JPH06124875A - 照明装置 - Google Patents
照明装置Info
- Publication number
- JPH06124875A JPH06124875A JP3079678A JP7967891A JPH06124875A JP H06124875 A JPH06124875 A JP H06124875A JP 3079678 A JP3079678 A JP 3079678A JP 7967891 A JP7967891 A JP 7967891A JP H06124875 A JPH06124875 A JP H06124875A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- illumination
- exposure
- light
- correction filter
- illuminating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 照明の均一性により優れた照明装置を提供す
ることである。 【構成】 露光面を照明する照明光学系において、該照
明光学系の中の少なくとも１ヵ所に前記露光面と共役な
位置を設け、該共役位置の近傍に、露光面の光量分布と
逆の特性をもつ補正フィルタを設けている。
ることである。 【構成】 露光面を照明する照明光学系において、該照
明光学系の中の少なくとも１ヵ所に前記露光面と共役な
位置を設け、該共役位置の近傍に、露光面の光量分布と
逆の特性をもつ補正フィルタを設けている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、所望の照明光束を供給
するための照明装置、特にその均一な照明光を得るため
の光学系に関するものである。
するための照明装置、特にその均一な照明光を得るため
の光学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、一般にＬＳＩ等を製造するための
露光装置においては、ＬＳＩ等の集積回路を描いたレチ
クルパターンを照明光学系によって照明し、レチクルパ
ターンをシリコンウェハ面上に、露光機構部内の投影光
学系で投影することによって、露光を行っている。この
場合、ウェハ上に回路パターンを精度良く投影露光する
ためには、まずレチクルパターンをむらなく均一に照明
することが必要である。
露光装置においては、ＬＳＩ等の集積回路を描いたレチ
クルパターンを照明光学系によって照明し、レチクルパ
ターンをシリコンウェハ面上に、露光機構部内の投影光
学系で投影することによって、露光を行っている。この
場合、ウェハ上に回路パターンを精度良く投影露光する
ためには、まずレチクルパターンをむらなく均一に照明
することが必要である。
【０００３】このような照明の均一性を実現するため
に、照明光学系の中にオプティカルインテグレータある
いは拡散板等の光均一化部材を配置したものが従来知ら
れている。図３はその一例を示すものであり、この照明
光学系は、光源１、ミラー２、３及び５、コンデンサレ
ンズ６を備え、ミラー３とミラー５の間に、オプティカ
ルインテグレータ４が介装されている。従って、光源１
から出た光がオプティカルインテグレータ４を通ること
によって、多数個の二次光源がＡ部に形成され、この二
次光源から出たそれぞれの光が、コンデンサレンズ６に
よりレチクル７のパターン面上に重ね合わされることに
よって、むらの少ない照明光が得られるようになってい
る。
に、照明光学系の中にオプティカルインテグレータある
いは拡散板等の光均一化部材を配置したものが従来知ら
れている。図３はその一例を示すものであり、この照明
光学系は、光源１、ミラー２、３及び５、コンデンサレ
ンズ６を備え、ミラー３とミラー５の間に、オプティカ
ルインテグレータ４が介装されている。従って、光源１
から出た光がオプティカルインテグレータ４を通ること
によって、多数個の二次光源がＡ部に形成され、この二
次光源から出たそれぞれの光が、コンデンサレンズ６に
よりレチクル７のパターン面上に重ね合わされることに
よって、むらの少ない照明光が得られるようになってい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようなオプティカルインテグレータを使用した場合の照
明むらは本来的に±２〜３％の限界をもち、これよりも
更に均一な照明光を得ることが困難であるため、最近の
回路の微細化に伴う解像力の向上に対応することができ
ないという問題点があった。
ようなオプティカルインテグレータを使用した場合の照
明むらは本来的に±２〜３％の限界をもち、これよりも
更に均一な照明光を得ることが困難であるため、最近の
回路の微細化に伴う解像力の向上に対応することができ
ないという問題点があった。
【０００５】この問題を解決する方法として、例えば照
明むらを補償するような補正フィルタを、レチクル７の
近くの、ウェハと共役な位置に挿入することが考えられ
る。しかし、この位置には、通常、レチクル７の正確な
位置決めを行うためのレチクルアライメントの光学系
（図示せず）等が配置されているため、補正フィルタを
新たに設けることは物理的に困難である。
明むらを補償するような補正フィルタを、レチクル７の
近くの、ウェハと共役な位置に挿入することが考えられ
る。しかし、この位置には、通常、レチクル７の正確な
位置決めを行うためのレチクルアライメントの光学系
（図示せず）等が配置されているため、補正フィルタを
新たに設けることは物理的に困難である。
【０００６】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、照明の均一性により優れた照
明装置を提供することを目的とする。
めになされたものであり、照明の均一性により優れた照
明装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、露光面を照明する照明光学系において、該
照明光学系の中の少なくとも１ヵ所に前記露光面と共役
な位置を設け、該共役位置の近傍に、露光面の光量分布
と逆の特性をもつ補正フィルタを設けたものである。
成するため、露光面を照明する照明光学系において、該
照明光学系の中の少なくとも１ヵ所に前記露光面と共役
な位置を設け、該共役位置の近傍に、露光面の光量分布
と逆の特性をもつ補正フィルタを設けたものである。
【０００８】
【作用】上記構成の照明装置によれば、露光面の光量分
布が補正フィルタによって補正され、その照明むらをよ
り少なくする。
布が補正フィルタによって補正され、その照明むらをよ
り少なくする。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。図１は、本発明を適用した照明装置の一例を示
す。なお、従来の装置を示した図３と同一の部分につい
ては、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施
例では、オプティカルインテグレータ４とミラー５との
間に、レンズ９、ミラー１０及びレンズ１１によって、
Ｂ部にレチクル７のパターン面Ｃ部と共役な位置が形成
されており、このＢ部の近傍に補正フィルタ１２が設置
されている。この補正フィルタ１２は、ウェハ１７面の
光量分布が図２(a) に示すようなものである場合、この
分布と逆の特性（同図(b) ）をもつものである。このよ
うな補正フィルタ１２は、例えばウェハ１７面の光量分
布を光量センサ（図示せず）で予め測定し、これと逆の
特性のフィルタを作ることによって得ることができる。
なお、図１の符号１３はレンズ、１４はミラー、１５は
レチクル７の支持体を兼ねたマスク、１６は投影レンズ
である。
明する。図１は、本発明を適用した照明装置の一例を示
す。なお、従来の装置を示した図３と同一の部分につい
ては、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施
例では、オプティカルインテグレータ４とミラー５との
間に、レンズ９、ミラー１０及びレンズ１１によって、
Ｂ部にレチクル７のパターン面Ｃ部と共役な位置が形成
されており、このＢ部の近傍に補正フィルタ１２が設置
されている。この補正フィルタ１２は、ウェハ１７面の
光量分布が図２(a) に示すようなものである場合、この
分布と逆の特性（同図(b) ）をもつものである。このよ
うな補正フィルタ１２は、例えばウェハ１７面の光量分
布を光量センサ（図示せず）で予め測定し、これと逆の
特性のフィルタを作ることによって得ることができる。
なお、図１の符号１３はレンズ、１４はミラー、１５は
レチクル７の支持体を兼ねたマスク、１６は投影レンズ
である。
【００１０】以上のような構成により、光源１から出た
光（例えば３２０nm以下の波長をもつ光又はレーザ）
は、ミラー２、３を通ってオプティカルインテグレータ
４に入射し、このオプティカルインテグレータ４によっ
て、Ａ部に多数の二次光源が形成される。更にこの光
は、レンズ９、ミラー１０およびレンズ１１と補正フィ
ルタ１２を通り、補正フィルタ１２で補正された後、レ
ンズ１３、ミラー１４、５を通り、コンデンサーレンズ
６によって、レチクル７のパターン面Ｃ部に集光する。
レチクル７のレチクルパターンを照明した光は、投影レ
ンズ１６を透過し、ウエハ１７面上にレチクルパターン
を結像する。
光（例えば３２０nm以下の波長をもつ光又はレーザ）
は、ミラー２、３を通ってオプティカルインテグレータ
４に入射し、このオプティカルインテグレータ４によっ
て、Ａ部に多数の二次光源が形成される。更にこの光
は、レンズ９、ミラー１０およびレンズ１１と補正フィ
ルタ１２を通り、補正フィルタ１２で補正された後、レ
ンズ１３、ミラー１４、５を通り、コンデンサーレンズ
６によって、レチクル７のパターン面Ｃ部に集光する。
レチクル７のレチクルパターンを照明した光は、投影レ
ンズ１６を透過し、ウエハ１７面上にレチクルパターン
を結像する。
【００１１】前述したように、補正フィルタ１２がウェ
ハ１７面の光量分布と逆の特性を有し、またレチクル７
のパターン面Ｃ部と共役な位置Ｂ部の近傍に設られてい
るので、図２(c) に示すように照明むらが補正され、レ
チクル７のパターン面上を均一に照明することが可能に
なり、従来±２〜３％であった照明むらを±１％以下に
低減することができる。
ハ１７面の光量分布と逆の特性を有し、またレチクル７
のパターン面Ｃ部と共役な位置Ｂ部の近傍に設られてい
るので、図２(c) に示すように照明むらが補正され、レ
チクル７のパターン面上を均一に照明することが可能に
なり、従来±２〜３％であった照明むらを±１％以下に
低減することができる。
【００１２】また、本実施例では、補正フィルタ１２
を、レチクル７のパターン面Ｃ部と共役な位置Ｂ部に正
確に配置するのではなく、この共役位置Ｂ部から少し光
軸方向にずらして配置している。これは、レチクル７の
パターン面Ｃ部とちょうど共役な位置Ｂ部に補正フィル
タ１２を配置した場合、確かに照明むらは最も少なくで
きるが、光学ガラスで形成されている補正フィルタの表
面にきずやごみがあるとき、あるいは内部に欠陥等があ
るときに、そのきずやごみ等がレチクル７のパターン面
Ｃ部にそのまま結像され、結局はウエハ１７上に結像さ
れてしまうことを考慮したものである。上述したように
補正フィルタ１２を共役位置Ｂ部から少し光軸方向にず
らして配置し、レチクル７のパターン面Ｃ部でデフォー
カスすることにより、照明むらを補正するとともに、補
正フィルタ１２上のごみ等の影響のない均一な照明光を
得ることができる。
を、レチクル７のパターン面Ｃ部と共役な位置Ｂ部に正
確に配置するのではなく、この共役位置Ｂ部から少し光
軸方向にずらして配置している。これは、レチクル７の
パターン面Ｃ部とちょうど共役な位置Ｂ部に補正フィル
タ１２を配置した場合、確かに照明むらは最も少なくで
きるが、光学ガラスで形成されている補正フィルタの表
面にきずやごみがあるとき、あるいは内部に欠陥等があ
るときに、そのきずやごみ等がレチクル７のパターン面
Ｃ部にそのまま結像され、結局はウエハ１７上に結像さ
れてしまうことを考慮したものである。上述したように
補正フィルタ１２を共役位置Ｂ部から少し光軸方向にず
らして配置し、レチクル７のパターン面Ｃ部でデフォー
カスすることにより、照明むらを補正するとともに、補
正フィルタ１２上のごみ等の影響のない均一な照明光を
得ることができる。
【００１３】なお、上述した実施例では、本発明を露光
装置に関連して説明したが、本発明はこれに限らず、種
々の照明装置に適用できることは勿論である。
装置に関連して説明したが、本発明はこれに限らず、種
々の照明装置に適用できることは勿論である。
【００１４】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の照明装置
によれば、より優れた照明の均一性を得ることができる
等の効果を奏する。
によれば、より優れた照明の均一性を得ることができる
等の効果を奏する。
【図１】本発明の一実施例を示す照明装置の構成を示す
図
図
【図２】図１の照明装置の照明特性を示す図
【図３】従来の技術の照明装置を示す、図１と同様の図
１２ 補正フィルタ １７ ウェハ Ｂ 共役位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ 9122−2Ｈ (72)発明者 芳野 寿和 東京都板橋区蓮沼町75番１号 株式会社ト プコン内 (72)発明者 桑原 理 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝内 (72)発明者 西坂 武士 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝内
Claims (5)
- 【請求項１】 露光面を照明する照明光学系において、
該照明光学系の中の少なくとも１ヵ所に前記露光面と共
役な位置を設け、該共役位置の近傍に、露光面の光量分
布と逆の特性をもつ補正フィルタを設けたことを特徴と
する照明装置。 - 【請求項２】 前記共役位置の近傍の位置は、前記共役
位置及びその焦点深度内からずれていることを特徴とす
る、請求項１に記載の照明装置。 - 【請求項３】 露光光線として３２０nm以下の波長の光
を用いることを特徴とする、請求項１又は２に記載の照
明装置。 - 【請求項４】 露光光線としてレーザを用いることを特
徴とする、請求項１又は２に記載の照明装置。 - 【請求項５】 前記露光面が、縮小投影露光装置におけ
るウェハ面であることを特徴とする、請求項１乃至４の
いずれかに記載の照明装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3079678A JPH06124875A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 照明装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3079678A JPH06124875A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 照明装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124875A true JPH06124875A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=13696861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3079678A Pending JPH06124875A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06124875A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1041126A2 (en) | 1999-04-01 | 2000-10-04 | Seiko Epson Corporation | Method for ink jet recording or non-absorbing recording medium |
| US6771350B2 (en) | 2000-02-25 | 2004-08-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
-
1991
- 1991-04-12 JP JP3079678A patent/JPH06124875A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1041126A2 (en) | 1999-04-01 | 2000-10-04 | Seiko Epson Corporation | Method for ink jet recording or non-absorbing recording medium |
| US6771350B2 (en) | 2000-02-25 | 2004-08-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
| US6927836B2 (en) | 2000-02-25 | 2005-08-09 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
| SG124257A1 (en) * | 2000-02-25 | 2006-08-30 | Nikon Corp | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
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