JPH10306376A - 成膜装置 - Google Patents

成膜装置

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JPH10306376A
JPH10306376A JP12650397A JP12650397A JPH10306376A JP H10306376 A JPH10306376 A JP H10306376A JP 12650397 A JP12650397 A JP 12650397A JP 12650397 A JP12650397 A JP 12650397A JP H10306376 A JPH10306376 A JP H10306376A
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JP
Japan
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tantalum source
supply line
tantalum
valve
film forming
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JP12650397A
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Hiromasa Takazawa
裕真 高澤
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Kokusai Electric Corp
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Kokusai Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】配管、特にTa(OC255 供給配管の詰ま
りの防止、流量の安定、パーティクルの低減に大きく寄
与することができる成膜装置を提供する。 【解決手段】タンタルソース供給ライン40のタンタル
ソースタンク10上部であって、継ぎ手42の下流のタ
ンタルソース供給配管41にC25OH供給ライン45
を接続する。タンタルソースタンク10の交換時には、
バルブ33、43を閉じた状態で、バルブ44を開い
て、C25OH供給ラインからC25OHをバルブ43
より下流側に流して洗浄し、Ta(OC255 をタン
タルソース供給ライン40から取り除く。その後、継ぎ
手32および継ぎ手42を外して、タンタルソースタン
ク10の交換を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は成膜装置に関し、特
にTa25膜成膜装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図2は、従来のTa25膜成膜装置に使
用されるTa(OC255 供給部を説明するための図
である。
【0003】この従来のTa(OC255 供給部20
0は、タンタルソース押し出しガスライン30と、タン
タルソースタンク10と、タンタルソース供給ライン1
40とを備えている。タンタルソースタンク10内には
Ta(OC255 20が入れられており、その上部に
は空間11が存在する。タンタルソース押し出しガスラ
イン30の先端配管部39はその空間11に連通し、タ
ンタルソース供給ライン140の先端配管部49はTa
(OC255 20内に浸されている。タンタルソース
押し出しガスライン30のタンタルソースタンク10上
部にはバルブ33が設けられ、その上流側には継ぎ手3
2を介して押し出しガス供給配管31が設けられてい
る。タンタルソース供給ライン140のタンタルソース
タンク10上部にはバルブ43が設けられ、その下流側
には継ぎ手42を介してタンタルソース供給配管141
が設けられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】タンタルソースタンク
10の交換は、バルブ33、43を閉めた状態で、継ぎ
手32および継ぎ手42を外すことによって行うが、こ
のTaソース[Ta(OC255 ]は空気中の水分と
すぐに反応し固体になる。
【0005】そのため、バルブ43より下流側のタンタ
ルソース供給ライン140に、この反応生成物が生じて
しまい。その結果、配管の詰まりや、流量の不安定や、
パーティクルの発生等の問題が生じていた。
【0006】従って、本発明の目的は、上記従来技術の
問題を解決し、配管詰まりの防止、流量の安定、パーテ
ィクルの低減に大きく寄与することができる成膜装置を
提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、タンタ
ルソース供給ラインに配管洗浄用C25OH供給ライン
を設けたことを特徴とする成膜装置が提供される。
【0008】このように、タンタルソース供給ラインに
配管洗浄用C25OH供給ラインを設けているので、タ
ンタルソース供給ラインの配管を洗浄することができ、
その結果、タンタルソース供給ラインの配管詰まりの防
止、流量の安定、パーティクルの低減に大きく寄与する
ことができる。
【0009】本発明は、タンタルソース供給ラインとし
て、Ta(OC255 供給ラインを用いたときに特に
優れた効果がある。Ta(OC255 は通常は液体で
あり、そのためにそれを供給するためには、それを収容
したタンクを備えるタンタルソース供給部が用いられる
ことが多い。このタンタルソース供給部は、通常は、液
体のTa(OC255 を収容するタンクと、Ta(O
255 を押し出すための押し出しガス用配管と、T
a(OC255 を取り出して外部に供給するためのタ
ンタルソース供給配管と、押し出しガス用配管とタンタ
ルソース供給配管の途中にそれぞれ設けられたバルブ
と、押し出しガス用配管におけるバルブ上流側の継ぎ手
と、タンタルソース供給配管におけるバルブの下流側の
継ぎ手とを備えている。そして、タンクの交換は、上記
2つのバルブを閉めた状態で上記2つの継ぎ手を外して
行うが、本発明のように、タンタルソース供給ラインに
配管洗浄用C25OH供給ラインを設ければ、継ぎ手を
外す前に、タンタルソース供給ラインの配管をC25
Hによって洗浄して、Ta(OC255 をタンタルソ
ース供給ラインから予め取り除くことができる。その結
果、その後継ぎ手を外しても、Ta(OC255 に起
因する反応生成物が生じることはなく、その結果、配管
の詰まりや、流量の不安定や、パーティクルの発生等の
問題がなくなる。
【0010】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
【0011】図1は、本発明の一実施の形態のTa25
膜成膜装置に使用されるTa(OC255 供給部を説
明するための図である。
【0012】本実施の形態のTa(OC255 供給部
100は、タンタルソース押し出しガスライン30と、
タンタルソースタンク10と、タンタルソース供給ライ
ン40とを備えている。タンタルソースタンク10内に
はTa(OC255 20が入れられており、その上部
には空間11が存在する。タンタルソース押し出しガス
ライン30の先端配管部39はその空間11に連通し、
タンタルソース供給ライン40の先端配管部49はTa
(OC255 20内に浸されている。タンタルソース
押し出しガスライン30のタンタルソースタンク10上
部にはバルブ33が設けられ、その上流側には継ぎ手3
2を介して押し出しガス供給配管31が設けられてい
る。タンタルソース供給ライン40のタンタルソースタ
ンク10上部にはバルブ43が設けられ、その下流側に
は継ぎ手42を介してタンタルソース供給配管41が設
けられている。継ぎ手42の下流のタンタルソース供給
配管41には、C25OH供給ライン45がバルブ44
を介して接続されている。さらにその下流側のタンタル
ソース供給配管41には、C25OH排出ライン47が
バルブ48を介して接続されている。
【0013】タンタルソースとしてのTa(OC25
5 を供給するには、バルブ44、48を閉じておき、バ
ルブ33、43を開いた状態で、タンタルソース押し出
しガスライン30から押し出しガスを流して、タンク1
0からタンタルソースTa(OC255 をタンタルソ
ース供給ライン40に押し出す。そして、押し出された
タンタルソースTa(OC255 は図中省略の加熱手
段により、350℃程度に加熱されて気化し、その後、
成膜室等に供給され、Ta25膜を成膜する。
【0014】タンタルソースタンク10を交換する際に
は、バルブ33、43を閉じた状態で、バルブ44を開
いて、C25OH供給ラインからC25OHをバルブ4
3より下流側に流して洗浄し、Ta(OC255 をタ
ンタルソース供給ライン40から取り除く。なお、洗浄
用のC25OHは、洗浄すべき部分よりも下流側に設け
られたC25OH排出ライン47からバルブ48を介し
て排出する。その後、継ぎ手32および継ぎ手42を外
して、タンタルソースタンク10の交換を行う。本実施
の形態においては、予めTa(OC255 がタンタル
ソース供給ライン40から取り除かれているから、継ぎ
手32、42を外しても、Ta(OC255 に起因す
る反応生成物が生じることはなく、その結果、タンタル
ソース供給ライン40において、配管の詰まりや、流量
の不安定や、パーティクルの発生等の問題がなくなる。
【0015】
【発明の効果】このように、C25OH供給ラインを設
けることにより、タンタルソース供給ラインの配管詰ま
りの防止、流量の安定、パーティクルの低減に大きく寄
与することができ、メンテナンス時間の低減、再現性の
確保に大きな効果が見られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態のTa25膜成膜装置に
使用されるTa(OC255供給部を説明するための
図である。
【図2】従来のTa25膜成膜装置に使用されるTa
(OC255 供給部を説明するための図である。
【符号の説明】
10…タンタルソースタンク 11…空間 20…Ta(OC255 30…タンタルソース押し出しガスライン 31…押し出しガス供給配管 32、42…継ぎ手 33、43、44、48…バルブ 40…タンタルソース供給ライン 41…タンタルソース供給配管 45…C25OH供給ライン 47…C25OH排出ライン 100…Ta(OC255 供給部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】タンタルソース供給ラインに配管洗浄用C
    25OH供給ラインを設けたことを特徴とする成膜装
    置。
JP12650397A 1997-04-28 1997-04-28 成膜装置及びタンタルソース供給ラインの洗浄方法 Expired - Lifetime JP3974683B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100358406B1 (ko) * 2000-07-10 2002-10-25 주식회사 아펙스 압력조절수단을 구비한 액체소스 보관용기

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KR100358406B1 (ko) * 2000-07-10 2002-10-25 주식회사 아펙스 압력조절수단을 구비한 액체소스 보관용기

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