JPH10298188A - ホスファゼン系化合物、それを用いた防炎加工剤および防炎加工方法 - Google Patents
ホスファゼン系化合物、それを用いた防炎加工剤および防炎加工方法Info
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- JPH10298188A JPH10298188A JP11129697A JP11129697A JPH10298188A JP H10298188 A JPH10298188 A JP H10298188A JP 11129697 A JP11129697 A JP 11129697A JP 11129697 A JP11129697 A JP 11129697A JP H10298188 A JPH10298188 A JP H10298188A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ハロゲン系化合物を使用せず、後加工処理に
より合成繊維に対して十分に耐久性のある防炎性を容易
に付与することのできる防炎加工剤および防炎加工方法
を提供する。 【解決手段】 一般式（１）または（３） 【化１】 【化２】 〔式中の記号は、明細書中に規定した意味を表す〕で表
されるホスファゼン系化合物、このホスファゼン系化合
物の少なくとも１種を含む防炎加工剤およびこのホスフ
ァゼン系化合物の少なくとも１種を用いて合成繊維を処
理する防炎加工方法。
より合成繊維に対して十分に耐久性のある防炎性を容易
に付与することのできる防炎加工剤および防炎加工方法
を提供する。 【解決手段】 一般式（１）または（３） 【化１】 【化２】 〔式中の記号は、明細書中に規定した意味を表す〕で表
されるホスファゼン系化合物、このホスファゼン系化合
物の少なくとも１種を含む防炎加工剤およびこのホスフ
ァゼン系化合物の少なくとも１種を用いて合成繊維を処
理する防炎加工方法。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ホスファゼン系化
合物、そのような化合物を含有する防炎加工剤およびそ
のような化合物を用いる合成繊維の防炎加工方法に関す
る。さらに詳しくは、本発明は、ホスファゼン化合物を
用いた、合成繊維に対して耐洗濯性および耐ドライクリ
ーニング性に優れる耐久防炎性を付与することのできる
防炎加工剤および防炎加工方法に関する。
合物、そのような化合物を含有する防炎加工剤およびそ
のような化合物を用いる合成繊維の防炎加工方法に関す
る。さらに詳しくは、本発明は、ホスファゼン化合物を
用いた、合成繊維に対して耐洗濯性および耐ドライクリ
ーニング性に優れる耐久防炎性を付与することのできる
防炎加工剤および防炎加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、合成繊維の後加工法による防
炎加工剤として、臭素化シクロアルカン系化合物、より
具体的にはヘキサブロモシクロドデカン等のハロゲン系
化合物が知られている。また、このようなハロゲン系化
合物を後加工処理により合成繊維に付与するにあたって
は、ハロゲン系化合物を溶剤に溶解させるか、あるいは
分散剤等を使用して水中に乳化分散させた処理液を調製
し、この処理液により合成繊維を塗布、浸漬または噴霧
処理する方法等を用いている。
炎加工剤として、臭素化シクロアルカン系化合物、より
具体的にはヘキサブロモシクロドデカン等のハロゲン系
化合物が知られている。また、このようなハロゲン系化
合物を後加工処理により合成繊維に付与するにあたって
は、ハロゲン系化合物を溶剤に溶解させるか、あるいは
分散剤等を使用して水中に乳化分散させた処理液を調製
し、この処理液により合成繊維を塗布、浸漬または噴霧
処理する方法等を用いている。
【０００３】しかし、このように合成繊維にハロゲン系
化合物を使用して防炎性を付与した場合、優れた耐久防
炎性は示すものの、この合成繊維が燃焼した際に有害な
ハロゲン化ガスが発生し、これが自然環境に悪影響を及
ぼす等の問題が懸念されている。一方、非ハロゲン系化
合物による合成繊維に対する防炎加工においては、防炎
性化合物としてリン系化合物を用いて合成繊維に防炎性
を付与する方法に代表される種々の方法が行われてきた
が、耐洗濯性等の耐久性の点で性能が不足し、実用に耐
え得る製品を得ることはできない。例えば、リン酸グア
ニジンのホルマリン縮合物を後加工処理により合成繊維
に付与するにあたっては、リン酸グアニジンのホルマリ
ン縮合物を水に溶解させた処理液を調製し、この処理液
により合成繊維を塗布、浸漬または噴霧処理する方法等
を用いている。しかし、このように合成繊維にリン酸グ
アニジンのホルマリン縮合物を付与して防炎性を持たせ
るようにした場合、一時的な防炎性には優れるものの、
耐久性、特に耐洗濯性に乏しいものであった。
化合物を使用して防炎性を付与した場合、優れた耐久防
炎性は示すものの、この合成繊維が燃焼した際に有害な
ハロゲン化ガスが発生し、これが自然環境に悪影響を及
ぼす等の問題が懸念されている。一方、非ハロゲン系化
合物による合成繊維に対する防炎加工においては、防炎
性化合物としてリン系化合物を用いて合成繊維に防炎性
を付与する方法に代表される種々の方法が行われてきた
が、耐洗濯性等の耐久性の点で性能が不足し、実用に耐
え得る製品を得ることはできない。例えば、リン酸グア
ニジンのホルマリン縮合物を後加工処理により合成繊維
に付与するにあたっては、リン酸グアニジンのホルマリ
ン縮合物を水に溶解させた処理液を調製し、この処理液
により合成繊維を塗布、浸漬または噴霧処理する方法等
を用いている。しかし、このように合成繊維にリン酸グ
アニジンのホルマリン縮合物を付与して防炎性を持たせ
るようにした場合、一時的な防炎性には優れるものの、
耐久性、特に耐洗濯性に乏しいものであった。
【０００４】また、特開平６−２４８５７５号公報に
は、芳香環を含むホスフォネートオリゴマーによる防炎
加工方法が開示されている。しかしながら、この方法に
よる防炎加工においても、ある程度の耐久性防炎加工が
達成できるものの、素材の種類によっては、その耐久防
炎性が、従来のヘキサブロモシクロドデカンに比べ劣る
ものであった。
は、芳香環を含むホスフォネートオリゴマーによる防炎
加工方法が開示されている。しかしながら、この方法に
よる防炎加工においても、ある程度の耐久性防炎加工が
達成できるものの、素材の種類によっては、その耐久防
炎性が、従来のヘキサブロモシクロドデカンに比べ劣る
ものであった。
【０００５】耐洗濯性を考慮して、難水溶性であり、プ
ラスチック用の難燃剤として知られるトリクレジルホス
フェートを用い、後加工処理により合成繊維に付与する
にあたり、トリクレジルホスフェートを溶剤に溶解させ
たり、あるいは分散剤等を使用して水中に乳化分散させ
て処理液を調製し、この処理液により合成繊維を塗布、
浸漬または噴霧処理する方法等を用いていた。しかし、
このように合成繊維にトリクレジルホスフェートを付与
して防炎性を持たせるようにした場合、ハロゲン系化合
物を付与した場合と比較して一時性および耐久性のいず
れにおいても防炎性が劣るものであった。
ラスチック用の難燃剤として知られるトリクレジルホス
フェートを用い、後加工処理により合成繊維に付与する
にあたり、トリクレジルホスフェートを溶剤に溶解させ
たり、あるいは分散剤等を使用して水中に乳化分散させ
て処理液を調製し、この処理液により合成繊維を塗布、
浸漬または噴霧処理する方法等を用いていた。しかし、
このように合成繊維にトリクレジルホスフェートを付与
して防炎性を持たせるようにした場合、ハロゲン系化合
物を付与した場合と比較して一時性および耐久性のいず
れにおいても防炎性が劣るものであった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、合成繊維に
後加工処理により防炎性を付与するにあたり、ハロゲン
系化合物を使用せず、合成繊維に対して十分に耐久性の
ある防炎性を容易に付与することのできる防炎加工剤お
よび防炎加工方法を提供することを目的としてなされた
ものである。
後加工処理により防炎性を付与するにあたり、ハロゲン
系化合物を使用せず、合成繊維に対して十分に耐久性の
ある防炎性を容易に付与することのできる防炎加工剤お
よび防炎加工方法を提供することを目的としてなされた
ものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するため鋭意検討を重ねた結果、ホスファゼン系
化合物を防炎加工剤として用いることにより、耐久性の
ある防炎性が得られることを見出し、この知見に基づき
この発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、下
記一般式（１）または（３）で表されるホスファゼン系
化合物を提供する。
を解決するため鋭意検討を重ねた結果、ホスファゼン系
化合物を防炎加工剤として用いることにより、耐久性の
ある防炎性が得られることを見出し、この知見に基づき
この発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、下
記一般式（１）または（３）で表されるホスファゼン系
化合物を提供する。
【０００８】
【化５】
【０００９】〔式中、ｎは１以上の整数を表し、Ｘはそ
れぞれ炭素数１〜４のアルコキシ基または下記一般式
（２）
れぞれ炭素数１〜４のアルコキシ基または下記一般式
（２）
【００１０】
【化６】
【００１１】（式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜４の
アルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基を表す）
で表されるフェノキシ基を表す。但し、Ｘの全てが炭素
数１〜４のアルコキシ基であったり、または前記式
（２）のフェノキシ基であることはない〕
アルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基を表す）
で表されるフェノキシ基を表す。但し、Ｘの全てが炭素
数１〜４のアルコキシ基であったり、または前記式
（２）のフェノキシ基であることはない〕
【００１２】
【化７】
【００１３】〔式中、ｍは０または１以上の整数を表
し、Ｙはそれぞれ炭素数１〜４のアルコキシ基または下
記一般式（４）
し、Ｙはそれぞれ炭素数１〜４のアルコキシ基または下
記一般式（４）
【００１４】
【化８】
【００１５】（式中、Ｒ2 は水素原子、炭素数１〜４の
アルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基を表す）
で表されるフェノキシ基を表す。但し、Ｙの全てが炭素
数１〜４のアルコキシ基であったり、または前記式
（４）のフェノキシ基であることはない〕 本発明は、また、前記ホスファゼン系化合物の少なくと
も１種を含む防炎加工剤およびこの防炎加工剤を用いて
合成繊維を処理する合成繊維の防炎加工方法を提供す
る。
アルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基を表す）
で表されるフェノキシ基を表す。但し、Ｙの全てが炭素
数１〜４のアルコキシ基であったり、または前記式
（４）のフェノキシ基であることはない〕 本発明は、また、前記ホスファゼン系化合物の少なくと
も１種を含む防炎加工剤およびこの防炎加工剤を用いて
合成繊維を処理する合成繊維の防炎加工方法を提供す
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明に係るホスファゼン系化合
物は、前記一般式（１）で表される環状ホスファゼン系
化合物又は前記一般式（３）で表される直鎖状ホスファ
ゼン系化合物である。これらのホスファゼン系化合物の
中でも、耐久防炎性能を考慮すると、環状ホスファゼン
系化合物が好ましく、一般式（１）においてｎが１〜１
４の整数である化合物が特に好ましい。
物は、前記一般式（１）で表される環状ホスファゼン系
化合物又は前記一般式（３）で表される直鎖状ホスファ
ゼン系化合物である。これらのホスファゼン系化合物の
中でも、耐久防炎性能を考慮すると、環状ホスファゼン
系化合物が好ましく、一般式（１）においてｎが１〜１
４の整数である化合物が特に好ましい。
【００１７】本発明に係るホスファゼン系化合物は、例
えば、下記一般式（５）
えば、下記一般式（５）
【００１８】
【化９】
【００１９】（式中、ｎは１以上の整数を表わす）で表
される環状ジクロロホスファゼン化合物、好ましくはｎ
が１〜１４である環状ジクロロホスファゼン化合物（以
下この環状ジクロロホスファゼンを「（ＮＰＣｌ2)3 〜
（ＮＰＣｌ2)16」と記す）、または下記一般式（６）
される環状ジクロロホスファゼン化合物、好ましくはｎ
が１〜１４である環状ジクロロホスファゼン化合物（以
下この環状ジクロロホスファゼンを「（ＮＰＣｌ2)3 〜
（ＮＰＣｌ2)16」と記す）、または下記一般式（６）
【００２０】
【化１０】
【００２１】（式中、ｍは０または１以上の整数を表わ
す）で表される直鎖状ジクロロホスファゼン化合物と、
下記一般式（７）および（８）
す）で表される直鎖状ジクロロホスファゼン化合物と、
下記一般式（７）および（８）
【００２２】
【化１１】
【００２３】（式中、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜４の
脂肪族基または炭素数１〜３のアルコキシ基を表す） Ｒ4 ＯＨ （８） （式中、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基を表す）で表
される化合物を反応溶媒中で金属アルカリと反応させた
フェノキシド類およびアルコキシド類とを、室温〜７０
℃で反応させ、反応後に反応溶媒を除去することにより
得られる。
脂肪族基または炭素数１〜３のアルコキシ基を表す） Ｒ4 ＯＨ （８） （式中、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基を表す）で表
される化合物を反応溶媒中で金属アルカリと反応させた
フェノキシド類およびアルコキシド類とを、室温〜７０
℃で反応させ、反応後に反応溶媒を除去することにより
得られる。
【００２４】本発明に係る好ましい環状ジクロロホスフ
ァゼン化合物（ＮＰＣｌ2)3 〜（ＮＰＣｌ2)16の例とし
ては、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、オクタク
ロロシクロテトラホスファゼン、デカクロロシクロペン
タホスファゼン、ドデカクロロシクロヘキサホスファゼ
ン、テトラデカクロロシクロヘプタホスファゼン、ヘキ
サデカクロロシクロオクタホスファゼン、オクタデカク
ロロシクロノナホスファゼン、エイコサクロロシクロデ
カホスファゼン、ドコサクロロシクロウンデカホスファ
ゼン、テトラコサクロロシクロドデカホスファゼン、ヘ
キサコサクロロシクロトリデカホスファゼン、オクタコ
サクロロシクロテトラデカホスファゼン、トリアコンタ
クロロシクロペンタデカホスファゼン、ドトリアコンタ
クロロシクロヘキサデカホスファゼンが挙げられ、また
これらの塩素原子を臭素原子に変えたものを用いること
もできる。本発明で好ましく用いられる（ＮＰＣｌ2)3
〜（ＮＰＣｌ2)16の化合物は、従来より用いられている
方法により合成することが可能である。例えば、溶媒と
してクロロベンゼンを用い、ＰＣｌ5 とＮＨ4 Ｃｌを反
応させて得ることができ、このとき（ＮＰＣｌ2)3 〜
（ＮＰＣｌ2)16とともに（ＮＰＣｌ2)17以上の環状物や
直鎖状物が副生される。本発明で好ましく用いられる
（ＮＰＣｌ2)3 〜（ＮＰＣｌ2)16は、それぞれ精製分離
した単品の形で反応原料として用いることもでき、また
混合物の形で反応原料として用いることもできる。
ァゼン化合物（ＮＰＣｌ2)3 〜（ＮＰＣｌ2)16の例とし
ては、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、オクタク
ロロシクロテトラホスファゼン、デカクロロシクロペン
タホスファゼン、ドデカクロロシクロヘキサホスファゼ
ン、テトラデカクロロシクロヘプタホスファゼン、ヘキ
サデカクロロシクロオクタホスファゼン、オクタデカク
ロロシクロノナホスファゼン、エイコサクロロシクロデ
カホスファゼン、ドコサクロロシクロウンデカホスファ
ゼン、テトラコサクロロシクロドデカホスファゼン、ヘ
キサコサクロロシクロトリデカホスファゼン、オクタコ
サクロロシクロテトラデカホスファゼン、トリアコンタ
クロロシクロペンタデカホスファゼン、ドトリアコンタ
クロロシクロヘキサデカホスファゼンが挙げられ、また
これらの塩素原子を臭素原子に変えたものを用いること
もできる。本発明で好ましく用いられる（ＮＰＣｌ2)3
〜（ＮＰＣｌ2)16の化合物は、従来より用いられている
方法により合成することが可能である。例えば、溶媒と
してクロロベンゼンを用い、ＰＣｌ5 とＮＨ4 Ｃｌを反
応させて得ることができ、このとき（ＮＰＣｌ2)3 〜
（ＮＰＣｌ2)16とともに（ＮＰＣｌ2)17以上の環状物や
直鎖状物が副生される。本発明で好ましく用いられる
（ＮＰＣｌ2)3 〜（ＮＰＣｌ2)16は、それぞれ精製分離
した単品の形で反応原料として用いることもでき、また
混合物の形で反応原料として用いることもできる。
【００２５】前記一般式（７）の化合物の例としては、
フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ｎ−プロ
ピルフェノール、イソプロピルフェノール、ｎ−ブチル
フェノール、イソブチルフェノール、ｓｅｃ−ブチルフ
ェノール、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、メトキシフェ
ノール、エトキシフェノール、ｎ−プロポキシフェノー
ル、イソプロポキシフェノール等が挙げられ、これらに
はそれぞれオルト位付加物、メタ位付加物およびパラ位
付加物の構造異性体が含まれることは無論のことであ
る。また、前記一般式（８）の化合物の例としては、メ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブ
タノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げられる。
フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ｎ−プロ
ピルフェノール、イソプロピルフェノール、ｎ−ブチル
フェノール、イソブチルフェノール、ｓｅｃ−ブチルフ
ェノール、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、メトキシフェ
ノール、エトキシフェノール、ｎ−プロポキシフェノー
ル、イソプロポキシフェノール等が挙げられ、これらに
はそれぞれオルト位付加物、メタ位付加物およびパラ位
付加物の構造異性体が含まれることは無論のことであ
る。また、前記一般式（８）の化合物の例としては、メ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブ
タノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げられる。
【００２６】上記した反応に用いられる金属アルカリと
しては金属ナトリウムおよび金属カリウムが挙げられ、
反応溶媒としてはこれらの金属ナトリウムまた金属カリ
ウムと反応性を有しないものであれば特に制限無く使用
できるが、具体的にはテトラヒドロフランが好適に用い
られる。環状ホスファゼン系化合物の一分子中のリン原
子に結合している置換基は、炭素数１〜４のアルコキシ
基または前記一般式（２）で表されるフェノキシ基であ
り、それぞれの置換基が少なくとも１つ結合しているこ
とが必要である。この置換基数の調整は、原料である前
記一般式（５）で表される環状ジクロロホスファゼン化
合物に対して、一般式（７）および（８）の化合物と金
属アルカリとを反応させて得られるフェノキシド類およ
びアルコキシド類との反応モル比を調整することによ
り、ほぼ理論的に行うことができ、得られる反応物の構
造は、例えば、３００ＭＨｚ核磁気共鳴吸収分析装置
（ＶＸＲ−３００Ｓ：バリアン社製）による水素核磁気
共鳴吸収（ 1Ｈ−ＮＭＲ）スペクトルや燐核磁気共鳴吸
収（31Ｐ−ＮＭＲ）スペクトル、およびゲル浸透クロマ
トグラフィー〔東ソー（株）製高速ＧＰＣ ＨＬＣ−８
０２０〕により確認できる。
しては金属ナトリウムおよび金属カリウムが挙げられ、
反応溶媒としてはこれらの金属ナトリウムまた金属カリ
ウムと反応性を有しないものであれば特に制限無く使用
できるが、具体的にはテトラヒドロフランが好適に用い
られる。環状ホスファゼン系化合物の一分子中のリン原
子に結合している置換基は、炭素数１〜４のアルコキシ
基または前記一般式（２）で表されるフェノキシ基であ
り、それぞれの置換基が少なくとも１つ結合しているこ
とが必要である。この置換基数の調整は、原料である前
記一般式（５）で表される環状ジクロロホスファゼン化
合物に対して、一般式（７）および（８）の化合物と金
属アルカリとを反応させて得られるフェノキシド類およ
びアルコキシド類との反応モル比を調整することによ
り、ほぼ理論的に行うことができ、得られる反応物の構
造は、例えば、３００ＭＨｚ核磁気共鳴吸収分析装置
（ＶＸＲ−３００Ｓ：バリアン社製）による水素核磁気
共鳴吸収（ 1Ｈ−ＮＭＲ）スペクトルや燐核磁気共鳴吸
収（31Ｐ−ＮＭＲ）スペクトル、およびゲル浸透クロマ
トグラフィー〔東ソー（株）製高速ＧＰＣ ＨＬＣ−８
０２０〕により確認できる。
【００２７】環状ホスファゼン系化合物の一分子中のリ
ン原子に結合している置換基の全てが、一般式（７）か
ら導かれたフェノキシ基を有している環状ホスファゼン
系化合物である場合、この化合物の水中乳化分散液を液
流染色機にて１００〜１４０℃で染色浴に併用するいわ
ゆる吸尽法で付与させたときには、合成繊維に対する吸
着性が悪く、防炎効果が得られない。また、パッド−ド
ライ−キュアー法、コーティング法等による連続処理に
適用したときにも、やはり繊維への固着性が乏しいた
め、洗濯後の防炎性すなわち耐久防炎性が劣る。一方、
環状ホスファゼン系化合物の一分子中のリン原子に結合
している置換基全てが、一般式（８）から導かれたアル
コキシド基である環状ホスファゼン系化合物は、本来の
性質として防炎性不足である。しかしながら、環状ホス
ファゼン系化合物の一分子中のリン原子に結合している
置換基が、炭素数１〜４のアルコキシ基または前記一般
式（２）で表されるフェノキシ基であり、それぞれの置
換基が少なくとも１つ結合している本発明の化合物は、
合成繊維を吸尽法またはパッド法のいずれの加工方法に
おいて処理しても優れた耐久防炎性を示す。
ン原子に結合している置換基の全てが、一般式（７）か
ら導かれたフェノキシ基を有している環状ホスファゼン
系化合物である場合、この化合物の水中乳化分散液を液
流染色機にて１００〜１４０℃で染色浴に併用するいわ
ゆる吸尽法で付与させたときには、合成繊維に対する吸
着性が悪く、防炎効果が得られない。また、パッド−ド
ライ−キュアー法、コーティング法等による連続処理に
適用したときにも、やはり繊維への固着性が乏しいた
め、洗濯後の防炎性すなわち耐久防炎性が劣る。一方、
環状ホスファゼン系化合物の一分子中のリン原子に結合
している置換基全てが、一般式（８）から導かれたアル
コキシド基である環状ホスファゼン系化合物は、本来の
性質として防炎性不足である。しかしながら、環状ホス
ファゼン系化合物の一分子中のリン原子に結合している
置換基が、炭素数１〜４のアルコキシ基または前記一般
式（２）で表されるフェノキシ基であり、それぞれの置
換基が少なくとも１つ結合している本発明の化合物は、
合成繊維を吸尽法またはパッド法のいずれの加工方法に
おいて処理しても優れた耐久防炎性を示す。
【００２８】本発明の防炎加工剤を合成繊維に付与する
方法は、繊維紡糸時の練り込み、繊維の後加工としての
付与等いかなる方法でも効果を発揮する。後加工による
付与方法としては、例えば、本発明の環状ホスファゼン
系化合物を溶剤に溶解もしくは水中に乳化分散させる等
の方法で調製した処理液を、コーティング法、スプレー
法、パッディング法、染色浴に併用しての吸尽法等によ
り合成繊維に付与させる方法が一般的である。さらに、
合成繊維に対する防炎加工処理方法を詳しく説明する
と、公知の方法、例えば、液流染色機、ビーム染色機、
チーズ染色機等のパッケージ染色機を用い、浸漬加熱方
式により防炎加工剤を合成繊維に付与させる方法があ
る。なお、このような浸漬加熱方式による合成繊維への
防炎加工剤の付与は、合成繊維を染色する前、染色と同
時または染色した後の何れの時期に行ってもよい。ま
た、防炎加工剤をコーティング法、スプレー法またはパ
ッディング法にて付与する場合には、防炎加工剤を含む
処理液を繊維にコーティング、スプレーもしくはパッド
処理後、乾燥しもしくは乾熱せずに、乾熱処理またはス
チーミングする方法で、繊維に固着させてもよい。
方法は、繊維紡糸時の練り込み、繊維の後加工としての
付与等いかなる方法でも効果を発揮する。後加工による
付与方法としては、例えば、本発明の環状ホスファゼン
系化合物を溶剤に溶解もしくは水中に乳化分散させる等
の方法で調製した処理液を、コーティング法、スプレー
法、パッディング法、染色浴に併用しての吸尽法等によ
り合成繊維に付与させる方法が一般的である。さらに、
合成繊維に対する防炎加工処理方法を詳しく説明する
と、公知の方法、例えば、液流染色機、ビーム染色機、
チーズ染色機等のパッケージ染色機を用い、浸漬加熱方
式により防炎加工剤を合成繊維に付与させる方法があ
る。なお、このような浸漬加熱方式による合成繊維への
防炎加工剤の付与は、合成繊維を染色する前、染色と同
時または染色した後の何れの時期に行ってもよい。ま
た、防炎加工剤をコーティング法、スプレー法またはパ
ッディング法にて付与する場合には、防炎加工剤を含む
処理液を繊維にコーティング、スプレーもしくはパッド
処理後、乾燥しもしくは乾熱せずに、乾熱処理またはス
チーミングする方法で、繊維に固着させてもよい。
【００２９】環状ホスファゼン系化合物を水中に乳化あ
るいは分散させる界面活性剤としては、従来より公知の
ものでよく、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエー
テルおよびその脂肪酸または芳香族カルボン酸エステ
ル、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシエチレ
ンポリオキシプロピレンブロックポリマー等のポリオキ
シアルキレングリコール類とその脂肪酸エステル類、ポ
リオキシエチレンペンタエリスリットエーテル、ポリオ
キシエチレンソルビットエーテル等の多価アルコールエ
ーテル類とその脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンスチレ
ン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンスチレン化
アルキルフェニルエーテル等のポリオキシアルキレンエ
ーテル誘導体とその脂肪酸エステルまたは硫酸エステル
化物、芳香族スルホン酸またはそのホルムアルデヒド縮
合生成物などを使用することができる。
るいは分散させる界面活性剤としては、従来より公知の
ものでよく、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエー
テルおよびその脂肪酸または芳香族カルボン酸エステ
ル、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシエチレ
ンポリオキシプロピレンブロックポリマー等のポリオキ
シアルキレングリコール類とその脂肪酸エステル類、ポ
リオキシエチレンペンタエリスリットエーテル、ポリオ
キシエチレンソルビットエーテル等の多価アルコールエ
ーテル類とその脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンスチレ
ン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンスチレン化
アルキルフェニルエーテル等のポリオキシアルキレンエ
ーテル誘導体とその脂肪酸エステルまたは硫酸エステル
化物、芳香族スルホン酸またはそのホルムアルデヒド縮
合生成物などを使用することができる。
【００３０】環状ホスファゼン系化合物を合成繊維に付
与する量については特に限定されないが、この環状ホス
ファゼン系化合物が合成繊維に対して１重量％未満であ
ると合成繊維に十分な防炎性を付与することができず、
一方合成繊維に対する付与量が過剰であっても防炎性の
効果は著しくは向上しないため、好ましくは合成繊維に
対して１〜１５重量％付与させるのが一般的である。
与する量については特に限定されないが、この環状ホス
ファゼン系化合物が合成繊維に対して１重量％未満であ
ると合成繊維に十分な防炎性を付与することができず、
一方合成繊維に対する付与量が過剰であっても防炎性の
効果は著しくは向上しないため、好ましくは合成繊維に
対して１〜１５重量％付与させるのが一般的である。
【００３１】本発明における合成繊維の例としては、ナ
イロン４、ナイロン６、ナイロン１２、ナイロン４６、
ナイロン６６に代表されるポリアミド系繊維、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、カ
チオン可染ポリエステル等のポリエステル系繊維、ポリ
エチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系繊維、
アクリル繊維、アセテート繊維、ビニロン繊維等の合成
繊維を挙げることができ、これらが単独で構成されてい
ても、相互に複合して構成されていてもよい。用いる繊
維の形態としては糸状、不織布状、織物状、編物状等い
ずれの形態であってもよい。
イロン４、ナイロン６、ナイロン１２、ナイロン４６、
ナイロン６６に代表されるポリアミド系繊維、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、カ
チオン可染ポリエステル等のポリエステル系繊維、ポリ
エチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系繊維、
アクリル繊維、アセテート繊維、ビニロン繊維等の合成
繊維を挙げることができ、これらが単独で構成されてい
ても、相互に複合して構成されていてもよい。用いる繊
維の形態としては糸状、不織布状、織物状、編物状等い
ずれの形態であってもよい。
【００３２】
【実施例】以下に本発明を実施例および加工例により具
体的に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定さ
れるものではない。 合成例１ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でフェノール
８．１重量部と金属ナトリウム２．０重量部を室温にて
反応させ、ナトリウムフェノキシドを生成した。次に、
テトラヒドロフラン５００重量部に２，２，４，４，
６，６−ヘキサクロロシクロトリホスファゼン３０重量
部を溶解させ、この溶解液を反応器内に室温にて滴下
し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。次に、室温
まで冷却後、メタノール５９．９重量部にナトリウムメ
トキシド２３．３重量部を溶解させ、これを反応器内に
室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で反応させ
た。
体的に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定さ
れるものではない。 合成例１ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でフェノール
８．１重量部と金属ナトリウム２．０重量部を室温にて
反応させ、ナトリウムフェノキシドを生成した。次に、
テトラヒドロフラン５００重量部に２，２，４，４，
６，６−ヘキサクロロシクロトリホスファゼン３０重量
部を溶解させ、この溶解液を反応器内に室温にて滴下
し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。次に、室温
まで冷却後、メタノール５９．９重量部にナトリウムメ
トキシド２３．３重量部を溶解させ、これを反応器内に
室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で反応させ
た。
【００３３】次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱減圧
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。 合成例２ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でフェノール２
４．３重量部と金属ナトリウム５．９重量部を室温にて
反応させ、ナトリウムフェノキシドを生成した。次に、
テトラヒドロフラン５００重量部に２，２，４，４，
６，６−ヘキサクロロシクロトリホスファゼン３０重量
部を溶解させ、この溶解液を反応器内に室温にて滴下
し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。次に、室温
まで冷却後、メタノール３６．０重量部にナトリウムメ
トキシド１４．０重量部を溶解させ、これを反応器内に
室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で反応させ
た。
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。 合成例２ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でフェノール２
４．３重量部と金属ナトリウム５．９重量部を室温にて
反応させ、ナトリウムフェノキシドを生成した。次に、
テトラヒドロフラン５００重量部に２，２，４，４，
６，６−ヘキサクロロシクロトリホスファゼン３０重量
部を溶解させ、この溶解液を反応器内に室温にて滴下
し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。次に、室温
まで冷却後、メタノール３６．０重量部にナトリウムメ
トキシド１４．０重量部を溶解させ、これを反応器内に
室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で反応させ
た。
【００３４】次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱減圧
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。 合成例３ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でフェノール４
０．５重量部と金属ナトリウム９．９重量部を室温にて
反応させ、ナトリウムフェノキシドを生成した。次に、
テトラヒドロフラン５００重量部に２，２，４，４，
６，６−ヘキサクロロシクロトリホスファゼン３０重量
部を溶解させ、この溶解液を反応器内に室温にて滴下
し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。次に、室温
まで冷却後、メタノール１２．１重量部にナトリウムメ
トキシド４．７重量部を溶解させ、これを反応器内に室
温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。 合成例３ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でフェノール４
０．５重量部と金属ナトリウム９．９重量部を室温にて
反応させ、ナトリウムフェノキシドを生成した。次に、
テトラヒドロフラン５００重量部に２，２，４，４，
６，６−ヘキサクロロシクロトリホスファゼン３０重量
部を溶解させ、この溶解液を反応器内に室温にて滴下
し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。次に、室温
まで冷却後、メタノール１２．１重量部にナトリウムメ
トキシド４．７重量部を溶解させ、これを反応器内に室
温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。
【００３５】次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱減圧
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。 合成例４ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でｐ−メトキシ
フェノール３５．４重量部と金属ナトリウム６．６重量
部を室温にて反応させ、ナトリウム−ｐ−メトキシフェ
ノキシドを生成した。次に、テトラヒドロフラン５００
重量部に２，２，４，４，６，６−ヘキサクロロシクロ
トリホスファゼン３０重量部を溶解させ、この溶解液を
反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で
反応させた。次に、室温まで冷却後、メタノール５０．
３重量部にナトリウムメトキシド１９．６重量部を溶解
させ、これを反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後３
時間還流下で反応させた。
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。 合成例４ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でｐ−メトキシ
フェノール３５．４重量部と金属ナトリウム６．６重量
部を室温にて反応させ、ナトリウム−ｐ−メトキシフェ
ノキシドを生成した。次に、テトラヒドロフラン５００
重量部に２，２，４，４，６，６−ヘキサクロロシクロ
トリホスファゼン３０重量部を溶解させ、この溶解液を
反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で
反応させた。次に、室温まで冷却後、メタノール５０．
３重量部にナトリウムメトキシド１９．６重量部を溶解
させ、これを反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後３
時間還流下で反応させた。
【００３６】次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱減圧
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。得られた化合物を重水素化クロロホル
ムに溶解し、ガラス製のＮＭＲサンプルチューブに入
れ、３００ＭＨｚ核磁気共鳴吸収分析装置（ＶＸＲ−３
００Ｓ：バリアン社製）で、水素並びに燐の核磁気共鳴
吸収スペクトルを測定した。
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。得られた化合物を重水素化クロロホル
ムに溶解し、ガラス製のＮＭＲサンプルチューブに入
れ、３００ＭＨｚ核磁気共鳴吸収分析装置（ＶＸＲ−３
００Ｓ：バリアン社製）で、水素並びに燐の核磁気共鳴
吸収スペクトルを測定した。
【００３７】水素核磁気共鳴吸収（ 1Ｈ−ＮＭＲ）スペ
クトルでは、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）基準で３．
５８ppm に燐のカップリングを有するＰ−Ｏ−Ｍｅのメ
チル水素の吸収を、３．７５ppm にＰｈ−Ｏ−Ｍｅのメ
チル水素、６．８〜７．１ppm にＰｈ−Ｏ−Ｍｅのフェ
ニル水素の吸収を認め、これらのピークの積分値の比率
からＭｅＯとＭｅＯＰｈＯの置換比率が仕込み比率に近
い２：２．５であることが確認された。
クトルでは、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）基準で３．
５８ppm に燐のカップリングを有するＰ−Ｏ−Ｍｅのメ
チル水素の吸収を、３．７５ppm にＰｈ−Ｏ−Ｍｅのメ
チル水素、６．８〜７．１ppm にＰｈ−Ｏ−Ｍｅのフェ
ニル水素の吸収を認め、これらのピークの積分値の比率
からＭｅＯとＭｅＯＰｈＯの置換比率が仕込み比率に近
い２：２．５であることが確認された。
【００３８】また、燐核磁気共鳴吸収（31Ｐ−ＮＭＲ）
スペクトルでは、燐酸基準で１０．５と１６．０ppm に
各々Ｐ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）2 およびＰ（−Ｏ−ＰｈＯ
Ｍｅ）（−Ｏ−Ｍｅ）に帰属されるピークが積分値比
１：４で観測された。さらに、本化合物をイソプロピル
アルコラートで３０分間煮沸し、非水系の硝酸銀滴定か
ら求めた残存塩素量が０．０１１％であったことから、
本化合物はほぼ完全に置換反応が成された、下記の組成
を有する物質であることが確認された。 ［Ｎ3 Ｐ3 （−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）3.33（−Ｏ−Ｍｅ）
2.67］ 合成例５ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でｐ−クレゾー
ル３０．８重量部と金属ナトリウム６．６重量部を室温
にて反応させ、ナトリウム−ｐ−メチルフェノキシドを
生成した。次に、テトラヒドロフラン５００重量部に
２，２，４，４，６，６−ヘキサクロロシクロトリホス
ファゼン３０重量部を溶解させ、この溶解液を反応器内
に室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で反応させ
た。次に、室温まで冷却後、メタノール５０．３重量部
にナトリウムメトキシド１９．６重量部を溶解させ、こ
れを反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流
下で反応させた。
スペクトルでは、燐酸基準で１０．５と１６．０ppm に
各々Ｐ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）2 およびＰ（−Ｏ−ＰｈＯ
Ｍｅ）（−Ｏ−Ｍｅ）に帰属されるピークが積分値比
１：４で観測された。さらに、本化合物をイソプロピル
アルコラートで３０分間煮沸し、非水系の硝酸銀滴定か
ら求めた残存塩素量が０．０１１％であったことから、
本化合物はほぼ完全に置換反応が成された、下記の組成
を有する物質であることが確認された。 ［Ｎ3 Ｐ3 （−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）3.33（−Ｏ−Ｍｅ）
2.67］ 合成例５ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でｐ−クレゾー
ル３０．８重量部と金属ナトリウム６．６重量部を室温
にて反応させ、ナトリウム−ｐ−メチルフェノキシドを
生成した。次に、テトラヒドロフラン５００重量部に
２，２，４，４，６，６−ヘキサクロロシクロトリホス
ファゼン３０重量部を溶解させ、この溶解液を反応器内
に室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流下で反応させ
た。次に、室温まで冷却後、メタノール５０．３重量部
にナトリウムメトキシド１９．６重量部を溶解させ、こ
れを反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流
下で反応させた。
【００３９】次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱減圧
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。合成例４と同様に分析を行い、 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトルで３．５７ppm に燐のカップリングを
有するＰ−Ｏ−Ｍｅのメチル水素の吸収を、２．３１pp
m にＰｈ−Ｍｅのメチル水素、６．８〜７．２ppm にＰ
ｈ−Ｍｅのフェニル水素の吸収を認め、これらのピーク
の積分値の比率からＭｅＯとＭｅＰｈＯの置換比率が仕
込み比率に近い１：１．２であることが確認された。
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。合成例４と同様に分析を行い、 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトルで３．５７ppm に燐のカップリングを
有するＰ−Ｏ−Ｍｅのメチル水素の吸収を、２．３１pp
m にＰｈ−Ｍｅのメチル水素、６．８〜７．２ppm にＰ
ｈ−Ｍｅのフェニル水素の吸収を認め、これらのピーク
の積分値の比率からＭｅＯとＭｅＰｈＯの置換比率が仕
込み比率に近い１：１．２であることが確認された。
【００４０】また、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルでも同様
に、１０．５と１５．６ppm に各々Ｐ（−Ｏ−ＰｈＭ
ｅ）2 およびＰ（−Ｏ−ＰｈＭｅ）（−Ｏ−Ｍｅ）に帰
属されるピークが積分値比１：５で観測された。さら
に、合成例４と同様に求めた残存塩素量が０．００９％
であったことから、本化合物はほぼ完全に置換が成され
た、下記の組成を有する物質であることが確認された。 ［Ｎ3 Ｐ3 （−Ｏ−ＰｈＭｅ）3.27（−Ｏ−Ｍ
ｅ）2.73］ 合成例６ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１２５重量部中でｐ−メトキシ
フェノール３５．５重量部と金属ナトリウム６．６重量
部を室温にて反応させ、ナトリウム−ｐ−メトキシフェ
ノキシドを生成した。次に、溶媒としてクロロベンゼン
を用いて、ＰＣｌ5 とＮＨ4 Ｃｌを反応させて得られた
（ＮＰＣｌ2)n （ｎは３以上の整数）の粗製物〔４０重
量％−クロロベンゼン溶液、混合比率：（ＮＰＣｌ2)3
／（ＮＰＣｌ2)4 ／（ＮＰＣｌ2) 5 ／（ＮＰＣｌ2)6 ／
（ＮＰＣｌ2)7 ／（ＮＰＣｌ2)8 以上および直鎖状ジク
ロロホスファゼン＝５５．６／１４．２／８．１／５．
２／３．０／１３．９〕１４０ｇを反応器内に室温にて
滴下し、滴下終了後１０時間還流下で反応させた。次
に、室温まで冷却後、メタノール１００重量部にナトリ
ウムメトキシド３９．０重量部を溶解させ、これを反応
器内に室温にて滴下し、滴下終了後１０時間還流下で反
応させた。
に、１０．５と１５．６ppm に各々Ｐ（−Ｏ−ＰｈＭ
ｅ）2 およびＰ（−Ｏ−ＰｈＭｅ）（−Ｏ−Ｍｅ）に帰
属されるピークが積分値比１：５で観測された。さら
に、合成例４と同様に求めた残存塩素量が０．００９％
であったことから、本化合物はほぼ完全に置換が成され
た、下記の組成を有する物質であることが確認された。 ［Ｎ3 Ｐ3 （−Ｏ−ＰｈＭｅ）3.27（−Ｏ−Ｍ
ｅ）2.73］ 合成例６ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１２５重量部中でｐ−メトキシ
フェノール３５．５重量部と金属ナトリウム６．６重量
部を室温にて反応させ、ナトリウム−ｐ−メトキシフェ
ノキシドを生成した。次に、溶媒としてクロロベンゼン
を用いて、ＰＣｌ5 とＮＨ4 Ｃｌを反応させて得られた
（ＮＰＣｌ2)n （ｎは３以上の整数）の粗製物〔４０重
量％−クロロベンゼン溶液、混合比率：（ＮＰＣｌ2)3
／（ＮＰＣｌ2)4 ／（ＮＰＣｌ2) 5 ／（ＮＰＣｌ2)6 ／
（ＮＰＣｌ2)7 ／（ＮＰＣｌ2)8 以上および直鎖状ジク
ロロホスファゼン＝５５．６／１４．２／８．１／５．
２／３．０／１３．９〕１４０ｇを反応器内に室温にて
滴下し、滴下終了後１０時間還流下で反応させた。次
に、室温まで冷却後、メタノール１００重量部にナトリ
ウムメトキシド３９．０重量部を溶解させ、これを反応
器内に室温にて滴下し、滴下終了後１０時間還流下で反
応させた。
【００４１】次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱減圧
して除去し、酢酸エチル３００重量部と水３００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物および直鎖状ホスファゼン系化合物の混合物を
得た。 合成例７ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン２１０重量部中でｐ−メトキシ
フェノール５９．２重量部と金属ナトリウム１１．０重
量部を室温にて反応させナトリウム−ｐ−メトキシフェ
ノキシドを生成した。次に、溶媒としてクロロベンゼン
を用いて、ＰＣｌ5 とＮＨ4 Ｃｌを反応させて得られた
（ＮＰＣｌ2)n （ｎは３以上の整数）の粗製物〔４０重
量％−クロロベンゼン溶液、混合比率：（ＮＰＣｌ2)3
／（ＮＰＣｌ2)4 ／（ＮＰＣｌ2) 5 ／（ＮＰＣｌ2)6 ／
（ＮＰＣｌ2)7 ／（ＮＰＣｌ2)8 以上および直鎖状ジク
ロロホスファゼン化合物＝５５．６／１４．２／８．１
／５．２／３．０／１３．９〕１００ｇを反応器内に室
温にて滴下し、滴下終了後１０時間還流下で反応させ
た。次に、室温まで冷却後、メタノール３３．５重量部
にナトリウムメトキシド１３．０重量部を溶解させ、こ
れを反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後１０時間還
流下で反応させた。
して除去し、酢酸エチル３００重量部と水３００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物および直鎖状ホスファゼン系化合物の混合物を
得た。 合成例７ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン２１０重量部中でｐ−メトキシ
フェノール５９．２重量部と金属ナトリウム１１．０重
量部を室温にて反応させナトリウム−ｐ−メトキシフェ
ノキシドを生成した。次に、溶媒としてクロロベンゼン
を用いて、ＰＣｌ5 とＮＨ4 Ｃｌを反応させて得られた
（ＮＰＣｌ2)n （ｎは３以上の整数）の粗製物〔４０重
量％−クロロベンゼン溶液、混合比率：（ＮＰＣｌ2)3
／（ＮＰＣｌ2)4 ／（ＮＰＣｌ2) 5 ／（ＮＰＣｌ2)6 ／
（ＮＰＣｌ2)7 ／（ＮＰＣｌ2)8 以上および直鎖状ジク
ロロホスファゼン化合物＝５５．６／１４．２／８．１
／５．２／３．０／１３．９〕１００ｇを反応器内に室
温にて滴下し、滴下終了後１０時間還流下で反応させ
た。次に、室温まで冷却後、メタノール３３．５重量部
にナトリウムメトキシド１３．０重量部を溶解させ、こ
れを反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後１０時間還
流下で反応させた。
【００４２】次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱減圧
して除去し、酢酸エチル３００重量部と水３００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物および直鎖状ホスファゼン系化合物の混合物を
得た。合成例４と同様に分析を行い、 1Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルで３．５８ppm に燐のカップリングを有するＰ−
Ｏ−Ｍｅのメチル水素の吸収を、３．７５ppm にＰｈ−
Ｏ−Ｍｅのメチル水素、６．６〜７．１ppm にＰｈ−Ｏ
−Ｍｅのフェニル水素の吸収を認め、これらのピークの
積分値の比率からＭｅＯとＭｅＯＰｈＯの置換比率が仕
込み比率に近い２：４．４５であることが確認された。
して除去し、酢酸エチル３００重量部と水３００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物および直鎖状ホスファゼン系化合物の混合物を
得た。合成例４と同様に分析を行い、 1Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルで３．５８ppm に燐のカップリングを有するＰ−
Ｏ−Ｍｅのメチル水素の吸収を、３．７５ppm にＰｈ−
Ｏ−Ｍｅのメチル水素、６．６〜７．１ppm にＰｈ−Ｏ
−Ｍｅのフェニル水素の吸収を認め、これらのピークの
積分値の比率からＭｅＯとＭｅＯＰｈＯの置換比率が仕
込み比率に近い２：４．４５であることが確認された。
【００４３】また、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルでも合成例
４と同様に、１０．５と１６．０ppm に各々ｎ＝３のＰ
（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）2 及びＰ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）
（−Ｏ−Ｍｅ）に帰属されるピークが積分値比３：５で
観測され、−１０．３と−１０．８ppm にｎ＝４のＰ
（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）2 およびＰ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）
（−Ｏ−Ｍｅ）に帰属されるピークを、−１５〜−２１
ppm にｎ≧５のＰ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）2 及びＰ（−Ｏ
−ＰｈＯＭｅ）（−Ｏ−Ｍｅ）に帰属される多重ピーク
を認めた。
４と同様に、１０．５と１６．０ppm に各々ｎ＝３のＰ
（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）2 及びＰ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）
（−Ｏ−Ｍｅ）に帰属されるピークが積分値比３：５で
観測され、−１０．３と−１０．８ppm にｎ＝４のＰ
（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）2 およびＰ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）
（−Ｏ−Ｍｅ）に帰属されるピークを、−１５〜−２１
ppm にｎ≧５のＰ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）2 及びＰ（−Ｏ
−ＰｈＯＭｅ）（−Ｏ−Ｍｅ）に帰属される多重ピーク
を認めた。
【００４４】さらに、合成例４と同様に求めた残存塩素
量が０．０５４％であったことから、本化合物もほぼ予
定の置換が成された、下記の組成を有する物質であるこ
とが確認された。 ［ＮＰ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）1.38（−Ｏ−Ｍｅ）0.62］
n ｎ＝３，４，５，６，７，… 合成例８ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器に、ナ
トリウムメトキシド３２．６重量部およびメタノール８
０．３重量部仕込んだ。次いで、テトラヒドロフラン５
００重量部に２，２，４，４，６，６−ヘキサクロロシ
クロトリホスファゼン３０重量部を溶解させ、この溶解
液を反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流
下で反応させた。次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱
減圧して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重
量部を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、
溶媒である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファ
ゼン系化合物を得た。 合成例９ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でフェノール４
８．７重量部と金属ナトリウム１１．９重量部を室温に
て反応させ、ナトリウムフェノキシドを生成した。次
に、テトラヒドロフラン５００重量部に２，２，４，
４，６，６−ヘキサクロロシクロトリホスファゼン３０
重量部を溶解させ、この溶解液を反応器内に室温にて滴
下し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。
量が０．０５４％であったことから、本化合物もほぼ予
定の置換が成された、下記の組成を有する物質であるこ
とが確認された。 ［ＮＰ（−Ｏ−ＰｈＯＭｅ）1.38（−Ｏ−Ｍｅ）0.62］
n ｎ＝３，４，５，６，７，… 合成例８ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器に、ナ
トリウムメトキシド３２．６重量部およびメタノール８
０．３重量部仕込んだ。次いで、テトラヒドロフラン５
００重量部に２，２，４，４，６，６−ヘキサクロロシ
クロトリホスファゼン３０重量部を溶解させ、この溶解
液を反応器内に室温にて滴下し、滴下終了後３時間還流
下で反応させた。次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱
減圧して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重
量部を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、
溶媒である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファ
ゼン系化合物を得た。 合成例９ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器を使用
し、テトラヒドロフラン１３０重量部中でフェノール４
８．７重量部と金属ナトリウム１１．９重量部を室温に
て反応させ、ナトリウムフェノキシドを生成した。次
に、テトラヒドロフラン５００重量部に２，２，４，
４，６，６−ヘキサクロロシクロトリホスファゼン３０
重量部を溶解させ、この溶解液を反応器内に室温にて滴
下し、滴下終了後３時間還流下で反応させた。
【００４５】次に、上記反応混合体中の溶媒を加熱減圧
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。 合成例１０ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器内に、
オキシ塩化リン１５．４重量部、ビス（２−ヒドロキシ
エチル）テレフタレート２５．４重量部、ｐ−クレゾー
ル２１．６重量部および塩化アルミニウム１．３３重量
部を同時に仕込み、窒素気流中において１５０℃まで加
熱して６時間反応させた。その後、これを常法により水
洗し、ホスホリル化合物を得た（特開平０６−２４８５
７５号の例）。
して除去し、酢酸エチル４００重量部と水４００重量部
を用いて５回洗浄し、酢酸エチル層のみを回収し、溶媒
である酢酸エチルを減圧下で除去して環状ホスファゼン
系化合物を得た。 合成例１０ コンデンサーおよび加熱攪拌装置付きガラス容器内に、
オキシ塩化リン１５．４重量部、ビス（２−ヒドロキシ
エチル）テレフタレート２５．４重量部、ｐ−クレゾー
ル２１．６重量部および塩化アルミニウム１．３３重量
部を同時に仕込み、窒素気流中において１５０℃まで加
熱して６時間反応させた。その後、これを常法により水
洗し、ホスホリル化合物を得た（特開平０６−２４８５
７５号の例）。
【００４６】合成例１〜９の化合物の構造を、３００Ｍ
Ｈｚ核磁気共鳴吸収分析装置（ＶＸＲ−３００Ｓ：バリ
アン社製）およびゲル浸透クロマトグラフィー〔東ソー
（株）製高速ＧＰＣ ＨＬＣ−８０２０〕を用いて決定
した。その結果を表１に記す。
Ｈｚ核磁気共鳴吸収分析装置（ＶＸＲ−３００Ｓ：バリ
アン社製）およびゲル浸透クロマトグラフィー〔東ソー
（株）製高速ＧＰＣ ＨＬＣ−８０２０〕を用いて決定
した。その結果を表１に記す。
【００４７】
【表１】
【００４８】実施例１ 合成例１の化合物４０重量部に対し、分散剤としてトリ
スチレン化ノニルフェノールエチレンオキサイド１１モ
ル付加物３重量部およびＢＨ−３２０Ｋ〔日華化学
（株）製〕２重量部を加え、これに水５５重量部を攪拌
しながら加えて乳化分散させ、乳白色の防炎加工剤を得
た。 実施例２〜７ 実施例１の合成例１の化合物を、合成例２〜７の化合物
に代えて、実施例２〜７の防炎加工剤を得た。 比較例１〜３ 実施例１の合成例１の化合物を、合成例８〜１０の化合
物に代えて、比較例１〜３の防炎加工剤を得た。 比較例４ 実施例１の合成例１の化合物を、トリクレジルホスフェ
ート〔（株）大八化学工業製〕に代えて、比較例４の防
炎加工剤を得た。 比較例５ ヘキサブロモシクロドデカン〔ニッカファイノンＣＧ−
１（日華化学（株）製４０％品〕防炎性能試験１ 処理 実施例１〜７および比較例１〜５の防炎加工剤をさらに
４０重量％の水溶液になるように希釈して防炎加工用処
理液とした。比較例５については、これを４０重量％の
水溶液になるように希釈して防炎加工用処理液とした。
スチレン化ノニルフェノールエチレンオキサイド１１モ
ル付加物３重量部およびＢＨ−３２０Ｋ〔日華化学
（株）製〕２重量部を加え、これに水５５重量部を攪拌
しながら加えて乳化分散させ、乳白色の防炎加工剤を得
た。 実施例２〜７ 実施例１の合成例１の化合物を、合成例２〜７の化合物
に代えて、実施例２〜７の防炎加工剤を得た。 比較例１〜３ 実施例１の合成例１の化合物を、合成例８〜１０の化合
物に代えて、比較例１〜３の防炎加工剤を得た。 比較例４ 実施例１の合成例１の化合物を、トリクレジルホスフェ
ート〔（株）大八化学工業製〕に代えて、比較例４の防
炎加工剤を得た。 比較例５ ヘキサブロモシクロドデカン〔ニッカファイノンＣＧ−
１（日華化学（株）製４０％品〕防炎性能試験１ 処理 実施例１〜７および比較例１〜５の防炎加工剤をさらに
４０重量％の水溶液になるように希釈して防炎加工用処
理液とした。比較例５については、これを４０重量％の
水溶液になるように希釈して防炎加工用処理液とした。
【００４９】供試布として目付１００ｇ／ｍ2 のポリエ
ステルサテン織物を使用し、下記の条件でパッド処理を
行った。 （加工条件） 絞り率 ５０％ ドライ １１０℃×３分 キュア １８０℃×１分 さらに、処理後、サンモールＢＲ−７０〔日華化学
（株）製ソーピング剤〕２ｇ／リットルおよびソーダー
灰２ｇ／リットルの水性浴を用い、浴比１：２０にて、
８０℃で２０分間洗浄した。さらに、１０分間水洗を行
い、処理布を乾燥し、幅出しセット（１７０℃×１分）
を行ったものを、防炎性能試験に供した。その結果を表
２に記す。
ステルサテン織物を使用し、下記の条件でパッド処理を
行った。 （加工条件） 絞り率 ５０％ ドライ １１０℃×３分 キュア １８０℃×１分 さらに、処理後、サンモールＢＲ−７０〔日華化学
（株）製ソーピング剤〕２ｇ／リットルおよびソーダー
灰２ｇ／リットルの水性浴を用い、浴比１：２０にて、
８０℃で２０分間洗浄した。さらに、１０分間水洗を行
い、処理布を乾燥し、幅出しセット（１７０℃×１分）
を行ったものを、防炎性能試験に供した。その結果を表
２に記す。
【００５０】評価 防炎性能を以下の方法で評価した。 ＪＩＳ Ｌ−１０９１ Ａ−１法（４５度ミクロバーナ
ー法） 残炎が３秒以内で合格 ＪＩＳ Ｌ−１０９１ Ｄ法（４５度コイル法） 接炎回数が３回以上で合格 なお、表中 Ｌ−０：防炎加工処理後 Ｌ−５：ＪＩＳ Ｌ−１０４２による洗濯５回後 Ｄ−５：ＪＩＳ Ｌ−１０１８によるドライクリーニン
グ５回後 を表す。
ー法） 残炎が３秒以内で合格 ＪＩＳ Ｌ−１０９１ Ｄ法（４５度コイル法） 接炎回数が３回以上で合格 なお、表中 Ｌ−０：防炎加工処理後 Ｌ−５：ＪＩＳ Ｌ−１０４２による洗濯５回後 Ｄ−５：ＪＩＳ Ｌ−１０１８によるドライクリーニン
グ５回後 を表す。
【００５１】
【表２】
【００５２】防炎性能試験２ 処理 実施例１〜７および比較例１〜５の防炎加工剤を使用
し、テクサム社製のミニカラー染色機にて、吸尽法によ
る防炎加工を行った。 （加工条件） 防炎加工剤 ２０％ o.w.f. 分散染料（C.I. Disperse Blue 56) １％ o.w.f. ９０％酢酸 ０．３cc／リットル １３０℃×３０分（２℃／分で昇温） 浴比１：１５ 処理後、サンモールＢＲ−７０〔日華化学（株）製ソー
ピング剤〕２ｇ／リットル、ソーダー灰２ｇ／リットル
およびハイドロサルファイト２ｇ／リットルの水性浴を
用い、浴比１：２０にて、８０℃で２０分間洗浄した。
さらに、１０分間水洗を行い、処理布を乾燥し、幅出し
セット（１７０℃×１分）を行ったものを、防炎性能試
験に供した。その結果を表３に記す。
し、テクサム社製のミニカラー染色機にて、吸尽法によ
る防炎加工を行った。 （加工条件） 防炎加工剤 ２０％ o.w.f. 分散染料（C.I. Disperse Blue 56) １％ o.w.f. ９０％酢酸 ０．３cc／リットル １３０℃×３０分（２℃／分で昇温） 浴比１：１５ 処理後、サンモールＢＲ−７０〔日華化学（株）製ソー
ピング剤〕２ｇ／リットル、ソーダー灰２ｇ／リットル
およびハイドロサルファイト２ｇ／リットルの水性浴を
用い、浴比１：２０にて、８０℃で２０分間洗浄した。
さらに、１０分間水洗を行い、処理布を乾燥し、幅出し
セット（１７０℃×１分）を行ったものを、防炎性能試
験に供した。その結果を表３に記す。
【００５３】
【表３】
【００５４】防炎性能試験３ 処理 防炎性能試験１で作製したのと同様の防炎加工処理液を
作成し、供試布として目付１８０ｇ／ｍ2 のナイロンオ
ックスフォード織物を使用し、パッド処理を行った。
作成し、供試布として目付１８０ｇ／ｍ2 のナイロンオ
ックスフォード織物を使用し、パッド処理を行った。
【００５５】（加工条件） 絞り率 ８０％ ドライ １１０℃×３分 キュア １６０℃×１分 さらに、処理後、サンモールＡ−１〔日華化学（株）製
ソーピング剤〕２ｇ／リットルの水性浴を用い、浴比
１：２０にて、室温で１０分間、４０℃で１０分間およ
び６０℃で１０分間洗浄した。さらに、１０分間水洗を
行い、処理布を乾燥し、幅出しセット（１６０℃×１
分）を行ったものを、防炎性能試験に供した。その結果
を表４に記す。
ソーピング剤〕２ｇ／リットルの水性浴を用い、浴比
１：２０にて、室温で１０分間、４０℃で１０分間およ
び６０℃で１０分間洗浄した。さらに、１０分間水洗を
行い、処理布を乾燥し、幅出しセット（１６０℃×１
分）を行ったものを、防炎性能試験に供した。その結果
を表４に記す。
【００５６】
【表４】
【００５７】上記の表の結果のように、実施例１〜７の
本発明化合物を付与させた各処理布は、ハロゲン系化合
物であるヘキサブロモシクロドデカンを付与した場合と
同程度またはそれ以上の非常に優れた防炎性を示した。
本発明化合物を付与させた各処理布は、ハロゲン系化合
物であるヘキサブロモシクロドデカンを付与した場合と
同程度またはそれ以上の非常に優れた防炎性を示した。
【００５８】
【発明の効果】本発明の防炎加工剤およびこの加工剤を
用いた防炎加工方法により、合成繊維に非ハロゲンで極
めて優れた耐久性ある防炎性を付与することができる。
用いた防炎加工方法により、合成繊維に非ハロゲンで極
めて優れた耐久性ある防炎性を付与することができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｄ０６Ｍ 15/673 Ｄ０６Ｍ 15/673 13/44 (72)発明者 中長 偉文 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大 塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 多田 祐二 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大 塚化学株式会社徳島研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（１）または（３）で表され
るホスファゼン系化合物。 【化１】 〔式中、ｎは１以上の整数を表し、Ｘはそれぞれ炭素数
１〜４のアルコキシ基または下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基ま
たは炭素数１〜３のアルコキシ基を表す）で表されるフ
ェノキシ基を表す。但し、Ｘの全てが炭素数１〜４のア
ルコキシ基であったり、または前記式（２）のフェノキ
シ基であることはない〕 【化３】 〔式中、ｍは０または１以上の整数を表し、Ｙはそれぞ
れ炭素数１〜４のアルコキシ基または下記一般式（４） 【化４】 （式中、Ｒ2 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基ま
たは炭素数１〜３のアルコキシ基を表す）で表されるフ
ェノキシ基を表す。但し、Ｙの全てが炭素数１〜４のア
ルコキシ基であったり、または前記式（４）のフェノキ
シ基であることはない〕 - 【請求項２】 請求項１に記載のホスファゼン系化合物
の少なくとも１種を含む防炎加工剤。 - 【請求項３】 ホスファゼン系化合物が、前記式（１）
においてｎが１〜１４の整数である環状ホスファゼン系
化合物から選ばれる、請求項２記載の防炎加工剤。 - 【請求項４】 請求項１に記載のホスファゼン系化合物
の少なくとも１種を含む防炎加工剤を用いて合成繊維を
処理することを特徴とする合成繊維の防炎加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129697A JP3886206B2 (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | 合成繊維の耐久防炎加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129697A JP3886206B2 (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | 合成繊維の耐久防炎加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10298188A true JPH10298188A (ja) | 1998-11-10 |
| JP3886206B2 JP3886206B2 (ja) | 2007-02-28 |
Family
ID=14557634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11129697A Expired - Lifetime JP3886206B2 (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | 合成繊維の耐久防炎加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3886206B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001172863A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-26 | Gantsu Kasei Kk | 耐水、難燃性不織布 |
| WO2001070844A1 (en) * | 2000-03-21 | 2001-09-27 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Flame-retardant epoxy resin composition, molded object thereof, and electronic part |
| EP1279720A1 (en) * | 2000-03-21 | 2003-01-29 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Flame retardant, flame-retardant resin composition, molded object, and electronic part |
| JP2005307396A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Daikyo Kagaku Kk | ポリエステル系繊維品の難燃加工剤と難燃加工方法 |
| JP2006299472A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Teikoku Sen I Co Ltd | 難燃性アラミド繊維構造物とその製造方法 |
| WO2007074814A1 (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-05 | Opelontex Co., Ltd. | ポリウレタン弾性糸およびその製造方法 |
| WO2008125968A2 (ja) | 2007-04-17 | 2008-10-23 | Seiren Co. Ltd. | 金属被覆布帛 |
| US10435422B2 (en) | 2015-05-28 | 2019-10-08 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | Allyl-phenoxy-cyclophosphazene compound, and production method therefor |
| KR20200020800A (ko) | 2017-06-22 | 2020-02-26 | 다이쿄 케미칼 컴퍼니, 리미티드 | 폴리에스테르계 합성 섬유 구조물의 난연 가공 |
-
1997
- 1997-04-28 JP JP11129697A patent/JP3886206B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001172863A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-26 | Gantsu Kasei Kk | 耐水、難燃性不織布 |
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| EP1279720A1 (en) * | 2000-03-21 | 2003-01-29 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Flame retardant, flame-retardant resin composition, molded object, and electronic part |
| EP1279720A4 (en) * | 2000-03-21 | 2004-08-25 | Otsuka Kagaku Kk | FLAME RETARDANT MATERIAL, FLAME RETARDANT RESIN COMPOSITION, MOLDED OBJECT, AND ELECTRONIC PART |
| US6797750B2 (en) | 2000-03-21 | 2004-09-28 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Flame-retardant epoxy resin composition, molded article thereof, and electronic part |
| JP2005307396A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Daikyo Kagaku Kk | ポリエステル系繊維品の難燃加工剤と難燃加工方法 |
| JP2006299472A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Teikoku Sen I Co Ltd | 難燃性アラミド繊維構造物とその製造方法 |
| JP4619187B2 (ja) * | 2005-04-22 | 2011-01-26 | 帝国繊維株式会社 | 難燃性アラミド繊維構造物とその製造方法 |
| WO2007074814A1 (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-05 | Opelontex Co., Ltd. | ポリウレタン弾性糸およびその製造方法 |
| JP4860633B2 (ja) * | 2005-12-27 | 2012-01-25 | 東レ・オペロンテックス株式会社 | ポリウレタン弾性糸およびその製造方法 |
| US8277941B2 (en) | 2005-12-27 | 2012-10-02 | Toray Opelontex Co., Ltd. | Elastic polyurethane yarn and method of manufacturing the same |
| WO2008125968A2 (ja) | 2007-04-17 | 2008-10-23 | Seiren Co. Ltd. | 金属被覆布帛 |
| US10435422B2 (en) | 2015-05-28 | 2019-10-08 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | Allyl-phenoxy-cyclophosphazene compound, and production method therefor |
| US11040991B2 (en) | 2015-05-28 | 2021-06-22 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | Allyl-phenoxy-cyclophosphazene compound, and production method therefor |
| KR20200020800A (ko) | 2017-06-22 | 2020-02-26 | 다이쿄 케미칼 컴퍼니, 리미티드 | 폴리에스테르계 합성 섬유 구조물의 난연 가공 |
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|---|---|
| JP3886206B2 (ja) | 2007-02-28 |
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| Date | Code | Title | Description |
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