JPH10310612A

JPH10310612A - 化合物及びこれらの化合物を使用して液晶ポリマーを製造する方法

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Publication number: JPH10310612A
Application number: JP10128024A
Authority: JP
Inventors: Fritz Dr Dannenhauer; フリツツ・ダネンハウエル; Michael Dr Gailberger; ミヒヤエル・ガイルベルゲル; Karl Dr Holdik; カルル・ホルデイク; Katja Strelzyk; カトヤ・シユトレルツイク; Kathrin Kuerschner; カトリン・キユルシユネル; Andreas Stohr; アンドレアス・シユトール; Peter Dr Strohriegl; ペーテル・シユトローリーグル
Original assignee: Daimler Benz AG
Current assignee: Daimler Benz AG
Priority date: 1997-04-05
Filing date: 1998-04-03
Publication date: 1998-11-24
Also published as: US6303050B1; EP0869112A1; DE19714119A1

Abstract

(57)【要約】【目的】良好な取扱い可能住で大きい変化幅及び組成
の良好な制御を可能にする化合物、これらの化合物の製
造方法及びこれらの化合物に基いて液晶ポリマーを製造
する方法を提供する。【構成】一般式Ｃ−Ａｍの化合物であつて、ｍ≧２で
あり、ｍ＝２の場合Ｃは一般式Ｃ_ｎＨ_２ｎの残基であ
り、ｍ＞２の場合有枝及び多官能残基であら、Ａは一般
式Ｙ−Ｂ−Ｍの同じ又は異なる残基であり、ここでＹは
重合可能な残基を意味し、Ｂは一般式Ｃ_ｎＨ_２ｎの同じ
又は異なる残基、Ｍは一般式−Ｒ^１−Ｘ^１−Ｒ^２−Ｘ^２
−Ｒ^３−Ｘ^３−Ｒ^４を持ち、ここでＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，
Ｒ^４は同じ又は異なる２共有結合残基であり、Ｘ^１，Ｘ
^２，Ｘ^３は同じ又は異なる残基である。これらの同じ又
は異なる化合物を残基Ｙの重合により架橋し、これらの
化合物を使用して液晶ポリマーを製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、化合物、その製造方
法、及びこれらの化合物を使用して液晶ポリマーを製造
する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ポリマーはとりわけポリマー被覆及
び効果塗料の製造の際使用される。

【０００３】ポリマー被覆は、物体の表面の改善及び美
的形成のために重要である。多様な色印象及び特別な色
効果は、異なるやり方で生ずることができる。普通のポ
リマー被覆は、着色のため又は例えば金属光沢のような
特別の効果を得るため、担体ポリマー中に小片又は顔料
を含んでいる。特定の反射効果を得るため、例えば金属
箔、被覆された雲母小片又は液晶化合物を主成分とする
干渉顔料が、担体ポリマーとして塗料本体へ混入され
る。その際色印象を自由に形成するため、付加的に他の
顔料を添加することができる。

【０００４】充分効果のある着色のための別の可能性
は、液晶ポリマー、コポリマー、オリゴマー（マクロモ
ノマー）又はモノマーを使用することである。これらの
液晶材料の若干は、つながるポリマー膜を形成するのに
適している。これらは液晶相中で重合し、その際特別な
色効果を持つ塗料層を生ずる。例えば透明な塗料への担
体材料の混入は必要でない。

【０００５】液晶状態を示す多数の物質が原理的には公
知である。一般に特定の分子配列状態をとるのに適した
長い有機分子が使用される。液晶相の配列状態に応じ
て、入射する光のうち、液晶材料の等間隔の層間隔と干
渉する波長のみが反射される。それにより特定の色効果
及び反射効果が生じる。特定の液晶相の構成は特定の温
度範囲において行われ、これらの温度範囲の位置及び幅
は材料の化学的構造に関係している。更に相内における
液晶相の色の出現はしばしば温度に関係し、即ち液晶相
の加熱及び冷却の際異なる波長が反射される。従つて特
定の波長反射及び光効果を持つ塗料又は他のポリマー被
覆を製造するため、液晶相を固定するか又は機械的に安
定化することが必要である。それにより特定の色効果又
は反射効果を永続的に保持することができる。液晶相
は、密な網組織となるように出発分子を重合又は架橋す
ることによつて、固定することができる。そのため出発
材料は、架橋可能な反応基を含んでいなければならな
い。

【０００６】２つの同じ末端反応基を持つ液晶モノマー
化合物は文献から公知である（Ｊ．Ｌｕｂ，Ｄ．Ｊ．Ｂ
ｒｏｅｒ，Ｒ．Ａ．Ｍ．Ｈｉｋｍｅｔ，Ｋ．Ｇ．Ｊ．Ｎ
ｉｅｒｏｐ，″Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．″１８／２，３１
９（１９９５），Ｄ．Ｊ．Ｂｒｏｅｒ，Ｊ．Ｌｕｂ，
Ｇ．Ｎ．Ｍｏ１，″Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ″２
６，１２４４（１９９３），Ｒ．Ａ．Ｍ．Ｈｉｋｍｅ
ｔ，Ｊ．Ｌｕｂ，Ｊ．Ａ．Ｈｉｇｇｉｎｓ，″Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ″３４，１７３６（１９９３），Ｓ．Ｊａｈｒｏ
ｍｉ，Ｊ．Ｌｕｂ，Ｇ．Ｎ．Ｍｏｌ，″Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ″３５，６２２（１９９４）参照）。このようなモノ
マーの架橋は、一般に光循環添加によるか又はモノマー
混合物への光開始剤の添加により光化学的に行われる。
熱により開始されるラジカル架橋又は熱により開始され
る付加反応又は結合反応は公知である。ポリマー膜を形
成するため、公知の液晶モノマーが適当な基板上に塗布
され、重合反応が開始され、末端基が同時に重合し、完
成した最終生成物が生じる。

【０００７】この場合被覆すべき基板上への出発モノマ
ーの塗布及び付着能力が大きい困難を生じる。液晶モノ
マーは一般に結晶性であり、従つて下地によく付着しな
い。更に均一な層厚での塗布がかなり困難である。更に
公知の液晶材料は、最終生成物即ちポリマー膜の硬さ、
弾性及び付着に関して比較的不変であり、特定の使用の
要求によく合わない。

【０００８】１９９６年１０月１８日に提出されたドイ
ツ連邦共和国特許出願第１９６４３０４８．８号に記載
されたている液晶化合物は、重合可能な異なる末端残基
を持つている。これらの化合物は、異なる反応残基が異
なる開始機構及び反応機構により架槁可能なので、重合
の際２段階の方法を可能にする。それによりまずプレポ
リマーが、あまり高くない重合度のホモポリマー又はコ
ポリマー（オリゴマー）の形で製造される。このプレポ
リマーはモノマー自体より容易に取扱い可能である。

【０００９】しかしプレポリマーの組成の変化範囲が限
られているか又はよく制御できないということが、まだ
欠点である。更に重合と共に転移温度が上昇する。しか
しこれはすべての適用にとつて有利ではない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従つて本発明の課題
は、一層よい取扱い可能性で一層大きい変化幅及び組成
の一層良好な制御を可能にする、化合物、その製造方法
及びこれらの化合物に基いて液晶ポリマーを製造する方
法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この課題は、化合物に関
しては請求項１の特徴により、これらの化合物の製造方
法に関しては請求項９の特徴により、また液晶ポリマー
の製造方法に関しては請求項１６の特徴により解決され
る。

【００１２】従つて残基Ｃ（以下スペーサという）を介
して２つの液晶単位Ａの結合は、双子ネマート（Ｔｗｉ
ｎ−Ｎｅｍａｔｅｎ）となり、複数の液晶単位Ａの結合
は星形ネマート（Ｓｔｅｒｎ−Ｎｅｍａｔｅｎ）従つて
高度に官能化されたシステムになる。こうして、オリゴ
マーの分子量範囲にある分子量を持ちかつガラス状に凝
固するモノマーが得られる。

【００１３】本発明による化合物は、これらの化合物が
オリゴマーの範囲に所定の構造及び分子量（１０００な
いし３０００ｇ／ｍｏｌ）を持つモノマーであるという
利点を持つている。大きい分子量にもかかわらず、モノ
マーは低粘度であり、従つて液晶相で容易に配向され
る。この良好な配向は架橋後も維持される。これは、紫
外線ＶＩＳから吸収スペクトル（５０ｍｍの範囲にある
半値幅）中における生じたポリマー膜の狭い吸収帯を示
している。更に従来のモノマーのＨＴＰ（らせんねじれ
能力）を本発明による化合物と比較すると、後者が同じ
ようによくねじれる。これは、特にｍ＝２を持つ化合物
（以下双子ネマートという。図１も参照）についていえ
るが、ｍ＝３以上（以下星形ネマートという。図２の
（ａ）及び（ｂ）も参照）についてもいえる。

【００１４】従来のモノマーに対して本発明による化合
物は、重合のために利用できる著しく大きい変化幅を持
つている。種々の液晶単位は適当に互いに結合される。
従つて本発明による所定の構造の化合物は、液晶ポリマ
ーの構成のため従つてこれらのポリマーの性質の制御の
ために計画的に使用することができる。こうしてはるか
に多数のモノマーが使用されて、ポリマー網へ重合によ
り組入れることができる。

【００１５】残基Ｂ（以下側鎖という）及びスペーサＣ
への可撓元素の挿入は、転移温度を低下させるので、こ
の転移温度をそれぞれ所望の適用に適当に合わせること
ができる。

【００１６】こうして従来の技術とは異なり、大きい分
子量及び所望の組成を持つモノマー単位を適当に製造
し、従つてモノマー及び生じるポリマー膜の性質に適当
な影響を与えることが可能である。特に粘度、膜形成性
質、流展、流動性能、溶解度、色、光沢、徐冷、加工
性、付着、弾性、硬さ等のような材料パラメータを適当
に設定可能である。

【００１７】本発明によるモノマーはよく加工され、公
知の多結晶モノマー又は公知のプレポリマーに比較し
て、著しく改善された塗布性質を持つている。本発明に
よる化合物の組成を介して、例えば粘度従つて塗布の際
の性能が、被覆すべき下地に影響を及ぼすようにされ
る。下地上における最終生成物の付着は、重合段階を介
して例えば反応基Ｙの濃度によりそれぞれの基板に合わ
せることができる。

【００１８】特に有利な液晶モノマーは、ｍ＝２，３又
は４を持つような液晶モノマーである。ここでは前述し
た双子ネマート又は星形ネマートが使用される（図１、
図２の（ａ）及び（ｂ）参照）。これらの化合物は容易
に取扱い可能であり、評価可能なメソゲン単位を含んで
いるので、比較的費用をかけずに合成される。

【００１９】残基Ｂの炭素原子の数が１ないし１０なる
べく２ないし６であると有利である。更に残基Ｒ^１，Ｒ
^２，Ｒ^３及び／又はＲ^４が−Ｏ−，又は−ＣＯＯ−又は
−ｃＨ_２ＣＨ_２Ｏ−であると、これらの残基が液晶の性
質を促進するので、好ましい。Ｒ^２−Ｘ^２−Ｒ^３がＣ−
Ｃ結合であり、かつ／又は残基Ｘ^１及び／又はＸ^３が
１，４フエニレン又は２メチル−１，４フエニレンであ
る場合にも、同じことがいえる。後者はヴアニリン単位
（４ハイドロオキシ−３メトキシ−ベンズアルデヒド）
ともみなすことができる。残基Ｘ^１，Ｘ^２及びＸ^３は多
重にも置換することができる。好ましい例は３，４ジヒ
ドロオキシ安息香酸である。

【００２０】本発明による化合物の好ましい実施例は、
スペーサＣとしてテトラエチレングリコール残基、ブチ
ル残基又はヘキシル残基を含んでいる。側鎖はなるべく
ヘキシル残基又は酸化エチレン残基である。

【００２１】重合可能な残基Ｙはアクリレート残基、メ
タクリレート残基、ビニルエーテル残基、エポキシ残基
又はアジ化物残基である。

【００２２】本発明による方法は３つの反応段階に特徴
づけられている。即ちまず一般式Ｙ−Ｂ−Ｍ″を持つメ
ソゲンが合成され、ここでＭ″は一般式−Ｒ^１−Ｘ^１−
Ｒ^２−Ｘ^２−Ｒ^３を持つている。Ｒ^３は反応性末端基を
持つている。これに並行して、線状又は有枝スペーサ
Ｃ″が合成され、このスペーサＣ″は残基Ｃ及び末端官
能基特に一般式Ｘ^３−Ｒ^４の残基Ｍ″を持つている。最
後の段階でこれら両方の化合物が、それらの末端反応基
を介して、本発明による化合物となるように合成され
る。

【００２３】こうして遊離体の適当な選択によつて、本
発明による化合物のメソゲン単位Ｍ、側鎖Ｂ、反応残基
Ｙ及びスペーサを適当に選んで、構成することができ
る。このようにして、それぞれの使用目的にとつて最適
な性質を持つ″寸法に合わせて仕立てられた″化合物が
得られる。

【００２４】所望の中間段階への個々の段階ａ）及び
ｂ）における反応は、公知の古典的やり方で末端反応基
を介して行われる。中間生成物は、段階ｃ）で、なるべ
くエステル化を介して本発明による化合物に合成され
る。

【００２５】塗布のため及び本発明による化合物を塗料
のように被覆すべき基板へ塗布できるようにするため、
これらの化合物を有機溶媒なるべくクロロホルム又はテ
トラヒドロフランに溶解し、本来の反応前に溶媒を蒸発
させるのが特に有効である。

【００２６】本発明による化合物の塗布すべき形は、適
用上の多様な要求に合わせることができる。例えば溶媒
に入れても売買することができる。更に本発明による化
合物の溶液を、任意の濃度でかつ所定の粘度、流展、ぬ
れ及び付着の性質で製造することができる。被覆すべき
基板への塗布はあらゆる適当なやり方で行うことができ
る。例えば表面へ吹付けるか又は塗り付け、本発明によ
る化合物の溶液へ表面を浸潰することができる。要求及
び使用される溶媒に応じて、溶媒を室温又は高い温度、
負圧又は空気流中で蒸発させることができる。この場合
考慮すべきことは、重合反応が特定の組成で高い温度で
既に始まることであるが、これは個々の適用にとつて有
利でもある。

【００２７】本発明による化合物から液晶ポリマーを製
造する方法は、本発明による化合物をそれらの末端残基
Ｙを介して結合することを含んでいる。好ましい実施態
様では、重合は、アクリレート基又はメタクリレート基
を介して、またビニルエーテル基、エポキシ基又はアジ
化物基を介して、ラジカル又は陽イオンにより行われ
る。重合開始剤なるべく光開始剤を添加するのが特に有
利である。古典的なラジカル開始剤は例えば２，２ジメ
チル−２フエニルアセトフエノン，２，２′アゾビス
（２メチルプロピオニトリル）、ジベンゾイル過酸化物
又はジ−ｔ−ブチル過酸化物である。１ないし５モル％
の開始剤濃度が特に好ましい。ラジカル重合反応に対し
ては、反応調整剤なるべく１デカンチオールの存在も、
特になるべく１ないし１０モル％の濃度で有利である。
ラジカル重合開始剤の使用及び場合によつては反応調整
剤の添加によつて、反応条件が最適にされる。

【００２８】ビニルエーテル基、エポキシ基又はアジ化
物基の反応を介しての重合は、少なくとも１つの反応開
始剤なるべく陽イオン光開始剤の存在下で行われる。好
都合なように光開始剤はなるべくジアリルスルフオニウ
ム塩、ジアリルヨードニウム塩又はこれらの混合物を含
んでいる。このような光開始剤の例は市販の製品Ｄｅｇ
ａｃｕｒｅＫＩ８５（Ｄｅｇｕｓｓａ社）、ピス
（４第３ブチルフエニル）ヨードニウム−ヘキサフルオ
ロ燐酸塩（ミドリ化学社）、ジフエニルヨードニウムヘ
キサフルオロ燐酸塩と混合される２，４，６トリメチル
ベンゾイルエトキシフエニルフオスフイン酸化物（ＢＡ
ＳＦ社）、及びジフエニルヨードニウムテトラフルオル
硼酸塩と混合される２，２ジメトキシ−２フエニルアセ
トフエノンである。更に紫外線により重合反応を誘発
し、かつ／又は熱処理により反応生成物を後硬化するこ
とができる。

【００２９】光開始剤の使用は特別な利点を与える。な
ぜならば、それにより最終生反物への反応経過を容易に
開始し、調整し、場合によつては促進できるからであ
る。純熱的効果に対し、紫外線による重合反応の誘発
は、エネルギ量を著しく節約し、一層速く目的に向けて
開始可能であり、かつ一層よく計量される。被覆すべき
表面へ、陰形成又は接近不能のため開始剤噴流が達しな
い場合、熱処理が有利である。

【００３０】本発明による方法の特に好ましい実施態様
では、請求項１６による付加的な化合物の存在下で重合
が行われる。以下コモノマーと称するこれらの付加的な
化合物は、重合最終生成物の性質を適用上の要求に合わ
せるのに特に適している。最終生成物の設定可能な機械
的性質は、対応する下地上におけるモノマー膜の特に付
着能力、弾性及び硬さである。

【００３１】ポリマー脱の視覚的効果に影響を与えるコ
モノマーの本発明による使用は特に有利である。ネマチ
ツク作用物質へキラル成分を混合することにより、コレ
ステリツク相を誘発することができる。これは、特に作
用物質の液晶性質があまり顕著でない時に有利である。
キラル成分はこれに関して補強効果を生ずる。続いてこ
の混合物は、適当な開始剤の添加により、液晶相中で光
架橋される。こうしてコレステリツク相を網状組織中に
固定することができる。

【００３２】その際残基Ｂ^３及び／又はＢ^４がキラルで
あると特に好都合である。１つ又は複数のキラル又はキ
ラル−ネマチツクコモノマーを、本発明による化合物と
異なる混合比で使用することによつて、紫外線範囲から
赤外線範囲までのポリマー族の任意の反射波長を設定す
ることができる。高官能化される成分と重合可能なキラ
ルモノマーとの共重合により、高い架橋密度が得られ
る。この高度に架橋されるポリマー膜では、反射波長は
温度に関係しない。

【００３３】本発明による適当なコモノマーの例は次の
化合物である。４−〔Ｓ−（２アクリロイルオキシ−２
メチル）−エチルオキシ〕−４″−シアノビフエニル

【化１】４−〔Ｓ−（２アクリロイルオキシ−２メチル）−エチ
ルオキシ〕−４″〔Ｓ−２メチルブチルオキシ〕−ビフ
エニル

【化２】｛４″−〔Ｓ−（２アクリロイルオキシ−２メチル）−
エチルオキシ〕−フエニル｝−４−（２ビニルオキシエ
トキシ）−安息香酸塩

【化３】Ｒ，Ｓ−ジ〔４″（３アクリロイルオキシ−２″メチル
プロポキシ）安息香酸〕１，４フエニル−ジエステル

【化４】

【００３４】コポリマーは、なるべく１つ又は２つの重
合可能な残基Ｙ^３例えばアクリレート基又はメタクリレ
ート基を持つている。ただ１つの重合可能な残基を持つ
コポリマーは、視覚的効果のほかに、最終生成物の機械
的性質にも影響を及ぼす。このようなコポリマーは、重
合反応の際鎖を破断し、こうして架橋度を調整する。コ
モノマーのキラル中心Ａ^３及び／又はＡ^４は、液晶ポリ
マーにおけるコレステリツク相の形成を促進する。光活
性のある分子によつてのみ実現可能でありかつ簡単に構
成される液晶組織の一種の超格子であるこのようなコレ
ステリツク構造は、ねじ状のらせん配置の液晶の基本範
囲を含んでいる。ピツチとも称される個々のらせん基本
範囲の高さは、反射される光の波長従つて金属状に輝く
反射の色を決定する。

【００３５】コレステリツク相を助長する本発明による
コモノマーの別の例は、コレステリン誘導体例えば次の
化合物である。コレステリル−４−（２ビニルオキシエトキシ）−安息
香酸塩

【化５】コレステリル−４−（６アクリロイルオキシヘキシルオ
キシ）−安息香酸塩

【化６】コレステリル−３，４ジ（１ビニルオキシエトキシ）−
安息香酸塩

【化７】コレステリル−３，４ジ（６アクリロイルオキシオキシ
エチルオキシ）安息香酸塩

【化８】

【００３６】別の適当な化合物群は、１，４；３，６ジ
アンヒドロ−Ｄ−マンニツト例えば２つのビニルエーテ
ル基を持つ次の化合物である。

【化９】

【００３７】本発明のそれ以外の利点、特徴及び適用可
能性は、図１ないし８を参照して、好ましい実施例の以
下の説明から明らかになる。

【００３８】

【実施例】図１、図２の（ａ）及び（ｂ）は、本発明に
よる双子ネマート１又は本発明による星形ネマート１″
又は１″を概略的に示している。（式記号Ｍに対応す
る）２つ、３つ又は４つのメソゲン単位２は、（式記号
Ｃに対応する）線状スペーサ３又は有枝スペーサ４又は
４″を介して互いに結合されている。メソゲン単位２の
自由端は、（式記号Ｂ又はＹに対応する）重合可能な末
端基を有する側鎖５を持つている。

【００３９】例１本発明の第１実施例は次の構造を持つている。

【化１０】（双子ネマート１）

【００４０】この化合物は、図３の（ａ）に従つて次の
ように合成することができる。１．３０ｇ（０．００３
モル）のテトラエチレングリコール−１，１３ビス（４
安息香酸）が、１００ｍｌの１，２ジメトキシエタンに
懸濁され、１，７ｍｌ（０．０１２モル）のＥｔ_３Ｎの
添加後−３０℃に冷却される。−３０℃で０，４７ｍｌ
（０．００６モル）のメタンスルホン酸塩化物を滴加し
て、温度が−２５℃を越えないようにする。−３０℃で
１時間の撹拌後、２．５４ｇ（０．００６６モル）の４
−（６アクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸−
４″ヒドロキシフエニルエステル、０．０８１ｇ（６．
６×１０^−４モル）の４ジエチルアミノピリジン及び安
定剤としての５０ｍｇの２，６ジ第３ブチル−ｐクレゾ
ールを添加し、更に３時間５０℃で撹拌する。

【００４１】続いて沈殿が濾別され、２回それぞれ２０
ｍｌの１，２ジメトキシエタンで洗われ、また２回それ
ぞれ２０ｍｌのＣＨＣｌ_３で洗われる。濾液がＷＶ中で
蒸発せしめられ、残渣が真空中で乾燥され、５０ｍｌの
イソプロパノール中で再結晶せしめられる。生成物のそ
れ以上の浄化は、カラムクロマトグラフイーにより、可
動溶媒としてのＣＨＣｌ_３／エチルアセテート１：２を
含む珪酸ゲルを介して行われる。残渣として、白い結晶
の形の１．７９ｇ（５１％）の双子ネマート１が得られ
る。

【００４２】合成は次の規定によつても可能である（図
３の（ｂ）に示す合成図参照）。０．８７（０．００２
モル）のテトラエチレングリコール−１，１３ビス（４
安息香酸）、１．５４ｇ（０．００４モル）のメソゲン
（＝４−（６アクリロイルオキシ−ヘキシルオキシ）安
息香酸−４″−ヒドロキシ−フエニルエステル）、０．
５９ｇ（４．８１０^−４モル）の４−ＤＭＡＰ、及び
５０ｍｇの２，６ジ第３ブチル−ｐ−クレゾールが５０
ｍｌのＣＨ_２Ｃｌ_２に溶解され、０℃に冷却される。０
℃において０．９９ｇ（０．００４８モル）のＤＣＣが
添加され、３０分間０℃でかつ夜の間室温で撹拌され
る。

【００４３】生じる沈殿が濾別される。ＣＨ_２Ｃｌ_２相
（濾液）が、それぞれ２５ｍｌの２ＮＨＣｌで２回及び
２５ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ_３溶液で１回洗われ、Ｎａ_２
ＳＯ_４を介して乾燥され、蒸発せしめられる。浄化はＣ
Ｈ_３Ｃｌ_２／エチルアセテート１：２でカラムクロマト
グラフイーにより行われる。

【００４４】特徴づけ ^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．５０（ｍ，８Ｈ）；１．７５（ｍ，４Ｈ）；１．８５（ｍ，４Ｈ）；３．７０（ｍ，８Ｈ）；３．９０（ｔ，４Ｈ）；４．０５（ｔ，４Ｈ）；４．２０（ｔ，４Ｈ）；４．２５（ｔ，４Ｈ）；５．８５（ｄｄ，２Ｈ）；６．１５（ｄｄ，２Ｈ）；６．４０（ｄｄ，２Ｈ）；６．９５（ｄ；４Ｈ）；７．００（ｄ，４Ｈ）；７．２５（ｓ，８Ｈ）；８．１５（ｄ，８Ｈ）ｐｐｍ^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：２５．６；２８．４；２８．９；６４．４；６７．６；６８．０；６９．４；７０．６；７０．８；１１４．２；１１４．４；１２１．４；１２１．７；１２２．５；１２８．５；１３０．５；１３２．２；１４８．３；１６３．１；１６３．４；１６４．６；１６４．７；１６６．２ｐｐｍＩＲ（ＫＢｒ）：２９３６；１７３０；１６０６；１５１１；１２５９；１１６６；１０７２；７６２ｃｍ^−ｌ偏光顕微鏡^１）：ｋ１１１ｎ１９４ｉＤＳＣ^１）：ｋ１０６ｎ１７９ｉ（２回目の加熱）^１）安定剤としての２重量％のＳ、１０Ｋ／ｍｉｎ

【００４５】前段は図４及び５に示す図に基いて合成さ
れる。アルキル側鎖（図４）を持っメソゲンの合成は、
Ｄ．Ｊ．Ｂｒｏｅｒ，Ｊ．Ｂｏｖｅｎ，Ｇ．Ｎ．Ｍｏ
ｌ，Ｇ．Ｃｈａｌｌａ，″Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅ
ｍ．″１９０，２２５５（１９８９）及びＳ．Ｊａｈｒ
ｏｍｉ，Ｊ−Ｌｕｂ，Ｇ−Ｎ−Ｍｏｌ，″Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ″３５，６２２（１９９４）に従つて行われる。可撓
テトラエチレングリコールスペーサ（図５）の合成は、
Ｂ．Ｏｔｔｅｒｈｏｌｍ，Ｃ．Ａｌｓｔｅｒｍａｒｋ，
Ｋ．Ｆｌａｔｉｓｃｈｌｅｒ，Ｓ．Ｔ．Ｌａｇｅｒｗａ
ｌｌ，Ｋ．Ｓｋａｒｐ，″Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉ
ｑ．Ｃｒｙｓｔ．″１４６，１８９（１９８７）（Ｓ
ｃｈｒｉｔｔ１）及びＪ．Ｍ．Ｇ．Ｃｏｗｉｅ， ″
Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．″１９１，１３９３（１
９９０）及びＪ．Ｍ．Ｇ．Ｃｏｗｉｅ，″Ｍａｋｒｏｍ
ｏｌ．Ｃｈｅｍ．″１９２，１４３（１９９１）によ
る一般規定と同じように行われる。

【００４６】例２、３及び４本発明の３つの別の実施例は次の構造を持つている。

【化１１】これらは、これらが１つ又は２つのヴアニリン単位を持
ち、従つて１つ又は２つの芳香族核がメトキシルにされ
ているという点でのみ、双子ネマート１と相違してい
る。これらの化合物は上述した規定と同じように製造さ
れる。（外側にヴアニリン単位を持つ）例２の化合物
は、最初の加熱の際７６℃（Ｓｍｐ．１）及び８８℃
（Ｓｍｐ．２）で溶融し、１４０℃で清澄になる。冷却
の際１１０℃からネマチツク相が現われ、−９００℃で
ガラス転移が起こる。第２の加熱の際、−２℃における
ガラス転移及び１１４℃における清澄点のほかに、８８
℃で別の小さいピークが認められる。おそらく物質が徐
々に再結晶するのであろう。

【００４７】（内側にヴアニリン単位を持つ）例３の化
合物は、上記の化合物とは異なり、ガラス転移を示さな
い。２回目の加熱ｋ９３ｎ１２６ｉ２回目の冷却ｋ５３ｎ１２１ｉ

【００４８】（２つのヴアニリン単位を持つ）例３の化
合物は、まず複数段階にわたつて溶融する。冷却の際４
６℃からＬＣ相が形成され、０℃でガラス転移が起こ
る。ここでキラル成分の添加は、液晶性質に関して補強
効果を生ずることができる。

【００４９】例５本発明の別の実施例は次の構造を持つている。

【化１２】（双子ネマート２）

【００５０】双子ネマート２は、図６に示す図に従つて
次のように合成することができる。１．４２ｇ（０．０
０３３モル）のテトラエチレングリコール−１，１３ビ
ス（４安息香酸）が、８０ｍｌの１，２ジメトキシエタ
ンに懸濁され、１．８３ｍｌ（０．１３１モル）のトリ
エチルアミンの添加後−３０℃に冷却される。−３０℃
で０．５ｍｌ（０．００６５モル）のメタンスルホン酸
塩化物が滴加され、１時間撹拌される。酸化エチレン側
鎖を持つ３．００ｇ（０．００７２モル）のメソゲン、
０．０８ｇ（６．５×１０^−４モル）の４ジメチルアミ
ノピロリジン及び５０ｍｇの２，６ジ第３ブチル−ｐク
レゾールの添加後、混合物は更に５時間５℃で撹拌され
る。

【００５１】続いて生じる沈殿が濾別され、この沈殿が
それぞれ２０ｍｌの１，２ジメトキシエタンで２回洗わ
れ、濾液がＭＶで蒸発せしめられる。残渣が２回エタノ
ール中で再結晶せしめられる。引続く浄化は、可動溶媒
としてのＣＨＣｌ_３／アセトン２：１を含む珪酸ゲルを
介してクロマトグラフイー及びヘキサン中の再沈殿によ
り行われる。１．８３（４５％）の収量が得られる。

【００５２】特徴づけ ^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：３．７０（ｍ，２０Ｈ）；３．８９（ｔ，８Ｈ）；４．２０（ｔ，８Ｈ）；４．３２（ｔ，４Ｈ）；５．８２（ｄｄ，２Ｈ）；６．１４（ｄｄ，２Ｈ）；６．４２（ｄｄ，２Ｈ）；７．００（ｄ，８Ｈ）；７．２８（ｓ，Ｈ）；８．１３（ｄ，８Ｈ）ｐｐｍ^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：６３．５；６７．６；６９．１；６９．５；７０．６；７０．８；１１４．３；１２１．７；１２２．５；１２８．２；１３０．９；１３２．２；１４８．３；１６３．１；１６４．６；１１６．０ｐｐｍＩＲ（ＫＢｒ）：２８８０；１７２７；１６０６；１５１３；１４５４；１２６４；１０４１；８５０；７６７ｃｍ^−１偏光顕微鏡^１）：ｋ９５ｎ１５３ｉＤＳＣ^２）：ｋ９４ｎ１３１ｉ（２回目の加熱）^１）安定剤としての２重量％のＳ、１０Ｋ／ｍｉｎ^２）安定剤としての２重量％のＳ、２回目の加熱１０Ｋ／ｍｉｎ２回目の冷却４０Ｋ／ｍｉｎ

【００５３】前段の合成は、図５及び７に示す図に基い
て行われる。酸化エチレン側鎖を持つメソゲンの合成過
程は、同じように一般規定として、Ｓ．Ｈｕｅｎｉｇ，
Ｇ．Ｍａｅｒｋｌ，Ｊ，Ｓａｕｅｒ，″Ｉｎｔｅｇｒｉ
ｅｒｔｅｓＯｒｇａｎｉｓｃｈｅｓＰｒａｋｔｉｋ
ｕｍ″，ＶｅｒｌａｇＣｈｅｍｉｅ，Ｗｅｉｎｈｅｉ
ｍ１９７９（Ｓｃｈｒｉｔｔ１），Ｓ．Ｊａｈｒｏ
ｍｉ，Ｊ．Ｌｕｂ，Ｇ．Ｎ．Ｍｏｌ，″Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ″３５，６２２（１９９４）（Ｓｃｈｒｉｔｔ４）及
びＤ．Ｊ．Ｂｒｏｅｒ，Ｊ．Ｂｏｖｅｎ，Ｇ．Ｎ．Ｍｏ
ｌ，Ｇ．Ｃｈａｌｌａ，″Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅ
ｍ．″１９０，２２５５（１９８９）に記載されてい
る。

【００５４】例６本発明の別の実施例は次の構造を持つている。

【化１３】（双子ネマート３）

【００５５】合成は図８の（ａ）に示す図に従つて行わ
れる。０．５５ｇ（３．７５ミリモル）のアジピン酸が
５０ｍｌのＣＨ_２Ｃｌ_２に懸濁され、アルキル側鎖を持
つ２．８８ｇ（７．５０ミリモル）のメソゲン、０．０
９ｇ（０．７５ミリモル）の４ジメチルアミノピリジン
及び安定剤としての５０ｍｇの２，６ジ第３ブチル−ｐ
クレゾールに混合される。この混合物が０℃に冷却さ
れ、１．８６ｇ（９．００ミリモル）のＮ，Ｎジシクロ
ヘキシル−カルボジイミドが添加される。１時間の撹拌
後０℃で氷浴が除去され、更に１６時間室温で撹拌され
る。

【００５６】続いて、生じる沈殿が濾別され、僅かなＣ
Ｈ_２Ｃｌ_２で洗われ、溶媒が蒸発温縮せしめられる。残
渣が１００ｍｌのＣＨ_２Ｃｌ_２に入れられ、再び沈殿が
生じて、濾別されねばならない。ＣＨ_２Ｃｌ_２相は、そ
れぞれ２５ｍｌの２ＮＨＣｌで２回、またそれぞれ２５
ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ_３溶液で２回洗われる。残渣はＮ
ａ_２ＳＯ_４を介して乾燥され、溶媒が蒸発濃縮される。
更に浄化するため、可動溶媒としてＣＨＣｌ_３／エチル
アセテート３０：１でカラムクロマトグラフィーが行わ
れ、残渣が１５ｍｌの１ブタノール中で再結晶せしめら
れる。白い結晶の形で１．６１ｇ（４９％）の双子ネマ
ート３が得られる。

【００５７】別の合成過程が図８の（ｂ）に示されてい
る。１０．４５ｇ（０．０６モル）のスベリン酸が、２
０ｍｌのＳＯＣｌ_２及び^３滴のＤＭＦの添加後、２時間
還流で乾燥される。過剰なＳＯＣｌ_２はまず水流真空
で、それから高真空ポンプで吸い出される。赤い油状の
残渣が蒸溜される。１１．７２ｇの無色の液体が得られ
る。

【００５８】１．５４ｇ（０．００４モル）のメソゲン
（４−（６アクリロイルオキシヘキシル）安息香酸−
４″ヒドロキシーフエニルエステル）、０．７ｍｌ
（７）Ｅｔ_３Ｎ及び５０ｍｇの２．６ジ第３ブチル−ｐ
クレゾールが、３０ｍｌのＣＨ_２Ｃｌ_２に溶解され、０
℃に冷却される。０℃で、５ｍｌのＣＨ_２Ｃｌ_２中へ
０．３８ｇ（０．００１８モル）のスベリン酸塩化物が
慎重に滴加される。水浴が除去され、夜の間室温で撹拌
される。

【００５９】反応混合物は１５ｍｌの水で冷却される２
ＮＨＣｌへ添加される。ＣＨ_２Ｃｌ_２相が分離され、１
５ｍｌの飽和したＮａＣｌ溶液で洗われ、Ｎａ_２ＳＯ_４
を介して乾燥され、蒸発濃縮される。引続く浄化はカラ
ムクロマトグラフイー（ＣＨＣｌ_３／エチルアセテート
３０：１）により行われる。１．０３ｇ（６３％）の白
い固体が得られる。

【００６０】化合物はネマチツクである。ＤＳＣデータ
はｋ１１０ｎ１９５ｉ（ジオキサン中の１重量％の硫黄
で凍結乾燥される。発熱量１０Ｋ／ｍｉｎ）である。

【００６１】ここでも前段の合成は前述したように行わ
れる（図４参照）。

【００６２】例７、８本発明の２つの別の実衛例は次の構造を示している。

【化１４】これらは、付加的なメトキシ基（又はヴアニリン単位）
を持つか又はテトラエチレングリコールスペーサを持つ
例６の化合物の変形である。ヴアニリン単位を持つ化合
物は顕著な液晶の性質を示さない。しかしキラル成分の
共重合によりこの液晶性質を補強することができる。Ｃ
６側鎖及び中間にテトラエチレングリコールスペーサを
持つ化合物は、室温でネマチツクである。この化合物は
最初の加熱の際５３℃で溶融し、冷却の際３３℃と−８
℃（小さいガラス転移）との間でネマチツク相を形成す
る。第２の加熱の際化合物は４℃で溶融し、それから若
干の転移を示し、３７℃で清澄になる。第２の冷却は最
初の冷却に類似である。

【００６３】こうして前述したことから、本発明による
化合物のため例として３つの合成過程が明らかになる。１）１，２ジメトキシエタン、Ｍｅ_２ＳＯ_２Ｃｌ及びＥ
ｔ_３Ｎにより（ここでは触媒として４ＤＭＡが添加され
る）、２）Ｈ_２Ｃｌ_２及びＤＣＣにより、３）ＳＯＣｌ_２、ＣＨ_２Ｃｌ_２及びＥｔ_３Ｎにより。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による双子−ネマートの概略図である。

【図２】（ａ）はｍ＝３を持つ本発明による星形ネマー
トの概略図、（ｂ）はｍ＝４を持つ本発明による星形ネ
マートの概略図である。

【図３】（ａ）及び（ｂ）はアルキル側鎖を持つ３核双
子ネマートの実価例の合成図である。

【図４】図３による実施例の変形例の合成図である。

【図５】図３による実施例の別の変形例の合成図であ
る。

【図６】酸化エチレン側鎖を持つ３核双子ネマートの実
施例の合成図である。

【図７】図６による実施例の変形例の合成図である。

【図８】（ａ）及び（ｂ）はアルキル側鎖を持つ２核双
子ネマートの実施例の合成図である。

【符号の説明】

１双子ネマート１″，１″ 星形ネマート２メソゲン単位３線状スペーサ４有枝スペーサ５側鎖

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ミヒヤエル・ガイルベルゲルドイツ運邦共和国ノイ−ウルム・フエルホルンヴエーク14 (72)発明者カルル・ホルデイクドイツ運邦共和国ウルム・ハンス−アツケル−ヴエーク14 (72)発明者カトヤ・シユトレルツイクドイツ連邦共和国ウルム・メリアンヴエーク６ (72)発明者カトリン・キユルシユネルドイツ運邦共和国バイロイト・ゼーシユトラーセ26 (72)発明者アンドレアス・シユトールドイツ連邦共和国クリフテル・ケーニヒスベルゲルシユトラーセ41 (72)発明者ペーテル・シユトローリーグルドイツ連邦共和国バイロイト・ベツトゲルヴエーク６

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式Ｃ−Ａ_ｍの化合物においてｍ≧で
あり、ｍ＝２の場合ｃが一般式Ｃ_２Ｈ_２ｎの残基であり、この
残基におけるｎが１ないし４０の整数であり、１つ又は
複数のメチレン基が酸素原子により置換可能であるか、
又は１つ又は複数の水素原子が１つないし２０の炭素原
子を持つアルキル基又はアルコオキシ基により置換可能
であり、ｍ＞２の場合ｃが多官能残基であり、かつオリゴ酸化プ
ロピレン、オリゴ酸化ブチレン、４ないし４０の炭素原
子を持つ有枝アルキル、トリメチロールプロパン、ペン
タエリトリツト、シクロヘキサントリカルボン酸、シク
ロヘキサントリオール、２つ又はそれ以上のカルボキシ
ル基を持つ芳香族カルボン酸、及び２つ又はそれ以上の
水酸基を持つフエノールから成る群から選ばれている
か、又はＣがこれらの化合物の１つ又は複数及び／又は
一般式Ｃ_ｎＨ_２ｎの残基から成る組成物であり、この一
般式においてｎは１ないし４０の整数であり、１つ又は
複数のメチレン基が酸素原子により置換可能であり、Ａが一般式Ｙ−Ｂ−Ｍ−の同じ又は異なる残基であり、ここでＹは重合可能な残基を意味し、Ｂは一般式Ｃ_ｎＨ_２ｎの同じ又は異なる残基であり、こ
の一般式においてｎは０ないし２０の整数であり、１つ
又は複数のメチレン基が酸素原子により置換可能であ
り、Ｍは一般式Ｒ^１−Ｘ^１−Ｒ^２−Ｘ^２−Ｒ^３−Ｘ^３−Ｒ^４
−を持ち、ここでＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４は、−Ｏ−，−ＣＯＯ
−，ＣＯＮＨ−，−ＣＯ−，−Ｓ−，−Ｃ≡Ｃ−，−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−，−ＣＨ＝Ｎ−，−ＣＨ_２−，−Ｎ＝Ｎ−及
び−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）の群から成る同じ又は異なる２共有結
合残基を意味し、Ｒ^２−Ｘ^２−Ｒ^３，Ｘ^３−Ｒ^４又はＲ
^２−Ｘ^２−Ｒ^３−Ｘ^３はＣ−Ｃ結合であってもよく、Ｘ^１，Ｘ^２，Ｘ^３は、１，２−；１，３−；１，４−フ
エニレン、１，４シクロヘキサン、Ｂ^１，Ｂ^２及び／又
はＢ^３で置換されたアリルアルカン又はＯ，Ｎ，Ｓの群
から成る１ないし３個のヘテロ原子を含むヘテロアリル
アルカン、アリル核中の６ないし１０個の原子によりか
つＢ^１，Ｂ^２及び／又はＢ^３で置換されかつ３ないし１
０個の炭素原子を持つシクロアルキレンの群から成る同
じか又は異なる残基であり、ここでＢ^１，Ｂ^２及びＢ^３
は、−Ｈ，線状又は有枝Ｃ_１ないしＣ_２０アルキル、Ｃ
_１ないしＣ_２０アルコオキシ、Ｃ_１ないしＣ_２０アルキ
ルチオ、Ｃ_１ないしＣ_２０アルキルカルボニル、Ｃ_１な
いしＣ_２０アルコオキシカルボニル、Ｃ_１ないしＣ_２０
アルキルチオカルボニル、−ＯＨ，−Ｆ，−Ｃｌ，−Ｂ
ｒ，−Ｊ，−ＣＮ，−ＮＯ_２，シクロアルキル、フオル
ミル、及びエーテル酸素、チオエーテル硫黄又はエステ
ル基により中断されかつ１ないし２０個の炭索原子を持
つ線状又は有枝アルキル、アルコオキシ又はアルキルチ
オ残基の群から成る同じ又は異なる置換基であつてもよ
い、コレステリツク液晶ポリマー中のネマチツク相とし
ての化合物。
【請求項２】ｍが２，３又は４に等しいことを特徴と
する、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】ｎが１ないし１０なるべく２ないし６の
整数であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の
化合物。
【請求項４】残基Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３及び／又はＲ^４が
−Ｏ−又は−ＣＯＯ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−であるこ
とを特徴とする、請求項１ないし３の１つに記載の化合
物。
【請求項５】残基Ｘ^１及び／又はＸ^３が^１，４フエニ
レン残基、２メトキシ−１，４フエニレン残基、３ヒド
ロキシ−１，４フエニレン残基又は３，５ジメトキシ−
１，４フエニレン残基であり、かつ／又はＲ^２−Ｘ^２−
Ｒ^３がＣ−Ｃ結合であることを特徴とする、請求項１な
いし４の１つに記載の化合物。
【請求項６】残基Ｃがテトラエチレングリコール残基
及びブチル残基又はヘキシル残基であることを特徴とす
る、請求項１ないし５の１つに記載の化合物。
【請求項７】残基Ｂがヘキシル残基又は酸化エチレン
残基であることを特徴とする、請求項１ないし６の１つ
に記載の化合物。
【請求項８】残基Ｙがアクリレート残基、メタクリレ
ート残基、ビニルエーテル残基、エポキシ残基又はアジ
化物残基であることを特徴とする、請求項１ないし７の
１つに記載の化合物。
【請求項９】請求項１ないし８の１つに記載の同じ又
は異なる化合物を残基Ｙの重合により架橋することを特
徴とする、請求項１ないし８に記載の化合物を使用して
液晶ポリマーを製造する方法。
【請求項１０】重合をラジカル又は陽イオンにより行
うか又は誘発することを特徴とする、請求項９に記載の
方法。
【請求項１１】少なくとも１つの重合開始剤なるべく
光開始剤を使用して重合を行うか又は誘発することを特
徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】ラジカル光開始剤として、アセトフエ
ノン、ジアゾニウム化合物、過酸化物又はその混合物
を、なるべく１ないし５モル％の濫度で使用することを
特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】陽イオン光開始剤として、ジアリルス
ルフオニウム塩又はジアリルヨードニウム塩又はその混
合物を、０．５ないし１０重量％の濃度で使用すること
を特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】反応調整剤なるべく１−デカンチオー
ルを１ないし１０モル％の濃度で添加することを特徴と
する、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】紫外線により重合反応を誘発し、かつ
／又は熱処理により反応生成物を後硬化することを特徴
とする、請求項１１ないし１４の１つに記載の方法。
【請求項１６】一般式Ｙ^３−Ｂ^３−Ｍ^２−Ｂ^４−Ｙ^４
又は（Ｙ^３−Ｂ^３）_ｎ−Ｍ^２−Ｂ^４−Ｙ^４の少なくとも
１つの付加的な化合物の存在下で重合を行い、ここでｎ
は２又は３に等しく、Ｙ^３は重合可能な残基、Ｙ^４は重合可能な残基又は−
Ｈ，−ＣＮ及びコレステリールの群から成る重合不可能
な残基であり、Ｂ^３及びＢ^４は一般式Ｃ_ｎＨ_２ｎの同じ又は異なる残基
であり、ここで_ｎはＯないし２０の整数であり、１つ又
は複数のメチレン基が酸素原子により置換可能であり、Ｍは一般式−Ｒ^５−Ｘ^４−Ｒ^６−Ｘ^５−Ｒ^７−Ｘ^６−Ｒ
^８−を持ち、ここでＲ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８は、−Ｏ
−，−ＣＯＯ−，−ＣＯＮＨ−，−ＣＯ−，−Ｓ−，−
Ｃ≡Ｃ−，−ＣＨ＝ＣＨ−，ＣＨ＝Ｎ−，−ＣＨ_２−，
−Ｎ＝Ｎ−及び−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−の群から成る同じ又は
異なる２共有結合残基であり、Ｒ^６−Ｘ^５−Ｒ^７又はＲ
^６−Ｘ^５−Ｒ^７−Ｘ^６がＣ−Ｃ結合であつてもよく、Ｘ^４，Ｘ^５，Ｘ^６は、１，２；１，３；１，４フエニレ
ン、１，４シクロヘキサン、Ｂ^１，Ｂ^２及び／又はＢ^３
で置換されたアリルアルカン又はＯ，Ｎ，Ｓの群からな
る１ないし３個のヘテロ原子を含むヘテロアリルアルカ
ン、アリル核中の６ないし１０個の原子及びＢ^１，Ｂ^２
及び／又はＢ^３で置換されかつ３ないし１０個の炭素原
子を持つシクロアルキレンの群から成る同じ及び異なる
残基であり、ここでＢ^１，Ｂ^２及びＢ^３は、−Ｈ，線状
又は有枝Ｃ_１ないしＣ_２０アルキル，Ｃ_１ないしＣ_２０
アルコオキシ，Ｃ_１ないしＣ_２０アルキルチオ，Ｃ_１な
いしＣ_２０アルキルカルボニル，Ｃ_１ないしＣ_２０アル
コオキシカルボニル，Ｃ^１ないしＣ_２０アルキルチオ，
−ＯＨ，−Ｆ，−Ｃｌ，−Ｂｒ，−Ｊ，−ＣＮ，−ＮＯ
_２，シクロアルキル，フオルミルの群から成る同じ又は
異なるアルキル基、及びエーテル酸素、チオエーテル流
黄又はエステル基により中断されかつ１ないし２０個の
炭素原子を持つ線状又は有枝アルキル残基、アルコオキ
シ残基又はアルキルチオ残基であつてもよいことを特徴
とする、請求項、９ないし１５の１つに記載の方法。
【請求項１７】Ｂ^３及び／又はＢ^４がキラル残基であ
ることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】請求項１ないし８に記載の化合物を使
用しかつ／又は請求項９ないし１７の１つに記載の方法
により得られることを特徴とする、液晶ポリマー。