JP3974683B2 - 成膜装置及びタンタルソース供給ラインの洗浄方法 - Google Patents

成膜装置及びタンタルソース供給ラインの洗浄方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は成膜装置に関し、特にTa25膜成膜装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図2は、従来のTa25膜成膜装置に使用されるTa(OC255 供給部を説明するための図である。
【0003】
この従来のTa(OC255 供給部200は、タンタルソース押し出しガスライン30と、タンタルソースタンク10と、タンタルソース供給ライン140とを備えている。タンタルソースタンク10内にはTa(OC255 20が入れられており、その上部には空間11が存在する。タンタルソース押し出しガスライン30の先端配管部39はその空間11に連通し、タンタルソース供給ライン140の先端配管部49はTa(OC255 20内に浸されている。タンタルソース押し出しガスライン30のタンタルソースタンク10上部にはバルブ33が設けられ、その上流側には継ぎ手32を介して押し出しガス供給配管31が設けられている。タンタルソース供給ライン140のタンタルソースタンク10上部にはバルブ43が設けられ、その下流側には継ぎ手42を介してタンタルソース供給配管141が設けられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
タンタルソースタンク10の交換は、バルブ33、43を閉めた状態で、継ぎ手32および継ぎ手42を外すことによって行うが、このTaソース[Ta(OC255 ]は空気中の水分とすぐに反応し固体になる。
【0005】
そのため、バルブ43より下流側のタンタルソース供給ライン140に、この反応生成物が生じてしまい。その結果、配管の詰まりや、流量の不安定や、パーティクルの発生等の問題が生じていた。
【0006】
従って、本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決し、配管詰まりの防止、流量の安定、パーティクルの低減に大きく寄与することができる成膜装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、タンタルソースを収容するタンクと、前記タンタルソースを気化する加熱手段と、前記タンクに収容された前記タンタルソース内に先端部が浸され、前記タンタルソースを取り出して前記加熱手段に供給するためのタンタルソース供給ラインと、前記タンク内の上部に存在する空間に先端部が連通し、前記タンタルソースを前記タンクから前記タンタルソース供給ラインに押し出すためのガスを前記タンク内に供給する押し出しガス供給ラインとを有し、前記加熱手段により気化したタンタルソースを成膜室に供給して成膜を行う成膜装置であって、前記タンタルソースがTa(OC 2 5 5 であり、前記タンタルソース供給ラインには、配管洗浄用C25OH供給ラインが接続されることを特徴とする成膜装置が提供される。
【0008】
このように、タンタルソース供給ラインに配管洗浄用C25OH供給ラインを設けているので、タンタルソース供給ラインの配管を洗浄することができ、その結果、タンタルソース供給ラインの配管詰まりの防止、流量の安定、パーティクルの低減に大きく寄与することができる。
【0009】
本発明は、タンタルソース供給ラインとして、Ta(OC255 供給ラインを用いたときに特に優れた効果がある。Ta(OC255 は通常は液体であり、そのためにそれを供給するためには、それを収容したタンクを備えるタンタルソース供給部が用いられることが多い。このタンタルソース供給部は、通常は、液体のTa(OC255 を収容するタンクと、Ta(OC255 を押し出すための押し出しガス用配管と、Ta(OC255 を取り出して外部に供給するためのタンタルソース供給配管と、押し出しガス用配管とタンタルソース供給配管の途中にそれぞれ設けられたバルブと、押し出しガス用配管におけるバルブ上流側の継ぎ手と、タンタルソース供給配管におけるバルブの下流側の継ぎ手とを備えている。そして、タンクの交換は、上記2つのバルブを閉めた状態で上記2つの継ぎ手を外して行うが、本発明のように、タンタルソース供給ラインに配管洗浄用C25OH供給ラインを設ければ、継ぎ手を外す前に、タンタルソース供給ラインの配管をC25OHによって洗浄して、Ta(OC255 をタンタルソース供給ラインから予め取り除くことができる。その結果、その後継ぎ手を外しても、Ta(OC255 に起因する反応生成物が生じることはなく、その結果、配管の詰まりや、流量の不安定や、パーティクルの発生等の問題がなくなる。
【0010】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【0011】
図1は、本発明の一実施の形態のTa25膜成膜装置に使用されるTa(OC255 供給部を説明するための図である。
【0012】
本実施の形態のTa(OC255 供給部100は、タンタルソース押し出しガスライン30と、タンタルソースタンク10と、タンタルソース供給ライン40とを備えている。タンタルソースタンク10内にはTa(OC255 20が入れられており、その上部には空間11が存在する。タンタルソース押し出しガスライン30の先端配管部39はその空間11に連通し、タンタルソース供給ライン40の先端配管部49はTa(OC255 20内に浸されている。タンタルソース押し出しガスライン30のタンタルソースタンク10上部にはバルブ33が設けられ、その上流側には継ぎ手32を介して押し出しガス供給配管31が設けられている。タンタルソース供給ライン40のタンタルソースタンク10上部にはバルブ43が設けられ、その下流側には継ぎ手42を介してタンタルソース供給配管41が設けられている。継ぎ手42の下流のタンタルソース供給配管41には、C25OH供給ライン45がバルブ44を介して接続されている。さらにその下流側のタンタルソース供給配管41には、C25OH排出ライン47がバルブ48を介して接続されている。
【0013】
タンタルソースとしてのTa(OC255 を供給するには、バルブ44、48を閉じておき、バルブ33、43を開いた状態で、タンタルソース押し出しガスライン30から押し出しガスを流して、タンク10からタンタルソースTa(OC255 をタンタルソース供給ライン40に押し出す。そして、押し出されたタンタルソースTa(OC255 は図中省略の加熱手段により、350℃程度に加熱されて気化し、その後、成膜室等に供給され、Ta25膜を成膜する。
【0014】
タンタルソースタンク10を交換する際には、バルブ33、43を閉じた状態で、バルブ44を開いて、C25OH供給ラインからC25OHをバルブ43より下流側に流して洗浄し、Ta(OC255 をタンタルソース供給ライン40から取り除く。なお、洗浄用のC25OHは、洗浄すべき部分よりも下流側に設けられたC25OH排出ライン47からバルブ48を介して排出する。その後、継ぎ手32および継ぎ手42を外して、タンタルソースタンク10の交換を行う。本実施の形態においては、予めTa(OC255 がタンタルソース供給ライン40から取り除かれているから、継ぎ手32、42を外しても、Ta(OC255 に起因する反応生成物が生じることはなく、その結果、タンタルソース供給ライン40において、配管の詰まりや、流量の不安定や、パーティクルの発生等の問題がなくなる。
【0015】
【発明の効果】
このように、C25OH供給ラインを設けることにより、タンタルソース供給ラインの配管詰まりの防止、流量の安定、パーティクルの低減に大きく寄与することができ、メンテナンス時間の低減、再現性の確保に大きな効果が見られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態のTa25膜成膜装置に使用されるTa(OC255 供給部を説明するための図である。
【図2】従来のTa25膜成膜装置に使用されるTa(OC255 供給部を説明するための図である。
【符号の説明】
10…タンタルソースタンク
11…空間
20…Ta(OC255
30…タンタルソース押し出しガスライン
31…押し出しガス供給配管
32、42…継ぎ手
33、43、44、48…バルブ
40…タンタルソース供給ライン
41…タンタルソース供給配管
45…C25OH供給ライン
47…C25OH排出ライン
100…Ta(OC255 供給部

Claims (4)

  1. タンタルソースを収容するタンクと、前記タンタルソースを気化する加熱手段と、前記タンクに収容された前記タンタルソース内に先端部が浸され、前記タンタルソースを取り出して前記加熱手段に供給するためのタンタルソース供給ラインと、前記タンク内の上部に存在する空間に先端部が連通し、前記タンタルソースを前記タンクから前記タンタルソース供給ラインに押し出すためのガスを前記タンク内に供給する押し出しガス供給ラインとを有し、前記加熱手段により気化したタンタルソースを成膜室に供給して成膜を行う成膜装置であって、
    前記タンタルソースがTa(OC 2 5 5 であり、前記タンタルソース供給ラインには、配管洗浄用C25OH供給ラインが接続されることを特徴とする成膜装置。
  2. 前記タンタルソース供給ラインには、さらに、C25OH排出ラインが接続されることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
  3. タンタルソースを収容したタンクと、先端部が前記タンクのタンタルソースに浸された第1の配管と、先端部が前記タンクの上部の空間に連通した第2の配管とを有するタンクユニットが接続された場合に、前記タンクのタンタルソースを加熱手段により加熱・気化させて成膜を行う成膜装置であって、
    前記第1の配管に接続され、前記タンクのタンタルソースを取り出して前記加熱手段に供給するためのタンタルソース供給配管と、
    前記第2の配管に接続され、前記タンクのタンタルソースを前記タンクから押し出すためのガスを前記タンクに供給する押し出しガス供給配管とを有し、
    前記タンタルソースがTa(OC 2 5 5 であり、前記タンタルソース供給配管には、配管洗浄用C25OH供給ラインが接続されることを特徴とする成膜装置。
  4. タンタルソースを収容するタンクと、前記タンクに収容された前記タンタルソース内に先端部が浸され、前記タンタルソースを取り出して外部に供給するためのタンタルソース供給ラインと、前記タンク内の上部に存在する空間に先端部が連通し、前記タンタルソースを前記タンクから前記タンタルソース供給ラインに押し出すためのガスを前記タンク内に供給する押し出しガス供給ラインと、を有するタンタルソース供給部の前記タンタルソース供給ラインを洗浄する方法であって、
    前記タンタルソースがTa(OC 2 5 5 であり、
    前記タンタルソース供給ラインには、C25OH供給ラインとC25OH排出ラインとが接続され、
    前記C25OH供給ラインから前記タンタルソース供給ラインにC25OHを流して前記タンタルソース供給ラインを洗浄し、前記タンタルソース供給ラインに流れたC25OHを前記C25OH排出ラインより排出することを特徴とするタンタルソース供給ラインの洗浄方法。
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