１に示す容器の平面図である。
【図４】本発明の実施の形態の電子線照射用被処理物搬
送装置の他の構成を示す側面図である。
送装置の他の構成を示す側面図である。
【図５】電子線照射装置の構成の一例を示す側面図であ
る。
る。
【図６】従来の水冷板の説明用構成図である。
【図７】従来例の容器の説明用断面図である。
１ 電子線照射装置 ２ 電子線照射室 ３ 被処理物搬入室 ４、１０ シャッター ５ 電子線照射装置本体 ７、８ 水平搬送機 ９ 昇降搬送機 １３ 水路 １５ 冷却水供給口 １７ 排水口 １９ カバーフイルム ２１ トレー（容器） ２２ 水冷板 ２３、２５ 貫通孔 ２４ 突起（操作体） ２６ 不活性ガス供給口金 ２８ バネ ２９ 開閉弁 ３０ 立ち壁 ３１ エアシリダ
Claims (1)
- 【請求項１】 内部に被処理物を配置する容器と前記容
器を載置して電子線照射領域へ搬送する水冷板とを備え
てなる電子線照射用被処理物搬送装置において、前記水
冷板に不活性ガスを供給する開閉弁を取り付けるととも
に、前記容器に前記開閉弁を開操作する操作体を設け、
前記水冷板に前記容器を載置することにより前記開閉弁
を開操作して前記容器内に不活性ガスを注入可能にして
なることを特徴とする電子線照射用被処理物搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9155662A JPH10312764A (ja) | 1997-05-10 | 1997-05-10 | 電子線照射用被処理物搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9155662A JPH10312764A (ja) | 1997-05-10 | 1997-05-10 | 電子線照射用被処理物搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10312764A true JPH10312764A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=15610859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9155662A Pending JPH10312764A (ja) | 1997-05-10 | 1997-05-10 | 電子線照射用被処理物搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10312764A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010512229A (ja) * | 2006-12-11 | 2010-04-22 | エシコン・インコーポレイテッド | 放射線感受性材料の照射用装置および方法 |
| DE102011079806A1 (de) | 2010-08-18 | 2012-02-23 | Mitsubishi Electric Corp. | Halbleiterwafer-Kühlvorrichtung |
-
1997
- 1997-05-10 JP JP9155662A patent/JPH10312764A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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