JPH10284400A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH10284400A JPH10284400A JP9102505A JP10250597A JPH10284400A JP H10284400 A JPH10284400 A JP H10284400A JP 9102505 A JP9102505 A JP 9102505A JP 10250597 A JP10250597 A JP 10250597A JP H10284400 A JPH10284400 A JP H10284400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- light
- illuminance
- substrate
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光源の位置を常に最適な位置に精度良く調整す
ることができる露光装置を提供する。 【解決手段】１又は複数の光源１からの光束を１又は複
数の照明系ユニット３ａからなる照明光学系３に導き、
照明光学系３からの光束によってマスク４上のパターン
を照明し、パターンを透過した露光光を投影光学系５に
よって基板６上に投影露光する露光装置において、各光
源１ごとにその位置を調整する光源位置調整手段９を設
け、投影光学系５に入射する光束の光量を減少させる調
光手段１０を設け、基板６上の照度を測定できるように
基板の平面方向に移動自在に照度センサ７を配置した。
ることができる露光装置を提供する。 【解決手段】１又は複数の光源１からの光束を１又は複
数の照明系ユニット３ａからなる照明光学系３に導き、
照明光学系３からの光束によってマスク４上のパターン
を照明し、パターンを透過した露光光を投影光学系５に
よって基板６上に投影露光する露光装置において、各光
源１ごとにその位置を調整する光源位置調整手段９を設
け、投影光学系５に入射する光束の光量を減少させる調
光手段１０を設け、基板６上の照度を測定できるように
基板の平面方向に移動自在に照度センサ７を配置した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置の光源の
位置調整に関するものである。
位置調整に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハなどを製造する露光装置で
は、光源ランプからの光量の有効利用を図るために、基
板上での照度が最大となるようにランプ位置を調整する
必要がある。また投影光学系の性能の劣化を防止するた
めに、投影光学系には大きな光エネルギを連続して長時
間入射しない必要がある。そこで従来より、露光装置の
ランプ位置の調整は次のようにして行われていた。すな
わち装置の据え付け調整時に、基板上での照度が最大に
なるようにランプ位置を調整し、そのランプ位置に対し
てランプ位置モニタを調整する。そして以後のランプの
交換時には、ランプ位置モニタに対して新たなランプの
位置を調整していた。
は、光源ランプからの光量の有効利用を図るために、基
板上での照度が最大となるようにランプ位置を調整する
必要がある。また投影光学系の性能の劣化を防止するた
めに、投影光学系には大きな光エネルギを連続して長時
間入射しない必要がある。そこで従来より、露光装置の
ランプ位置の調整は次のようにして行われていた。すな
わち装置の据え付け調整時に、基板上での照度が最大に
なるようにランプ位置を調整し、そのランプ位置に対し
てランプ位置モニタを調整する。そして以後のランプの
交換時には、ランプ位置モニタに対して新たなランプの
位置を調整していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のランプ位置
の調整手法は、投影光学系に大きな光エネルギが連続し
て入射しない点では好ましいものの、ランプ位置モニタ
によってランプの位置を調整しているから、ランプ位置
モニタの調整に誤差があるときには、新たなランプの位
置が最良の位置から常にこの誤差分だけずれてしまい、
新たなランプの位置調整の精度が落ちるという問題点が
ある。また何らかの原因によってランプ位置モニタがず
れたとしても、これに気付かずに使用し続ける可能性が
あり、このときにも新たなランプの位置調整の精度が落
ちるという問題点がある。また、特に１台の露光装置に
複数個のランプを用いるときには、ランプ位置モニタも
複数個必要となるから、コスト高になるという問題点も
ある。本発明は、この様な従来の問題点に鑑みてなされ
たものであり、光源の位置を常に最適な位置に精度良く
調整することができ、しかも複数の光源を用いるときに
も特にコスト高とはならない露光装置を提供することを
課題とする。
の調整手法は、投影光学系に大きな光エネルギが連続し
て入射しない点では好ましいものの、ランプ位置モニタ
によってランプの位置を調整しているから、ランプ位置
モニタの調整に誤差があるときには、新たなランプの位
置が最良の位置から常にこの誤差分だけずれてしまい、
新たなランプの位置調整の精度が落ちるという問題点が
ある。また何らかの原因によってランプ位置モニタがず
れたとしても、これに気付かずに使用し続ける可能性が
あり、このときにも新たなランプの位置調整の精度が落
ちるという問題点がある。また、特に１台の露光装置に
複数個のランプを用いるときには、ランプ位置モニタも
複数個必要となるから、コスト高になるという問題点も
ある。本発明は、この様な従来の問題点に鑑みてなされ
たものであり、光源の位置を常に最適な位置に精度良く
調整することができ、しかも複数の光源を用いるときに
も特にコスト高とはならない露光装置を提供することを
課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するためになされたものであり、すなわち、１又は複数
の光源からの光束を１又は複数の照明系ユニットからな
る照明光学系に導き、照明光学系からの光束によってマ
スク上のパターンを照明し、パターンを透過した露光光
を投影光学系によって基板上に投影露光する露光装置に
おいて、各光源ごとにその位置を調整する光源位置調整
手段を設け、投影光学系に入射する光束の光量を減少さ
せる調光手段を設け、基板上の照度を測定できるように
基板の平面方向に移動自在に照度センサを配置したこと
を特徴とする露光装置である。
するためになされたものであり、すなわち、１又は複数
の光源からの光束を１又は複数の照明系ユニットからな
る照明光学系に導き、照明光学系からの光束によってマ
スク上のパターンを照明し、パターンを透過した露光光
を投影光学系によって基板上に投影露光する露光装置に
おいて、各光源ごとにその位置を調整する光源位置調整
手段を設け、投影光学系に入射する光束の光量を減少さ
せる調光手段を設け、基板上の照度を測定できるように
基板の平面方向に移動自在に照度センサを配置したこと
を特徴とする露光装置である。
【０００５】本発明はまた、各光源ごとにその位置を調
整する光源位置調整手段を設け、各照明系ユニットごと
にユニット内の照度を測定する照度センサを設け、各照
度センサによって検出した各照明系ユニットの照度の合
計を求める積分回路を設け、照明光学系から投影光学系
に入射する光束を遮光するシャッタを設けたことを特徴
とする露光装置である。本発明はまた、各光源ごとにそ
の位置を調整する光源位置調整手段を設け、各光源ごと
に光源から射出する光束を遮光するシャッタを設け、基
板上の照度を測定できるように基板の平面方向に移動自
在に照度センサを配置したことを特徴とする露光装置で
ある。本発明はまた、各光源ごとにその位置を調整する
光源位置調整手段を設け、各光源ごとに光源から射出す
る光束を遮光するシャッタを設け、各照明系ユニットご
とにユニット内の照度を測定する照度センサを設け、各
照度センサによって検出した各照明系ユニットの照度の
合計を求める積分回路を設けたことを特徴とする露光装
置である。
整する光源位置調整手段を設け、各照明系ユニットごと
にユニット内の照度を測定する照度センサを設け、各照
度センサによって検出した各照明系ユニットの照度の合
計を求める積分回路を設け、照明光学系から投影光学系
に入射する光束を遮光するシャッタを設けたことを特徴
とする露光装置である。本発明はまた、各光源ごとにそ
の位置を調整する光源位置調整手段を設け、各光源ごと
に光源から射出する光束を遮光するシャッタを設け、基
板上の照度を測定できるように基板の平面方向に移動自
在に照度センサを配置したことを特徴とする露光装置で
ある。本発明はまた、各光源ごとにその位置を調整する
光源位置調整手段を設け、各光源ごとに光源から射出す
る光束を遮光するシャッタを設け、各照明系ユニットご
とにユニット内の照度を測定する照度センサを設け、各
照度センサによって検出した各照明系ユニットの照度の
合計を求める積分回路を設けたことを特徴とする露光装
置である。
【０００６】このように本発明によれば、基板上の照度
を直接測定しながら、または各照明系ユニットの照度の
合計を直接測定しながら、これらの値が最大となるよう
にランプ交換ごとにランプ位置調整を行うことができる
から、ランプ位置モニタによる従来方法より精度良く調
整できる。しかも投影光学系に入射するエネルギを十分
に低く、または皆無とすることができるから、投影光学
系に損傷を与えるおそれもない。
を直接測定しながら、または各照明系ユニットの照度の
合計を直接測定しながら、これらの値が最大となるよう
にランプ交換ごとにランプ位置調整を行うことができる
から、ランプ位置モニタによる従来方法より精度良く調
整できる。しかも投影光学系に入射するエネルギを十分
に低く、または皆無とすることができるから、投影光学
系に損傷を与えるおそれもない。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面によっ
て説明する。図１は本発明による露光装置の第１実施例
を示し、複数のランプ１からの光束をファイバ２によっ
てミックスして照明光学系３に導き、照明光学系３によ
ってマスク４上のパターンを照明し、パターンを透過し
た露光光を投影光学系５によって基板６上に投影露光す
るものである。この露光装置は走査型の露光装置であ
り、マスク４と基板６とをその平面内の走査方向Ｙに同
期して走査することにより、一時に投影される範囲より
も走査方向Ｙに長い範囲のパターンを基板６上に投影し
て露光している。各ランプ１はそれぞれランプハウス１
６内に設置されており、各ランプ１にはその位置を調整
するランプ位置調整器９が取り付けられている。ランプ
位置調整器９の具体的な構成としては、例えばランプ１
をＸ、Ｙ、Ｚの各方向に移動するネジとすることができ
る。なお、本実施例では、ランプ１として超高圧水銀ラ
ンプを使用している。
て説明する。図１は本発明による露光装置の第１実施例
を示し、複数のランプ１からの光束をファイバ２によっ
てミックスして照明光学系３に導き、照明光学系３によ
ってマスク４上のパターンを照明し、パターンを透過し
た露光光を投影光学系５によって基板６上に投影露光す
るものである。この露光装置は走査型の露光装置であ
り、マスク４と基板６とをその平面内の走査方向Ｙに同
期して走査することにより、一時に投影される範囲より
も走査方向Ｙに長い範囲のパターンを基板６上に投影し
て露光している。各ランプ１はそれぞれランプハウス１
６内に設置されており、各ランプ１にはその位置を調整
するランプ位置調整器９が取り付けられている。ランプ
位置調整器９の具体的な構成としては、例えばランプ１
をＸ、Ｙ、Ｚの各方向に移動するネジとすることができ
る。なお、本実施例では、ランプ１として超高圧水銀ラ
ンプを使用している。
【０００８】照明光学系３は、複数の独立した照明系ユ
ニット３ａを、Ｙ方向とマスク４の法線方向Ｚとの双方
に直交するＸ方向に並べることによって構成されてお
り、これに対応して、投影光学系５も、複数の独立した
投影系ユニット５ａをＸ方向に並べることによって構成
されている。また各照明系ユニット３ａには、照明系ユ
ニット３ａを射出する光束の光量を減少させるフィルタ
１０が設けられており、こうして各投影系ユニット５ａ
に入射する光のエネルギーを減少させている。他方、基
板６はメインステージ１５上に載置されており、このメ
インステージ１５には照度センサ７が埋め込まれてい
る。基板６上での照度を測定するときには、基板６を除
去して照度センサ７を露出させ、照度センサ７の高さが
基板表面と同じ高さになるように高さ調節して測定を行
う。照度センサ７としては、フォトダイオードやＣＣＤ
などを用いることができる。照度センサ７によって検出
された光量信号は、表示器８に送られて照度が表示され
る。
ニット３ａを、Ｙ方向とマスク４の法線方向Ｚとの双方
に直交するＸ方向に並べることによって構成されてお
り、これに対応して、投影光学系５も、複数の独立した
投影系ユニット５ａをＸ方向に並べることによって構成
されている。また各照明系ユニット３ａには、照明系ユ
ニット３ａを射出する光束の光量を減少させるフィルタ
１０が設けられており、こうして各投影系ユニット５ａ
に入射する光のエネルギーを減少させている。他方、基
板６はメインステージ１５上に載置されており、このメ
インステージ１５には照度センサ７が埋め込まれてい
る。基板６上での照度を測定するときには、基板６を除
去して照度センサ７を露出させ、照度センサ７の高さが
基板表面と同じ高さになるように高さ調節して測定を行
う。照度センサ７としては、フォトダイオードやＣＣＤ
などを用いることができる。照度センサ７によって検出
された光量信号は、表示器８に送られて照度が表示され
る。
【０００９】本実施例は以上のように構成されており、
各投影系ユニット５ａごとの露光領域に照度センサ７を
移動してその照度を測定し、各露光領域の照度が最大と
なるようにランプ位置調整器９によってランプ１の位置
を調整する。このように本実施例によれば、ランプ１の
位置を、最大照度を与える位置に置くことができ、しか
も投影光学系５に入射する光束は、各照明系ユニット３
ａ内のフィルタ１０によって減光されているから、投影
光学系５に損傷を与えるおそれもない。なお一般には、
例えば各照明系ユニット３ａ内のコンデンサレンズの光
軸方向の位置を調整することにより、予め各露光領域ご
との照度の均一性を図っておくことが好ましい。このよ
うに露光領域の全域にわたって照度の均一性が確保され
ているときには、いずれか１カ所での照度を測定しつつ
最大照度を与えるランプの位置を調整すれば良い。
各投影系ユニット５ａごとの露光領域に照度センサ７を
移動してその照度を測定し、各露光領域の照度が最大と
なるようにランプ位置調整器９によってランプ１の位置
を調整する。このように本実施例によれば、ランプ１の
位置を、最大照度を与える位置に置くことができ、しか
も投影光学系５に入射する光束は、各照明系ユニット３
ａ内のフィルタ１０によって減光されているから、投影
光学系５に損傷を与えるおそれもない。なお一般には、
例えば各照明系ユニット３ａ内のコンデンサレンズの光
軸方向の位置を調整することにより、予め各露光領域ご
との照度の均一性を図っておくことが好ましい。このよ
うに露光領域の全域にわたって照度の均一性が確保され
ているときには、いずれか１カ所での照度を測定しつつ
最大照度を与えるランプの位置を調整すれば良い。
【００１０】次に図２は第２実施例を示し、この実施例
では照度センサ７によって検出された光量信号をコント
ローラ１１に取り込み、ランプ位置調整器９を自動的に
調整する構成としている。したがってランプ位置調整器
９の具体的な構成としては、例えばランプ１をＸ、Ｙ、
Ｚの各方向に移動するモータとすることが好ましい。各
ランプ１のＸ、Ｙ、Ｚ方向の位置と、基板６上での照度
との関係は予め計測されており、この関係がコントロー
ラ１１内に記憶されている。コントローラ１１は、照度
センサ７からの信号と、予め記憶されたランプ位置と照
度との関係に基づいて、基板６上での照度が最大となる
ように、各ランプ位置調整器９を制御している。そのた
めには、一般にはトライアンドエラーによって徐々に照
度の最大化を図る追い込み方式が適している。
では照度センサ７によって検出された光量信号をコント
ローラ１１に取り込み、ランプ位置調整器９を自動的に
調整する構成としている。したがってランプ位置調整器
９の具体的な構成としては、例えばランプ１をＸ、Ｙ、
Ｚの各方向に移動するモータとすることが好ましい。各
ランプ１のＸ、Ｙ、Ｚ方向の位置と、基板６上での照度
との関係は予め計測されており、この関係がコントロー
ラ１１内に記憶されている。コントローラ１１は、照度
センサ７からの信号と、予め記憶されたランプ位置と照
度との関係に基づいて、基板６上での照度が最大となる
ように、各ランプ位置調整器９を制御している。そのた
めには、一般にはトライアンドエラーによって徐々に照
度の最大化を図る追い込み方式が適している。
【００１１】次に図３は第３実施例を示し、この実施例
では基板上での照度を測定するセンサーを用いずに、各
照明系ユニット３ａ内での照度を測定する照度センサ１
２を用いている。その具体的な構成としては、例えば照
明系ユニット３ａ内にハーフミラーを配置して光束を分
割して取り出し、基板との共役面に照度センサ１２を配
置する構成とすることができる。各照度センサ１２の出
力は積分回路１３に送られて合計された後に、表示器８
に送られて合計の照度が表示される。この実施例では、
表示器８による合計の照度が最大となるように、各ラン
プ１の位置をランプ位置調整手段９によって調整する。
またこの実施例では照度の測定は投影光学系５に入射す
る前に行っているから、照明光学系３とマスク４との間
に投影光学系前シャッタ１４を設置して、投影光学系５
に光束が入射しないように構成している。なお、予め各
露光領域ごとの照度の均一性が確保されているときに
は、積分回路１３を用いずに、いずれか１つの照度セン
サ１２の出力を表示器８に表示することもできる。
では基板上での照度を測定するセンサーを用いずに、各
照明系ユニット３ａ内での照度を測定する照度センサ１
２を用いている。その具体的な構成としては、例えば照
明系ユニット３ａ内にハーフミラーを配置して光束を分
割して取り出し、基板との共役面に照度センサ１２を配
置する構成とすることができる。各照度センサ１２の出
力は積分回路１３に送られて合計された後に、表示器８
に送られて合計の照度が表示される。この実施例では、
表示器８による合計の照度が最大となるように、各ラン
プ１の位置をランプ位置調整手段９によって調整する。
またこの実施例では照度の測定は投影光学系５に入射す
る前に行っているから、照明光学系３とマスク４との間
に投影光学系前シャッタ１４を設置して、投影光学系５
に光束が入射しないように構成している。なお、予め各
露光領域ごとの照度の均一性が確保されているときに
は、積分回路１３を用いずに、いずれか１つの照度セン
サ１２の出力を表示器８に表示することもできる。
【００１２】次に図４は第４実施例を示し、この実施例
は上記第３実施例と同様の構成であるが、積分回路１３
の出力をコントローラ１１に取り込み、ランプ位置調整
器９を自動的に調整する構成としたものである。
は上記第３実施例と同様の構成であるが、積分回路１３
の出力をコントローラ１１に取り込み、ランプ位置調整
器９を自動的に調整する構成としたものである。
【００１３】次に図５は第５実施例を示し、各ランプハ
ウス１６にランプハウスシャッタ１７を設けたものであ
る。この実施例によれば、調整中のランプ１のシャッタ
１７を開き、他のシャッタ１７を閉じることにより、投
影光学系５に入射する光エネルギを低減して許容値内に
収めることができる。したがって第１実施例と第２実施
例に用いたフィルタ１０や、第３実施例と第４実施例に
用いた投影光学系前シャッタ１４は、この第５実施例で
は特に設ける必要がない。また本実施例では調整中のラ
ンプ１個を除いた他のランプを遮光しているが、この構
成により、照度測定のバックグラウンドが低下してより
正確な照度を測定できることとなる。したがって各ラン
プハウス１６にランプハウスシャッタ１７を設ける構成
は、先の第１〜第４実施例に適用することもできる。
ウス１６にランプハウスシャッタ１７を設けたものであ
る。この実施例によれば、調整中のランプ１のシャッタ
１７を開き、他のシャッタ１７を閉じることにより、投
影光学系５に入射する光エネルギを低減して許容値内に
収めることができる。したがって第１実施例と第２実施
例に用いたフィルタ１０や、第３実施例と第４実施例に
用いた投影光学系前シャッタ１４は、この第５実施例で
は特に設ける必要がない。また本実施例では調整中のラ
ンプ１個を除いた他のランプを遮光しているが、この構
成により、照度測定のバックグラウンドが低下してより
正確な照度を測定できることとなる。したがって各ラン
プハウス１６にランプハウスシャッタ１７を設ける構成
は、先の第１〜第４実施例に適用することもできる。
【００１４】なお上記第１及び第２実施例の照度センサ
７はメインステージ１５内に埋め込まれていたが、メイ
ンステージ１５上の基板載置面の側部に、基板表面と同
じ高さで照度センサ７を設置することもできる。また上
記各実施例では、本発明を走査型露光装置に適用した場
合を示したが、本発明は、単一の照明光学系を用いた一
括露光方式の露光装置にも適用することができる。
７はメインステージ１５内に埋め込まれていたが、メイ
ンステージ１５上の基板載置面の側部に、基板表面と同
じ高さで照度センサ７を設置することもできる。また上
記各実施例では、本発明を走査型露光装置に適用した場
合を示したが、本発明は、単一の照明光学系を用いた一
括露光方式の露光装置にも適用することができる。
【００１５】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板上で
の照度を測定し、または各照明系ユニットでの照度の合
計を測定しながらランプ位置の調整を行うため、ランプ
位置を精度よく調整することができる。また、従来用い
られていたランプ位置モニタを廃止し、安価な調整手段
または投影レンズ前シャッタを追加するだけであるか
ら、トータルのコストを下げることができる。また、測
定と調整を自動化することにより、調整のコストを低下
させることができる。更に、ランプ電極の減りによる照
度低下をある時間間隔で再調整することにより、製品の
スループットの低下を防止し、更にランプ寿命を伸ばす
ことができる。
の照度を測定し、または各照明系ユニットでの照度の合
計を測定しながらランプ位置の調整を行うため、ランプ
位置を精度よく調整することができる。また、従来用い
られていたランプ位置モニタを廃止し、安価な調整手段
または投影レンズ前シャッタを追加するだけであるか
ら、トータルのコストを下げることができる。また、測
定と調整を自動化することにより、調整のコストを低下
させることができる。更に、ランプ電極の減りによる照
度低下をある時間間隔で再調整することにより、製品の
スループットの低下を防止し、更にランプ寿命を伸ばす
ことができる。
【図１】本発明の第１実施例を示す概略構成図
【図２】本発明の第２実施例を示す概略構成図
【図３】本発明の第３実施例を示す概略構成図
【図４】本発明の第４実施例を示す概略構成図
【図５】本発明の第５実施例を示す概略構成図
１…ランプ ２…ファイバ ３…照明光学系 ３ａ…照明系ユニッ
ト ４…マスク ５…投影光学系 ５ａ…投影系ユニット ６…基板 ７…基板上照度センサ ８…表示器 ９…ランプ位置調整器 １０…フィルタ １１…コントローラ １２…照明系ユニッ
ト内照度センサ １３…積分回路 １４…投影光学系前
シャッタ １５…メインステージ １６…ランプハウス １７…ランプハウスシャッタ
ト ４…マスク ５…投影光学系 ５ａ…投影系ユニット ６…基板 ７…基板上照度センサ ８…表示器 ９…ランプ位置調整器 １０…フィルタ １１…コントローラ １２…照明系ユニッ
ト内照度センサ １３…積分回路 １４…投影光学系前
シャッタ １５…メインステージ １６…ランプハウス １７…ランプハウスシャッタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武村 典美 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内
Claims (7)
- 【請求項１】１又は複数の光源からの光束を１又は複数
の照明系ユニットからなる照明光学系に導き、該照明光
学系からの光束によってマスク上のパターンを照明し、
該パターンを透過した露光光を投影光学系によって基板
上に投影露光する露光装置において、 前記各光源ごとにその位置を調整する光源位置調整手段
を設け、 前記投影光学系に入射する光束の光量を減少させる調光
手段を設け、 前記基板上の照度を測定できるように前記基板の平面方
向に移動自在に照度センサを配置したことを特徴とする
露光装置。 - 【請求項２】前記照度センサによって検出した基板上の
照度に基づいて前記各光源位置調整手段を駆動するコン
トローラを設けた、請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】１又は複数の光源からの光束を１又は複数
の照明系ユニットからなる照明光学系に導き、該照明光
学系からの光束によってマスク上のパターンを照明し、
該パターンを透過した露光光を投影光学系によって基板
上に投影露光する露光装置において、 前記各光源ごとにその位置を調整する光源位置調整手段
を設け、 前記各照明系ユニットごとに該ユニット内の照度を測定
する照度センサを設け、 該各照度センサによって検出した各照明系ユニットの照
度の合計を求める積分回路を設け、 前記照明光学系から投影光学系に入射する光束を遮光す
るシャッタを設けたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項４】前記前記積分回路によって積算した各照明
系ユニットの照度の合計に基づいて、前記各光源位置調
整手段を駆動するコントローラを設けた、請求項３記載
の露光装置。 - 【請求項５】１又は複数の光源からの光束を１又は複数
の照明系ユニットからなる照明光学系に導き、該照明光
学系からの光束によってマスク上のパターンを照明し、
該パターンを透過した露光光を投影光学系によって基板
上に投影露光する露光装置において、 前記各光源ごとにその位置を調整する光源位置調整手段
を設け、 前記各光源ごとに該光源から射出する光束を遮光するシ
ャッタを設け、 前記基板上の照度を測定できるように前記基板の平面方
向に移動自在に照度センサを配置したことを特徴とする
露光装置。 - 【請求項６】１又は複数の光源からの光束を１又は複数
の照明系ユニットからなる照明光学系に導き、該照明光
学系からの光束によってマスク上のパターンを照明し、
該パターンを透過した露光光を投影光学系によって基板
上に投影露光する露光装置において、 前記各光源ごとにその位置を調整する光源位置調整手段
を設け、 前記各光源ごとに該光源から射出する光束を遮光するシ
ャッタを設け、 前記各照明系ユニットごとに該ユニット内の照度を測定
する照度センサを設け、 該各照度センサによって検出した各照明系ユニットの照
度の合計を求める積分回路を設けたことを特徴とする露
光装置。 - 【請求項７】前記マスクと基板とを同期して走査可能に
配置することにより、一時に投影される範囲よりも前記
走査方向に長い範囲の前記パターンを前記基板上に投影
露光できるように構成した、請求項１〜６のいずれか１
項記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9102505A JPH10284400A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9102505A JPH10284400A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10284400A true JPH10284400A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=14329268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9102505A Pending JPH10284400A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10284400A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100452519B1 (ko) * | 2000-08-25 | 2004-10-12 | 캐논 가부시끼가이샤 | 복수의 광원을 가진 조명장치와 이 조명장치를 가지는노광장치 |
| JP2006343684A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置 |
| KR101050285B1 (ko) * | 2004-01-29 | 2011-07-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 노광장치의 빔 얼라인먼트 조정시스템 |
-
1997
- 1997-04-03 JP JP9102505A patent/JPH10284400A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100452519B1 (ko) * | 2000-08-25 | 2004-10-12 | 캐논 가부시끼가이샤 | 복수의 광원을 가진 조명장치와 이 조명장치를 가지는노광장치 |
| KR101050285B1 (ko) * | 2004-01-29 | 2011-07-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 노광장치의 빔 얼라인먼트 조정시스템 |
| JP2006343684A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置 |
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